CN117355774A - 基材膜、光学层叠体及其制造方法、以及偏振片的制造方法 - Google Patents

基材膜、光学层叠体及其制造方法、以及偏振片的制造方法 Download PDF

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CN117355774A CN202280036410.4A CN202280036410A CN117355774A CN 117355774 A CN117355774 A CN 117355774A CN 202280036410 A CN202280036410 A CN 202280036410A CN 117355774 A CN117355774 A CN 117355774A
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Abstract

本发明提供一种基材膜，其用于被涂敷液晶组合物；基材膜由包含聚合物和添加剂的树脂形成；基材膜具有被涂敷液晶组合物的正面和正面的相反侧的背面；基材膜的背面的算数平均粗糙度Ra为0.1μm以下；基材膜的正面的添加物的量IF与基材膜的背面的添加物的量IB的比IB/IF为0.50以下。

Description

基材膜、光学层叠体及其制造方法、以及偏振片的制造方法
技术领域
本发明涉及基材膜、光学层叠体及其制造方法、以及偏振片的制造方法。
背景技术
存在在某个膜的表面涂敷组合物，使涂敷的组合物固化而制造层叠体的方法(专利文献1)。此外，已知有通过包含涂敷和固化这样的组合物的方法，制造光学用途的层叠体的技术(专利文献2)。例如，已知有将包含液晶性化合物的液晶组合物涂敷在树脂膜上，使涂敷的液晶组合物固化而制造光学层叠体的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-261207号公报；
专利文献2：国际公开第2016/121856号。
发明内容
发明要解决的问题
使用液晶组合物制造的光学层叠体通常具有由液晶组合物的固化物形成的液晶固化层。该液晶固化层一般要求具有均匀的光学特性。但是，现有的光学层叠体的液晶固化层有时会产生光学特性不均匀的部分。因此，在将该液晶固化层设置于图像显示装置的情况下，有时在显示面会产生显示不均。在此，“显示不均”是指亮度和色调等图像的要素与周围不同的部分。
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供一种具有在设置于图像显示装置的情况下能够抑制显示不均的液晶固化层的光学层叠体及其制造方法；能够用于上述的光学层叠体的制造的基材膜；以及在设置于图像显示装置的情况下能够抑制显示不均的偏振片的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究。其结果为，本发明人发现，在使用特定的基材膜作为被涂敷液晶组合物的膜的情况下，能够解决上述问题，从而完成本发明。
即，本发明包含下述内容。
[1]一种基材膜，其用于被涂敷液晶组合物，
上述基材膜由包含聚合物和添加剂的树脂形成，
上述基材膜具有被涂敷上述液晶组合物的正面和上述正面的相反侧的背面，
上述基材膜的背面的算数平均粗糙度Ra为0.1μm以下，
上述基材膜的正面的上述添加物的量IF与上述基材膜的背面的上述添加物的量IB的比IB/IF为0.50以下。
[2]根据[1]所述的基材膜，其中，上述添加剂为抗氧化剂。
[3]根据[1]或[2]所述的基材膜，其中，上述基材膜是拉伸膜。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的基材膜，其中，上述聚合物是含脂环式结构聚合物。
[5]一种光学层叠体，其具有：
[1]～[4]中任一项所述的基材膜；以及
液晶固化层，其由液晶组合物的固化物形成在上述基材膜的正面。
[6]一种光学层叠体的制造方法，依次包括：
工序(I)，准备由包含聚合物和添加剂的树脂形成的树脂膜，该树脂膜具有算数平均粗糙度Ra为0.1μm以下的背面和上述背面的相反侧的正面；
工序(II)，对上述树脂膜的背面实施清洗处理，得到基材膜；
工序(III)，在上述基材膜的正面涂敷包含液晶性化合物的液晶组合物，形成液晶组合物层；
工序(IV)，使上述液晶组合物层所包含的上述液晶性化合物取向；以及
工序(V)，使上述液晶组合物层固化，得到液晶固化层。
[7]根据[6]所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述工序(II)包括对上述树脂膜的背面实施选自电晕处理、等离子处理、以及液体涂敷处理中的至少一种的处理。
[8]根据[6]或[7]所述的光学层叠体的制造方法，其中，上述工序(I)包括对树脂膜实施赋予取向控制力的处理。
[9]根据[6]～[8]中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，
上述工序(I)包括准备在正面设置有保护膜的上述树脂膜，
上述制造方法在工序(III)之前包括剥离上述保护膜的工序(VI)。
[10]根据[6]～[9]中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，
上述基材膜的正面的上述添加物的量IF与上述基材膜的背面的上述添加物的量IB的比IB/IF为0.50以下。
[11]一种偏振片的制造方法，依次包括：
通过[6]～[10]中任一项所述的制造方法制造光学层叠体的工序；
将上述光学层叠体的液晶固化层与线起偏器贴合的工序；以及
剥离基材膜的工序。
发明效果
根据本发明，能够提供一种具有在设置于图像显示装置的情况下能够抑制显示不均的液晶固化层的光学层叠体及其制造方法；能够用于上述的光学层叠体的制造的基材膜；以及在设置于图像显示装置的情况下能够抑制显示不均的偏振片的制造方法。
附图说明
图1是示意性地示出本发明的一种实施方式的基材膜的剖视图。
图2是示意性地示出本发明的一种实施方式的光学层叠体的制造装置的侧视图。
图3是示意性地示出在树脂膜涂敷液晶组合物而得到的现有的中间膜的剖视图。
图4是示意性地示出由现有的中间膜得到的光学层叠体的剖视图。
具体实施方式
以下，举出示例物和实施方式对本发明进行详细说明。但是，本发明不限定于以下所举出的示例物和实施方式，在不脱离本发明的权利要求的范围及其等同的范围的范围内可以任意地变更实施。
在以下的说明中，只要没有特别说明，某个层的面内延迟Re是由Re＝(nx-ny)×d表示的值。在此，nx表示在与层的厚度方向垂直的方向(面内方向)上提供最大折射率的方向的折射率。ny表示在层的上述面内方向上与nx方向正交的方向的折射率。nz表示层的厚度方向的折射率。d表示层的厚度。只要没有特别说明，面内延迟的测定波长为550nm。面内延迟Re能够使用相位差计(AXOmetrics公司制“AxoScan”)进行测定。
在以下的说明中，“偏振片”、“圆偏振片”、“λ/2波片”以及“λ/4波片”这些构件并不限定于刚性的构件，也可以是膜状的具有挠性的构件。
[1.基材膜的结构]
图1是示意性地示出本发明的一种实施方式的基材膜10的剖视图。如图1所示，本发明的一种实施方式的基材膜10是用于被涂敷液晶组合物(未图示。)的膜，具有被涂敷液晶组合物的正面10U和正面10U的相反侧的背面10D。
基材膜10由包含聚合物和添加剂的树脂形成。由此，基材膜10通常包含上述树脂。该树脂优选为热塑性树脂。基材膜10优选具有单层结构，该单层结构具有包含上述树脂的一个层。由此，基材膜10更优选为仅包含上述树脂的膜。
作为形成基材膜10的树脂所包含的聚合物，可举出例如含脂环式结构聚合物、纤维素酯、聚乙烯醇、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、环氧聚合物、聚苯乙烯、丙烯酸聚合物、甲基丙烯酸聚合物、聚乙烯、聚丙烯、以及它们的组合。聚合物可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。在这些之中，从透明性、低吸湿性、尺寸稳定性、以及轻质性的观点出发，优选含脂环式结构聚合物和纤维素酯，更优选含脂环式结构聚合物。
含脂环式结构聚合物中，其聚合物的结构单元含有脂环式结构。含脂环式结构聚合物可以在主链上具有脂环式结构，也可以在侧链上具有脂环式结构。其中，从机械强度和耐热性的观点出发，优选在主链上含有脂环式结构的聚合物。
作为脂环式结构，可举出例如饱和脂环式烃(环烷烃)结构、不饱和脂环式烃(环烯烃、环炔烃)结构等。其中，从机械强度和耐热性的观点出发，优选环烷烃结构和环烯烃结构，其中特别优选环烷烃结构。
构成脂环式结构的碳原子数为每一个脂环式结构优选为4个以上，更优选为5个以上，特别优选为6个以上，优选为30个以下，更优选为20个以下，特别优选为15个以下。在构成脂环式结构的碳原子数在上述范围的情况下，包含该含脂环式结构聚合物的树脂的机械强度、耐热性、以及成型性高度平衡。
含脂环式结构聚合物中的具有脂环式结构的结构单元的比例可以根据使用目的适当选择，优选为55重量％以上，进一步优选为70重量％以上，特别优选为90重量％以上。在含脂环式结构聚合物中的具有脂环式结构的结构单元的比例在该范围的情况下，树脂的透明性和耐热性良好。
作为含脂环式结构聚合物，能够举出例如降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃聚合物、环状共轭二烯聚合物、乙烯基脂环式烃聚合物以及它们的加氢物等。在这些之中，降冰片烯系聚合物及其加氢物的透明性和成型性良好，因此优选。
作为降冰片烯系聚合物及其氢化物的例子，可举出：具有降冰片烯结构的单体的开环聚合物及其氢化物；具有降冰片烯结构的单体的加成聚合物及其氢化物。此外，作为具有降冰片烯结构的单体的开环聚合物的例子，可举出：具有降冰片烯结构的一种单体的开环均聚物；具有降冰片烯结构的两种以上单体的开环共聚物；以及具有降冰片烯结构的单体和能够与其共聚的任意的单体的开环共聚物。进而，作为具有降冰片烯结构的单体的加成聚合物的例子，可举出：具有降冰片烯结构的一种单体的加成均聚物；具有降冰片烯结构的两种以上单体的加成共聚物；以及具有降冰片烯结构的单体和能够与其共聚的任意的单体的加成共聚物。作为这些聚合物，可举出例如日本特开2002-321302号公报等所公开的聚合物。在这些之中，从成型性、耐热性、低吸湿性、尺寸稳定性、以及轻质性的观点出发，特别优选具有降冰片烯结构的单体的开环聚合物的氢化物。
聚合物的重均分子量(Mw)没有特别限制，优选为10000以上，更优选为15000以上，特别优选为25000以上，优选为100000以下，更优选为80000以下，特别优选为50000以下。在重均分子量在这样的范围的情况下，基材膜10的机械强度和成型加工性高度平衡。
聚合物的分子量分布(重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn))优选为1.0以上，更优选为1.2以上，优选为10以下，更优选为4.0以下，特别优选为3.5以下。在分子量分布为上述范围的下限值以上的情况下，能够提高聚合物的生产率，抑制制造成本。此外，在为上限值以下的情况下，低分子成分的量变小，因此能够抑制高温暴露时的弛豫，提高基材膜10的稳定性。
聚合物的重均分子量Mw和数均分子量Mn能够通过使用环己烷作为溶剂的凝胶渗透色谱(以下，简称为“GPC”。)以聚异戊二烯换算的值的形式进行测定。在聚合物不溶解于环己烷的情况下，能够通过使用四氢呋喃作为溶剂的GPC以聚苯乙烯换算的值的形式进行测定。
形成基材膜10的树脂所包含的聚合物的量相对于100重量％的树脂优选为90.0重量％以上，更优选为95.0重量％以上，特别优选为97.0重量％以上，优选为99.5重量％以下，更优选为99.0重量％以下，特别优选为98.5重量％以下。在聚合物的量在上述范围的情况下，能够有效发挥该聚合物所具有的特性。
形成基材膜10的树脂包含添加剂与上述的聚合物组合。该添加剂通常能够为具有比聚合物小的分子量的有机化合物。这样的添加剂能够通过在基材膜10的制造时和运送时、以及在光学层叠体的制造时和运送时提供的热量，在基材膜10中移动而渗出到该基材膜10的正面10U和背面10D。
作为添加剂，可举出：染料等着色剂；增塑剂；荧光增白剂；分散剂；热稳定剂；光稳定剂；紫外线吸收剂；抗静电剂；抗氧化剂；表面活性剂等。添加剂可以单独一种，也可以组合使用两种以上。其中，树脂优选包含抗氧化剂作为添加剂。
作为抗氧化剂，可举出例如酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂等。此外，抗氧化剂可以单独使用一种，也可以将两种以上以任意比率组合使用。在抗氧化剂中，优选酚系抗氧化剂。
作为酚系抗氧化剂的具体例，可举出：2,6-二叔丁基对甲酚、2,6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2,6-二环己基-4-甲基苯酚、2,6-二异丙基-4-乙基苯酚、2,6-二叔戊基-4-甲基苯酚、2,6-二叔辛基-4-正丙基苯酚、2,6-二环己基-4-正辛基苯酚、2-异丙基-4-甲基-6-叔丁基苯酚、2-叔丁基-4-乙基-6-叔辛基苯酚、2-异丁基-4-乙基-6-叔己基苯酚、2-环己基-4-正丁基-6-异丙基苯酚、β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸硬脂酯等单环的酚系抗氧化剂；2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-亚丁基双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-亚甲基双(2,6-二叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双[6-(1-甲基环己基)-对甲酚]、2,2’-亚乙基双(4,6-二叔丁基苯酚)、2,2’-亚丁基双(2-叔丁基-4-甲基苯酚)、3,6-二氧杂八亚甲基双[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酸酯]、三甘醇双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]、1,6-己二醇双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2,2’-硫代二亚乙基双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]等双环的酚系抗氧化剂；1,1,3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、1,3,5-三(2,6-二甲基-3-羟基-4-叔丁基苄基)异氰脲酸酯、1,3,5-三[(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧基乙基]异氰脲酸酯、三(4-叔丁基-2,6-二甲基-3-羟基苄基)异氰脲酸酯、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯等三环的酚系抗氧化剂；季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、四[亚甲基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等四环的酚系抗氧化剂等。其中，优选四环的酚系抗氧化剂。
添加剂的分子量通常小于聚合物的重均分子量Mw。添加剂的具体的分子量优选为200以上，更优选为500以上，特别优选为1000以上，优选为8000以下，更优选为5000以下，特别优选为3000以下。
添加剂的量优选在特定的范围。具体而言，添加剂的量的特定的范围相对于100重量份的树脂所包含的聚合物优选为0.01重量份以上，更优选为0.02重量份以上，特别优选为0.05重量份以上，优选为5.0重量份以下，更优选为1.5重量份以下，特别优选为1.0重量份以下。此外，在添加剂包含抗氧化剂的情况下，抗氧化剂的量相对于100重量份的聚合物优选在上述的特定的范围。
形成基材膜10的树脂可以进一步包含任意的成分与上述的聚合物和添加剂组合。作为任意的成分，可举出例如二氧化硅颗粒等无机颗粒等。任意的成分可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
形成基材膜10的树脂的玻璃化转变温度Tg优选为80℃以上，更优选为100℃以上，特别优选为110℃以上，优选为250℃以下，更优选为200℃以下，特别优选为180℃以下。在聚合物具有上述范围的玻璃化转变温度的情况下，能够抑制高温下的形变和应力，因此能够提高基材膜10的耐久性。在树脂具有多个玻璃化转变温度的情况下，优选树脂的最高的玻璃化转变温度处于上述范围。树脂的玻璃化转变温度Tg能够使用差示扫描量热分析仪，基于JIS K6911，以升温速度10℃/分钟的条件测定。
基材膜10的背面10D具有特定的范围的算数平均粗糙度Ra。背面10D的具体的算数平均粗糙度Ra通常为0.10μm以下，优选为0.050μm以下，特别优选为0.020μm以下，通常为0.005μm以上。基材膜10的背面10D具有上述范围的算数平均粗糙度Ra，表示该背面10D平滑。在背面10D具有上述范围的算数平均粗糙度Ra的情况下，能够抑制在宽的范围内的显示不均(参照实施例的虹斑)的发生。此外，像这样在具有算数平均粗糙度Ra较小的背面的树脂膜中，以往产生了如下的特异性问题：产生直径为20mm左右的圆形状的显示不均(以下，有时适当称为“圆形状斑点”。)，但根据本实施方式的基材膜10，能够抑制该圆形状斑点的产生。
膜的表面的算数平均粗糙度Ra能够通过后述的实施例中说明的方法测定。
在基材膜10的正面10U和背面10D，通常渗出基材膜10所包含的添加剂。由此，在正面10U和背面10D通常附着有添加剂。在该情况下，正面10U的添加剂的量IF与背面10D的添加剂的量IB的比IB/IF在特定的范围。具体而言，上述的比IB/IF的范围通常为0.50以下，优选为0.30以下，特别优选为0.20以下。比IB/IF的下限通常为0.00以上，但也优选为0.01以上。在此，只要没有特别说明，正面10U和背面10D的添加剂的量IF和IB是该添加剂的分子的正或负离子的个数基准。
在比IB/IF在上述的范围的情况下，在背面10D的添加剂的量远少于在基材膜10的正面10U的添加剂的量。由此，能够抑制由在背面10D渗出的添加剂导致的液晶固化层的光学特性的不均。因此，能够抑制与上述的光学特性的不均对应的圆形状斑点的产生。
上述的添加剂的量的比IB/IF能够通过TOF-SIMS(飞行时间型二次离子质量分析)来测定。在TOF-SIMS中，在高真空中使高速的离子束(一次离子)与固体试料的表面碰撞，通过溅射现象使表面的构成成分飞溅出去，产生带正或负电荷的离子(二次离子)。通过电场使该二次离子向一个方向飞出，能够根据由检测器检测到的时间，进行二次离子的质量计算。因此，分别在基材膜10的正面10U和背面10D测定来自添加剂的离子的峰强度，通过计算这些峰强度的比，能够得到上述的比IB/IF。在求出上述的峰强度的比时，峰强度优选标准化。例如，在用TOF-SIMS测定的峰之中，可以将最大的峰强度作为标准值(基准)进行标准化。当举出具体例子时，在将最大的峰强度作为100％的情况下，通过以百分率表示各峰的峰强度，能够进行标准化。而且，作为标准化的峰强度的比，能够求出上述的比IB/IF。TOF-SIMS的具体的测定条件能够采用后述的实施例中说明的条件。
为了促进涂敷于该正面10U的液晶组合物所包含的液晶性化合物的取向，基材膜10的正面10U优选具有取向控制力。取向控制力是指，能够使液晶组合物所包含的液晶性化合物取向的面的性质。作为对面赋予这样的取向控制力的处理，可举出例如：面的摩擦处理、对面赋予能够因UV(紫外线)等光照射而改性的涂膜而赋予取向控制力的光取向处理、以及拉伸处理。在这些之中，优选能够简便地对基材膜10赋予取向控制力的拉伸处理。由此，基材膜10优选为拉伸膜。拉伸膜表示通过包括拉伸处理的制造方法而制造的膜。
根据拉伸处理，拉伸的膜所包含的分子通常在拉伸方向上取向。而且，能够对该拉伸的膜赋予促进液晶性化合物向该膜所包含的分子的取向方向取向的取向控制力。一般地，膜中的分子的取向方向与该膜的慢轴方向平行或垂直，因此通过取向控制力促进液晶性化合物的取向的方向能够与慢轴方向平行或垂直。因此，基材膜的拉伸方向和慢轴方向优选设定为与想要使液晶组合物所包含的液晶性化合物取向的方向平行或垂直。例如，在想要使液晶性化合物在相对于宽度方向呈40°～50°的角度的方向上取向的情况下，优选使用在相对于宽度方向呈40°～50°的角度的方向具有慢轴的基材膜。
基材膜10的正面10U优选为平滑。具体而言，正面10U优选具有与背面10D的算数平均粗糙度Ra相同的特定的范围的算数平均粗糙度Ra。在基材膜10的正面10U平滑的情况下，能够抑制宽的范围内的显示不均(参照实施例的虹斑)的产生。
基材膜10可以具有单张的形状，但优选具有长条的形状。在此，“长条”是指具有相对于宽度为5倍以上的长度的形状，优选具有10倍或其以上的长度，具体而言是指具有可被卷绕成辊状而保存或运输的程度的长度的膜的形状。膜的长度相对于宽度的比例的上限没有特别限定，能够为例如10万倍以下。
基材膜10的厚度优选为10μm以上，更优选为20μm以上，特别优选为40μm以上，优选为250μm以下，更优选为200μm以下，特别优选为150μm以下。
[2.基材膜的制造方法]
上述的基材膜能够通过如下的制造方法制造，该制造方法包括对由包含聚合物和添加剂的上述的树脂形成的树脂膜实施清洗处理。
树脂膜具有正面和该正面的相反侧的背面。在清洗处理前的时刻，优选背面具有上述的特定的范围的算数平均粗糙度Ra，进而，更优选正面和背面这两者具有上述的特定的范围的算数平均粗糙度Ra。
树脂膜能够通过利用任意的成型方法将树脂成型来制造。作为成型方法的例子，可举出注射成型法、熔融挤出成型法、压制成型法、吹胀成型法、吹塑成型法、压延成型法、注塑成型法、以及压缩成型法。在这些之中，优选熔融挤出成型法。作为熔融挤出成型法，可举出例如使用模具的层压法，在生产率和厚度精度优异的方面上，优选使用T模头的方法。
此外，树脂膜也可以从市场购买准备。
在准备树脂膜后，通过对该树脂膜的背面实施清洗处理，能够得到添加剂的量的比IB/IF在特定的范围的基材膜。清洗处理能够采用能够除去在基材膜的背面的添加剂来减少该添加剂的量的处理。作为优选的清洗处理的例子，可举出电晕处理、等离子体处理、以及液体涂敷处理。
在电晕处理中，通常，在从施加了高频电压的电极产生的电晕放电下，使树脂膜经过，通过上述的电晕放电处理树脂膜的背面。根据电晕处理，能够将附着于背面的添加剂分解并除去。作为电极，可举出例如丝状电极(wire electrodes)、平面电极、辊式电极(rollelectrodes)等。作为电极的材质，可举出例如铁、铜、铝、不锈钢等金属。树脂膜与电极的间隔优选为0.5mm～10mm。
为了使放电均匀，优选在树脂膜与电极之间夹着电介质实施处理。作为电介质，优选相对介电常数为10以上的电介质。作为电介质的材质，可举出例如：陶瓷；硅橡胶、聚四氟乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等塑料；玻璃；石英；二氧化硅；氧化铝、二氧化锆、二氧化钛等金属氧化物；钛酸钡等化合物等。特别是当使用相对介电常数10以上(25℃环境下)的固体电介质时，在能够以低电压高速地进行电晕处理的方面上是有利的。电介质的厚度优选为0.3mm～1.5mm。
电晕处理的条件优选能够有效地除去树脂膜的背面的添加剂的条件。电晕处理的输出功率优选为0.02kW以上，更优选为0.04kW以上，优选为5kW以下，更优选为2kW以下。此外，电晕处理的频率优选为5kHz以上，更优选为10kHz以上，优选为100kHz以下，更优选为50kHz以下。进而，电晕处理的处理密度优选为1W·min/m2以上，更优选为5W·min/m2以上，特别优选为10W·min/m2以上，优选为1000W·min/m2以下，更优选为500W·min/m2以下，特别优选为300W·min/m2以下。
电晕处理可以在大气中进行，也可以在惰性气体环境下进行。例如，可以用壳包围电极周边，在壳的内部填充适当的气体，进行电晕处理。作为惰性气体，可举出例如氦、氩、氮等。惰性气体可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
在等离子体处理中，通常，在适当的气体环境中向电极施加高频电压，通过该电压所产生的等离子体放电对树脂膜的背面进行处理。根据等离子体处理，能够将附着于背面的添加剂分解并除去。作为气体，能够使用在适当条件下被等离子体激发的等离子体激发性气体。作为等离子体激发性气体，可举出例如：氮；氧；二氧化碳；氩、氦等稀有气体；丙烯酸；羟基烷基；CF4、CHF3、C2F6等氟系化合物等。此外，等离子体激发性气体可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
等离子体处理可以在大气压下进行，也可以在减压下进行。上述的减压的程度能够为例如0.1Torr～1Torr。其中，为了在使用辊的运送下高效地进行处理，优选作为在大气压下的处理的常压等离子体处理。
等离子体处理的条件优选能够有效地除去树脂膜的背面的添加剂的条件。等离子体处理的输出功率优选为50W以上，更优选为200W以上，特别优选为500W以上，优选为3000W以下。此外，等离子体处理的频率优选为1kHz以上，更优选为10kHz以上，特别优选为25kHz以上，优选为100kHz以下。进而，等离子体处理的处理密度优选为100W·min/m2以上，更优选为500W·min/m2以上，特别优选为1000W·min/m2以上，优选为10000W·min/m2以下，更优选为8000W·min/m2以下，特别优选为5000W·min/m2以下。
在液体涂敷处理中，通常将包含适当的溶剂的液体涂敷于树脂膜的背面，通过该液体除去附着于背面的添加剂。作为溶剂，优选不溶解树脂膜所包含的聚合物的溶剂，优选能够溶解添加剂的溶剂。作为溶剂，可以使用例如水等无机溶剂，也可以使用有机溶剂。作为有机溶剂，可举出例如：环戊酮、环己酮、甲乙酮、丙酮、甲基异丁基酮等酮溶剂；乙酸丁酯、乙酸戊酯等乙酸酯溶剂；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等卤代烃溶剂；1,4-二烷、环戊基甲基醚、四氢呋喃、四氢吡喃、1,3-二氧戊环、1,2-二甲氧基乙烷等醚溶剂；以及甲苯、二甲苯、均三甲苯等芳香族烃系溶剂等。溶剂可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。此外，用于液体涂敷处理的液体也可以包含适当的溶质与溶剂组合。作为溶质，可举出例如用于提高添加剂的溶解性的表面活性剂等。此外，溶质可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
作为液体的涂敷方法，可举出例如帘式涂敷法、挤出涂敷法、辊涂法、棒涂法、喷涂法、滑动涂敷法、唇涂法(lip coating)、凹版涂敷法、模涂法、狭缝涂敷法等。
在进行液体涂敷处理的情况下，优选在该液体涂敷处理后，进行从背面擦去液体的擦拭处理。通过擦拭处理，能够更有效地除去背面的添加剂。作为擦去用的擦拭材料，能够使用布材、无纺布、塑料膜、纸材等，但不限定于此。此外，能够应用刮除处理来代替擦拭处理。作为刮除处理，在涂敷液体后，能够应用利用辊、刀片等刮除装置的刮除。
上述的清洗处理优选选择性地仅对树脂膜的背面实施，由此优选不对正面实施。通过选择性地对树脂膜的背面实施清洗处理，能够抑制因清洗处理使树脂膜的正面的取向控制力降低。
为了保护正面，有时以在正面设置保护膜的状态准备树脂膜。在准备了在正面设置有保护膜的树脂膜的情况下，上述的清洗处理可以直接在设置有保护膜的状态下进行，也可以剥离了保护膜之后进行。
基材膜的制造方法也可以进一步包括实施在树脂膜的正面赋予取向控制力的处理。像这样赋予取向控制力的处理通常在清洗处理之前进行。作为赋予取向控制力的处理，可举出例如摩擦处理、光取向处理以及拉伸处理，其中优选拉伸处理。通过拉伸处理，使树脂膜所包含的聚合物分子在拉伸方向上取向，能够对树脂膜的正面赋予促进液晶性化合物向该聚合物分子的取向方向的取向的取向控制力。
拉伸树脂膜时的拉伸温度优选为Tg－30℃以上，更优选为Tg－10℃以上，优选为Tg+60℃以下，更优选为Tg+40℃以下。在此，Tg表示树脂膜所包含的树脂的玻璃化转变温度。在以上述的拉伸温度进行拉伸的情况下，使树脂膜所包含的聚合物分子适当取向，能够对树脂膜的正面赋予强的取向控制力。
拉伸树脂膜时的拉伸倍率通常大于1倍，优选为1.01倍以上，更优选为1.1倍以上，优选为10倍以下，更优选为5倍以下，特别优选为3倍以下。在以上述的拉伸倍率进行拉伸的情况下，使树脂膜所包含的聚合物分子适当取向，能够对树脂膜的正面赋予强的取向控制力。
[3.光学层叠体的制造方法]
上述的基材膜能够用于制造光学层叠体。根据使用基材膜的制造方法，能够容易地制造具有能够抑制显示不均的液晶固化层的光学层叠体。通常，该光学层叠体的制造方法依次包括：
工序(I)，准备由包含上述的聚合物和添加剂的树脂形成的树脂膜；
工序(II)，对树脂膜的背面实施清洗处理，得到基材膜；
工序(III)，在基材膜的正面涂敷包含液晶性化合物的液晶组合物，形成液晶组合物层；
工序(IV)，使液晶组合物层所包含的液晶性化合物取向；以及
工序(V)，使液晶组合物层固化，得到液晶固化层。
以下，示出附图，对一种实施方式的光学层叠体的制造方法进行详细说明。
图2是示意性地示出本发明的一种实施方式的光学层叠体20的制造装置1的侧视图。如图2所示，本发明的一种实施方式的制造装置1从膜流动方向的上游依次具有膜供给部100、清洗部200、剥离部300、涂敷部400、取向处理部500、固化处理部600、以及回收部700。
膜供给部100以能够供给树脂膜30的方式设置。树脂膜30是由上述的树脂形成的膜，具有正面30U和正面30U的相反侧的背面30D。作为该树脂膜30，能够使用在上述的基材膜的制造方法的项中说明的树脂膜。由此，树脂膜30优选其背面30D具有上述的特定的范围的算数平均粗糙度Ra，进而，更优选正面30U和背面30D这两者具有上述的特定的范围的算数平均粗糙度Ra。此外，从通过卷对卷(roll to roll)法高效地制造长条的光学层叠体20的观点出发，作为树脂膜30，优选使用长条的树脂膜。
膜供给部100可以设置为单独供给树脂膜30，但也可以设置为以使树脂膜30与保护膜41贴合的状态进行供给。例如，从对涂敷液晶组合物的正面30U进行保护的观点出发，膜供给部100也可以设置为以在正面30U设置有保护膜41的状态供给树脂膜30。
在本实施方式中，举例说明一种膜供给部100，其能够安装卷绕了多层膜40的膜卷50，该多层膜40具有：具有正面30U和背面30D的长条的树脂膜30；以及设置于该树脂膜30的正面30U的长条的保护膜41。该例子所示的膜供给部100以如下方式设置：通过从膜卷50抽出多层膜40从而能够与保护膜41一起供给树脂膜30的方式。
清洗部200以对从膜供给部100供给的树脂膜30的背面30D实施清洗处理的方式设置。通过该清洗处理，除去背面30D上的添加剂，因此通常得到添加剂的量的比IB/IF在特定的范围的基材膜10。作为清洗处理，能够采用在上述的基材膜的制造方法的项中说明的清洗处理。由此，清洗部200优选具有能够实施该清洗处理的装置。例如，在进行电晕处理作为清洗处理的情况下，清洗部200优选具有电极，进而，更优选具有电介质。此外，例如，在进行等离子体处理作为清洗处理的情况下，清洗部200优选具有电极以及能够形成适当的气体环境的腔室。进而，例如，在进行液体涂敷处理作为清洗处理的情况下，清洗部200优选具有能够在树脂膜30的背面30D涂敷液体的清洗用涂敷装置，进而，更优选具有擦拭该背面30D的擦拭材料或刮除装置。
剥离部300以能够剥离保护膜41的方式设置。在本实施方式中，举例说明具有一对剥离辊310和320的剥离部300。该剥离部300以如下方式设置：通过以穿过剥离辊310与剥离辊320之间的方式运送基材膜10和保护膜41从而能够将保护膜41从基材膜10剥离的方式。
涂敷部400以能够将液晶组合物61涂敷于基材膜10的正面10U的方式设置。通过用涂敷部400的涂敷，在正面10U上形成包含液晶组合物61的液晶组合物层62，得到具有基材膜10和液晶组合物层62的中间膜60。作为涂敷部400，能够使用例如如下的涂敷部，该涂敷部具有：与基材膜10的背面10D接触并能够支承基材膜10的作为支承体的支承辊410；以及能够将液晶组合物61涂敷于支承辊410所支承的基材膜10的正面10U的涂敷机420。
支承辊410具有作为支承面的外周面410S，其与基材膜10接触并能够支承。该外周面410S一般是粗糙度小且平滑的曲面。支承辊410的外周面410S的十点平均粗糙度Rz优选为0.5μm以下，更优选为0.1μm以下，特别优选为0.05μm以下。外周面410S的十点平均粗糙度Rz的下限没有特别限制，通常为0.0μm以上，但也可以为0.01μm以上。支承辊410的外周面410S的十点平均粗糙度Rz能够依据JIS B0601-2001，在扫描距离为50mm时，将支承辊410的轴向设定为扫描方向来测定。
此外，支承辊410以一边由外周面410S支承基材膜10一边能够沿周向旋转的方式设置。通常，支承辊410以由未图示的电机等驱动装置施加旋转驱动力、能够通过该旋转驱动力旋转的方式设置。
进而，支承辊410通常设置为能够调节温度。例如，也可以在支承辊410内设置流路(未图示。)，使作为冷却介质或加热介质的液体(水等)在该流路中流通，进行支承辊410的温度调节。支承辊410的温度优选调节为与涂敷机420涂敷的液晶组合物61相同，或稍低的温度。
涂敷机420通常与支承辊410的外周面410S相向而设置，以使得能够将液晶组合物61涂敷于由支承辊410支承的基材膜10的正面10U。作为该涂敷机420，优选使用该涂敷机420不按压基材膜10的非接触式涂敷机。通过使用非接触式涂敷机，能够抑制基材膜10的损伤，或提高流动方向上的液晶组合物层62的膜厚的均匀性。作为特别优选的涂敷机420，可举出具有模头421的模涂机。因此，本实施方式示出使用了具有模头421的模涂机作为涂敷机420的例子进行说明。
取向处理部500以使形成于基材膜10的正面10U的液晶组合物层62所包含的液晶性化合物能够取向的方式设置。通常，取向处理部500以将液晶组合物层62的温度调节为能够促进液晶性化合物的取向的范围而使液晶组合物取向的方式设置。这样的取向处理部500能够具有例如作为温度调节装置的烘箱510。
固化处理部600以使液晶组合物层62固化的方式设置。通过液晶组合物层62的固化，由液晶组合物的固化物在基材膜10的正面10U形成液晶固化层21，得到光学层叠体20。液晶组合物层62的固化通常通过液晶组合物所包含的聚合性的化合物的聚合来进行。
作为聚合方法，能够选择适合于液晶组合物所包含的成分的性质的方法。作为聚合方法，可举出例如：照射活性能量射线的方法以及热聚合法。其中，由于不需要加热，可在室温进行聚合反应，因此优选照射活性能量射线的方法。在此，在照射的活性能量射线中，能够包含可见光、紫外线和红外线等光，以及电子束等任意的能量射线。
在本实施方式中，示例说明一种固化处理部600，其具有：与基材膜10的背面10D接触并能够支承基材膜10的作为支承体的支承辊610；以及能够向支承辊610所支承的基材膜10上的液晶组合物层62照射活性能量射线的照射装置620。
回收部700以能够回收光学层叠体20的方式设置。在本实施方式中，示出回收部700具有卷芯710、该卷芯710卷绕并回收光学层叠体20的例子进行说明。
在使用上述的制造装置1来制造光学层叠体20的情况下，进行准备树脂膜30的工序(I)。树脂膜30可以从市场购买准备，也可以由树脂制造来准备。此外，在工序(I)中也可以根据需要包含实施对树脂膜30赋予取向控制力的处理。树脂膜30的制造和赋予取向控制力的处理(拉伸处理等)例如能够如在上述的基材膜的制造方法的项中说明的那样进行。
在本实施方式中，树脂膜30以被包含于多层膜40的状态被准备。在该多层膜40中，在树脂膜30的正面30U设置了保护膜41，此外，多层膜40被卷绕而成为膜卷50的状态。该膜卷50被安装于制造装置1的膜供给部100。然后，多层膜40从膜卷50抽出，被送出至清洗部200。
在工序(I)之后，光学层叠体20的制造方法进行对树脂膜30的背面30D实施清洗处理得到基材膜10的工序(II)。在本实施方式中，从膜供给部100送出的多层膜40被供给至清洗部200，该清洗部200对多层膜40所具有的树脂膜30的背面30D实施清洗处理。通过该清洗处理，除去树脂膜30的背面30D上的添加剂，因此得到添加剂的量的比IB/IF在特定的范围的基材膜10。清洗处理能够在上述的基材膜的制造方法的项中说明的条件下进行。由此，清洗处理也可以包括实施选自电晕处理、等离子体处理、以及液体涂敷处理中的至少一种的处理。在清洗处理之后，基材膜10和与该基材膜10贴合的保护膜41被送出至剥离部300。
当在工序(I)所准备的树脂膜30的正面30U设置了保护膜41的情况下，通常在工序(III)之前进行将保护膜41剥离的工序(VI)。在本实施方式中，在工序(II)之后，从清洗部200送出的基材膜10和保护膜41被供给至剥离部300，该剥离部300将保护膜41剥离。具体而言，以穿过剥离辊310和320之间的方式运送基材膜10和保护膜41，保护膜41被剥离。通过保护膜41的剥离，基材膜10的正面10U露出。在保护膜41被剥离之后，基材膜10被送出至涂敷部400。
在工序(VI)之后，光学层叠体20的制造方法进行将液晶组合物61涂敷于基材膜10的正面10U形成液晶组合物层62的工序(III)。在本实施方式中，从剥离部300送出的基材膜10被供给至涂敷部400，在该涂敷部400中进行液晶组合物61的涂敷。
具体而言，被供给至涂敷部400的基材膜10的背面10D与支承辊410的外周面410S接触，该基材膜10成为被支承辊410支承的状态。而且，基材膜10在像这样被支承辊410支承的状态下，随着支承辊410的旋转而被运送。在基材膜10被运送至设置了涂敷机420的位置时，通过涂敷机420将液晶组合物61涂敷于该基材膜10的正面10U。像本实施方式所示的例子那样，在使用具有模头421的模涂机的情况下，从模头421向基材膜10吐出液晶组合物61，该液晶组合物61固定在基材膜10的正面10U，由此实现涂敷。
上述的涂敷通常能够在不进行特别的温度调节的环境中进行。由此，一般地，涂敷的液晶组合物61的温度和进行该涂敷的环境的温度能够为常温或与其接近的温度。另一方面，从抑制由来自液晶组合物层62的溶剂的挥发导致的过度的温度降低的观点出发，支承辊410的具体温度优选维持在特定的范围。支承辊410的温度以涂敷的液晶组合物61的温度TLC为基准，优选为TLC－10℃以上，更优选为TLC－5℃以上，特别优选为TLC－2℃以上，优选为TLC+5℃以下，更优选为TLC+2℃以下，特别优选为TLC+0.5℃以下。
通过涂敷的液晶组合物61，在基材膜10的正面10U形成液晶组合物层62，因此得到具有基材膜10和液晶组合物层62的中间膜60。之后，中间膜60随着支承辊410的旋转被进一步运送，在运送至支承辊410对基材膜10的支承结束的位置时，从支承辊410离开。之后，中间膜60被送出至取向处理部500。
在工序(III)之后，光学层叠体20的制造方法进行使液晶组合物层62所包含的液晶性化合物取向的工序(IV)。在本实施方式中，从涂敷部400送出的中间膜60被供给至取向处理部500，在该取向处理部500中进行液晶性化合物的取向。
在工序(IV)中，通常通过将液晶组合物层62的温度调节为特定的取向温度，使液晶性化合物取向。此外，在液晶组合物层62包含溶剂的情况下，在工序(IV)中还能够进行该溶剂的干燥。在像本实施方式这样使用具有烘箱510的取向处理部500的情况下，历经特定的取向时间使中间膜60通过调节为特定的取向温度的烘箱510内，由此进行液晶性化合物的取向处理。
取向温度通常能够为液晶组合物的液晶化温度以上。此外，从抑制由取向处理导致的基材膜10的形变的产生的观点出发，取向温度优选为小于基材膜10所包含的树脂的玻璃化转变温度Tg的温度。具体的取向温度的范围优选为50℃～160℃。此外，取向时间能够为例如30秒～5分钟。在取向处理之后，中间膜60被送出至固化处理部600。
在工序(IV)之后，光学层叠体20的制造方法进行使液晶组合物层62固化得到液晶固化层21的工序(V)。在本实施方式中，从取向处理部500送出的中间膜60被供给至固化处理部600，在该固化处理部600中进行液晶组合物层62的固化。
具体而言，供给至固化处理部600的中间膜60的基材膜10的背面10D与支承辊610接触，基材膜10成为被支承辊610支承的状态。而且，在基材膜10像这样被支承辊610支承的状态下，从照射装置620向液晶组合物层62照射活性能量射线。通过活性能量射线的照射，进行液晶组合物层62所包含的聚合性的化合物的聚合，实现液晶组合物层62的固化。
例如，在液晶性化合物具有聚合性的情况下，液晶性化合物通常在维持其分子的取向的状态下聚合。由此，通过上述的聚合，聚合前的液晶组合物所包含的液晶性化合物的取向状态被固定。因此，能够得到具有与液晶性化合物的取向相应的光学特性的液晶固化层21。
活性能量射线的照射条件能够在液晶组合物层62能够固化的范围适当设定。例如，在使用紫外线作为活性能量射线的情况下，紫外线的照射强度优选为0.1mW/cm2以上，更优选为0.5mW/cm2以上，优选为10000mW/cm2以下，更优选为5000mW/cm2以下。此外，紫外线的照射量优选为0.1mJ/cm2以上，更优选为0.5mJ/cm2以上，优选为10000mJ/cm2以下，更优选为5000mJ/cm2以下。
通过上述的液晶组合物层62的固化在基材膜10的正面10U得到液晶固化层21，因此，根据工序(IV)，得到具有基材膜10和液晶固化层21的光学层叠体20。该光学层叠体20被送出至回收部700。
回收部700将从固化处理部600送出的光学层叠体20卷绕在卷芯710上，以膜卷720的状态将其回收。由此，根据上述的制造方法，能够使用卷对卷法高效地制造长条的光学层叠体20。
通过上述的制造方法制造的光学层叠体20所具有的液晶固化层21在设置于图像显示装置的情况下，能够抑制显示不均。具体而言，能够抑制作为20mm左右的小的显示不均的圆形状斑点、以及在比上述的圆形状斑点更宽的范围产生的显示不均。本发明人推测得到该优点的原理如下所述。但是，本发明的技术范围并不由下述说明的原理所限制。
图3是示意性地示出在树脂膜30涂敷液晶组合物而得到的现有的中间膜90的剖视图。此外，图4是示意性地示出由现有的中间膜90得到的光学层叠体91的剖视图。
如图3所示，以往，一边用支承辊410支承添加剂的量的比IB/IF不在特定的范围的树脂膜30，一边将液晶组合物涂敷在该树脂膜30上，形成液晶组合物层92。在该情况下，得到具有树脂膜30和液晶组合物层92的中间膜90。一般地，由于添加剂从树脂膜30渗出，在树脂膜30的表面存在添加剂。此时，如果渗出的程度较大，则在树脂膜30的表面可能会局部形成有添加剂的块93。
当在与支承辊410接触的树脂膜30的背面30D具有添加剂的块93时，因该块93导致支承辊410与树脂膜30成为非接触，在树脂膜30与支承辊410之间能够局部形成空气层94。该空气层94妨碍树脂膜30与支承辊410之间的热量的移动。因此，在空气层94上方的区域94A中，来自液晶组合物层92的溶剂的挥发速度与周围不同，其结果为，能够产生液晶性化合物等的固体成分的浓度与周围不同的部分(液晶组合物层92的部分)95。像这样固体成分的浓度与周围不同的部分95，如图4所示，在固化液晶组合物层92而得到的液晶固化层96中，能够形成厚度与周围不同的部分97。
进行更具体的说明。如图3所示，例如，考虑如下情况：在没有空气层94且树脂膜30与支承辊410接触的区域98A中，热量从液晶组合物层92经过树脂膜30移动至支承辊410。在该情况下，在形成有空气层94的区域94A中，因空气层94妨碍热量的移动，因此从液晶组合物层92向支承辊410的热量的移动变小。由此，在该区域94A中，用于使来自液晶组合物层92的溶剂挥发的热量变多，因此溶剂的挥发速度变快。这样一来，在液晶组合物层92的空气层94上方的部分95中，固体成分的浓度变得相对高于周围，由此，表面张力相对周围上升。这样一来，将由液晶组合物层92的空气层94上方的部分95与其周围的部分98之间的浓度梯度引起的迁移流作为触发，如箭头A3所示，产生从表面张力相对低的周围的部分98向表面张力相对高的部分95的固体成分的移动。这样一来，溶剂的干燥后所残留的固体成分的量在空气层94上方的部分95比其周围的部分98多。因此，在固化该液晶组合物层92而得到的光学层叠体91的液晶固化层96中，在相当于上述的空气层94上方的部分95的位置，如图4所示，能够形成有比周围厚的部分97。
当液晶固化层96具有与周围厚度不同的部分97时，该部分97的延迟能够局部偏离设计值。因此，在树脂膜30上形成液晶固化层96的情况下，在具有添加剂的块93的位置，在液晶固化层96能够局部形成延迟偏离设计值的部分。因此，在将该液晶固化层96设置于图像显示装置的情况下，有时因上述的部分97导致在显示面产生圆形状斑点。
与此相对，在上述的制造方法中，如图2所示，使用背面10D的添加剂的量少的基材膜10制造光学层叠体20。在基材膜10中，像添加剂的量的比IB/IF所表示的那样，背面10D的添加剂少，因此添加剂的块93少或没有。因此，能够抑制在液晶固化层21形成与周围厚度不同的部分97，因此能够抑制圆形状斑点。
此外，假如，在树脂膜30的背面30D粗糙的情况下，不仅起因于由添加剂的块93导致的空气层94，也起因于背面30D的表面粗糙度，所以能够在大的面积形成空气层。像这样在宽的范围形成空气层的情况下，虽然在液晶固化层96中难以产生能够成为圆形状斑点的原因的局部的厚度的不均匀，但在液晶固化层96中，能够在比圆形状斑点更宽的范围形成平缓的厚度的不均匀。而且，该平缓的厚度的不均匀能够成为比圆形状斑点更宽的范围的显示不均的原因。
与此相对，在上述的制造方法中，基材膜10的背面10D是具有特定的算数平均粗糙度Ra的平滑的面，因此能够抑制在液晶固化层96中产生平缓的厚度的不均匀。因此，不仅能够抑制圆形状斑点，还能够抑制比圆形状斑点更宽的范围的显示不均。
以上，对本发明的一种实施方式的光学层叠体的制造方法进行了说明，但光学层叠体的制造方法也可以从上述的实施方式进一步变更来实施。
例如，也可以不使用保护膜41。此外，在不使用保护膜41的情况下，可以不进行工序(VI)，因此光学层叠体20的制造装置1也可以不具有剥离部300。进而，像上述的实施方式那样，在使用保护膜41的情况下，剥离部300的位置也可以从上述的实施方式的位置变更。例如，剥离部300也可以设置于膜供给部100与清洗部200之间。在该情况下，在工序(II)之前进行工序(VI)。
此外，例如，在上述的实施方式中，在从膜供给部100至回收部700连续的一条制造生产线上进行了光学层叠体20的制造方法所包含的工序。但是，也可以在非连续的两条以上的制造生产线上进行光学层叠体20的制造方法所包含的工序。当举出具体例子时，可以在不同的制造生产线上进行工序(I)和工序(II)、以及工序(III)～工序(VI)。在该情况下，在第一制造生产线上，从膜卷抽出树脂膜，对该树脂膜的背面实施清洗处理得到基材膜后，卷绕该基材膜得到膜卷(工序(I)和(II))。此外，在第二制造生产线上，从包含基材膜的膜卷抽出基材膜，进行液晶组合物的涂敷、液晶性化合物的取向、以及液晶组合物层的固化，得到液晶固化层(工序(III)～工序(V))。此时，树脂膜和基材膜可以在液晶组合物的涂敷之前的时刻贴合保护膜，可以在液晶组合物的涂敷之前的时刻剥离该保护膜(工序(VI))。即使是使用这样的两条以上的制造生产线的制造方法，也能够得到与上述的实施方式相同的优点。
[4.液晶组合物]
涂敷于基材膜的正面的液晶组合物包含液晶性化合物。该液晶组合物不仅包含含有两种以上的成分的材料，也包含仅含有一种液晶性化合物的材料。
液晶性化合物是具有液晶性的化合物，通常在使该液晶性化合物取向的情况下能够呈现液晶相。作为液晶性化合物，可以使用反色散液晶性化合物，也可以使用正色散液晶性化合物，还可以使用反色散液晶性化合物与正色散液晶性化合物的组合。
反色散液晶性化合物表示具有反波长色散性的液晶性化合物。此外，具有反波长色散性的液晶性化合物是指：形成该液晶性化合物的层，并在该层中使液晶性化合物沿面(homogeneous)取向的情况下，波长450nm处的双折射Δn(450)和波长550nm处的双折射Δn(550)满足下述式(N1)的液晶性化合物。像这样的反色散液晶性化合物通常测定波长越长，则越能够显现大的双折射。
△n(450)△n(550)(N1)
正色散液晶性化合物表示具有正波长色散性的液晶性化合物。此外，具有正波长色散性的液晶性化合物是指：形成该液晶性化合物的层，并在该层中使液晶性化合物沿面取向的情况下，波长450nm处的双折射Δn(450)和波长550nm处的双折射Δn(550)满足下述式(N2)的液晶性化合物。像这样的正色散液晶性化合物通常测定波长越长，则越能够显现小的双折射。
△n(450)>△n(550) (N2)
使液晶性化合物沿面取向是指：形成包含该液晶性化合物的层，使该层中的液晶性化合物的分子的折射率椭球中最大折射率的方向在与上述层的面平行的某一方向取向。此外，上述的层的双折射由“(层的面内延迟)÷(层的厚度)”求出。
其中，从得到能够在宽的波长范围中发挥该光学功能的液晶固化层的观点出发，作为液晶性化合物，优选反色散液晶性化合物。
液晶性化合物优选具有聚合性。由此，液晶性化合物优选其分子包含聚合性基团。作为聚合性基团，可举出例如：丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基等CH2＝CR31-C(＝O)-O-所表示的基团；乙烯基；乙烯基醚基；对二苯乙烯基；丙烯酰基；甲基丙烯酰基；羧基；甲基羰基；羟基；酰胺基；碳原子数为1～4的烷基氨基；氨基；环氧基；氧杂环丁烷基；醛基；异氰酸酯基；硫代异氰酸酯基等。R31表示氢原子、甲基、或氯原子。具有聚合性的液晶性化合物能够在呈液晶相的状态下聚合，维持着液晶相中的分子的取向状态而形成聚合物。由此，能够在液晶组合物的固化物中固定液晶性化合物的取向状态，或提高液晶性化合物的聚合度而提高液晶固化层的机械强度。
液晶性化合物的分子量优选为300以上，更优选为500以上，特别优选为800以上，优选为2000以下，更优选为1700以下，特别优选为1500以下。通过使用具有这样的范围的分子量的液晶性化合物，能够使液晶组合物的涂敷性特别良好。
测定波长550nm处的液晶性化合物的双折射Δn优选为0.01以上，更优选为0.03以上，优选为0.15以下，更优选为0.10以下。通过使用具有这样的范围的双折射Δn的液晶性化合物，通常容易得到取向缺陷少的液晶固化层。
液晶性化合物的双折射能够通过例如下述的方法进行测定。
制作液晶性化合物的层，使该层所包含的液晶性化合物沿面取向。之后，测定该层的面内延迟。然后，能够由“(层的面内延迟)÷(层的厚度)”求出液晶性化合物的双折射。此时，为了使面内延迟和厚度的测量变得容易，可以使沿面取向的液晶性化合物的层固化。
液晶性化合物可以单独使用一种，也可以将两种以上以任意比率组合使用。
具体的液晶性化合物的种类没有限制。例如，作为反色散液晶性化合物的例子，可举出下述式(I)所表示的化合物。
[化学式1]
在上述式(I)中，
Ar表示下述式(II-1)～式(II-7)中的任一个所表示的基团。其中，式(II-1)～式(II-7)中的任一个所表示的基团除了D1～D6以外还可以具有取代基。
[化学式2]
(在上述式(II-1)～式(II-7)中，
＊表示与Z1或Z2的键合位置。
E1和E2各自独立地表示选自-CR11R12-、-S-、-NR11-、-CO-以及-O-中的基团。R11和R12各自独立地表示氢原子、或碳原子数为1～4的烷基。
D1～D3各自独立地表示可以具有取代基的芳香族烃环基或可以具有取代基的芳香族杂环基。D1～D3所表示的基团的碳原子数(包含取代基的碳原子数。)通常各自独立地为2～100。
D4～D5各自独立地表示可以具有取代基的非环状基团。D4和D5也可以一起形成环。D4～D5所表示的基团的碳原子数(包含取代基的碳原子数。)通常各自独立地为1～100。
D6表示选自-C(Rf)＝N-N(Rg)Rh、-C(Rf)＝N-N＝C(Rg)Rh、以及-C(Rf)＝N-N＝Ri中的基团。D6所表示的基团的碳原子数(包含取代基的碳原子数。)通常为3～100。Rf表示选自氢原子以及碳原子数为1～6的烷基中的基团。Rg表示选自氢原子以及可以具有取代基的碳原子数为1～30的有机基团中的基团。Rh表示具有一个以上的选自碳原子数为6～30的芳香族烃环和碳原子数为2～30的芳香族杂环中的芳香环的有机基团。Ri表示具有一个以上的选自碳原子数为6～30的芳香族烃环和碳原子数为2～30的芳香族杂环中的芳香环的有机基团。)
Z1和Z2各自独立地表示选自单键、-O-、-O-CH2-、-CH2-O-、-O-CH2-CH2-、-CH2-CH2-O-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-、-C(＝O)-S-、-S-C(＝O)-、-NR21-C(＝O)-、-C(＝O)-NR21-、-CF2-O-、-O-CF2-、-CH2-CH2-、-CF2-CF2-、-O-CH2-CH2-O-、-CH＝CH-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-CH＝CH-、-CH2-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-CH2-、-CH2-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-CH2-、-CH2-CH2-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-CH2-CH2-、-CH2-CH2-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-CH2-CH2-、-CH＝CH-、-N＝CH-、-CH＝N-、-N＝C(CH3)-、-C(CH3)＝N-、-N＝N-、以及-C≡C-中的任一个。R21各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基。
A1、A2、B1以及B2各自独立地表示选自可以具有取代基的环状脂肪族基团和可以具有取代基的芳香族基团中的基团。
Y1～Y4各自独立地表示选自单键、-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-、-NR22-C(＝O)-、-C(＝O)-NR22-、-O-C(＝O)-O-、-NR22-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-NR22-、以及-NR22-C(＝O)-NR23-中的任一个。R22和R23各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基。
G1和G2各自独立地表示选自碳原子数为1～20的脂肪族烃基以及碳原子数为3～20的脂肪族烃基所包含的一个以上的亚甲基被-O-或-C(＝O)-取代的基团中的有机基团。G1和G2的上述有机基团所包含的氢原子可以被碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的烷氧基或卤原子取代。其中，G1和G2的两末端的亚甲基不被-O-或-C(＝O)-取代。
P1和P2各自独立地表示聚合性基团。
p和q各自独立地表示0或1。)
关于式(I)所表示的液晶性化合物，能够参照例如国际公开第2019/146468号。
液晶组合物中的液晶性化合物的量相对于100重量％的液晶组合物优选为5重量％以上，更优选为10重量％以上，进一步优选为15重量％以上，优选为50重量％以下，更优选为40重量％以下，特别优选为30重量％以下。
液晶组合物根据需要可以进一步包含任意的成分与液晶性化合物组合。任意的成分可以单独使用一种，也可以将两种以上以任意比率组合使用。
液晶组合物通常包含溶剂来作为任意的成分。作为溶剂，优选能够溶解液晶性化合物的溶剂。作为这样的溶剂，通常使用有机溶剂。作为有机溶剂的例子，可举出：环戊酮、环己酮、甲乙酮、丙酮、甲基异丁基酮等酮溶剂；乙酸丁酯、乙酸戊酯等乙酸酯溶剂；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等卤代烃溶剂；1,4-二烷、环戊基甲基醚、四氢呋喃、四氢吡喃、1,3-二氧戊环、1,2-二甲氧基乙烷等醚溶剂；以及甲苯、二甲苯、均三甲苯等芳香族烃系溶剂。此外，溶剂可以单独使用一种，也可以将两种以上以任意比率组合使用。
从处理性优异的观点出发，溶剂的沸点优选为60℃～250℃，更优选为60℃～150℃。
溶剂的量相对于100重量份的液晶性化合物优选为200重量份以上，更优选为250重量份以上，特别优选为300重量份以上，优选为650重量份以下，更优选为550重量份以下，特别优选为450重量份以下。
此外，溶剂的量优选调节为使液晶组合物的固体成分浓度处于特定的范围。固体成分浓度表示液晶组合物所包含的除溶剂以外的成分(固体成分)的浓度。液晶组合物的固体成分浓度的范围相对于100重量％的液晶组合物优选为5重量％以上，更优选为10重量％以上，特别优选为15重量％以上，优选为50重量％以下，更优选为40重量％以下，特别优选为30重量％以下。
液晶组合物通常包含聚合引发剂来作为任意的成分。聚合引发剂的种类能够根据液晶组合物所包含的聚合性的化合物的种类进行选择。例如，如果聚合性的化合物为自由基聚合性，则能够使用自由基聚合引发剂。此外，如果聚合性的化合物为阴离子聚合性，则能够使用阴离子聚合引发剂。进而，如果聚合性的化合物为阳离子聚合性，则能够使用阳离子聚合引发剂。聚合引发剂可以单独使用一种，也可以将两种以上以任意比率组合使用。
聚合引发剂的量相对于100重量份的液晶性化合物优选为0.1重量份以上，更优选为0.5重量份以上，优选为20重量份以下，更优选为7重量份以下。在聚合引发剂的量处于上述范围的情况下，能够高效地进行聚合。
液晶组合物也可以包含表面活性剂来作为任意的成分。特别是从稳定地得到取向性优异的液晶固化层的观点出发，作为表面活性剂，优选在分子中包含氟原子的表面活性剂。此外，在使液晶固化层的面状态和取向性良好的观点下，作为表面活性剂，优选非离子系表面活性剂。表面活性剂可以不具有聚合性，也可以具有聚合性。作为表面活性剂，可举出例如：OMNOVA公司的PolyFox的“PF-151N”、“PF-636”、“PF-6320”、“PF-656”、“PF-6520”、“PF-3320”、“PF-651”、“PF-652”；株式会社NEOS的Ftergent的“FTX-209F”、“FTX-208G”、“FTX-204D”；清美化学株式会社的Surflon的“KH-40”、“S-420”等。此外，表面活性剂可以单独使用一种，也可以将两种以上以任意比率组合使用。
表面活性剂的量相对于100重量份的液晶性化合物优选为0.01重量份以上，更优选为0.1重量份以上，优选为5重量份以下，更优选为1.0重量份以下。当表面活性剂的量在上述的范围的情况下，能够得到取向性优异的液晶固化层。
作为液晶组合物能够包含的其它任意的成分，可举出例如：金属；金属络合物；氧化钛等金属氧化物；染料、颜料等着色剂；荧光材料、磷光材料等发光材料；流平剂；触变剂；凝胶化剂；多糖类；紫外线吸收剂；红外线吸收剂；抗氧化剂；离子交换树脂；液晶性化合物以外的聚合性的化合物等。这些成分的量相对于100重量份的液晶性化合物的合计能够分别为0.1重量份～20重量份。
[5.光学层叠体]
通过上述的制造方法制造的光学层叠体具有基材膜和形成于该基材膜的正面的液晶固化层。液晶固化层由液晶组合物的固化物形成。液晶组合物的固化通常通过液晶组合物所包含的聚合性的化合物的聚合来实现，因此液晶固化层包含液晶组合物所包含的成分的一部分的或全部的聚合物。因此，在液晶性化合物具有聚合性的情况下，该液晶性化合物聚合，因此液晶固化层能够包含液晶性化合物的聚合物。该聚合后的液晶性化合物包含于术语“液晶固化层所包含的液晶性化合物”中。
在液晶组合物的固化物中，失去了固化前的流动性，因此通常液晶固化层所包含的液晶性化合物的取向状态在维持固化前的取向状态下被固定。由此，液晶固化层能够发挥与该液晶固化层所包含的液晶性化合物的取向状态相应的光学特性。液晶固化层的具体的光学特性优选根据液晶固化层的用途适当设定。
例如在使用液晶固化层作为λ/4波片的情况下，测定波长550nm处的液晶固化层的面内延迟Re优选为108nm以上，更优选为128nm以上，特别优选为133nm以上，优选为168nm以下，更优选为148nm以下，特别优选为146nm以下。
此外，例如在使用液晶固化层作为λ/2波片的情况下，测定波长550nm处的液晶固化层的面内延迟Re优选为245nm以上，更优选为265nm以上，特别优选为270nm以上，优选为305nm以下，更优选为285nm以下，特别优选为280nm以下。
液晶固化层优选具有反波长色散性。即，液晶固化层优选与短波长相比对长波长的透射光显示出大的面内延迟。液晶固化层优选：在可见光的频带的至少一部分、优选在全部具有这样的反波长色散性。具体而言，测定波长450nm和550nm处的液晶固化层的面内延迟Re(450)和Re(550)优选满足下述式(N3)。在液晶固化层具有这样的反波长色散性的情况下，在λ/4波片或λ/2波片这些光学用途中，能够在宽的频带中均匀地显现功能。
Re(450)＜Re(550)(N3)
液晶固化层可以在一个方向上具有慢轴。例如，在工序(IV)中，在液晶组合物层所包含的液晶性化合物沿面取向的情况下，制造的液晶组合物的液晶固化层能够在一个方向上具有慢轴。该慢轴的方向优选根据液晶固化层的用途适当设定。例如，当在长条的基材膜上形成长条的液晶固化层的情况下，液晶固化层的慢轴的方向可以与基材膜的宽度方向平行，也可以垂直，还可以是既不平行也不垂直的倾斜方向。例如，液晶固化层的慢轴相对于基材膜的宽度方向所成的角度能够优选为15°±5°(即，10°～20°)、22.5±5°(即，17.5°～27.5°)、45°±5°(即，40°～50°)、75°±5°(即，70°～80°)，更优选为15°±4°(即，11°～19°)、22.5±4°(即，18.5°～26.5°)、45°±4°(即，41°～49°)、75°±4°(即，71°～79°)，更进一步优选为15°±3°(12°～18°)、22.5±3°(即，19.5°～25.5°)、45°±3°(即，42°～48°)、75°±3°(即，72°～78°)这些特定的范围。
液晶固化层的全光线透射率优选为85％以上，更优选为86％以上，特别优选为88％以上。液晶固化层的全光线透射率能够使用紫外·可见分光光度计在波长380nm～780nm的范围进行测定。
液晶固化层的雾度优选为5％以下，更优选为3％以下，特别优选为1％以下。液晶固化层的雾度依据JIS K7136，能够使用雾度计(东洋精机株式会社制“Haze Gard II“)进行测定。
液晶固化层的厚度优选设定为得到期望的光学特性。液晶固化层的具体的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1.0μm以上，特别优选为1.5μm以上，优选为10μm以下，更优选为7.0μm以下，特别优选为5.0μm以下。
[6.偏振片]
上述的光学层叠体的液晶固化层充分利用该液晶固化层所具有的光学特性，能够用作光学部件。作为能够成为液晶固化层的用途的光学部件的例子，可举出相位差膜、波片、光学补偿膜等。作为优选的实施方式，可举出液晶固化层用作偏振片的构成要素。
使用液晶固化层得到的偏振片具有液晶固化层和线起偏器。此时，液晶固化层优选作为λ/4波片发挥功能。此外，液晶固化层的慢轴优选相对于线起偏器的吸收轴或透射轴形成45°或与其接近的角度。更详细而言，液晶固化层的慢轴相对于线起偏器的吸收轴或透射轴所成的角度优选为40°以上，更优选为41°以上，进一步优选为42°以上，优选为50°以下，更优选为49°以下，进一步优选为48°以下。将线起偏器和能够作为λ/4波片发挥功能的液晶固化层像上述那样组合而得到的偏振片通常能够作为圆偏振片而发挥功能。
作为线起偏器，可举出例如：通过使碘或二向色性染料吸附于聚乙烯醇膜后，在硼酸浴中进行单轴拉伸而得到的线起偏器；以及通过使碘或二向色性染料吸附于聚乙烯醇膜并进行拉伸，进而将分子链中的聚乙烯醇单元的一部分改性为聚亚乙烯基单元而得到的线起偏器。作为线起偏器的其它例子，可举出栅格起偏器以及多层起偏器等具有将偏振光分离成反射光和透射光的功能的起偏器。在这些之中，优选含有聚乙烯醇的起偏器。
一般地，当使自然光入射线起偏器时，仅一个方向的偏振光会透过。线起偏器的偏振度没有特别限定，优选为98％以上，更优选为99％以上。线起偏器的平均厚度优选为5μm～80μm。
上述的偏振片也可以根据需要而具有任意的层。作为任意的层的例子，可举出：用于与其它构件黏合的黏合层、改善膜的滑动性的垫层(Mat)、耐冲击性聚甲基丙烯酸酯树脂层等硬涂层、防反射层、防污层等。
偏振片能够通过例如依次包括以下工序的制造方法来制造：通过上述的制造方法制造光学层叠体的工序；将光学层叠体的液晶固化层与线起偏器贴合的工序；以及将基材膜剥离的工序。在液晶固化层与线起偏器的贴合中，也可以根据需要使用黏合剂或压敏型黏合剂。此外，通过卷对卷的方式使用长条的光学层叠体和长条的线起偏器进行上述贴合，由此能够高效地制造偏振片。通过卷对卷的贴合是指如下方式的贴合：从长条状的膜的卷抽出膜，并将其运送，在运送线上进行与其它的膜贴合的工序，进而将得到的贴合物作为卷绕卷。
上述的偏振片能够优选应用于图像显示装置。特别是在偏振片是圆偏振片的情况下，该偏振片能够优选用作具有有机电致发光元件的图像显示装置的反射抑制膜。即，通过将圆偏振片以线起偏器侧的面朝向观看侧的方式设置于图像显示装置的显示面，能够抑制从装置外部入射的光在装置内反射而向装置外部射出，其结果是能够抑制图像显示装置的显示面的晃眼。
具体而言，从装置外部入射的光仅其一部分的线偏振光通过线起偏器，接下来其通过液晶固化层，由此成为圆偏振光。作为在此所说的圆偏振光，如果在实质上显示反射抑制功能的范围内，则也包含椭圆偏振光。圆偏振光由反射装置内的光的构成要素(有机电致发光元件中的反射电极等)反射，再次通过液晶固化层，由此成为在与入射的线偏振光的偏振轴正交的方向上具有偏振轴的线偏振光，不再通过线起偏器。由此实现反射抑制的功能。此外，对于液晶固化层的三维折射率(nx、ny、nz)的关系，可以使用例如具有“nx＞ny＝nz”、“nx＞ny＞nz”或“nx＞nz＞ny”的关系的液晶固化层。在采用具有三维折射率为“nx＞nz＞ny”的关系的液晶固化层的情况下，不仅能够得到与显示面垂直的正面方向的反射抑制功能，还能够得到与显示面既不平行也不垂直的倾斜方向的反射抑制功能。
实施例
以下，示出实施例对本发明进行具体地说明，但本发明并不限于以下说明的实施例，在不脱离本发明的权利要求的范围及其等同的范围的范围内可以任意地变更实施。
在以下的说明中，只要没有特别说明，表示量的“％”和“份”为重量基准。此外，只要没有特别说明，以下说明的操作在常温常压(23℃1个标准大气压)大气中的条件下进行。
(聚合物的重均分子量Mw的测定方法)
聚合物的重均分子量Mw通过将环己烷作为洗脱液的凝胶渗透色谱(GPC)测定，作为标准聚异戊二烯换算值而求出。在聚合物不溶解于环己烷时，使用四氢呋喃(THF)作为洗脱液。此外，在使用THF作为洗脱液时，以聚苯乙烯换算值的形式测定重均分子量Mw。
作为标准聚异戊二烯，使用了东曹株式会社制标准聚异戊二烯(Mw＝602、1390、3920、8050、13800、22700、58800、71300、109000、280000)。
测定使用三根串联连接的东曹株式会社制色谱柱(TSKgelG5000HXL、TSKgelG4000HXL以及TSKgelG2000HXL)，在流速1.0mL/分钟、样品注入量100μL、色谱柱温度40℃的条件下进行。
(聚合物的加氢率的测定方法)
将邻二氯苯-d4作为溶剂，在145℃利用1H-NMR测定，测定聚合物的加氢率。
(玻璃化转变温度Tg的测定方法)
使用差示扫描量热分析仪(Nano Technology株式会社制“DSC6220SII”)，基于JISK 6911，以升温速度10℃/分钟的条件测定玻璃化转变温度Tg。
(算数平均粗糙度Ra的测定方法)
使用CNC表面粗糙度测定机(株式会社三丰制“SURFTEST Extreme V-3000CNC”)，将宽度方向作为扫描方向测定基材膜的表面的算数平均粗糙度Ra。该测定依据JIS B0601:2001进行。具体的测定条件为：扫描距离为50mm，扫描速度为0.3mm/s，截止值为0.3mm。
(液晶固化层的面内延迟的测定方法)
将光学层叠体的液晶固化层从没有圆形斑点的部分切出，经由光学各向同性的黏合剂(日东电工株式会社制“CS9621T”)，贴合在1mm厚的玻璃板，得到样品片。使用相位差计(AXOmetrics公司制“AxoScan”)，在测定波长550nm测定该样品片的面内延迟。样品片所包含的黏合剂和玻璃板具有光学各向同性，因此上述的样品片的面内延迟表示液晶固化层的面内延迟。
(添加剂的量比IB/IF的测定)
通过工序(VI)将保护膜剥离后，在通过工序(III)涂敷液晶组合物之前，切出基材膜的一部分。通过TOF-SIMS(飞行时间型二次离子质量分析计；Time-of-Flight SecondaryIon Mass Spectrometry)检测来自切出的基材膜的正面和背面各自的抗氧化剂(汽巴精化(Ciba·Specialty·Chemicals)公司制“Irganox1010”)的碎片离子。由其结果，计算在正面和背面所检测的抗氧化剂的检测量IF和IB的比IB/IF。
上述的TOF-SIMS以下述的测定条件进行。
二次离子极性：正
质量范围(m/z)：0～1500
栅格尺寸：5000μm□(即，5000×5000μm2)
扫描数：16frame
像素数(1边)：500pixel
测定真空度(试料导入前)：4×10-7Pa(4×10-9mbar)以下
一次离子种类：Bi3 ++
一次离子加速电压：25kV
脉冲宽度：9.4ns
冲孔：有(高质量分辨率测量)
带电中和：有
后段加速：9.5kV
在上述的TOF-SIMS中，作为检测出的碎片离子的计数，得到多个峰。将这些峰的峰强度标准化。使用碎片离子的峰强度中的强度最大的峰的强度作为标准值，进行标准化。具体而言，在后述的实施例和比较例中，C5H7 +的峰最大，因此以将该C5H7 +的峰强度作为100％的情况下的百分率求出各峰的峰强度。此外，在上述的TOF-SIMS中，测定来自抗氧化剂的C15H23O+碎片离子的峰。因此，使用像上述那样标准化的峰强度，计算上述的抗氧化剂的检测量的比IB/IF作为在正面测定的上述碎片的峰强度与在背面测定的上述碎片的峰强度的比。
(圆形状斑点的个数的计数)
在高亮度LED背光板(5000cd/m2)上配置第一线偏振片(株式会社SANRITZ制的偏振膜“HLC2-5618S”)，在其之上配置面积为1.33m2的光学层叠体，进而在其之上，以与第一线偏振片呈平行尼克尔(parallel nicols)的状态配置第二线偏振片(株式会社SANRITZ制的偏振膜“HLC2-5618S”)。从第二线偏振片侧进行目视观察，对视觉辨认的直径5mm以上的大的圆形状斑点的个数进行计数。
(显示不均的评价的方法)
从市售的RGB显色的有机电致发光显示装置面板(三星株式会社制)取下触摸面板。在发光面板上，使液晶固化层朝向发光面板侧配置实施例和比较例中制造的偏振片，在黑显示、亮视野下进行观察。
根据上述的观察的结果，通过下述的基准评价显示不均的程度。在下述的基准中，数值越大，表示结果越良好。
“5”：没有圆形状斑点，实现了均匀的显示。
“4”：显示面的每1.33m2中存在1个～10个的圆形状斑点，但在观察显示面整体的显示时，实现了实际使用上没有问题的显示。
“3”：显示面的每1.33m2中存在11个～20个的圆形状斑点。
“2”：显示面的每1.33m2中存在21个以上的圆形状斑点，对显示存在实际损害。
“1”：在显示面的大的面积中，在比圆形状斑点大的面积上发生了作为显示颜色偏差的显示不均的虹斑。
[制造例1.基材膜用的树脂的制造]
＜开环聚合＞
在用氮置换后的反应器中，添加7份(相对于用于聚合的单体总量为重量1％)的三环[4.3.0.12,5]癸-3,7-二烯(以下，有时称为“DCPD”。)、四环[4.4.0.12,5.17,10]十二烷-3-烯(以下，有时称为“TCD”。)、以及四环[9.2.1.02,10.03,8]十四碳-3,5,7,12-四烯(以下，有时称为“MTF”。)的混合物(重量比DCPD/TCD/MTF＝52/38/10)；1600份的环己烷；0.55份的三异丁基铝；0.21份的异丁醇；0.84份的作为反应调节剂的二异丙基醚；以及3.24份的作为分子量调节剂的1-己烯。在此，添加24.1份的溶解于环己烷的0.65％的六氯化钨溶液，在55℃搅拌10分钟。接下来，一边将反应体系保持在55℃，一边分别将693份的DCPD、TCD以及MTF的混合物(重量比DCPD/TCD/MTF＝52/38/10)和48.9份的溶解于环己烷的0.65％的六氯化钨溶液向体系内历经150分钟连续滴加。之后，继续进行30分钟反应并终止聚合，得到包含开环聚合物的反应液。聚合终止后，通过气相色谱测定的单体的聚合转化率在聚合终止时为100％。
＜加氢＞
将得到的反应液转移到耐压性的氢化反应器中，加入1.4份的硅藻土担载镍催化剂(日挥化学株式会社制“T8400RL”，镍担载率57％)和167份的环己烷，在180℃、氢压4.6MPa反应6小时，得到包含开环聚合物的加氢物的反应液。以RADIOLITE#500作为过滤床，将该反应液在压强0.25MPa加压过滤(石川岛播磨重工株式会社制“FUNDABAC filter”)除去氢化催化剂，得到无色透明的溶液。接下来，向得到的溶液中添加相对于100份的上述加氢物为0.5份的抗氧化剂(季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、汽巴精化(Ciba·Specialty·Chemicals)公司制“Irganox1010”)，并使其溶解。接下来，使用ZetaPlus过滤器30H(坤诺过滤设备(CUNO Filter)公司制，孔径0.5～1μm)依次过滤，进而使用其它的金属纤维制过滤器(孔径0.4μm，株式会社你期待(NICHIDAI)制)过滤，除去微小的固体成分。得到的溶液中所包含的加氢物的加氢率为99.9％。
接下来，使用圆筒型浓缩干燥器(株式会社日立制作所制)，在温度270℃、压强1kPa以下，从上述的溶液中除去作为溶剂的环己烷和其它的挥发成分，从与浓缩机直接连接的模头以熔融状态挤出成股状，进行冷却，得到包含含脂环式结构聚合物(即，开环聚合物的加氢物)和抗氧化剂的热塑性树脂的颗粒。颗粒所包含的热塑性树脂的玻璃化转变温度Tg为126℃。
[制造例2.液晶组合物的制造]
将21.25份的式(X1)所表示的具有聚合性的反色散液晶性化合物、0.11份的表面活性剂(AGC清美化学株式会社制“Surflon S420”)、0.64份的聚合引发剂(巴斯夫公司制“IRGACURE379”)、以及78.00份的溶剂(环戊酮、日本瑞翁株式会社制)进行混合，制备液晶组合物。
[化学式3]
[实施例1]
(树脂膜的准备)
使用T模头式膜挤出成型机将制造例1中制造的热塑性树脂的颗粒挤出至浇铸辊，由此进行成型，制造出宽度1350mm、厚度70μm的长条的树脂膜。作为上述的浇铸辊，使用了具有镜面作为外周面的镜面辊。向扩辐拉伸机供给该树脂膜，以拉伸温度145℃、拉伸倍率1.5倍进行斜向拉伸，得到作为树脂膜的拉伸膜。得到的树脂膜在相对于宽度方向呈45°的角度的方向上具有慢轴。此外，测定树脂膜的算数表面粗糙度Ra，结果是正面和背面这两面都为0.01μm。在得到的树脂膜的正面贴合作为保护膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜并将其卷绕，得到膜卷(工序(I))。
(液晶固化层的形成)
将树脂膜与保护膜一起从膜卷抽出，一边在长度方向上连续地运送，一边进行下述操作。
通过电晕处理对树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)进行清洗处理，得到基材膜(工序(II))。使用春日电机株式会社制的电晕处理装置，在大气中，以输出功率1.0kW、处理密度2200W·分钟/m2的条件进行电晕处理。处理环境为温度23℃、湿度45％RH。
之后，将保护膜剥离，使基材膜的正面露出(工序(VI))。
接下来，向涂敷装置供给基材膜，将制造例2中制造的液晶组合物涂敷于正面(工序(III))。具体而言，该涂敷如下述那样进行。
涂敷装置具有：具有平滑的外周面的支承辊；以及与该支承辊相向设置的模涂机。被供给至涂敷装置的基材膜以背面与支承辊的外周面接触的方式进入，被支承辊的外周面支承。而且，基材膜以不在支承辊的外周面滑动的方式随着支承辊的旋转被运送。此外，通过模涂机将液晶组合物涂敷于像这样被支承辊的外周面支承的状态的基材膜的正面。通过液晶组合物的涂敷，得到具有基材膜和形成在该基材膜的正面的液晶组合物层的中间膜。在上述的涂敷时，涂敷的液晶组合物的温度和进行该涂敷的环境的温度是常温。另一方面，支承辊的温度为20℃。
接下来，中间膜被送至烘箱，在烘箱内以110℃、3分钟的条件进行加热。通过该加热，使液晶组合物层所包含的反色散液晶性化合物取向(工序(IV))，进而，干燥除去液晶组合物层所包含的溶剂。
接下来，在氮环境下，向中间膜的液晶组合物层照射累积光量800mJ/cm2的紫外线，使液晶组合物层固化，形成液晶固化层(厚度2.8μm)。由此，得到具有基材膜和形成在该基材膜的正面的液晶固化层的长条的光学层叠体。切取得到的光学层叠体的一部分(后述的没有圆形状斑点的部分)，通过上述的方法测定液晶固化层的面内延迟。延迟为145nm。
(偏振片的制造)
准备长条的线起偏器(株式会社SANRITZ制的偏振膜“HLC2-5618S”、厚度180μm、在与宽度方向呈90°的方向上具有吸收轴)。经由光学各向同性的压敏型黏合剂层(日东电工株式会社制“CS9621T”)使该线起偏器的一个面与光学层叠体的液晶固化层贴合。使线起偏器的宽度方向与光学层叠体的宽度方向平行进行该贴合。之后，将光学层叠体的基材膜剥离，得到具有“线起偏器/压敏型黏合剂层/液晶固化层”的层结构的长条的偏振片。使用得到的偏振片，通过上述的方法，进行圆形状斑点的个数的测定和显示不均的评价。
[实施例2]
将工序(II)中的对树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)进行电晕处理的处理条件变更为大气中、输出功率0.5kW、处理密度1100W·分钟/m2的条件，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。
[实施例3]
将工序(II)中的对树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)进行电晕处理的处理条件变更为大气中、输出功率2.0kW、处理密度4500W·分钟/m2的条件，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。
[实施例4]
在工序(II)中，对树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)实施大气压等离子体处理来代替电晕处理，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。使用日本普思玛等离子处理设备株式会社制的等离子体处理装置，在以7:3(重量％)包含氮气和氧气的气体环境下，以输出功率0.5kW、处理密度1000W·分钟/m2的条件进行等离子体处理。处理环境为温度23℃、湿度45％RH。
[实施例5]
在工序(II)中，对树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)实施液体涂敷处理来代替电晕处理，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。在液体涂敷处理中，依次进行：将清洗液(东邦化学株式会社制“1,3-二氧戊环”)涂敷于树脂膜的背面；用纳米擦(TECHNOS株式会社制)擦拭涂敷的清洗液；以及在40℃使擦拭后的面干燥。处理环境为温度23℃、湿度55％RH。
[实施例6]
在工序(I)中，作为贴合在树脂膜的正面的保护膜，使用聚乙烯膜来代替聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。在该实施例6中，通过利用TOF-SIMS的分析，确认了被认为来自保护膜的聚二甲基硅氧烷比其它的实施例更多地附着在基材膜的背面。
[实施例7]
对树脂膜的背面实施电晕处理而得到基材膜后，进行基材膜的卷绕和抽出，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。
具体而言，通过与实施例1的工序(I)相同的方法，将树脂膜与保护膜贴合卷绕，得到膜卷(工序(I))。
将树脂膜与保护膜一起从该膜卷抽出，对树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)以与实施例1相同的条件进行利用电晕处理的清洗处理，得到基材膜(工序(II))。之后，将基材膜与保护膜一起卷绕，得到膜卷。
将基材膜与保护膜一起从包含基材膜的该膜卷抽出，一边在长度方向上连续地运送，一边以与实施例1相同的条件进行保护膜的剥离(工序(VI))、对基材膜的正面的液晶组合物的涂敷(工序(III))、液晶组合物层的加热(工序(IV))、以及对液晶组合物层的紫外线的照射，得到具有基材膜和液晶固化层的长条的光学层叠体。
使用该光学层叠体，通过与实施例1的工序(偏振片的制造)相同的方法制造偏振片，并进行评价。
[实施例8]
当在工序(I)中由热塑性树脂的颗粒制造树脂膜时，使用具有粗面作为外周面的粗面化辊来代替镜面辊作为浇铸辊，由此将树脂膜的背面的算数平均粗糙度Ra变更为0.09μm，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。
[比较例1]
不对工序(II)中的树脂膜的背面(保护膜的相反侧的面)进行电晕处理，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。
[比较例2]
当在工序(I)中由热塑性树脂的颗粒制造树脂膜时，使用具有粗面作为外周面的粗面化辊来代替镜面辊作为浇铸辊，由此将树脂膜的背面的算数平均粗糙度Ra变更为0.15μm，除此以外，通过与实施例1相同的方法，进行光学层叠体和偏振片的制造和评价。
[结果]
上述的实施例和比较例的结果示于下述的表1。在下述的表中，简称的意思如下所述。
COP：含脂环式结构聚合物。
AO：抗氧化剂(汽巴精化(Ciba·Specialty·Chemicals)公司制“Irganox1010”)。
背面的Ra：基材膜的背面的算数平均粗糙度。
PET：聚对苯二甲酸乙二醇酯。
PE：聚乙烯。
Re：液晶固化层的面内延迟。
在生产线结构中“连续”：以一贯的生产线进行树脂膜的背面的清洗处理和对基材膜的正面的液晶组合物的涂敷。
在生产线结构中“非连续”：以不同的生产线进行树脂膜的背面的清洗处理和对基材膜的正面的液晶组合物的涂敷。
[表1]
[表1.实施例和比较例的结果]
[讨论]
在比较例1中，不进行基材膜的背面的清洗处理的结果为，添加剂的量的比IB/IF过大。由此，在比较例1中，不能抑制圆形状斑点，因此在将液晶固化层设置于图像显示装置的情况下，由于上述的圆形状斑点而对显示产生实际损害。
此外，在比较例2中，虽然没有圆形状斑点，但在比圆形状斑点大的面积产生了彩虹状的显示不均(虹斑)。
与此相对，在实施例中，能够抑制圆形状斑点，在设置于图像显示装置的情况下能够抑制显示不均。
[参考例1]
测定了比较例1中制造的光学层叠体的产生了圆形状斑点的部分的液晶固化层的厚度。测定的结果为，确认了在产生了圆形状斑点的部分形成了比周围厚4.5μm的厚膜部。由该结果，确认了圆形状斑点产生的原因为形成在液晶固化层的厚膜部。
此外，通过TOF-SIMS分析了比较例1中制造的光学层叠体的产生了圆形状斑点的部分的基材膜的背面。分析的结果为，确认了在产生了圆形状斑点的部分的背面存在抗氧化剂。此外，通过光学显微镜观察该部分的结果为，确认了在基材膜的背面形成了抗氧化剂的块。
在光学层叠体的制造方法中，抗氧化剂仅包含在作为基材膜的材料的热塑性树脂中。因此，由上述的结果，证实了圆形状斑点产生的原因为从基材膜渗出的抗氧化剂的块。
附图标记说明
1：制造装置；
10：基材膜；
10U：正面；
10D：背面；
20：光学层叠体；
21：液晶固化层；
30：树脂膜；
30U：正面；
30D：背面；
40：多层膜；
41：保护膜；
50：膜卷；
60：中间膜；
61：液晶组合物；
62：液晶组合物层；
100：膜供给部；
200：清洗部；
300：剥离部；
310：剥离辊；
320：剥离辊；
400：涂敷部；
410：支承辊；
410S：外周面；
420：涂敷机；
421：模头；
500：取向处理部；
510：烘箱；
600：固化处理部；
610：支承辊；
620：照射装置；
700：回收部；
710：卷芯；
720：膜卷。

Claims (11)

1.一种基材膜，其用于被涂敷液晶组合物，
所述基材膜由包含聚合物和添加剂的树脂形成，
所述基材膜具有被涂敷所述液晶组合物的正面和所述正面的相反侧的背面，
所述基材膜的背面的算数平均粗糙度Ra为0.1μm以下，
所述基材膜的正面的所述添加物的量IF与所述基材膜的背面的所述添加物的量IB的比IB/IF为0.50以下。
2.根据权利要求1所述的基材膜，其中，所述添加剂为抗氧化剂。
3.根据权利要求1所述的基材膜，其中，所述基材膜是拉伸膜。
4.根据权利要求1所述的基材膜，其中，所述聚合物是含脂环式结构聚合物。
5.一种光学层叠体，其具有：
权利要求1～4中任一项所述的基材膜；以及
液晶固化层，其由液晶组合物的固化物形成在所述基材膜的正面。
6.一种光学层叠体的制造方法，依次包括：
工序(I)，准备由包含聚合物和添加剂的树脂形成的树脂膜，所述树脂膜具有算数平均粗糙度Ra为0.1μm以下的背面和所述背面的相反侧的正面；
工序(II)，对所述树脂膜的背面实施清洗处理，得到基材膜；
工序(III)，在所述基材膜的正面涂敷包含液晶性化合物的液晶组合物，形成液晶组合物层；
工序(IV)，使所述液晶组合物层所包含的所述液晶性化合物取向；以及
工序(V)，使所述液晶组合物层固化，得到液晶固化层。
7.根据权利要求6所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述工序(II)包括对所述树脂膜的背面实施选自电晕处理、等离子处理、以及液体涂敷处理中的至少一种的处理。
8.根据权利要求6所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述工序(I)包括对树脂膜实施赋予取向控制力的处理。
9.根据权利要求6所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述工序(I)包括准备在正面设置有保护膜的所述树脂膜，
所述制造方法在工序(III)之前包括剥离所述保护膜的工序(VI)。
10.根据权利要求6所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述基材膜的正面的所述添加物的量IF与所述基材膜的背面的所述添加物的量IB的比IB/IF为0.50以下。
11.一种偏振片的制造方法，依次包括：
通过权利要求6～10中任一项所述的制造方法制造光学层叠体的工序；
将所述光学层叠体的液晶固化层与线起偏器贴合的工序；以及
剥离基材膜的工序。
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