CN117443637A - 一种雾化设备及其控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种雾化设备及其控制方法，涉及雾化装置技术领域。雾化设备包括壳体，壳体内设有水箱、高压水泵、水处理机构及控制系统，雾化喷嘴与高压水泵连通，雾化喷嘴外壁设有两个内部具有清洗腔的清洗壳，两个清洗腔内分别滑动设有挡块及弹性导向组件，雾化喷嘴内设有塞块，塞块与两挡块间设有传动组件；两个清洗壳上分别设有伸入清洗腔内的超声波换能器，壳体内设有与超声波换能器电性连接的超声波发生器。雾化设备的控制方法包括如下步骤：向水箱中补水，软水剂溶液由软化罐进入水箱；水处理机构对水过滤后，水流由雾化喷嘴喷出；雾化喷嘴堵塞时，挡块滑动使超声波换能器对雾化喷嘴清洗。本发明的喷嘴堵塞时进行自洁，清除喷嘴内壁杂质。

Description

一种雾化设备及其控制方法

技术领域

本发明涉及雾化装置技术领域，具体涉及一种雾化设备及其控制方法。

背景技术

雾化是指通过喷嘴或用高速气流使液体分散成微小液滴的操作，被雾化的众多分散液滴可以捕集气体中的颗粒物质。液体雾化的方法有压力雾化，转盘雾化，气体雾化及声波雾化等。

目前，一些雾化设备被用于景观园林、游乐场、商业街等场所，雾化设备喷出的水雾不但具有独特的景观，为场地增添观赏性，并且能够降温、增加空气湿度及净化空气。

现有技术中，雾化设备在造雾过程中，由于水源一般为自来水，水的硬度较高，水中含有细小杂质等，长期运行会导致喷嘴内壁结垢，喷嘴长期处于室外环境，在喷嘴停止运行时，外界的沙尘等杂质也易进入喷嘴内部并附着内壁，最终导致喷嘴内部堵塞发生故障。喷嘴堵塞难以被及时发现，导致喷嘴往往会“带病”运行一段时间，进一步对喷嘴造成损坏，并且对堵塞喷嘴的清理也较为麻烦，需要先断开水源，将喷嘴拆卸，完成清洗后再进行安装，费时费力。

发明内容

本发明的目的是开发一种喷嘴内部发生堵塞时可进行自洁，清除喷嘴内壁杂质的雾化设备及其控制方法。

本发明通过如下的技术方案实现：

一方面，本发明公开了一种雾化设备，包括：

壳体；

管路连通的水箱及高压水泵，设于壳体内；

雾化喷嘴，与高压水泵连通；

两个内部具有清洗腔的清洗壳，设于雾化喷嘴的外壁上；

两个挡块，分别滑动设于两个清洗腔内；

两个弹性导向组件，分别设于两清洗壳上并与挡块连接；

水处理机构，设于壳体内，包括：

隔板，设于水箱中部将其内部分隔为上腔体和下腔体；

软化罐，设于壳体内且内部具有软水剂溶液；

布水器，设于上腔体的顶部并与软化罐连通；

计量泵，设于布水器与软化罐之间的管路上；

过滤管，两端分别与上腔体及下腔体连通；

第二过滤器、第二电磁阀及电磁流量计，依次设于过滤管上；

补水管，与水箱的上腔体连通；

第一过滤器及第一电磁阀，依次设于补水管上；

控制系统，设于壳体内并与所有电气部件电性连接；

其中，所述雾化喷嘴内设有塞块，所述塞块与两挡块间设有传动组件，两所述挡块向内、外滑动时通过传动组件带动塞块升、降；两个所述清洗壳上分别设有伸入清洗腔内的超声波换能器，所述壳体内设有与超声波换能器电性连接的超声波发生器。

可选的，所述雾化喷嘴内部具有的供水流动的流道包括顺次相接的输送段、缩径段及喷出段，所述输送段及喷出段均呈圆柱状，所述缩径段呈圆台状且其大端、小端分别与输送段、喷出段同轴连接。

可选的，所述塞块呈锥部朝下的圆锥状并同轴设于缩径段内，两个所述清洗壳位于输送段两侧且处于输送段截面的同一径向上，两所述清洗腔均倾斜设置，所述清洗腔处于输送段内壁处的端部为较低端。

可选的，所述挡块靠近输送段的侧壁呈与输送段内壁适配的圆弧面，所述挡块顶面、底面均为与清洗腔内顶面、内底面配合的斜面，所述挡块两侧面分别与清洗腔两侧壁滑动接触，所述清洗腔较低端内壁边缘上设有一圈挡圈，所述挡块外侧壁靠近输送段的边缘上设有一圈与挡圈配合的挡槽。

可选的，所述超声波换能器竖直设于清洗壳顶部，所述超声波换能器伸入清洗腔顶部，所述超声波换能器的底端包覆有硅胶隔膜，所述清洗腔底面设有超声波反射片。

可选的，所述弹性导向组件包括支架，所述支架包括与清洗壳外侧壁连接的支座，所述支座远离清洗壳的斜上方设有支板，所述支板与支座间连接有多个连接杆，所述支座及支板上设有沿挡块滑动方向布置及滑动的推杆，所述推杆穿过清洗壳与挡块连接，所述支座与支板之间的推杆上同轴设有挡环，所述挡环与支板之间连接有套设于推杆外侧的弹簧。

可选的，所述支架的连接杆上设有与挡环配合且与超声波发生器电性连接的行程开关，所述行程开关具有位于挡环滑动轨迹上的杆状触头；所述行程开关的设置位置与塞块及挡块的滑动位置配合，当塞块下降至最低处并封堵雾化喷头、挡块处于清洗腔内最外侧处时，挡环碰撞行程开关的触头。

可选的，所述传动组件包括垂直连接的横杆和竖杆，所述横杆沿输送段截面的径向布置且两端分别与清洗腔上方的输送段内壁连接，所述竖杆位于横杆底部且与输送段处于同轴状态，所述竖杆上同轴滑动套设有滑筒，所述滑筒底端与塞块顶部连接，所述滑筒外壁上铰接有两个倾斜布置的传动杆，两所述传动杆远离滑筒的端部为较低端并分别与两挡块铰接。

可选的，所述布水器包括圆柱状或长方体状的联箱，所述联箱底部呈矩阵布满多个喷孔；所述软化罐顶端伸出壳体顶部，软化罐顶端连接有旋盖；所述第二过滤器、第二电磁阀及电磁流量计在所述过滤管上按照水的流动方向顺次设置。

另一方面，本发明公开了一种雾化设备的控制方法，包括如下步骤：

步骤A.水源通过补水管进入水箱的上腔体中，控制系统控制计量泵运转，将软化罐中的软水剂溶液泵送，软水剂溶液由布水器均匀喷入上腔体中与水反应；

步骤B.上腔体中的水与软水剂溶液反应一段时间后，上腔体中的水被软化并产生部分沉淀，控制系统控制过滤管上的第二电磁阀开启，上腔体中的水由过滤管流入下腔体中，水中的沉淀被过滤管上的第二过滤器过滤，使软化后、无沉淀的水进入下腔体中备用；

步骤C.高压水泵运转将下腔体中的水泵送至雾化喷嘴，水流在雾化喷嘴内形成水雾喷出；

步骤D.雾化喷嘴内壁因杂质积累和附着出现堵塞时，雾化喷嘴内部的压力逐渐增加，使得两挡块向清洗腔外侧滑动，挡块在滑动过程中通过传动组件带动塞块下降直至封堵雾化喷嘴，挡块在清洗腔内滑动至最外侧处，超声波换能器处于挡块内侧，控制系统控制超声波发生器工作，超声波换能器向清洗腔内发射超声波，实现对雾化喷嘴内部进行超声波清洗，雾化喷嘴内壁上附着的杂质被清洗并掉入雾化喷嘴内的液体中，在超声波发生器持续工作的过程中，高压水泵保持运转，使雾化喷嘴内的压力恒定并使挡块保持处于清洗腔的最外侧处；

步骤E.雾化喷嘴内部持续一段时间的超声波清洗后，超声波发生器停止工作、高压水泵停止运转，雾化喷嘴内的部分水流由高压水泵反向流出部分进行泄压，雾化喷嘴内泄压后随着水压的下降，在弹性导向组件的弹力下，两挡块分别逐步滑至清洗腔的最内侧处，塞块在此过程中逐渐上升，雾化喷嘴不再被封堵，高压水泵再低速运转一段时间，通过水流将雾化喷嘴内清洗掉的杂质喷出，完成对雾化喷嘴的自洁，雾化设备可继续工作；

其中，步骤B中，过滤管将上腔体中软化后的水输入下腔体的过程中，电磁流量计测量水流量，当上腔体输出的水流量达到设定值时，控制系统控制第一电磁阀打开进行补水、计量泵运转将软水剂溶液泵入上腔体中，使上腔体中新补入的水进行软化以备用。

本发明的有益效果是：

本发明在雾化喷嘴内部发生堵塞时，自动对雾化喷嘴内部流道的内壁进行超声波清洗，去除雾化喷嘴内壁上附着的杂质，雾化喷嘴清理及时不会“带病”运行，避免雾化喷嘴进一步损坏，雾化喷嘴的自洁自动进行，无需拆装，提高清理效率；通过水处理机构可自动对待雾化的水进行软化，避免或减少雾化喷嘴内壁结垢，延长雾化喷嘴自洁的周期，减少雾化喷嘴自洁次数。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的结构示意图；

图2为雾化喷嘴的内部结构示意图；

图3为弹性导向组件的结构示意图；

图4为传动组件的结构示意图。

附图标记：100、壳体；200、水箱；201、补水管；202、第一电磁阀；203、第一过滤器；204、上腔体；205、下腔体；300、高压水泵；400、水处理机构；401、隔板；402、过滤管；403、第二过滤器；404、第二电磁阀；405、电磁流量计；406、软化罐；407、旋盖；408、计量泵；409、布水器；500、雾化喷嘴；501、输送段；502、缩径段；503、喷出段；504、超声波换能器；505、清洗壳；506、弹性导向组件；5061、支座；5062、支板；5063、连接杆；5064、推杆；5065、弹簧；5066、挡环；5067、行程开关；5068、球头；507、传动组件；5071、滑筒；5072、传动杆；5073、竖杆；5074、横杆；508、挡块；509、塞块。

具体实施方式

在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本发明创造的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。

在本发明创造的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明创造和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明创造的限制。

下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。

如图1～4所示，一方面，本发明公开了一种雾化设备，包括壳体100和雾化喷嘴500，壳体100内设有水箱200及高压水泵300，高压水泵300与水箱200及雾化喷嘴500管路连通，高压水泵300将水箱200中的水泵送至雾化喷嘴500并喷出。

水箱200上连通有补水管201，补水管201上按照水流方向顺次设有第一过滤器203和第一电磁阀202。第一过滤器203内设有粗滤网，第一过滤器203对水进行过滤，避免水中的小石子等杂质进入。

壳体100内设有水处理机构400，水处理机构400对水进行软化处理，减少管道及雾化喷嘴500中的结垢。

水处理机构400包括水平设于水箱200中部的隔板401，隔板401将水箱200内部分隔为上腔体204和下腔体205，补水管201与上腔体204连通，高压水泵300与下腔体205连通，下腔体205的出水处还设有过滤罩，水在进入高压水泵300前被过滤罩精细过滤。

水箱200的上腔体204顶部中心设有布水器409，布水器409包括圆柱状或长方体状的联箱，联箱底部呈矩阵布满多个喷孔。水箱200侧部设有软化罐406，软化罐406顶端伸出壳体100顶部，软化罐406顶端连接有旋盖407。软化罐406与布水器409的联箱管路连通，该管路上设有计量泵408。计量泵408将软化罐406中的软水剂溶液泵入布水器409，软水剂溶液通过布水器409均匀进入水箱200上腔体204内的水中。

水箱200上腔体204底部与下腔体205顶部间连通有过滤管402，过滤管402上按照水的流动方向顺次设有第二过滤器403、第二电磁阀404及电磁流量计405，第二过滤器403内设有多层过滤网。软水剂溶液进入水箱200的上腔体204与水中的钙、镁等金属离子反应，水中的钙、镁等金属离子被置换，其含量降低，产生氢氧化物沉淀。上腔体204中被软化的水通过过滤管402进入下腔体205，通过过滤管402时，软化水中的沉淀被第二过滤器403过滤，使得进入下腔体205中的软化水不再含沉淀。软水剂溶液与水反应需要一定时间，在此过程中，第二电磁阀404保持关闭，反应充分后，第二电磁阀404打开使软化后的水由上腔体204通过过滤管402进入下腔体205。过滤管402上的电磁流量计405测量上腔体204中输出的水的流量，当输出的水流量达到一定程度后，计量泵408运转使软水剂溶液补入水箱200的上腔体204中对补水管201新补入的水软化。

雾化喷嘴500内部具有的供水流动的流道包括顺次相接的输送段501、缩径段502及喷出段503，输送段501及喷出段503均呈圆柱状，缩径段502呈圆台状且其大端（直径较大一端）、小端（直径较小一端）分别与输送段501、喷出段503同轴连接。

雾化喷嘴500外壁上设有两个清洗壳505，两清洗壳505内分别具有一个清洗腔，两清洗腔位于输送段501两侧且处于输送段501截面的同一径向上。两清洗腔均倾斜设置，清洗腔处于输送段501内壁处的端部为较低端。

两清洗腔内分别滑动设有挡块508，挡块508靠近输送段501的侧壁呈与输送段501内壁适配的圆弧面，挡块508顶面、底面均为与清洗腔内顶面、内底面配合的斜面，挡块508两侧面分别与清洗腔两侧壁滑动接触。清洗腔较低端内壁边缘上设有一圈挡圈，挡块508外侧壁靠近输送段501的边缘上设有一圈与挡圈配合的挡槽。两挡块508分别滑至两清洗腔的较低端时，两挡圈分别抵在两挡块508的挡槽内，此时输送段501内壁、两挡圈及两挡块508侧壁处于同一圆柱面上。

两清洗壳505上分别设有一个与两挡块508连接的弹性导向组件506，弹性导向组件506的弹力推动挡块508处于清洗腔的较低端。当挡块508受到向外的挤压力大于弹性导向组件506的弹力时，挡块508在清洗腔中斜向上、向外侧滑动，弹性导向组件506对应进行弹性压缩并为挡块508的滑动导向；当挡块508受到向外的挤压力小于弹性导向组件506的弹力时，弹性导向组件506释放弹性势能，并推动挡块508在清洗腔中斜向下、向内侧滑动直至滑至较低端并与挡圈接触，弹性导向组件506对应进行弹性伸长并为挡块508的滑动导向。

弹性导向组件506包括设于清洗壳505外侧壁上的支架，支架上设有沿挡块508滑动方向布置及滑动的推杆5064。支架包括与清洗壳505外侧壁连接的支座5061，支座5061远离清洗壳505的斜上方设有支板5062，支板5062与支座5061间连接有多个连接杆5063。推杆5064与支座5061及支板5062滑动连接，推杆5064穿过清洗壳505与挡块508连接，支座5061、支板5062及清洗壳505上对应设有供推杆5064滑动穿过的通孔。

支座5061与支板5062之间的推杆5064上同轴设有挡环5066，挡环5066与支板5062之间连接有套设于推杆5064外侧的弹簧5065。在弹簧5065的弹力推动下，挡环5066带动推杆5064向远离支板5062的方向滑动，推杆5064带动挡块508滑至清洗腔的较低端并与挡圈接触，此时挡环5066与支座5061接触。支板5062外侧的推杆5064端部设有球头5068，在检修及测试时可通过球头5068带动推杆5064滑动。

清洗壳505顶部竖直设有超声波换能器504，超声波换能器504伸入清洗腔顶部，超声波换能器504的底端包覆有硅胶隔膜，超声波换能器504底端及硅胶隔膜不伸出清洗腔顶面，避免干涉挡块508滑动。壳体100内设有超声波发生器，超声波发生器通过线路与超声波换能器504电性连接。清洗腔底面设有超声波反射片，超声波反射片的位置与挡块508底部适配，挡块508在清洗腔内滑动的过程中，挡块508底部与超声波反射片滑动接触。超声波换能器504位于超声波反射片正上方，由于清洗腔呈外侧高、内侧低的状态，超声波反射片也呈外侧高、内侧低的姿态，在清洗腔内，超声波换能器504向下输出的超声波打在超声波反射片上，超声波被反射并进入雾化喷嘴500内部的流道中以实现清洗。

缩径段502内同轴设有与之配合的圆锥状塞块509，塞块509锥部朝下，液体在塞块509与缩径段502之间的狭窄通道流过。塞块509上方的输送段501内设有处于两清洗腔之间的传动组件507，传动组件507与塞块509顶部及两挡块508连接，两挡块508在清洗腔内向外侧滑动时，通过传动组件507带动塞块509下降以封堵缩径段502底端，两挡块508在清洗腔内向内侧滑动时，通过传动组件507带动塞块509上升使其不再封堵缩径段502底端。

传动组件507包括垂直连接的横杆5074和竖杆5073，横杆5074沿输送段501截面的径向布置且两端分别与挡圈上方的输送段501内壁连接，竖杆5073位于横杆5074底部且与输送段501处于同轴状态。竖杆5073上同轴滑动套设有滑筒5071，滑筒5071底端与塞块509顶部连接。滑筒5071外壁上铰接有两个倾斜布置的传动杆5072，两传动杆5072远离滑筒5071的端部为较低端，两传动杆5072的较低端分别与两挡块508铰接，两传动杆5072在输送段501圆截面的投影始终处于同一径向上。挡块508处于清洗腔的较低端时，塞块509处于缩径段502内，挡块508向清洗腔外侧滑动时，挡块508远离滑筒5071，传动杆5072对应进行摆动并带动滑筒5071下降，塞块509随之下降，当塞块509封堵缩径段502底端时，挡块508不再滑动，此时挡块508处于其在清洗腔内滑动轨迹的最高点，并且挡块508在清洗腔内处于超声波换能器504的外侧，超声波换能器504发射的超声波进入清洗腔内并在超声波反射片的反射下进入雾化喷嘴500的流道内，从而实现雾化喷嘴500内部流道的清洗。

支架的连接杆5063上设有与挡环5066配合且与超声波发生器电性连接的行程开关5067，行程开关5067具有杆状的触头，该触头位于挡环5066的滑动轨迹上。行程开关5067的设置位置与塞块509及挡块508的滑动位置配合，当塞块509下降至封堵缩径段502底端、挡块508处于清洗腔内滑动轨迹的最高点时，挡环5066碰撞行程开关5067的触头使其触发。

壳体100内设有控制系统，设备中的所有电气部件（如上述的高压水泵300、电磁流量计405、计量泵408、超声波发生器及行程开关5067等）均与控制系统电性连接。

另一方面，本发明公开了上述雾化设备的控制方法，包括如下步骤：

步骤A.水源通过补水管201进入水箱200的上腔体204中，控制系统控制计量泵408运转，将软化罐406中的软水剂溶液泵送，软水剂溶液由布水器409均匀喷入上腔体204中与水反应；

步骤B.上腔体204中的水与软水剂溶液反应一段时间后，上腔体204中的水被软化并产生部分沉淀，控制系统控制过滤管402上的第二电磁阀404开启，上腔体204中的水由过滤管402流入下腔体205中，水中的沉淀被过滤管402上的第二过滤器403过滤，使软化后、无沉淀的水进入下腔体205中备用；

步骤C.高压水泵300运转将下腔体205中的水泵送至雾化喷嘴500，水在进入高压水泵300前被过滤罩进行最终过滤，水流在雾化喷嘴500内依次经过其内部流道的输送段501、缩径段502及喷出段503后，形成水雾喷出；

步骤D.当雾化喷嘴500内壁因杂质积累和附着出现堵塞时，雾化喷嘴500内部流道的压力逐渐增加，使得两挡块508向清洗腔外侧滑动，挡块508在滑动过程中通过传动组件507带动塞块509下降，当塞块509完全封堵缩径段502时，挡块508在清洗腔内滑动至最高点，超声波换能器504的底端处于挡块508内侧，行程开关5067被触发，行程开关5067传递电信号至控制系统，控制系统控制超声波发生器工作，超声波换能器504向清洗腔内发射超声波，在清洗腔底面的超声波反射片的反射下，超声波散入雾化喷嘴500的流道中，实现对雾化喷嘴500内部进行超声波清洗，雾化喷嘴500内壁上附着的杂质被清洗并掉入雾化喷嘴500内的液体中，在超声波发生器持续工作的过程中，高压水泵300保持运转，使雾化喷嘴500内的压力恒定且压力足够使挡块508保持处于清洗腔内的最高点；

步骤E.雾化喷嘴500内部持续一段时间的清洗后，超声波发生器停止工作、高压水泵300停止运转，雾化喷嘴500内的部分水流由高压水泵300反向流出部分进行泄压，雾化喷嘴500内泄压后随着水压的下降，在弹簧5065的弹力下，两挡块508分别逐步滑至清洗腔的较低端直至与挡圈接触，塞块509在此过程中逐渐上升，缩径段502不再被封堵，高压水泵300再低速运转一段时间，通过水流将雾化喷嘴500内清洗掉的杂质喷出，完成对雾化喷嘴500的自洁，雾化设备可继续工作；

其中，步骤B中，过滤管402将上腔体204中软化后的水输入下腔体205的过程中，电磁流量计405测量水流量，当上腔体204输出的水流量达到设定值时，控制系统控制第一电磁阀202打开进行补水、计量泵408运转将软水剂溶液泵入上腔体204中，使上腔体204中新补入的水进行软化以备用。

本发明在雾化喷嘴500内部发生堵塞时，自动对雾化喷嘴500内部流道的内壁进行超声波清洗，去除雾化喷嘴500内壁上附着的杂质，雾化喷嘴500清理及时不会“带病”运行，避免雾化喷嘴500进一步损坏，雾化喷嘴500的自洁自动进行，无需拆装，提高清理效率；通过水处理机构400可自动对待雾化的水进行软化，避免或减少雾化喷嘴500内壁结垢，延长雾化喷嘴500自洁的周期，减少雾化喷嘴500自洁次数。

上述实施例只是本发明的较佳实施例，并不是对本发明技术方案的限制，只要是不经过创造性劳动即可在上述实施例的基础上实现的技术方案，均应视为落入本发明专利的权利保护范围内。

Claims (10)

1.一种雾化设备，其特征在于，包括：

壳体；

管路连通的水箱及高压水泵，设于壳体内；

雾化喷嘴，与高压水泵连通；

两个内部具有清洗腔的清洗壳，设于雾化喷嘴的外壁上；

两个挡块，分别滑动设于两个清洗腔内；

两个弹性导向组件，分别设于两清洗壳上并与挡块连接；

水处理机构，设于壳体内，包括：

隔板，设于水箱中部将其内部分隔为上腔体和下腔体；

软化罐，设于壳体内且内部具有软水剂溶液；

布水器，设于上腔体的顶部并与软化罐连通；

计量泵，设于布水器与软化罐之间的管路上；

过滤管，两端分别与上腔体及下腔体连通；

第二过滤器、第二电磁阀及电磁流量计，依次设于过滤管上；

补水管，与水箱的上腔体连通；

第一过滤器及第一电磁阀，依次设于补水管上；

控制系统，设于壳体内并与所有电气部件电性连接；

其中，所述雾化喷嘴内设有塞块，所述塞块与两挡块间设有传动组件，两所述挡块向内、外滑动时通过传动组件带动塞块升、降；两个所述清洗壳上分别设有伸入清洗腔内的超声波换能器，所述壳体内设有与超声波换能器电性连接的超声波发生器。

2.根据权利要求1所述的雾化设备，其特征在于，所述雾化喷嘴内部具有的供水流动的流道包括顺次相接的输送段、缩径段及喷出段，所述输送段及喷出段均呈圆柱状，所述缩径段呈圆台状且其大端、小端分别与输送段、喷出段同轴连接。

3.根据权利要求2所述的雾化设备，其特征在于，所述塞块呈锥部朝下的圆锥状并同轴设于缩径段内，两个所述清洗壳位于输送段两侧且处于输送段截面的同一径向上，两所述清洗腔均倾斜设置，所述清洗腔处于输送段内壁处的端部为较低端。

4.根据权利要求3所述的雾化设备，其特征在于，所述挡块靠近输送段的侧壁呈与输送段内壁适配的圆弧面，所述挡块顶面、底面均为与清洗腔内顶面、内底面配合的斜面，所述挡块两侧面分别与清洗腔两侧壁滑动接触，所述清洗腔较低端内壁边缘上设有一圈挡圈，所述挡块外侧壁靠近输送段的边缘上设有一圈与挡圈配合的挡槽。

5.根据权利要求4所述的雾化设备，其特征在于，所述超声波换能器竖直设于清洗壳顶部，所述超声波换能器伸入清洗腔顶部，所述超声波换能器的底端包覆有硅胶隔膜，所述清洗腔底面设有超声波反射片。

6.根据权利要求5所述的雾化设备，其特征在于，所述弹性导向组件包括支架，所述支架包括与清洗壳外侧壁连接的支座，所述支座远离清洗壳的斜上方设有支板，所述支板与支座间连接有多个连接杆，所述支座及支板上设有沿挡块滑动方向布置及滑动的推杆，所述推杆穿过清洗壳与挡块连接，所述支座与支板之间的推杆上同轴设有挡环，所述挡环与支板之间连接有套设于推杆外侧的弹簧。

7.根据权利要求6所述的雾化设备，其特征在于，所述支架的连接杆上设有与挡环配合且与超声波发生器电性连接的行程开关，所述行程开关具有位于挡环滑动轨迹上的杆状触头；所述行程开关的设置位置与塞块及挡块的滑动位置配合，当塞块下降至最低处并封堵雾化喷头、挡块处于清洗腔内最外侧处时，挡环碰撞行程开关的触头。

8.根据权利要求2所述的雾化设备，其特征在于，所述传动组件包括垂直连接的横杆和竖杆，所述横杆沿输送段截面的径向布置且两端分别与清洗腔上方的输送段内壁连接，所述竖杆位于横杆底部且与输送段处于同轴状态，所述竖杆上同轴滑动套设有滑筒，所述滑筒底端与塞块顶部连接，所述滑筒外壁上铰接有两个倾斜布置的传动杆，两所述传动杆远离滑筒的端部为较低端并分别与两挡块铰接。

9.根据权利要求1所述的雾化设备，其特征在于，所述布水器包括圆柱状或长方体状的联箱，所述联箱底部呈矩阵布满多个喷孔；所述软化罐顶端伸出壳体顶部，软化罐顶端连接有旋盖；所述第二过滤器、第二电磁阀及电磁流量计在所述过滤管上按照水的流动方向顺次设置。

10.一种如权利要求1～9任意一项所述的雾化设备的控制方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤A.水源通过补水管进入水箱的上腔体中，控制系统控制计量泵运转，将软化罐中的软水剂溶液泵送，软水剂溶液由布水器均匀喷入上腔体中与水反应；

步骤B.上腔体中的水与软水剂溶液反应一段时间后，上腔体中的水被软化并产生部分沉淀，控制系统控制过滤管上的第二电磁阀开启，上腔体中的水由过滤管流入下腔体中，水中的沉淀被过滤管上的第二过滤器过滤，使软化后、无沉淀的水进入下腔体中备用；

步骤C.高压水泵运转将下腔体中的水泵送至雾化喷嘴，水流在雾化喷嘴内形成水雾喷出；

步骤D.雾化喷嘴内壁因杂质积累和附着出现堵塞时，雾化喷嘴内部的压力逐渐增加，使得两挡块向清洗腔外侧滑动，挡块在滑动过程中通过传动组件带动塞块下降直至封堵雾化喷嘴，挡块在清洗腔内滑动至最外侧处，超声波换能器处于挡块内侧，控制系统控制超声波发生器工作，超声波换能器向清洗腔内发射超声波，实现对雾化喷嘴内部进行超声波清洗，雾化喷嘴内壁上附着的杂质被清洗并掉入雾化喷嘴内的液体中，在超声波发生器持续工作的过程中，高压水泵保持运转，使雾化喷嘴内的压力恒定并使挡块保持处于清洗腔的最外侧处；

步骤E.雾化喷嘴内部持续一段时间的超声波清洗后，超声波发生器停止工作、高压水泵停止运转，雾化喷嘴内的部分水流由高压水泵反向流出部分进行泄压，雾化喷嘴内泄压后随着水压的下降，在弹性导向组件的弹力下，两挡块分别逐步滑至清洗腔的最内侧处，塞块在此过程中逐渐上升，雾化喷嘴不再被封堵，高压水泵再低速运转一段时间，通过水流将雾化喷嘴内清洗掉的杂质喷出，完成对雾化喷嘴的自洁，雾化设备可继续工作；

其中，步骤B中，过滤管将上腔体中软化后的水输入下腔体的过程中，电磁流量计测量水流量，当上腔体输出的水流量达到设定值时，控制系统控制第一电磁阀打开进行补水、计量泵运转将软水剂溶液泵入上腔体中，使上腔体中新补入的水进行软化以备用。