CN117426403A - 具有凹入式支撑件的模块化烤盘装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种烤盘装置、一种烤盘系统、一种烤盘、一种烤盘支架和一种烘烤装置，其中该烤盘装置具有：两个支撑架(1)，该两个支撑架具有至少一个支撑件(2)；两个烤盘(3)，该两个烤盘(3)中的每个烤盘被附接到该支撑架(1)中的一个支撑架；以及两个连接装置(4)，该两个连接装置(4)布置在该烤盘(3)的两侧上并且经由该支撑件(2)相互连接，其中该连接装置(4)和该支撑架(1)被设计为使得该烤盘装置能够打开、关闭和锁定在关闭位置以形成过压烤模，其中在该烤盘(3)的背离过压烤模的背面(5)中设置有与该支撑件(2)的形状和轮廓适配的凹槽(6)，并且其中该支撑架(1)的该支撑件(2)至少部分地凹入该凹槽(6)中。

Description

具有凹入式支撑件的模块化烤盘装置

技术领域

本发明涉及根据独立权利要求的烤盘装置、烤盘系统、烤盘、烤盘架和烘烤装置。

背景技术

对于威化饼产品的工业生产，已知的是将在未烘烤状态下含有约50％-70％水的基本上液态的威化面团添入打开的烤模中，其中烤模被设计为烤钳。随后，在添入烘烤团块之后关闭烤钳并将其输送通过加热的烘焙室。通过加热烤模并因此也加热烘烤团块，其挥发性组分蒸发。由此在烤钳中产生增大的压力，该压力的力作用到烤钳的烤盘上。

已知的是，烤钳具有烤钳架，烤盘固定在该烤钳架上。这些烤钳架被设计成打开和关闭，其中形成烤模的两个烤盘被附接在内部区域中。这种设计的缺点是，外部架损害了从外部对烤钳的加热。

现有技术还公开了具有自支撑烤盘而没有烤盘架的烤钳。然而，在这些自支撑烤盘中，出现的问题是必须使用复杂的调节机构，这些调节机构用于调节烤盘的轮廓并且抵消烤模通过压缩力的膨胀。这些调节机构通常也损害了烤模和烤盘的均匀加热。

此外，烤盘和附接到烤盘的封闭条经受一定的磨损，使得它们必须不时地更换。在更换产品时也需要更换这样设计的烤钳的整个烤钳，而不仅仅是烤盘。

本发明的目的在于提供一种烤盘装置、烤盘系统、烤盘和/或烘烤装置，它们克服现有技术的缺点。特别地，烤盘装置旨在实现烘烤装置的高效操作。

这例如通过能够进行有效的加热来实现。另一方面，这例如通过允许容易地更换烤盘来实现。此外，烤盘也可以优选简单地调节。此外，还优选地实现高产品质量。

发明内容

根据本发明的目的尤其通过独立权利要求的特征来实现。

特别地，本发明涉及一种烤盘装置，例如烤钳，用于在过压下由含有50％-70％水的未烘烤状态的烘烤团块生产烘烤松脆威化饼，该烤盘装置包括：

-两个支撑架，这两个支撑架中的每个支撑架具有至少一个支撑件，

-两个烤盘，这两个烤盘各自附接到支撑架中的一个支撑架，

-以及两个连接装置，这两个连接装置布置在烤盘的两侧上并且经由支撑件相互连接。

优选地，连接装置和支撑架被设计成使得烤盘装置能够被打开、关闭并且锁定在关闭位置以形成过压烤模。

优选地，支撑架的支撑件至少部分地凹入烤盘的背离过压烤模的背面中。

任选地，在烤盘的背面中设置与支撑件的形状和轮廓适配的凹槽。在这些凹槽中，支撑件应当至少部分地凹入。根据该定义，支撑件可以完全凹入凹槽中，或者凹槽或烤盘的背面可以突出超过一定程度。

任选地，支撑件总是被凹槽从三个侧面围绕或包围。

任选地，凹槽和凹入凹槽中的支撑件与沿支撑件的纵向方向延伸的烤盘的边缘相距一定距离。

任选地，烤盘可以在支撑件的横向方向上突出超过凹槽并且支撑件凹入凹槽中。

任选地，突出部可以大于在支撑件的横向方向上测量的烤盘宽度的5％。任选地，突出部小于20％。

任选地，被设置成支撑件从一个连接装置延伸到另一个连接装置。

任选地，被设置成支撑件用作弯曲支撑件，用于吸收在过压烤模中烘烤时产生的压缩力。

任选地，被设置成支撑架总是具有布置在相对侧上并且连接装置附接到其上的两个侧部部件，并且支撑件总是从一个侧部部件延伸到另一个侧部部件并且由此形成刚性支撑架。然而，在该实施方案中，侧部部件也可被视为连接装置的部件。

任选地，被设置成每个支撑架设置有两个支撑件，这两个支撑件彼此间隔开并且与烤盘的沿支撑件的纵向方向延伸的边缘间隔开，并且从一个连接装置延伸到另一个连接装置或者从一个侧部部件延伸到另一个侧部部件。

如适用，被设置成，设置第一连接装置和第二连接装置。

如适用，被设置成，设置第一侧部部件和第二侧部部件。

如必要，在烘烤过程中通过在过压烤模中存在的过压使烤盘弯曲或成拱形。

任选地，在垂直于支撑件的纵向方向延伸的截面中观察，烤盘的弯曲线各自具有至少两个或恰好两个拐点。

任选地，支撑件总是凹入烤盘中，使得烤盘的背离过压烤模的背面与支撑件的暴露部分一起形成烤盘装置的外部加热表面。

任选地，支撑件总是凹入烤盘中，使得经由支撑件的暴露部分引入的热能经由支撑件的凹入烤盘中的部分传递到烤盘或烤盘的凹槽。

任选地，为每个烤盘设置调节组件，该调节组件允许烤盘的位置和/或轮廓相对于烤盘所附接的支撑架进行调节。

任选地，被设置成，调节组件包括布置在支撑件中或支撑件上和/或延伸穿过支撑件的多个调节装置，例如特别是调节螺钉。

任选地，被设置成，烤盘各自通过调节组件与支撑架或其支撑件连接。

任选地，被设置成，烤盘仅通过调节组件附接在支撑架上或其支撑件上。

任选地，被设置成，烤盘的背面分别具有用于均匀地加热烤盘和过压烤模的表面，诸如尤其是蜂窝、棱锥或肋图案或平滑的表面。

任选地，被设置成，一个、特别是第一连接装置被设计为铰链，并且另一个、特别是第二连接装置被设计为锁定装置，使得烤盘装置被设计为烤钳。

任选地，被设置成，设置有封闭条，诸如密封条和/或蒸汽条，以用于形成过压烤模。

特别地，本发明涉及一种烤盘系统，该烤盘系统包括所描述的烤盘装置和至少一个另外的烤盘，该至少一个另外的烤盘更换与支撑架中的一个支撑架连接的烤盘，其中另外的烤盘特别地：

-以相同的方式更换有缺陷或磨损的烤盘，

-是用于生产另一种威化饼形状的烤盘，

-是具有不同构造的背面的烤盘，

-或者是由另一种材料制成的烤盘。

任选地，本发明涉及一种被构造成用于所描述的烤盘装置和/或所描述的烤盘系统中的烤盘，该烤盘包括背面，该背面具有用于至少部分地接纳支撑件的区域，特别是具有凹槽。

任选地，本发明涉及一种烤盘架，包括：两个支撑架，这两个支撑架中的每个支撑架具有至少一个支撑件；两个连接装置，这两个连接装置布置在烤盘的两侧上并且经由支撑件相互连接，其中连接装置和支撑架被设计成使得烤盘架能够被打开、关闭和锁定在关闭位置以形成过压烤模。

特别地，本发明涉及一种烘烤装置，用于在过压下由未烘烤状态下含有50％-70％水的烘烤团块生产经烘烤的松脆威化饼，该烘烤装置包括环形传送器和沿着环形传送器设置的多个烤盘装置，该烤盘装置中的每个烤盘装置被布置为彼此相邻：

-烘烤团块施加区域，用于将烘烤团块施加到打开的烤盘装置上，

-封闭区域，用于封闭烤盘装置，

-烘焙室，用于烘烤封闭的烤盘装置中的烘烤产品，在该烘焙室中设置有用于加热位于烘焙室中的烤盘装置的至少一个加热装置，

-开口区域，用于打开烤盘装置，

-以及威化饼取出区域，用于从打开的烤盘装置中取出经烘烤的威化饼，

其中烤盘装置根据本发明予以设计。

任选地，被设置成，加热组件包括至少一个用于感应地加热烤盘的感应器，其中在感应器和移动经过感应器的烤盘之间空出具有间隙宽度的感应器间隙。

任选地，被设置成使得其中一个支撑件从烤盘的背面突出的台阶小于感应器间隙的间隙宽度。

烤盘装置优选地包括辊，使得烤盘装置被设计为例如烤钳托架。

任选地，烤盘装置包括用于沿着其在烘烤装置中的移动路径侧向引导烤盘装置的引导辊。

任选地，烤盘装置包括控制构件，该控制构件与烘烤装置的控制构件(诸如特别是与烘烤装置的连杆)处于操作接触，用于控制运动，例如用于打开和关闭烤盘装置。

任选地，被设置成，支撑架在支撑件之间具有支撑架内部，并且烤盘延伸到相应的支撑架内部中。任选地，被设置成烤盘延伸穿过相应的支撑架内部。

在烤盘的凹槽的区域中优选设置多个元件，这些元件是调节组件的一部分。调节组件被适于和/或被构造成使得能够选择烤盘相对于支撑架的位置，以及/或者选择烤盘相对于支撑架的轮廓。特别地，可以是调节组件的一部分的烤盘的元件是螺纹孔或允许经由调节装置调节烤盘的其他元件。烤盘优选地具有矩形形状。具有调节组件的元件的凹槽优选地在烤盘的较长侧上延伸。特别地，元件被布置成一排。例如，每侧设置两个、三个或更多个这样的元件。

在所有实施方案中，调节组件的元件优选仅设置在烤盘的凹槽的区域中。

烤盘装置包括两个支撑架和附接到支撑架的两个烤盘。特别地，可以形成烤盘系统，其中不同的烤盘可以任选地附接到支撑架上。因此，用于不同产品的支撑架可以以有效的方式使用，但也可以用于不同的烘烤装置。特别地，例如，同一个支撑架可以用于不同类型的加热。仅烤盘必须适应于相应的加热。即使在产品改变的情况下，例如当选择不同的威化饼片规格时，也可以使用相同的支撑架，其中为了选择不同的规格而更换烤盘。即使在烤盘磨损的情况下也不必更换整个烤盘装置，而是可以继续使用支撑架和附接到支撑架的其他部件，诸如例如滚子、导向滚子和/或连接装置。磨损的烤盘可以单独更换。

这种模块化使得能够在选择用于烤盘装置或烤盘系统的应用方面具有高度灵活性，并且因此还提高了使用期间的效率。

该结构允许彼此独立地选择支撑架和烤盘的材料。结果，可以选择具有高热容量并且能够在整个烤模上均匀热传导或提供热的烤盘材料。

烤盘和支撑架可以由相同的材料构成或者由相同的材料制成，以便避免热膨胀的差异。然而，还可以想到，支撑架由与烤盘不同的材料制成。

特别地，支撑架可由铸铁例如球墨铸铁制成。支撑架任选地由型材构成或被铸造成单件。烤盘优选由铸铁特别是球墨铸铁制成。

支撑架优选被设计成梯子的形式，并且因此具有支撑架内部。该支撑架内部尤其是位于支撑架的支撑件之间的空间。支撑架由此形成窗口，烤盘的至少一部分被布置在该窗口中。特别地，烤盘的部分插入到支撑架内部中，使得其形成加热面、特别是烤盘装置的外部加热面。

优选地，支撑件凹入烤盘的背面。任选地，烤盘的背面基本上与支撑件齐平。任选地，烤盘的背面突出超过相应的支撑件。

优选地被设置为，烤盘仅在支撑架的区域中与支撑架连接。

优选地，设置调节组件，该调节组件允许烤盘的位置和/或轮廓相对于烤盘所附接的支撑架进行调节。调节组件优选地包括多个调节装置，诸如调节螺钉。这些调节装置优选地被布置在支撑架上或支撑架中。例如，在所有实施方案中，调节装置延伸穿过支撑架进入相应的烤盘中。这可以防止调节装置显著地损害到烤盘的热传递，并且特别地防止调节装置额外地覆盖烤盘的背面。

优选地，多个调节装置被布置在支撑架的轮廓中。通过单独地调节调节装置，由此可以调节烤盘的位置并且可能时也可以调节其轮廓。例如，每个烤盘或每个支撑架可存在四个、六个或更多个调节装置。

在所有的实施方案中优选地提供为，烤盘借助于调节装置与支撑架连接。这使得可以不使用额外的连接装置，其结果是简化了构造。此外，可以省去妨碍热传递的附加连接装置。

烤盘优选被设计成使得其将由烘烤装置的加热装置引入的热量尽可能均匀地传递到烤模。

支撑架，特别是其支撑件优选地被设计成弯曲支撑件，用于吸收在烘烤时在过压烤模中产生的压缩力。过压烤模的烤盘分别附接在支撑架上。烤盘装置的两个支撑架通过连接装置在烤盘的两侧彼此连接或可彼此连接。在烘烤时，两个支撑架优选通过连接装置彼此固定连接。在过压烤模中的烤盘之间产生的压力经由烤盘作用在两个支撑架上。在这种情况下，支撑件在两个连接装置之间经受弯曲并且由此用作弯曲支撑件。

下文将参考示例性实施方案和附图进一步描述本发明。

在支撑架与烤盘之间优选空出间隙、尤其是调节间隙。该调节间隙允许支撑架相对于烤盘进行相对运动。例如，烤盘相对于支撑架的位置可以经由调节组件而改变。对于这种移动性，可以优选地保持一定的自由空隙或间隙。为此，凹槽优选地相对于支撑件具有一定的过大尺寸。

烤盘装置的支撑件例如可以相对于烤盘及其凹槽定位，使得支撑件的凹陷部分在所有三个侧面上与凹槽或烤盘相距一定距离。

支撑件至少部分地凹入烤盘的背离过压模的背面中。因此，支撑件可以任选地突出超过烤盘的背面。

在平滑的实施方案中，烤盘的背面是烤盘的平滑后端表面。在烤盘的凸起状构造的情况下，凸起的外包络意味着，背面即例如烤盘的凸起状后端表面延伸到其上的基本上直的表面或平面。在这种情况下，支撑件凹入该凸起中或凹入其包络中。

在一个优选实施方案中，支撑件具有基本上矩形的横截面或矩形轮廓。根据本发明的构思还提供具有其他横截面形状的支撑件，诸如例如具有圆形横截面或I形轮廓的支撑件。在这些情况下，支撑件也可以从三个侧面被凹槽和/或烤盘包围，即使这三个侧面相互融合或者侧面是多维的。

在所有实施方案中，优选地被设置为，由加热组件引入到支撑件的暴露部分中的热能经由支撑件的凹入烤盘中的部分被传递到烤盘。

附图说明

下文将参考附图进一步描述本发明。

图1示出了烘烤装置的实施方案的示意性截面图示。

图2示出具有烤盘的烤盘装置的可能的实施方案的斜视图。

图3示出了可能的烤盘装置的示意性截面图示。

除非另有说明，附图中的参考标记对应于以下部件：

支撑架1、支撑件2、烤盘3、连接装置4、(烤盘的)背面5、凹槽6、距离(距边缘)7、(支撑件的)纵向方向8、(支撑件的)横向方向9、突起部10、(连接装置的)侧部部分11、弯曲线12、拐点13、调节组件14、调节装置15、锁定装置16、密封条17、烘焙室18、加热组件19、开口区域20、威化饼取出区域21、环形传送器22、烘烤团块施加区域23、关闭区域24、感应器25、感应器间隙26、台阶27、(支撑件的)暴露部分28、(支撑件的)凹陷部分29、铰链30、调节间隙31。

具体实施方式

图1示出了烘烤装置的示意性截面图示，该烘烤装置特别地被设计为用于威化饼的工业生产的烤箱。这些烘烤装置的基本设计是已知的。然而，这种烘烤装置可以通过使用根据本发明的烤盘装置和/或根据本发明的烤盘系统来改进。

烘烤装置包括环形传送器22，多个烤盘装置成一排地附接在该环形传送器上。该环形传送器22可以是例如链条或任何其他合适的环形传送器22。在图1的简化例示中，仅示出了烘烤装置的几个烤盘装置，而不是全部。

烤盘装置在烘烤装置中被输送通过多个区域。特别地，烤盘装置被输送通过烘烤团块施加区域23，在该烘烤团块施加区域中，威化饼烘烤团块被施加到展开的烤盘装置上。这通常借助于常规的面团灌注器来完成。在本发明的意义上，适于生产威化饼的烘烤团块含有约50％-70％的水并且因此在未烘烤的状态下基本上是液态的。

在将烘烤团块施加在烘烤团块施加区域23中之后，烤盘装置在关闭区域24中被关闭并且随后被锁定在该关闭位置中。

随后，将烤盘装置传送通过烘焙室18。加热组件19设置在该烘焙室18中。该加热组件19被构造为加热烘焙室18，但主要是烤盘装置。

当穿过烘焙室18时，烤盘装置优选地从上部传送平面重新定向到下部传送平面。当穿过加热的烘焙室18时，烤盘装置被加热。在这种情况下，在烤盘装置中提供的烘烤团块的挥发性成分、特别是烘烤团块的水含量蒸发。由于水蒸气的膨胀，在形成于烤盘3之间的过压在烤模中形成过压，其压缩力作用到烤盘装置上。

随后，在开口区域20中打开烤盘装置，并且可以在威化饼取出区域21中取出烤好的成品威化饼。然后重新开始该生产循环。

图2示出了烤盘装置的可能实施方案的示意性斜视图。烤盘装置包括两个支撑架1，每个支撑架具有两个支撑件2。支撑件2从一个连接装置4延伸到另一连接装置4，或者连接装置4通过支撑件2彼此连接。连接装置4中的一个连接装置被设计为锁定装置16。另一个连接装置4被设计为铰链30。烤盘3被附接到两个支撑架1中的每个支撑架。支撑架1由此保持烤盘3。在烤盘装置的关闭位置中，在两个烤盘3之间形成过压烤模。在热的烤盘3上施加烘烤团块或面团。随后，经由锁定装置16关闭和锁定烤盘装置。烘烤团块的挥发性组分的蒸发在烤模中产生过压。为此目的，还提供常规作用的密封条17，诸如例如密封条或蒸发条。

在烤盘3的背面5中为每个支撑件2设置有凹槽6。支撑件2部分地或完全地凹入这些凹槽6中。特别地，支撑件2凹入烤盘3的背面5中。凹槽6分别与烤盘3的在支撑件2的纵向方向8上延伸的边缘间隔一定距离7。这尤其意味着，每个支撑件2与烤盘3的在支撑件2的纵向方向8上延伸的最近的或相邻的边缘相距一定距离7。由此，烤盘3在支撑件2的横向方向9上具有一定的突出部10，该突出部在横向方向9上突出超过支撑件2。支撑件2以其凹部29插入到凹槽6中。在该区域中，支撑件2从三侧被凹槽6和/或烤盘3包围。

支撑件2的没有凹入烤盘3中并且也没有被烤盘3覆盖的区域是暴露部分28。所述暴露部分特别地布置在支撑件2的面向外侧上。如果支撑件2仅部分地凹入凹槽6中，则暴露部分28也可延伸到支撑件2的其他侧。

在本实施方案中，烤盘装置包括两个侧部部件11。支撑件2与两个侧部部件11一起形成梯子形支撑架1。两个支撑件2基本上彼此平行地从一个侧部部件11延伸到相对的侧部部件11。连接装置4被分别附接在侧部部件11上。然而，在所有实施方案中，这些侧部部件11也可以是连接装置4或支撑件2的部件。例如，连接装置4可被设计成自支撑的，使得支撑件2直接连接到连接装置4。在这种情况下，侧部部件11将是连接装置4的部件。同样，支撑件2可在连接装置4的区域中加宽或成角度，以便形成侧部部件11。

在优选的方式中，支撑架1具有中心开口或窗口，烤盘3伸入到该中心开口或窗口中或者烤盘3穿过该中心开口或窗口伸出。这是特别可能的，因为支撑件2至少部分地凹入烤盘3的背面5中。通过该窗口伸出的烤盘3的背面5形成烤盘3的加热表面的一部分，该加热表面通过加热组件19(图2中未示出)加热。然而附加地，烤盘3也包括两个区域，这两个区域分别被指定为突出部10。这些突出部10同样是背面5的一部分并且因此是烤盘3的加热表面的一部分。

凹槽6被适于支撑件2的形状和轮廓。特别地，支撑件2可以加宽或在其轮廓中具有收缩部。凹槽6被用于适合支撑件2的轮廓和形状。然而，间隙，特别是调节间隙31，可在支撑件2和凹槽6之间保持自由。该调节间隙31允许烤盘3相对于支撑件2的相对运动。图2的烤盘装置具有调节组件14。在本实施方案中，该调节组件14包括多个调节装置15。调节组件14允许烤盘3相对于相应的支撑架1的位置进行选择。特别地，烤盘3的轮廓或曲率也可以借助于调节组件14来调节。例如，如在该实施方案中，在支撑架1上布置有六个调节装置15。支撑架1和烤盘3的相应区域之间的距离可以经由这些调节装置15来调节。由此，可以在烤盘3的不同点或区域处进行调节。如果例如中间的两个调节装置15在不改变外面的四个调节装置15的情况下被调节，则可以实现烤盘3的弯曲以及任选地烤盘3相对于过压烤模的预紧。

产品厚度可以借助于调节组件14和其调节装置15来调节。支撑件2充作弯曲支撑件，用于吸收在过压烤模中产生的压缩力。特别地，支撑件2根据压力弯曲到一定程度。为了防止在烤模中烘焙的产品在中心区域中具有较大的产品厚度，烤盘3可以在中心区域中被预紧，或者可以在中心区域中选择较小的烤模高度，使得在压缩载荷下实现恒定的威化饼厚度。

图3示出了烤盘装置尤其是来自图2的烤盘装置的示意性截面图示。截面平面沿支撑件2的横向方向9延伸。支撑件2是支撑架1的部件。设置支撑架1是为了支撑烤盘3。在烤盘装置的关闭位置中，在烤盘3之间形成过压烤模，如尤其也在图2中示出的那样。烤盘3的背面5，即烤盘3的指向外面的侧面，分别设有凹槽6。优选地为每个支撑件2提供凹槽6。支撑件2被布置在凹槽6中，由此支撑件2至少部分地凹入烤盘3的背面5中。凹槽6或支撑件2从烤盘3的在纵向方向8上延伸的相邻边缘以一定距离7延伸。由此，烤盘3具有一定的突出部10。

凹槽6在支撑件2的凹陷部分29中在三个侧面上包围或围绕该支撑件。调节组件14被设置用于相对于支撑件2调节烤盘3。调节组件14包括多个调节装置15。通过致动调节装置15，可以选择或改变烤盘3相对于支撑架1的轮廓和位置。特别地，烤盘3仅在其边缘区域15中与支撑架1连接。在支撑件2和凹槽6之间始终留有调节间隙31，由此可以调节烤盘3的位置。必要时，该调节间隙31也可以在所有实施方案中填充材料。

支撑件2优选地凹入凹槽6中。任选地，支撑件2以一定的台阶27突出超过烤盘3的背面5。该台阶27形成支撑件2的部分或整个暴露部分28。

在图3的本实施方案中，具有多个感应器25的感应器组件用作加热组件19。感应器25被布置成使得感应器间隙26在烤盘3和感应器25之间保持自由。该感应器间隙26应保持尽可能小，以便优化感应器25的加热效率。如果支撑件2以其暴露部分28或以其台阶27突出超过烤盘3的背面5，则该台阶27优选地被确定尺寸，使得其小于感应器间隙26。这防止了支撑件2与感应器25碰撞。

因此，在所有实施方案中，感应器间隙26优选地大于台阶27的高度，支撑件2以该高度突出超过相应烤盘3的背面5。

由于支撑件2在烤盘3中的特殊布置，可以在不损害系统效率的情况下改善待烘烤产品的产品质量。

通过使支撑件2凹入烤盘3的背面5中，能够实现烤盘3的有效且均匀的加热。均匀加热对于产品质量特别重要。此外，借助于调节组件14的简单的可调节性也可以改善产品质量。调节组件14尤其被设置在支撑件2的区域中，使得通过调节组件14不进一步损害烤盘3的加热。

在烤盘装置的本实施方案中，支撑件2被布置为与烤盘3的侧边缘间隔开一定距离。这改善了支撑件2相对于过压烤模的压缩力的运动学效果。在烤盘装置下方示出的线是下烤盘3的示意性的弯曲线12，该弯曲线在过压烤模的压缩力的影响下在其尺寸方面被夸大。另一个烤盘3的弯曲线12类似地延伸。

为了示出支撑件2的布置的优点，绘出了替代的弯曲线12'。这是假设的弯曲线12，如果烤盘3仅保持在边缘区域中，则会出现该弯曲线。在这种情况下，烤盘3以没有拐点13的连续线从边缘区域向边缘区域弯曲。最大弯曲出现在烤盘3的中间区域中。

通过在图2的实施方案中所选择的、与边缘间隔开的支撑件2的布置，过压烤模的压缩力不仅侧向地而且中心地作用在突出部10上。在当前情况下，弯曲线12因此具有两个拐点13和/或具钟形形状。弯曲线12的中心区域中的最大弯曲相对于具有弯曲线12'的侧向支撑件而减小。由此，减小了在过压烤模的中心区域中的厚度偏差，由此同样会改善产品质量。

通过支撑件2凹入烤盘3的背面5中实现的另一优点在于，同样由加热组件19加热的支撑件2能够将其热能在凹陷部分29中在三侧上传递到烤盘3上。此外，烤盘3的边缘区域也直接由加热组件19通过加热突出部10来加热。

原则上，图3和/或图2的烤盘装置也可以用于其他类型的加热，例如气体加热。

在这种情况下，有利的是将烤盘3的背面5的表面设计成凸起状，以便增加其表面面积，从而可以改善气体火焰的热量输入。还是在这种情况下，支撑件2也可以凹入烤盘3的背面5中。在这种情况下，背面5被理解为是指凸起的外包络，即，例如，烤盘3的凸起状背面表面延伸到其上的基本上直的表面或平面。在这种情况下，支撑件2凹入该凸起中或凹入其包络中。

Claims (15)

1.一种烤盘装置，特别是烤钳，用于在过压下由在未烘烤状态下包含50％-70％水的烘烤团块生产经烘烤的松脆威化饼，所述烤盘装置包括：

-两个支撑架(1)，所述两个支撑架中的每个支撑架具有至少一个支撑件(2)，

-两个烤盘(3)，所述两个烤盘分别被附接在所述支撑架(1)中的一个支撑架上，

-以及两个连接装置(4)，所述两个连接装置被布置在所述烤盘(3)的两侧上并且经由所述支撑件(2)相互连接，

-其中所述连接装置(4)和所述支撑架(1)被设计成使得所述烤盘装置能够被打开、关闭并且锁定在关闭位置以形成过压烤模，

其特征在于，

-在所述烤盘(3)的背离所述过压烤模的背面(5)中设置有与所述支撑件(2)的形状和轮廓适配的凹槽(6)，

-并且所述支撑架(1)的所述支撑件(2)至少部分地凹入所述凹槽(6)中。

2.根据权利要求1所述的烤盘装置，其特征在于：

-所述支撑件(2)总是被所述凹槽(6)从三个侧面围绕或包围，

-并且/或者所述凹槽(6)和凹入所述凹槽(6)中的所述支撑件(2)与所述烤盘(3)的在所述支撑件(2)的纵向方向(8)上延伸的边缘相距一定距离(7)，

-并且/或者所述烤盘(3)在所述支撑件(2)的横向方向(9)上以突出部(10)突出超过所述凹槽(6)和凹入所述凹槽(6)中的所述支撑件(2)，其中所述突出部(10)大于在所述支撑件(2)的横向方向(9)上测量的所述烤盘宽度的5％。

3.根据权利要求1或2所述的烤盘装置，其特征在于：

-提供第一连接装置(4’)和第二连接装置(4”)作为连接装置(4)，

-所述支撑件(2)从所述第一连接装置(4’)延伸到所述第二连接装置(4”)，

-并且所述支撑件(2)充作弯曲支撑件，用于吸收在所述过压烤模中烘烤时产生的压缩力，

-特别地，所述支撑架(1)总是具有两个侧部部件(11)，特别是第一侧部部件(11’)和第二侧部部件(11”)，所述侧部部件被布置在相对侧上并且所述连接装置(4)被附接到所述相对侧，并且所述支撑件(2)总是从所述第一侧部部件(11’)延伸到所述第二侧部部件(11”)，并且由此形成刚性支撑架(1)。

4.根据权利要求3所述的烤盘装置，其特征在于，每个支撑架(1)设置有两个支撑件(2)，所述两个支撑件彼此间隔开并且与在所述支撑件(2)的纵向方向(8)上延伸的所述烤盘(3)的边缘间隔开，并且从所述第一连接装置(4’)延伸到所述第二连接装置(4”)或者从所述第一侧部部件(11’)延伸到所述第二侧部部件(11”)。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的烤盘装置，其特征在于，在烘烤过程中通过在所述过压烤模中存在的过压使所述烤盘(3)弯曲或成拱形，并且在垂直于所述支撑件(2)的纵向方向(8)延伸的截面中观察，所述烤盘(3)的弯曲线(12)各自具有至少两个拐点(13)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的烤盘装置，其中所述支撑件(2)在每种情况下都凹入所述烤盘(3)中，

-所述烤盘(3)的背离所述过压烤模的所述背面(5)与所述支撑件(2)的暴露部分(28)一起形成所述烤盘装置的外部加热表面，

-并且以此方式，使得经由所述支撑件(2)的所述暴露部分(28)引入的热能经由所述支撑件(2)的凹入所述烤盘(3)中的部分(29)被传递到所述烤盘(3)或所述烤盘(3)的所述凹槽(6)。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的烤盘装置，其特征在于：

-为每个烤盘(3)设置调节组件(14)，所述调节组件允许对所述烤盘(3)的位置和/或轮廓相对于所述烤盘(3)附接到其的支撑架(1)进行调节，

-并且所述调节组件(14)包括多个调节装置(15)，所述调节装置被布置在所述支撑件(2)之中或之上和/或延伸穿过所述支撑件(2)，诸如特别是调节螺钉。

8.根据权利要求7所述的烤盘装置，其特征在于：

-所述烤盘(3)借助于所述调节组件(14)各自连接到所述支撑架(1)或所述支撑架的所述支撑件(2)，

-并且/或者在于，所述烤盘(3)仅借助于所述调节组件(14)被附接到所述支撑架(1)或所述支撑架的所述支撑件(2)。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的烤盘装置，其特征在于，所述烤盘(3)的所述背面(5)各自具有用于均匀地加热所述烤盘(3)和所述过压烤模的表面，诸如特别是蜂窝、棱锥或肋图案，或者平滑的表面。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的烤盘装置，其特征在于：

-所述第一连接装置(4’)被设计为铰链(30)，并且所述第二连接装置(4”)被设计为锁定装置(16)，使得所述烤盘装置被设计为烤钳，

-并且特别是在于，为了形成所述过压烤模，设置封闭条(17)，诸如密封条和/或蒸汽条和/或烘烤条。

11.一种烤盘系统，所述烤盘系统包括根据权利要求1至10中任一项所述的烤盘装置，以及至少一个另外的烤盘(3)，所述至少一个另外的烤盘(3)更换连接到所述支撑架(1)中的一个支撑架上的烤盘(3)，其中所述另外的烤盘(3)特别地：

-以相同的方式更换有缺陷或磨损的烤盘(3)，

-是用于生产另一种威化饼形状的烤盘(3)，

-是具有不同构造的背面(5)的烤盘(3)，

-或者是由另一种材料制成的烤盘(3)。

12.一种烤盘(3)，所述烤盘被构造成用于根据权利要求1至10中任一项所述的烤盘装置中和/或用于根据权利要求11所述的烤盘系统中，所述烤盘包括背面(5)，所述背面(5)具有用于至少部分地接纳支撑件(2)的区域，特别地具有凹槽(6)。

13.一种烤盘架，所述烤盘架包括：

-两个支撑架(1)，所述两个支撑架中的每个支撑架具有至少一个支撑件(2)，

-以及两个连接装置(4)，所述两个连接装置被布置在所述烤盘(3)的两侧上并且经由所述支撑件(2)相互连接，

-其中所述连接装置(4)和所述支撑架(1)被设计成使得所述烤盘架能够被打开、关闭并且锁定在关闭位置以形成过压烤模，其特征在于：

-所述支撑架(1)被构造成形成根据权利要求1至10中任一项所述的烤盘装置，

-和/或在于，所述支撑架(1)被构造成用于根据权利要求11所述的烤盘系统中。

14.一种烘烤装置，用于在过压下由未烘烤状态下含有50％-70％水的烘烤团块生产经烘烤的松脆威化饼，所述烘烤装置包括环形传送器(22)和沿着所述环形传送器(22)设置的多个烤盘装置，所述烤盘装置中的每一者被布置为彼此相邻：

-烘烤团块施加区域(23)，用于将烘烤团块施加到打开的烤盘装置，

-封闭区域(24)，用于封闭所述烤盘装置，

-烘焙室(18)，用于烘烤所述封闭的烤盘装置中的烘烤产品，其中设置有至少一个加热组件(19)，用于加热位于所述烘焙室(18)中的所述烤盘装置，

-开口区域(20)，用于打开所述烤盘装置，

-以及威化饼取出区域(21)，用于从所述打开的烤盘装置中取出所述经烘烤的威化饼，

其特征在于，所述烤盘装置是根据权利要求1至10中的任一项来设计的。

15.根据权利要求14所述的烘烤装置，其特征在于：

-加热组件(19)包括至少一个感应器(25)，用于感应地加热烤盘(3)，其中在所述感应器(25)和移动经过所述感应器(25)的所述烤盘(3)之间空出具有间隙宽度的感应器间隙(26)，

-并且在于，使得所述支撑件(2)中的一个支撑件从烤盘(3)的背面(5)突出的任选地存在的台阶(27)小于所述感应器间隙(26)的所述间隙宽度。