CN117320339A - 装饰件及其制备方法、电子设备的壳体及电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开涉及一种装饰件及其制备方法、电子设备的壳体及电子设备。其中，装饰件包括基底和多个微纹理单元，至少部分微纹理单元包括光学结构和图案结构，光学结构和图案结构为一体结构，光学结构为透镜结构，图案结构相对于光学结构向外凸出和/或向内凹陷。通过上述技术方案，本公开装饰件无需考虑不同功能层匹配精度的问题，制作工艺简单，同时还能够通过减少功能层的使用数量来精简装饰盖板的厚度。

Description

装饰件及其制备方法、电子设备的壳体及电子设备

技术领域

本公开涉及光学技术领域，具体地，涉及一种装饰件及其制备方法、电子设备的壳体及电子设备。

背景技术

随着科技的不断进步，人们在追求手机等电子设备更多功能实现的同时，对其所能够呈现的外部美观性的需求也在不断提升，例如，为实现具有立体浮动效果的外壳体。相关技术中，通常将不同功能层叠加相配合以实现图案的立体浮动效果，例如，将用于呈现立体效果的结构层和用于呈现图案的图文层相叠加。然而这种方式导致装饰盖板的层数过多，且各层之间需要匹配精度才能达到预期效果，制作流程也较为复杂。

发明内容

为克服相关技术中存在的问题，本公开提供一种装饰件及其制备方法、电子设备的壳体即电子设备。

根据本公开实施例的第一方面，提供一种装饰件，包括基底和多个微纹理单元，至少部分所述微纹理单元包括光学结构和图案结构，所述光学结构和所述图案结构为一体结构，所述光学结构为透镜结构，所述图案结构相对于所述光学结构向外凸出和/或向内凹陷。

可选地，所述光学结构为向外凸出于所述基底的半球形凸透镜或者向内凹陷于所述基底的半球形凹透镜，所述图案结构设置在所述光学结构的远离所述基底的端部且构造为向外凸出于所述光学结构或者向内凹陷于所述光学结构。

可选地，所述光学结构为向外凸出于所述基底的半球形凸透镜，所述图案结构相对于所述光学结构向外凸出的高度或相对于所述光学结构向内凹陷的深度与所述光学结构的高度的比值为1:9-1:1；

和/或，所述光学结构为向内凹陷于所述基底的半球形凹透镜，所述图案结构相对于所述光学结构向外凸出的高度或相对于所述光学结构向内凹陷的深度与所述光学结构的深度的比值为1:9-1:1。

可选地，所述光学结构的球径的范围为50～100μm。

可选地，多个所述微纹理单元之间的距离的范围为0-100μm。

可选地，所述微纹理单元的图案结构形成为完整图案的一部分或者所述微纹理单元的图案结构分别形成为完整图案。

可选地，多个所述微纹理单元呈三角形阵列排列或者呈矩形阵列排布。

可选地，所述基底包括玻璃片材、PC片材、PET片材、PC/PMMA复合片材中的一种。

根据本公开实施例的第二方面，提供一种电子设备的壳体，包括上述任一项的装饰件。

可选地，所述电子设备的壳体还包括设置于所述装饰件表面的镀膜层。

根据本公开实施例的第三方面，提供一种电子设备，包括上述任一项的电子设备的壳体。

根据本公开实施例的第四方面，提供一种装饰件的制备方法，包括：

在玻璃板上匀光刻胶，并在所述玻璃板上将预设纹理进行光刻曝光；

将已光刻的预设纹理转印至基底。

根据本公开实施例的第五方面，提供一种装饰件的制备方法，所述基底为玻璃片材，所述制备方法包括：

在所述基底上匀光刻胶，并在所述基底上将预设纹理进行光刻曝光；

将所述基底放入到化学药水中进行蚀刻。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：相较于相关技术需要通过多个功能层叠加配合的方式实现预期效果，本公开装饰件采用一体结构的微纹理单元，即，使得用于呈现图案样式的图案结构和用于呈现立体浮动效果的光学结构上形成为一体结构，从而在装配使用时无需考虑不同功能层匹配精度的问题，制作工艺简单，同时还能够通过减少功能层的使用数量来精简电子设备壳体的厚度，为电子设备朝向轻薄化提供设计基础。

本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：

图1至图4为根据本公开不同实施方式提供的装饰件的示意图。

图5和图6为根据本公开不同实施方式提供的微纹理单元的示意图。

图7和图8为根据本公开不同实施方式提供的图案的示意图。

图9和图10为根据本公开不同实施方式提供的微纹理单元排列示意图。

图11为根据本公开示例性实施方式提供的电子设备壳体的示意图。

图12为根据本公开示例性实施方式提供的装饰件的制备方法的流程图。

图13为根据本公开示例性实施方式提供的另一种装饰件的制备方法的流程图。

附图标记说明

100-装饰件，200-镀膜层，1-基底，2-光学结构，3-图案结构。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本公开中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是微纹理结构基于基底作为底面时的方向，可参照图5和图6的图面方向，“内、外”是针对相应零部件的本身轮廓而言的。此外，下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

根据本公开的第一方面，提供一种装饰件100该装饰件100能够应用于电子设备的壳体，例如，以贴设的方式设置在电子设备壳体上，从而为电子设备提供预期的立体图案效果。具体的，如图1至图6所示，本公开的装饰件100包括基底1和多个微纹理单元，例如，微纹理单元可以采用将在之后介绍的转印的方式形成在基底1上或者通过化学刻蚀的方式与基底1一体成型。这里的基底1可以采用具有一定折射率的透明材料，折射率范围可选地在1.3-1.6之间，例如，可以为玻璃片材、PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)片材、PET(polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二酯)片材或者为PC/PMMA(polymethylmethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)复合板材。当然，非透明材质的基底1也能够应用于本公开的装饰件100，不会影响微纹理单元对立体效果的呈现。

其中，至少部分微纹理单元包括光学结构2和图案结构3，光学结构2和图案结构3为一体结构。图案结构3能够根据实际需要呈现的效果而设计，例如，图案结构3可以设计为实体图画或者按照一定规律排列的纹理再或者光点效果等。光学结构2配置成透镜结构，图案结构3相对于光学结构2向外凸出和/或向内凹陷，以使得图案结构3能够呈现上浮和/或下沉的立体效果。从原理上来说，利用透镜的折射效应形成上浮和/或下沉的景深，由此，在光学结构2和图案结构3的共同配合下便能够呈现出预期的立体浮动效果。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：相较于相关技术需要通过多个功能层叠加配合的方式实现预期效果，本公开装饰件采用一体结构的微纹理单元，即，使得用于呈现图案样式的图案结构和用于呈现立体浮动效果的光学结构上形成为一体结构，从而在装配使用时无需考虑不同功能层匹配精度的问题，制作工艺简单，同时还能够通过减少功能层的使用数量来精简电子设备壳体的厚度，为电子设备朝向轻薄化提供设计基础。

根据本公开实施例，光学结构2可以构造为向外凸出于基底1的半球形凸透镜或者向内凹陷于基底1的半球形凹透镜。图案结构3一体成型在光学结构2的远离基底1的端部且构造为向外凸出于光学结构2或者向内凹陷于光学结构2。详细来说，图1和图2示出光学结构2构造为半球形凸透镜，其中，图1中的图案结构3向外凸出于光学结构2，图2中的图案结构3向内凹陷于光学结构2。对应的，图3和图4示出光学结构2构造为半球形凹透镜，其中，图3中的图案结构3向外凸出于光学结构2，图4的中图案结构3向内凹陷于光学结构2。

由于凸透镜和凹透镜对光的作用不同，例如，凸透镜对光具有的汇聚作用而凹透镜对光具有的发散作用，影响光学结构2的折射效应，再配合形成为凸出或凹陷的图案结构3，从而在视觉上呈现不同的立体浮动效果，例如上浮或下沉，或者上浮或下沉的景深不同等。需要说明的是，为实现立体浮动效果，本公开的光学结构2并不限于半球形透镜，还可以采用棱镜结构，或者边缘为任意形状而在中间区域形成为具有透镜特性的结构等方式，此处不再赘述。

在同等高度下，光学结构2的球径D越大，所能够呈现出来的立体图案的浮动范围越大，但是图案也更模糊，反之，球径D越小，图案越清晰，但是所能呈现出来的立体图案的浮动范围越小。考虑这一情况，同时参考图5和图6，一些实施方式中将光学结构2的球径D的范围设定为50～100μm。将光学结构2的球径D设定在这一范围内，既能够保证立体图案呈现出预期的浮动效果，同时图案也足够的清晰。

光学结构2和图案结构3在尺寸上的比值对预期呈现效果也具有影响。具体的，在一个微纹理单元中，光学结构2在高度上的占比越大，立体浮动效果越好，反之，图案结构3在高度上的占比越大，图案越清晰。为清楚描述，这里需要说明的是，光学结构2的凸出或凹陷是相对于基底1而言的，例如，图1和图2示出为光学结构2相对于基底1向外凸出，此时，光学结构2向外凸出的尺寸以高度表示，对应的，图3和图4示出为光学结构2相对于基底1向内凹陷，此时，光学结构2向内凹陷的尺寸以深度表示。还需要说明的是，图案结构3的凸出或凹陷是相对于光学结构2而言的，例如，图1和图3示出为图案结构3相对于光学结构2向外凸出，此时，图案结构3向外凸出的尺寸以高度表示，对应的，图2和图4示出为图案结构3相对于光学结构2向内凹陷，此时，图案结构3向内凹陷的尺寸以深度表示。

在一些实施方式中，参考图5和图6，光学结构2为向外凸出于基底1的半球形凸透镜，图案结构3相对于光学结构2向外凸出的高度H1或相对于光学结构2向内凹陷的深度H3与光学结构2的高度H2的比值为1:9-1:1。值得说明的是，这里以图案结构3和光学结构2之间高度和/或深度的比值进行定义，使得呈现效果不会受到图案结构3的设置位置的影响，例如，只要使得图案结构3相对于光学结构2向外凸出的高度H1或相对于光学结构2向内凹陷的深度H3与光学结构2的高度H2的比值在预定范围内，便能够得到预期呈现效果，而无论图案结构3是否如图5和图6那样位图光学结构2的中间位置。在另一些实施方式中，光学结构2为向内凹陷于基底1的半球形凹透镜，图案结构3相对于光学结构2向外凸出的高度或相对于光学结构向内凹陷的深度与光学结构2深度的比值为1:9-1:1。将图案结构3的高度/深度与光学结构2的高度/深度的比值设定在上述范围内，既能够保证立体图案呈现出预期的浮动效果，同时图案也足够的清晰。

一些实施方式中，微纹理单元的图案结构3形成为完整图案的一部分，换句话说，一个完整图案是由多个图案结构3所组成，例如，在图7示出的实施例中，多个图案结构3共同组成一个完整的六角星。另一些实施方式中，微纹理单元的图案结构3分别形成为完整图案，例如，在图8示出的实施例中，图案结构3单独呈现出完整的六角星。这样，便于在装饰件100上设计和提供更丰富的图案效果。举例来说，在微纹理单元的图案结构3形成为完整图案的一部分的情况下，在一个产品上可以设计多张能够联动的图案，以实现从一个立体浮动效果到另一个立体浮动效果的动态变化，或者，将本公开能够实现立体浮动效果的结构与其他纹理结构，例如具有山峦起伏效果的光栅结构叠加或拼接，从而实现层次更丰富的图案，甚至能够藉由使纹理结构具有唯一性而具备防伪性。

在一些实施方式中，如图9所示，多个微纹理单元可以呈三角形阵列排列，或者如图10所示，多个所述微纹理单元可以呈矩形阵列排布。相邻两个微纹理单元可以设计有间距，也可以不设间距，这一间距L可以在0-100μm的范围内，可选地，间距L为0-10μm。这里的不设间距可以理解为间距足够小而可以忽略不计。这主要可以根据实际需求进行设计，而三角形矩阵和矩形矩阵均较为容易加工，工艺较为简单。此外，在同一个装饰件100上，各个微纹理单元之间的间距也可以按一定规律变化，即，非等间距设计，提供更丰富的图案效果。

在一些实施方式中，基底1可以采用玻璃片材、PC片材、PET片材、PC/PMMA复合片材中的一种。基底1可以根据装饰件100的制备工艺进行选择，例如，PC片材、PET片材、PC/PMMA复合片材中的一种可以用于转印的制备工艺，而玻璃片材可以用于化学刻蚀的制备工艺，此处暂不赘述。根据本公开的第二个方面，还提供一种电子设备的壳体，该电子设备的壳体包括上述的装饰件100并具有上述装饰件100的所有有益效果，这里不再赘述。

在一些实施方式中，本公开的电子设备的壳体除了包括装饰件100外，如图11所示，还可以包括位于装饰件100表面的镀膜层200。通过不同颜色的镀膜层200，配合上述具有立体效果的装饰件100，能够呈现不同颜色的立体图案效果。当然，还能够根据实际需要附加其他功能层，或者叠加更多的装饰件100。

根据本公开的第三个方面，还提供一种电子设备，该电子设备包括上述的电子设备的壳体，以提高视觉效果。其中，电子设备包括但不限于手机、平板电脑以及笔记本电脑等。

根据本公开的第四方面，还提供一种装饰件100的制备方法，在一些实施方式中，如图12所示，该制备方法包括：在步骤101，在玻璃板上匀光刻胶，并在所述玻璃板上将预设纹理进行光刻曝光，这里的预设纹理即为上述的由多个微纹理单元组成的图案，可以将设计好的预设纹理的数据传入电脑，然后根据该数据在玻璃板上光刻曝光；在步骤102，将已光刻的预设纹理转印至基底1，例如，将步骤101之后的纹理经过显影、烘干、等离子清洗后，通过UV转印的方式转印到基底1上。其中，如前文记载，基底1可以为PC片材、PET片材、PC/PMMA复合片材中的一种。

根据本公开的第五方面，在另一些是实施方式中，以玻璃片材为装饰件100的基底1。如图13所示，装饰件100的制备方法可以包括：在步骤201，在基底1上匀光刻胶，并在基底1上将预设纹理进行光刻曝光；以及在步骤201，将基底1放入到化学药水中进行蚀刻。由于光刻胶对玻璃片材的保护作用，胶厚的地方抗蚀刻时间久，胶薄的地方抗蚀刻时间短，会先于厚胶部分漏出基底1，因此，放到蚀刻槽里的凹凸不平的纹理结构，通过合理的蚀刻时间，可以将纹理完成复制到玻璃片材上，从而形成本公开实施例中的微纹理单元，并得到期望的装饰件100。

以上结合附图详细描述了本公开的优选实施方式，但是，本公开并不限于上述实施方式中的具体细节，在本公开的技术构思范围内，可以对本公开的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本公开的保护范围。

另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本公开对各种可能的组合方式不再另行说明。

此外，本公开的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本公开的思想，其同样应当视为本公开所公开的内容。

Claims (13)

1.一种装饰件，其特征在于，包括基底和多个微纹理单元，至少部分所述微纹理单元包括光学结构和图案结构，所述光学结构和所述图案结构为一体结构，所述光学结构为透镜结构，所述图案结构相对于所述光学结构向外凸出和/或向内凹陷。

2.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述光学结构为向外凸出于所述基底的半球形凸透镜或者向内凹陷于所述基底的半球形凹透镜，所述图案结构设置在所述光学结构的远离所述基底的端部且构造为向外凸出于所述光学结构或者向内凹陷于所述光学结构。

3.根据权利要求2所述的装饰件，其特征在于，所述光学结构为向外凸出于所述基底的半球形凸透镜，所述图案结构相对于所述光学结构向外凸出的高度或相对于所述光学结构向内凹陷的深度与所述光学结构的高度的比值为1:9-1:1；

和/或，所述光学结构为向内凹陷于所述基底的半球形凹透镜，所述图案结构相对于所述光学结构向外凸出的高度或相对于所述光学结构向内凹陷的深度与所述光学结构的深度的比值为1:9-1:1。

4.根据权利要求2所述的装饰件，其特征在于，所述光学结构的球径的范围为50～100μm。

5.根据权利要求2所述的装饰件，其特征在于，多个所述微纹理单元之间的距离的范围为0-100μm。

6.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述微纹理单元的图案结构形成为完整图案的一部分或者所述微纹理单元的图案结构分别形成为完整图案。

7.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，多个所述微纹理单元呈三角形阵列排列或者呈矩形阵列排布。

8.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述基底包括玻璃片材、PC片材、PET片材、PC/PMMA复合片材中的一种。

9.一种电子设备的壳体，其特征在于，包括权利要求1-8中任意一项所述的装饰件。

10.根据权利要求9所述的电子设备的壳体，其特征在于，还包括设置于所述装饰件表面的镀膜层。

11.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9或10所述的电子设备的壳体。

12.一种制备如权利要求1-8中任意一项的装饰件的方法，其特征在于，所述制备方法包括：

在玻璃板上匀光刻胶，并在所述玻璃板上将预设纹理进行光刻曝光；

将已光刻的预设纹理转印至基底。

13.一种制备如权利要求1-8中任意一项的装饰件的方法，其特征在于，所述基底为玻璃片材，所述制备方法包括：

在所述基底上匀光刻胶，并在所述基底上将预设纹理进行光刻曝光；

将所述基底放入到化学药水中进行蚀刻。