CN117434796A - 纹理模具的制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种纹理模具的制作方法。该制作方法包括：利用平行光对由内向外依次固定在纹理母模上的UV胶水层、基材和菲林片进行曝光，所述菲林片设有可透光的镂空区，正对所述镂空区的所述UV胶水层被固化并附着于所述基材上，使纹理母模上的纹理被转印至所述基材，在所述基材上形成纹理。该制作方法具有良好的尺寸和位置精度满足了外观精致度的要求。

Description

纹理模具的制作方法

技术领域

本申请涉及外观件装饰技术领域，具体而言，涉及一种纹理模具的制作方法。

背景技术

为了提升电子产品的美观度，设计人员提出将装饰件的内表面设计成光哑同体效果，光哑同体效果可以通过纹理模具的避空设计来实现，即在纹理模具上按照设计图纸在光面位置将原有光栅结构去除，光栅结构被去除后的位置即可以达到光面效果，光栅结构保留的位置则可以达到哑面效果。

光哑同体纹理模具可以通过光刻工艺实现，例如，将光哑位置设计成不同的光栅结构，然后光刻机在曝光的时候就会按照图纸进行选择性曝光，这种光刻工艺效果丰富，精度高，可操作性强，但受光刻机本身限制，纹理亮度不够，效果质感稍差。

发明内容

本申请提供一种纹理模具的制作方法，可以满足装饰件的外观精致度要求。

一种纹理模具的制作方法，包括：

曝光步骤，利用平行光对由内向外依次固定在纹理母模上的UV胶水层、基材和菲林片进行曝光，所述菲林片设有可透光的镂空区，正对所述镂空区的所述UV胶水层被固化并附着于所述基材上，使纹理母模上的纹理被转印至所述基材，在所述基材上形成哑光纹理。

可选的，在所述曝光步骤中，正对所述镂空区的平行光的光照强度大于正对所述遮蔽区的平行光的光照强度。

可选的，形成所述平行光的光源包括球光光源、透镜组和滤波片，所述球光光源发出的光经过所述透镜组和滤波片，形成所述平行光。

可选的，所述菲林片还设有不透光的遮蔽区，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之后的显影步骤：

利用显影剂清洗所述基材上正对所述遮蔽区的未固化的所述UV胶水层，清洗后的表面形成无纹理的光面。

可选的，所述纹理母模形成有凹纹理和凸纹理，在所述曝光步骤中，正对所述凸纹理的平行光的光照强度小于正对所述凹纹理的平行光的光照强度。

可选的，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之前的涂覆UV胶水步骤：

将UV胶水涂覆并固定于所述纹理母模后被压平，在所述纹理母模上形成所述UV胶水层。

可选的，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之前的菲林片制备步骤：

将感光材料涂布于衬底上，经曝光和显影得到所需要纹理图案所述菲林片。

可选的，所述感光材料为卤化银，涂布厚度为1～10um。

可选的，所述将感光材料涂布于衬底上，经曝光和显影得到所需要纹理图案的所述菲林片，包括：

在对应所述基材的纹理位置处将所述菲林片做成镂空可透过光源的形态，在对应所述基材的光面位置处将所述菲林片做成黑色可遮蔽光源的形态。

可选的，所述方法还包括：

在所述曝光步骤中，同步曝光设置在所述菲林片四周的靶标，所述靶标用于对位和拼版。

本申请提供的技术方案至少可以达到以下有益效果：

本申请提供了一种纹理模具的制作方法，该方法在曝光步骤中采用平行光对固定在纹理母模上的UV胶水层、基材和菲林片进行曝光，平行光具有高度的平行性，平行光在照射到菲林片上时不存在大角度扩散，使得UV胶水层的固化形状能够与菲林片的形状基本保持一致，因此具有良好的尺寸和位置精度，满足了外观精致度的要求。

附图说明

图1是纹理模具的制作方法的流程图；

图2是利用平行光曝光的示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。除非另作定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个，若仅指代“一个”时会再单独说明。“多个”或者“若干”表示两个及两个以上。除非另行指出，“前部”、“后部”、“下部”和/或“上部”、“顶部”、“底部”等类似词语只是为了便于说明，而并非限于一个位置或者一种空间定向。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

为了提升电子产品的美观度，设计人员提出将装饰件的内表面设计成光哑同体效果，光哑同体效果可以通过纹理模具的避空设计来实现。相关技术中光哑同体纹理模具通过光刻工艺实现，但受光刻机本身限制，纹理亮度不够，效果质感稍差。

本申请提供一种纹理模具的制作方法，利用曝光机对纹理母模曝光、显影工艺实现。纹理母模可以通过磨砂机加工，由于机加工纹理质感较好，亮度较高，故光哑同体效果相对更好。

大多数的曝光机的光源为球光光源，光线有一定的发散度，受球光光源及菲林片厚度的影响，在光面和哑光面交界处且靠近哑光面的一侧，会有一部分UV胶水无法被球光光源光照到，从而没法固化，故转印后的纹理的精致度较低，尺寸公差较大且不易控制，只能做到0.05-0.09mm，无法满足电子设备对于外观精致度的要求。

本申请提供一种纹理模具的制作方法，其中，制作出的纹理模具的尺寸精度可以大幅提升，尺寸公差可以做到0.03mm左右，满足了装饰件的外观精致度的要求。并且，可重复性好，无需多次补偿，提高了加工效率。

利用该方法制作出的纹理模具可以通过UV转印的方式进一步在电子设备的装饰件上形成相同纹理，为装饰件上的纹理层提供模具支持。电子设备的装饰件包括但不限于手机的电池盖和手机后壳。由于纹理模具的尺寸精度提高，因此，转印到装饰件后形成的纹理的尺寸精度也相应提高，并且性能稳定，外观精致以及重复性均得以提升。

请参考图1和图2，图1为纹理模具的制作方法的流程图。图2为利用平行光曝光的示意图。

本申请提供的纹理模具的制作方法包括：

曝光步骤，利用平行光对由内向外依次固定在纹理母模10上的UV胶水层20、基材30和菲林片40进行曝光，所述菲林片40设有可透光的镂空区41，正对所述镂空区41的所述UV胶水层20被固化并附着于所述基材30上，使纹理母模上的纹理被转印至所述基材30，并在所述基材30上形成哑光纹理。基材30可选用厚度不低于1mm的PC(聚碳酸酯)材料或PET(涤纶树脂)材料，也可以PC和PET的复合材料。

该方法中，在曝光步骤中，曝光机光源所发出的光为平行光，平行光具有高度的平行性，平行光在照射到菲林片上时不存在大角度扩散，使得UV胶水层20的固化形状能够与菲林片40的形状基本保持一致，如此制作出的纹理模具具有良好的尺寸和位置精度，尺寸公差可以做到0.03mm左右，满足了装饰件的外观精致度的要求，并且，可重复性好，无需多次补偿，提高了工作效率。

在一个实施例中，所述菲林片40还设有不透光的遮蔽区42，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之后的显影步骤：

利用显影剂清洗所述基材30上正对所述遮蔽区42的未固化的所述UV胶水层20，清洗后的表面形成无纹理的光面。

在菲林片40上同时设置镂空区41和遮蔽区42，可以在基材30上实现光哑同体纹理。此外，在菲林片40的遮蔽区42和镂空区41的交界处，UV胶水层20的固化程度受光源影响较大，采用平行光可以避免光线大角度扩散，UV胶水层20在遮蔽区42和镂空区41的交界处可以很好的被固化，固化形状能够与菲林片40的形状基本保持一致，因此可保证尺寸和位置精度。

在一个实施例中，在曝光步骤中，正对所述镂空区41的平行光的光照强度大于正对所述遮蔽区42的平行光的光照强度。由于遮蔽区42为不透光区，因此，正对遮蔽区42的UV胶水层20无需固化，因此可以减小正对所述遮蔽区42的平行光的光照强度，节约能量。在一个可选择的实施例中，可以关闭正对遮蔽区42的平行光。

本申请对发射平行光的光源的类型不做具体限定。在一个实施例中，光源可以是点光源或面光源。本实施例中，采用后者。面光源具有高可靠、高光效、高耐压等优点。在一个实施例中，形成所述平行光的光源包括球光光源、透镜组和滤波片，所述球光光源发出的光经过所述透镜组和滤波片，形成所述平行光。该光源结构简单且成本低。球光光源可以选择能够发射紫外光的汞灯。

在一个实施例中，所述纹理母模10形成有背向基材30的一侧凹入的凹纹理和面向基材30的一侧凸出的凸纹理，在曝光步骤中，正对所述凸纹理的平行光的光照强度小于正对所述凹纹理的平行光的光照强度。在凹纹理处，UV胶水层20厚度大，固化时需要的光源能量大，在凸纹理处，UV胶水层20厚度小，固化时需要的光源能量小，如此可以根据实际情况控制平行光的光照强度。在制作后的基材30上，对应纹理母模10上凹纹理的部位在基材30上形成凸点，对应纹理母模10上凸纹理的部位在基材30上形成凹点，如此形成凹凸不平的哑光纹理。

在曝光步骤之前，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之前的菲林片制备步骤：将感光材料涂布于衬底上，经曝光和显影得到所需要纹理图案的所述菲林片40。如此可在衬底上形成菲林片40，菲林片40的图案可以根据实际需求选择设置。衬底的材料可以选用PET，但不仅限于此。

在一个实施例中，所述将感光材料涂布于衬底上，经曝光和显影得到所需要纹理图案的所述菲林片40，包括：

在对应所述基材30的纹理位置处将所述菲林片40做成镂空可透过光源的形态，在对应所述基材30的光面位置处将所述菲林片40做成黑色可遮蔽光源的形态。如此可在基材30制作出光面和哑光面，形成光哑同体纹理，纹理效果更加美观。在一个实施例中，所述感光材料为卤化银，涂布厚度为1～10um。但不仅限于此。

在一个实施例中，所述方法还包括：

在所述曝光步骤中，同步曝光设置在所述菲林片40四周的靶标，所述靶标用于对位和拼版。

也就是说，可以同步在菲林片40整个图形区域的四周留出靶标曝光的区域，这样在制作纹理模具时可以一次性做出靶标，便于后期利用靶标实现对位与拼版。

所述方法还包括设置在所述曝光步骤之前的涂覆UV胶步骤：将UV胶水涂覆并固定于所述纹理母模10后可以通过滚轮被压平，在所述纹理母模10上形成所述UV胶水层20。在纹理母模10上施加UV胶水后，并在UV胶水上覆盖基材30。

本申请中的纹理母模10可以通过磨砂机加工出纹理，后期对纹理母模10进行曝光和显影实现。具体的，在磨砂机加工出纹理母模10之后，在纹理母模10上涂覆UV胶水，在UV胶水上固定基材30，并在基材30上固定菲林片40，菲林片40根据设计图进行制作，对应基材30的光面的区域是黑色的，光源无法曝光，UV胶水不固化，显影时可洗去，对应基材30的哑面的区域是镂空的，光源曝光后UV胶水固化，这样可以在基材30上形成与纹理母模10相同的纹理，纹理表现为AG(雾面)效果。制作出的具有AG效果的纹理模具后续进行常规翻版复制与拼版即可投入使用。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种纹理模具的制作方法，其特征在于，包括：

曝光步骤，利用平行光对由内向外依次固定在纹理母模上的UV胶水层、基材和菲林片进行曝光，所述菲林片设有可透光的镂空区，正对所述镂空区的所述UV胶水层被固化并附着于所述基材上，使纹理母模上的纹理被转印至所述基材，在所述基材上形成哑光纹理。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述菲林片还设有不透光的遮蔽区，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之后的显影步骤：

利用显影剂清洗所述基材上正对所述遮蔽区的未固化的所述UV胶水层，清洗后的表面形成无纹理的光面。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，在所述曝光步骤中，正对所述镂空区的平行光的光照强度大于正对所述遮蔽区的平行光的光照强度。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成所述平行光的光源包括球光光源、透镜组和滤波片，所述球光光源发出的光经过所述透镜组和滤波片，形成所述平行光。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述纹理母模形成有凹纹理和凸纹理，在所述曝光步骤中，正对所述凸纹理的平行光的光照强度小于正对所述凹纹理的平行光的光照强度。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之前的涂覆UV胶步骤：

将UV胶水涂覆并固定于所述纹理母模后被压平，在所述纹理母模上形成所述UV胶水层。

7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述方法还包括设置在所述曝光步骤之前的菲林片制备步骤：

将感光材料涂布于衬底上，经曝光和显影得到所需要纹理图案的所述菲林片。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述感光材料为卤化银，涂布厚度为1～10um。

9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述将感光材料涂布于衬底上，经曝光和显影得到所需要纹理图案的所述菲林片，包括：

在对应所述基材的纹理位置处将所述菲林片做成镂空可透过光源的形态，在对应所述基材的光面位置处将所述菲林片做成黑色可遮蔽光源的形态。

10.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述曝光步骤中，同步曝光设置在所述菲林片四周的靶标，所述靶标用于对位和拼版。