CN117250677A - 增亮膜及其制备方法、显示装置 - Google Patents

增亮膜及其制备方法、显示装置 Download PDF

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CN117250677A CN202311502545.8A CN202311502545A CN117250677A CN 117250677 A CN117250677 A CN 117250677A CN 202311502545 A CN202311502545 A CN 202311502545A CN 117250677 A CN117250677 A CN 117250677A
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Abstract

本发明公开了增亮膜及其制备方法、显示装置,涉及光学膜技术领域。其中,该增亮膜,包括:基材层;及棱镜层,设置于基材层上;棱镜层包括:若干第一棱镜柱和若干第二棱镜柱,且第一棱镜柱的高度高于所述第二棱镜柱的高度;其中,第一棱镜柱的顶部设有导电层。本发明,解决现有的涂层内添加抗静电材料所导致析出、降低光学增益等缺点;以及,带保护膜类产品避免了采用高成本抗静电保护膜的产品架构,降低对产品利润影响较大的问题。

Description

增亮膜及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及光学膜技术领域,尤其涉及一种增亮膜及其制备方法、显示装置。
背景技术
增亮膜是一种在膜片表面有一系列有规律的平行棱镜柱的膜片,其通过棱镜柱将大角度出射光转为正面光来提高屏幕亮度。随着3C产品的演进,很多设计会对部件阻抗表现有所要求,目的是终端产品电性考察,或膜材料的除静电避免异物杂质吸附。
一般来说,为了维护棱镜微结构材料折射率的保持(棱镜层材料折射率直接影响产品的光学等级表现,折射率愈高则产品亮度表现愈佳),低阻抗功能主要来源的抗静电剂,会设计在对材料折射率较无要求的背涂层。或者,有保护膜类产品会使用抗静电保护膜,但必须付出较高的保护膜成本,对产品利润影响较大。
涂料内添加抗静电助剂,会有产品长时间使用或储存的析出风险。析出主要是一般抗静电助剂为小分子无反应性材料。此类原料掺入光固化或热固化涂料内均不参与固化反应。于是抗静电助剂实际上为分散在涂层的交连结构空隙内。长时间使用或储存时,小分子抗静电材料会逐渐迁移至光学膜表面,即造成所谓析出风险,影响了产品膜面的外观及实际光学、抗吸附、抗静电等功能。
有团队因此研发高分子量抗静电材料,藉由抗静电材料的大体积,期望能降低迁移比例,借此避免析出风险。但也由于此类抗静电材料的大体积,也使该配方在光学膜内的抗静电效率偏低,实际上无法达到需要的光学膜产品抗静电等级。
亦有团队开发反应型抗静电材料,此类材料会出现与大分子量抗静电材料相类似问题,由于抗静电基团移动性低,也会降低了光学膜产品的抗静电等级。
使用抗静电保护膜方案,仅局限于有保护膜类棱镜片产品,无法适用于无保护膜类棱镜片产品。除适用性低之外,对增亮膜制造企业成本的提高也是一大难点,对利润影响较大而逐渐不被业界接受。
针对现有的增亮膜为确保低阻抗功能,采用在涂层内添加抗静电材料所导致析出、降低光学增益等缺点;以及,带保护膜类产品采用高成本抗静电保护膜对产品利润影响较大的状况。针对上述出现的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
发明目的:提供一种增亮膜及其制备方法、显示装置,以解决现有技术存在的上述问题。
技术方案:一种增亮膜,包括:基材层;及棱镜层,设置于所述基材层上;所述棱镜层包括:若干第一棱镜柱和若干第二棱镜柱,且所述第一棱镜柱的高度高于所述第二棱镜柱的高度;其中,所述第一棱镜柱的顶部设有导电层。
作为优选,所述导电层的厚度为0.5-3um。
作为优选,所述第一棱镜柱和所述第二棱镜柱的数量比值区间为:1:1-1:15;其中,所述第二棱镜柱取整数。
作为优选,所述第一棱镜柱和所述第二棱镜柱的数量比值区间为:1:3-1:15;其中,所述第二棱镜柱取整数。
作为优选,所述第一棱镜柱的高度H取值区间为:12-40um。
作为优选,所述第一棱镜柱的高度H和所述第二棱镜柱的高度h,其比值区间为:H-h=2-10um。
作为优选,所述棱镜层的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱的顶部采用90°顶角结构,用于涂布导电层。
作为优选,所述棱镜层的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱的顶部采用平顶角结构,用于涂布导电层。
作为优选,所述导电层的材质为:导电聚合物中的聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、鎓盐、锂盐和胺盐中的一种或多种,或无机材料中的氧化铟锡、纳米银粒子、纳米银线、纳米铜粒子、纳米钯粒子、纳米金粒子、纳米碳管、石墨烯中的一种或多种。
为了实现上述目的,根据本申请的另一个方面,还提供了一种增亮膜制备方法。
根据本申请的显示面板的增亮膜制备方法,应用于制备如上所述的增亮膜;包括以下步骤:
步骤一、准备基材层;
步骤二、在基材层上涂覆胶层;
步骤三、第一次转印涂布,通过模具辊上预设的微结构对基材层的胶层进行压印,胶层压印得到棱镜层的高低棱镜柱结构;
步骤四、第二次转印涂布,通过微凹版将涂料转涂至待涂布面;其中,待涂布面为第一棱镜柱的峰端。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种显示装置,包括显示面板以及设置于所述显示面板一侧的增亮膜,所述增亮膜为如上所述的增亮膜。
有益效果:在本申请实施例中,采用高低棱镜柱和在高棱镜柱顶部涂布导电层的方式;所述第一棱镜柱的高度高于所述第二棱镜柱的高度;其中,若干所述第一棱镜柱的顶部设有导电层,达到了棱镜柱高低分布和对高棱镜柱顶部涂布导电层的目的,从而实现了低阻抗和提高耐磨的技术效果,进而解决了现有的增亮膜为确保低阻抗功能,采用在涂层内添加抗静电材料所导致析出、降低光学增益等缺点;以及,带保护膜类产品采用高成本抗静电保护膜对产品利润影响较大的技术问题。
附图说明
图1是本发明的增亮膜微结构示意图;
图2是本发明的增亮膜另一微结构示意图;
图3是本发明的增亮膜棱镜柱高度示意图;
图4是本发明的增亮膜另一棱镜柱高度示意图;
图5是本发明的增亮膜制备方法示意图;
图6是本发明的实施例一结构示意图;
图7是本发明的实施例二结构示意图;
图8是本发明的实施例三结构示意图;
图9是本发明的实施例四结构示意图;
图10是本发明的实施例五结构示意图;
图11是本发明的实施例六结构示意图;
图12是本发明的实施例七结构示意图;
图13是本发明的实施例八结构示意图;
图14是本发明的实施例九结构示意图;
图15是本发明的实施例十结构示意图;
图16是本发明的实施例十一结构示意图。
附图标记为:10、基材层;20、棱镜层;201、第一棱镜柱;202、第二棱镜柱;30、导电层。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
此外,术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”、“套接”应做广义理解。例如,可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
如图1-4所示,本申请涉及一种增亮膜及其制备方法、显示装置。该一种增亮膜包括:基材层10;基材层10是指基材材料层,能够实现良好的固定和支撑效果。优选的,基材层10的材料包括但不限于PMMA、TAC、PET、COP、PP、TPU或PE中任意一种;能够实现灵活选择的效果。
棱镜层20,设置于所述基材层10上;通过采用包括但不限于转印的方式,将棱镜层20设置在基材的上表面,能够实现良好的棱镜成型效果。
所述棱镜层20包括:若干第一棱镜柱201和若干第二棱镜柱202,且所述第一棱镜柱201的高度高于所述第二棱镜柱202的高度;通过在第一棱镜柱201一侧相邻阵列设置有至少一个第二棱镜柱202,并依据此作为最小棱镜柱单元在基材层10上进行有序阵列,能够形成满足预设要求的高低棱镜柱结构,能够保证导电涂层有一定的数量,且足以提供低阻抗测量值以及低的撕膜静电残留,与此同时,也提供足够的保护膜贴附面积,因此方案可同时满足有保护膜及无保护膜类产品,进而大大提高实用性和实用的灵活性。优选的,一所述第一棱镜柱201一侧依次相邻阵列设置有至少三个第二棱镜柱202,并以此作为最小棱镜柱单元有序阵列。能够呈现良好的增亮膜性能。
通过采用所述第一棱镜柱201的高度高于所述第二棱镜柱202的高度;能够确保良好的高度层次结构,从而实现相应功能的效果。其中,在本申请中,第一棱镜柱201为高棱镜柱,第二棱镜柱202为低棱镜柱。
其中,所述第一棱镜柱201的顶部设有导电层30。通过在第一棱镜柱201的顶部均匀涂布有导电层30,且因采用微型凹版和高度棱镜柱分布的方式,能够实现定向涂布的效果,即仅在第一棱镜柱201的顶部涂布导电层30,从而避免第二棱镜柱202上涂布导电层30的情况,进而实现了保护第二棱镜柱202峰端的效果,最终表现出良好的耐磨抗刮效果;与此同时,因导电材料只涂覆于极少面积内,避免了整面添加抗静电材料的析出风险;以及,因导电层30中的导电材料不掺混于光学功能层涂料内,不影响棱镜层20的折射率,不对产品亮度造成影响。
从以上的描述中,可以看出,本申请实现了如下技术效果:
在本申请实施例中,采用高低棱镜柱和在高棱镜柱顶部涂布导电层30的方式,通过所述第一棱镜柱201一侧依次相邻阵列设置有至少一个第二棱镜柱202,并以此作为最小棱镜柱单元有序阵列,且所述第一棱镜柱201的高度高于所述第二棱镜柱202的高度;其中,若干所述第一棱镜柱201的顶部设有导电层30,达到了棱镜柱高低分布和对高棱镜柱顶部涂布导电层30的目的,从而实现了低阻抗和提高耐磨的技术效果,进而解决了现有的增亮膜为确保低阻抗功能,采用在对材料折射率较无要求的背涂层;或者,采用在涂料内添加抗静电助剂但存在析出、降低抗电等级和影响产品性能的情况;以及,采用抗静电保护膜的方式,但必须付出较高的保护膜成本,对产品利润影响较大率的技术问题。
进一步的,所述导电层30的厚度为0.5-3um。可以理解的是,通过在第一棱镜柱201的峰端按照预设厚度涂布有导电层30,能够实现良好的抗静电和低阻抗效果;与此同时,通过采用多种厚度的变化,能够实现根据产品要求而得到不同的低阻抗等级。当导电层低于0.5um时,低阻抗效果太差不符合需求;当导电层高于3um时,导电层颜色过于明显亦不适用于光学膜应用上。因此0.5-3um是一个可以满足电性与可观赏性的涂层厚度范围。
进一步的,所述第一棱镜柱201和第二棱镜柱202的数量比值区间为:1:1-1:15;其中,所述第二棱镜柱202取整数。可以理解的是,通过预设多种比例的第一棱镜柱201和第二棱镜柱202数量,能够实现满足多种使用要求的效果,同时,还能实现多种耐磨性能和亮度可选择的效果;与此同时,保证了导电涂层有一定的数量足以提供低阻抗测量值以及低的撕膜静电残留。也提供足够的保护膜贴附面积,因此方案可同时满足有保护膜及无保护膜类产品。
进一步的,所述第一棱镜柱201和第二棱镜柱202的数量比值区间为:1:3-1:15;其中,所述第二棱镜柱202取整数。通过采用上述数量比值区间,其所呈现的光学性能更佳。
进一步的,所述第一棱镜柱201的高度H取值区间为:12-40um。可以理解的是,通过将第一棱镜柱201的高度设定在预设区间范围内;与此同时,通过对第一棱镜柱201的高度进行限定,能够实现对第二棱镜柱202的高度进行约束的效果,从而能够实现形成多种光学增益规格的低阻抗增亮膜,提供多种产品性能的效果,进而满足多样化的使用需求。
进一步的,所述第一棱镜柱201的高度H和所述第二棱镜柱202的高度h,其中所述第一棱镜柱201的高度H和所述第二棱镜柱202的高度h的比值区间为:H-h=2-10um。可以理解的是,通过将第一棱镜柱201的高度和第二棱镜柱202的高度限定在预定的比值区间内,且在第一棱镜柱201取值确定的情况下,能够实现确定第二棱镜柱202的高度取值范围,从而明确增亮膜可形成多种光学增益规格。
因此,总的来说,棱镜的大小与光学增益表现有关,大则辉度高,小则辉度低。但大则厚,小则薄,也要依据应用场景来设计棱镜尺寸,不是一味的求大就行。另外几高几低的设计,则是会影响画面的光学干涉,是规整微结构与面板画素的相互作用的结果。但,就耐磨性看,低棱镜数量多就会好。但辉度会因为小棱镜多而降低。也是需要是产品设计而求平衡的。
需要知晓的是,当第一棱镜柱201的高度为12 um,第二棱镜柱202的高度可选择范围为:2-10um;从而能够确定第一棱镜柱201高度和第二棱镜柱202高度多种组合的方式,比如,12:10或12:2等多种取值方式,在本申请中,不作限定。
当第一棱镜柱201的高度为40um,第二棱镜柱202的高度可选择范围为:30-38um;从而能够确定第一棱镜柱201高度和第二棱镜柱202高度多种组合的方式,比如,40:30或40:38等多种取值方式,在本申请中,不作限定。具体多种取值方式,不做一一列举,作为本领域技术人员,数据的多种组合排列应为所熟知的技术。
进一步的,所述棱镜层20的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱201的顶部采用90°顶角结构,用于涂布导电层30。可以理解的是,通过将第一棱镜柱201的顶部采用90°顶角结构的方式,能够实现在二次涂布时高棱镜峰端可沾住微量金属粒子或抗静电材料的涂料,进而确保实现良好的抗静电效果;且避免大量涂布导电涂料出现产品析出的情况,最终影响产品性能的情况。
进一步的,所述棱镜层20的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱201的顶部采用平顶角结构,用于涂布导电层30。可以理解的是,通过将第一棱镜柱201的顶部采用平顶角结构的方式,能够实现在二次涂布时高棱镜平顶可沾住微量金属粒子或抗静电材料的涂料,进而确保实现良好的抗静电效果;且避免大量涂布导电涂料出现产品析出的情况,最终影响产品性能的情况。
进一步的,所述导电层30的材质为:导电聚合物中的聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、鎓盐、锂盐和胺盐中的一种或多种,或无机材料中的氧化铟锡、纳米银粒子、纳米银线、纳米铜粒子、纳米钯粒子、纳米金粒子、纳米碳管、石墨烯中的一种或多种。
具体通过以下实施例进一步说明:
实施例
如图6所示,在基材层10上依次设置有若干第一棱镜柱201和若干第二棱镜柱202,以形成增亮膜的结构;其中,通过采用一个第一棱镜柱201和三个第二棱镜柱202为最小的阵列单元,对若干棱镜柱按照上述做小阵列单元进行有序排列;在本申请中,第一棱镜柱201为高棱镜柱,第二棱镜柱202为低棱镜柱。为易于区别和表示,将此类结构定义为:1H1h,H为第一棱镜柱201,数量为1个,高度为35um,h为第二棱镜柱202,数量为1个,高度为30 um。并于高棱镜柱201上涂布有本发明所定义之导电层30。此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.3Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为99.1%。
实施例
如图7所示,实施例2与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,第二棱镜柱202的数量为3个,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.6Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为99.5%。
实施例
如图8所示,实施例3与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,第二棱镜柱202的数量为5个,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.9Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为99.7%。
实施例
如图9所示,实施例4与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,第二棱镜柱202的数量为10个,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1011.6Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为99.8%。
实施例
如图10所示,实施例5与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,第二棱镜柱202的数量为15个,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1012.8Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为99.9%。
实施例
如图11所示,实施例6与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为12um,第二棱镜柱202的数量为3个,高度为2um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.1Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为94.5%。
实施例
如图12所示,实施例7与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为12um,第二棱镜柱202的数量为3个,高度为9um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.2Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为94.7%。
实施例
如图13所示,实施例8与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为26um,第二棱镜柱202的数量为3个,高度为16um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.4Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为95.8%。
实施例
如图14所示,实施例9与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为26um,第二棱镜柱202的数量为3个,高度为23um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.4Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为96.3%。
实施例
如图15所示,实施例10与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为40um,第二棱镜柱202的数量为3个,高度为30um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.5Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为99.8%。
实施例
如图16所示,实施例11与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为40um,第二棱镜柱202的数量为3个,高度为37um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.8Ω/□,耐磨大于1000g,亮度比为100.4%。
对比例1
对比例1与实施例1的区别在于,均采用第一棱镜柱201,高度H为35um;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为>1013.5Ω/□,耐磨小于50g,亮度比为100%。
对比例2
对比例2与实施例1的区别在于,均采用第一棱镜柱201,高度H为30um;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为>1013.5Ω/□,耐磨小于50g,亮度比为98.1%。
对比例3
对比例3与实施例1的区别在于,均采用第一棱镜柱201,高度H为35um,添加抗静电助剂;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1010.1Ω/□,耐磨小于50g,亮度比为90.5%。
对比例4
对比例4与实施例1的区别在于,第一棱镜柱201的数量为1个,高度为35um,第二棱镜柱202的数量为20个,高度为30um,以此作为最小阵列单元进行阵列;此时,经测试,增亮膜的性能参数是:阻抗为1013.4Ω/□,耐磨约为900g,亮度比为99.9%。
各实施例和对比例的结果如表1所示:
从以上的测试结果可以看出:
1、通过实施例1~11,本发明范围,在亮度衰减较小的范围内,不仅获得有效的低阻抗表现,同时产品由于导电涂层的存在有效保护了低棱镜柱的峰端,而有极佳的耐磨效果。
2、通过实施例1~5可知,当第一棱镜柱的数量和高度不变的前提下,随着第二棱镜柱数量的增加,且第二棱镜柱的高度为同一高度时,阻抗随着第二棱镜柱数量的增加而增加,与此同时,亮度会随着第二棱镜柱增加而提升。
3、通过将对比例1~2进行比较,当棱镜柱结构缩小时,亮度会随之降低。且当无添加抗静电助剂状态时,产品阻抗表现极差,几乎绝缘。
4、通过对比例3可知,当棱镜内添加抗静电助剂,虽能获得低阻抗效果但对亮度影响甚大。
5、通过对比例1~3可知,全等高棱镜柱产品不具保护机制,微结构耐磨能力极差。
6、通过对比例4可知,当高棱镜密度过低时,表面阻抗能力几乎没有,产品耐磨能力也开始下降。
如图5所示,本发明还提供增亮膜制备方法,包括以下步骤:
步骤一、准备基材层10;
步骤二、在基材层10上涂覆胶层;
步骤三、第一次转印涂布,通过模具辊上预设的微结构对基材层10的胶层进行压印,胶层压印得到棱镜层20的高低棱镜柱结构;
步骤四、第二次转印涂布,通过微凹版将涂料转涂至待涂布面;其中,待涂布面为第一棱镜柱201的峰端。
具体地,采用高低棱镜结构,使用一般棱镜片(或称增亮膜)制程方式,即在模具辊上事先加工好棱镜结构,再以光固化转写方式于PET表面翻印出该棱镜微结构。
因高棱镜的结构特征,可对二次转印有所响应。二次转印涂布使用微型凹版精密涂布方式,或其他类似涂布方式。由微型凹版将涂料转涂至待涂布面。因此,在二次涂布过程中,只有较高的棱镜峰端可以接触到涂布液,较低的棱镜峰端因高度不足,无法碰触到涂布液面而无法沾到任何涂布液。故在二次转印过程中,便可将带有金属粒子或抗静电材料的涂料选择性的只涂布至高棱镜峰端,而保护了低棱镜峰端。
本申请还涉及一种显示装置,包括显示面板以及设置于所述显示面板一侧的增亮膜,所述增亮膜为如上述所述的增亮膜。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种等同变换,这些等同变换均属于本发明的保护范围。

Claims (11)

1.增亮膜,其特征在于,包括:
基材层(10);及
棱镜层(20),设置于所述基材层(10)上;所述棱镜层(20)包括:若干第一棱镜柱(201)和若干第二棱镜柱(202),且所述第一棱镜柱(201)的高度高于所述第二棱镜柱(202)的高度;
其中,所述第一棱镜柱(201)的顶部设有导电层(30)。
2.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述导电层(30)的厚度为0.5-3um。
3.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述第一棱镜柱(201)和所述第二棱镜柱(202)的数量比值区间为:1:1-1:15;其中,所述第二棱镜柱(202)取整数。
4.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述第一棱镜柱(201)和所述第二棱镜柱(202)的数量比值区间为:1:3-1:15;其中,所述第二棱镜柱(202)取整数。
5.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述第一棱镜柱(201)的高度H取值区间为:12-40um。
6.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述第一棱镜柱(201)的高度H和所述第二棱镜柱(202)的高度h,其比值区间为:H-h=2-10um。
7.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述棱镜层(20)的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱(201)的顶部采用90°顶角结构,用于涂布导电层(30)。
8.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述棱镜层(20)的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱(201)的顶部采用平顶角结构,用于涂布导电层(30)。
9.根据权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述导电层(30)的材质为:导电聚合物中的聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、鎓盐、锂盐和胺盐中的一种或多种,或无机材料中的氧化铟锡、纳米银粒子、纳米银线、纳米铜粒子、纳米钯粒子、纳米金粒子、纳米碳管、石墨烯中的一种或多种。
10.增亮膜制备方法,其特征在于,应用于制备如权利要求1-9中任一项所述的增亮膜;包括以下步骤:
步骤一、准备基材层(10);
步骤二、在基材层(10)上涂覆胶层;
步骤三、第一次转印涂布,通过模具辊上预设的微结构对基材层(10)的胶层进行压印,胶层压印得到棱镜层(20)的高低棱镜柱结构;
步骤四、第二次转印涂布,通过微凹版将涂料转涂至待涂布面;其中,待涂布面为第一棱镜柱(201)的峰端。
11.显示装置,其特征在于,包括显示面板以及设置于所述显示面板一侧的增亮膜,所述增亮膜为如权利要求1-9中任一项所述的增亮膜。
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