CN117075448A - 纳米精度光刻气浮运动台 - Google Patents

Abstract

本发明公开了纳米精度光刻气浮运动台，属于精密加工技术领域，本发明的运动台包括气浮台与气浮导轨，气浮台能够沿气浮导轨直线往复移动，气浮台与气浮轴承相配合，气浮轴承用于实现气浮台相对于气浮导轨处于悬浮状态；气浮台的上方配置有吸附组件，用于吸附物料；吸附组件与气浮台之间配置有减振组件。本发明结构简单，能够保证气浮台的平面度，提高物料的定位精准度，避免物料偏移，保证加工精度。

Description

纳米精度光刻气浮运动台

技术领域

本发明属于精密加工技术领域，具体涉及一种纳米精度光刻气浮运动台。

背景技术

光刻机（Mask Aligner），又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。光刻（Photolithography）是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程，再将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

授权号为TWI696896B的发明专利提供了一种运动台移动机构、运动台系统与光刻装置，所述的机构，包括：滚轮、固定件、多个弹簧、多个导向杆和连接件；多个弹簧和多个导向杆均沿第一方向设置，每个导向杆的一端连接连接件，固定件套设于导向杆外侧且可沿导向杆在第一方向上移动，每个弹簧两端分别作用于连接件与固定件，滚轮连接于连接件，固定件用于固定连接运动台的框架。该发明可通过垂向位置的调整满足运动台垂向位置的各种需求。

随着对产品精度的要求不断提升，纳米光刻机逐渐成为现阶段研发的重点。申请号为KR1020200165882的发明申请提供了一种纳米光刻设备，其包括：放置用于形成精细图案的物体的平台；用于产生光束的光束发生器；用于使光束能够穿透以使从光束发生器产生的光束以纳米尺寸的形状到达位于平台上的物体的掩模；和容纳上述组件的处理室。该发明申请的装置是模仿昂贵的EUV平版印刷装置的装置，并且可以低成本地制造。

分析上述现有技术，现有的纳米精度运动平台大多忽视了使用过程中的运动平台的振动能量对物料的影响，因运动台的振动而导致物料定位不准或姿态不佳，从而影响加工精度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种减振效果好的纳米精度光刻气浮运动台，可确保气浮台的平面度，能够提高物料的定位精准度，避免物料偏移，保证加工精度。

本发明为实现上述目的所采取的技术方案为：

纳米精度光刻气浮运动台，包括气浮台与气浮导轨，气浮台能够沿气浮导轨直线往复移动，气浮台与气浮轴承相配合，气浮轴承用于实现气浮台相对于气浮导轨处于悬浮状态；气浮台的上方配置有吸附组件，用于吸附物料；吸附组件与气浮台之间配置有减振组件。

采用上述技术方案，利用吸附组件吸附物料，可提高物料的稳定性，防止气浮台移动过程中物料因惯性或放置不稳而导致的错位。减振组件的设置在吸附组件与气浮台之间形成间隔，吸附组件与气浮台不直接接触，可避免或降低来自气浮台的振动能量向吸附组件及其上物料传递，进而避免物料偏移，保证加工精度。

根据本发明的一种实施方式，吸附组件包括吸附基体，吸附基体配置有安装槽，安装槽的顶部配置有吸附盘，吸附盘为多孔质结构；吸附盘将安装槽的顶部封闭；吸附基体的内部与外接泵体相连通，用于对吸附盘的底部进行抽吸。

安装槽的内部配置有定位盘和定位柱，定位盘套设在定位柱的外部，定位盘设于吸附盘的下方，并且定位盘配置有孔体，定位柱的顶部与吸附盘的底部相连。

吸附盘的上表面用于放置物料，由此，通过外接泵体抽吸安装槽内部的气体，由于吸附盘的多孔质结构，表现为对吸附盘底部的抽吸，从而可保证物料与吸附盘稳稳贴合，可避免移动过程中因惯性而导致的错位、偏移。

定位盘与定位柱的设置，可提高吸附盘位置的精准度。定位盘的外缘与安装槽的内壁抵接，并且定位盘固定设置，可避免定位柱倾斜或移位，避免定位柱相对于吸附基体的轴线发生偏移，这样也相对的确保上部的吸附盘的平面度。

外接泵体的抽吸端设于定位盘的下方，如此，在利用外接泵体对安装槽内部的气体进行抽吸的过程中，定位盘上开设的多个孔体对经由吸附盘吸入安装槽的气流有整流效果，利用均匀分布的孔体提高气流的均匀性和稳定性，可避免紊流气流向外接泵体排出造成的气流排出不稳定，从而避免吸附盘吸附力不均匀的问题。

根据本发明的一种实施方式，吸附盘包括内外套设的内盘体和外盘体，外盘体的外侧与吸附基体的内壁之间配置有橡胶环。

进一步的，外盘体包括多个拼接配合的弧形板，安装槽的内部设有升降杆，升降杆的固定端与安装槽的槽底相连，升降杆的活动端与弧形板的底部相连；内盘体与外盘体的上表面均配置有柔性柱；多个柔性柱均匀分布；并且设于外盘体上方的多个柔性柱由内至外高度递减。

由此，吸附盘设置为内盘体与外盘体套设的结构，外盘体的内壁与内盘体的外缘铰接，利用升降杆可实现外盘体的翻动，从而利用外盘体能够对放置在吸附盘上方的物料提供一个向内的推力，从而可助于提高物料的居中性。

柔性柱的设置，一方面利用柔性柱的弹性形变削弱物料取放过程中的振动能量，降低碰撞过程中的磨损，另一方面，柔性柱使得物料与吸附盘上表面之间形成间隙，通过柔性柱与外接泵体的配合，可避免因吸力过大导致的物料与吸附盘贴合过紧。

外盘体上方的多个柔性柱越靠近外盘体外缘，其高度越低，如此在外盘体上下翻动过程中仍可保证物料摆放的水平度。进一步的，吸附组件配置有水平度检测传感器，用于对吸附盘及其上方物料的水平度进行检测。在物料倾斜的状态下，可驱动升降杆运作，调整外盘体的角度，进而调整物料的摆放姿态，进而提高加工精度。另外，外盘体有多个弧形板拼接形成，可实现独立翻动，有助于辅助调整物料的姿态。

此外，利用可活动的外盘体与柔性柱以及外接泵体的配合，可降低物料移动的难度：在外接泵体停止运作的过程中，外盘体上下摆动可以快速消除吸附盘对物料的吸附力，使物料与柔性柱之间产生松动，如此，在吸附盘底部的吸力逐渐减弱的过程中，在柔性柱的弹性作用下，物料可小幅度上移，可便于物料的移动。

进一步的，升降杆也可与定位盘配合，利用定位盘对升降杆限位，并提高升降杆的稳定性。

根据本发明的一种实施方式，减振组件包括上下对应设置的第一支撑环和第二支撑环，第一支撑环与第二支撑环之间配置有支撑轴，支撑轴倾斜设置，并且支撑轴的一个末端与第一支撑环铰接，支撑轴的另一个末端与第二支撑环弹性连接。

多个支撑轴首尾配合，即相邻设置的两个支撑轴之间形成一定的夹角。一般的，相邻设置的两个支撑轴呈V型或倒V型结构。

由此，利用支撑轴使得第一支撑环与第二支撑环之间形成一定的间距，从而将吸附组件与气浮台分隔开来，避免气浮台周边的气流影响吸附组件上的物料的稳定性，利用第一支撑环、第二支撑环与支撑轴的配合实现减振的效果。受外力影响，支撑轴能够调整倾斜角度，吸收并消耗振动能量，并在此过程中调整第一支撑环的水平度。

根据本发明的一种实施方式，支撑轴与第二支撑环之间配置有弹性件，弹性件包括条形的弹性板，弹性板的一端通过装夹块等组件与第二支撑环固定连接，弹性板的另一端通过弹性套与第二支撑环相连；支撑轴远离第一支撑环的一端与弹性板相连并与弹性套对应设置。

由此，利用弹性件的配合能够实现对支撑轴倾斜角度的调节。设于底部的第二支撑环受到振动后，现将振动力传递至弹性套，弹性套通过自身的弹性吸收部分振动能量，并将部分振动能量通过弹性板传递至夹角配合的支撑轴，多个支撑轴配合，将剩余的振动能量向上传递至第一支撑环。在此过程中，由于第一支撑环与第二支撑环的限制，使得多个支撑轴之间互相影响，其中一个支撑轴的倾斜角度的变化可影响其他支撑轴的状态，并在此过程中改变其余弹性套和弹性板的状态，通过多个支撑轴与多个弹性套、弹性板的相互影响提高减振效果。

第一支撑环、第二支撑环接受振动力的影响，振动能量在其中的传递是同步的，利用多个支撑轴与弹性件的配合，可确保减振组件上方的吸附组件与下方的气浮台之间的平行度，从而确保即使在振动状态下的物料也始终处于水平状态，避免产生倾斜。

根据本发明的一种实施方式，第一支撑环与第二支撑环均为拼接结构，第一支撑环包括多个第一支撑单体，第二支撑环包括多个第二支撑单体，多个第一支撑单体与多个第二支撑单体均为弧形结构；第一支撑单体与第二支撑单体一一对应设置；相邻两个第一支撑单体之间以及相邻两个第二支撑单体之间通过连接基块连接；第一支撑单体与第二支撑单体之间配置有两个支撑轴，并且这两个支撑轴呈倒V型设置。

优选的，第一支撑环包括三个第一支撑单体，第二支撑环包括三个第二支撑单体。相应的，第一支撑环与第二支撑环之间配置六个支撑轴。

如此，第二支撑环受到振动后，通过弹性套、弹性板将振动力传递至支撑轴，六个支撑轴向上传递振动能量，并在第一支撑环上形成三个位点，这三个位点构成一个平面，并且由于第一支撑环、第二支撑环的限制，使得这三个位点构成的平面同步上下移动，如此可确保在振动状态下第一支撑环始终处于水平状态，没有倾斜，从而提高其上方的吸附组件以及物料的平面度。

根据本发明的一种实施方式，气浮台的侧方配置有辅助支撑件，辅助支撑件的下方对应设置辅助滑轨，辅助滑轨与气浮导轨平行设置；辅助支撑件能够随气浮台上下浮动；辅助支撑件包括辅助板和滚动件，滚动件可滚动的设于辅助板的下方，气浮轴承驱动气浮台上下浮动能够带动滚动件贴近或远离辅助滑轨。

由此，在气浮轴承断气、气浮台下落的过程中，利用辅助支撑件可起到一定的缓冲作用。并且，辅助支撑件在下落的过程中，由于滚动件的设置使得向下的冲击力通过滚动件的转动得以转化，提高缓冲效果。

附图说明

图1为根据本发明实施例1的纳米精度光刻气浮运动台的结构示意图；

图2为图1所示吸附组件的结构示意图；

图3为图2所示吸附组件的内部结构示意图；

图4为图3中A部的局部放大示意图；

图5为图1所示减振组件的结构示意图；

图6为图5所示弹性套的结构示意图；

图7为根据本发明实施例2的纳米精度光刻气浮运动台的部分结构示意图；

图8为图7所示纳米精度光刻气浮运动台的侧视图；

图9为图8中B部的局部放大示意图；

图10为图9所示滚动件的结构示意图；

图11为图10所示滚动件的剖面结构示意图。

附图标号：承重台10；气浮导轨11；气浮台12；第一基面13；吸附组件20；吸附基体21；安装槽22；吸附盘23；内盘体24；外盘体25；弧形板251；橡胶环26；柔性柱31；升降杆32；定位柱33；定位盘34；孔体35；减振组件40；第一支撑环41；第一支撑单体411；第二支撑环42；第二支撑单体421；支撑轴43；弹性板44；装夹块45；弹性套46；辅助支撑件51；辅助滑轨52；支撑壳体61；辅助板62；弹性连接件63；滚动件64；滚动基体65；滚轮66；限位槽67；滚珠68。

具体实施方式

以下结合具体实施方式和附图对本发明的技术方案作进一步详细描述。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例1

图1~图6示意性的显示了根据本发明一实施方式的纳米精度光刻气浮运动台。如图所示，本装置包括承重台10，承重台10的上表面设有沿长度方向延伸的气浮导轨11，以及与气浮导轨11活动配合的气浮台12。气浮台12与直线电机的动子配合，在直线电机的驱动下，气浮台12能够沿气浮导轨11直线往复移动。气浮台12与气浮轴承相配合，气浮轴承用于实现气浮台12相对于气浮导轨11处于悬浮状态；气浮台12的上方配置有吸附组件20，用于吸附物料；吸附组件20与气浮台12之间配置有减振组件40。

吸附组件20包括吸附基体21，吸附基体21配置有安装槽22，安装槽22的顶部配置有吸附盘23，吸附盘23的上表面用于放置物料。吸附盘23为多孔质结构，将安装槽22的顶部封闭；吸附基体21的内部与外接泵体相连通，用于对吸附盘23的底部进行抽吸。

吸附盘23包括内外套设的内盘体24和外盘体25，外盘体25的外侧与吸附基体21的内壁之间配置有橡胶环26。外盘体25包括多个拼接配合的弧形板251，安装槽22的内部设有升降杆32，升降杆32的固定端与安装槽22的槽底相连，升降杆32的活动端与弧形板251的底部相连。吸附盘23设置为内盘体24与外盘体25套设的结构，外盘体25的内壁与内盘体24的外缘铰接，利用升降杆32可实现外盘体25的翻动，从而利用外盘体25能够对放置在吸附盘23上方的物料提供一个向内的推力，从而可助于提高物料的居中性。

安装槽22的内部配置有定位盘34和定位柱33，定位柱33以及升降杆32均套设在定位盘34的内部，定位盘34设于吸附盘23的下方，并且定位盘34配置有孔体35，定位柱33的顶部与内盘体24的底部相连。

外接泵体的抽吸端设于定位盘34的下方，如此，在利用外接泵体对安装槽22内部的气体进行抽吸的过程中，定位盘34上开设的多个孔体35对经由吸附盘23吸入安装槽22的气流有整流效果，利用均匀分布的孔体35提高气流的均匀性和稳定性，可避免紊流气流向外接泵体排出造成的气流排出不稳定，从而避免吸附盘23吸附力不均匀的问题。

定位盘34与定位柱33的设置，可提高吸附盘23位置的精准度。定位盘34的外缘与安装槽22的内壁抵接，并且定位盘34固定设置，可避免定位柱33倾斜或移位，避免定位柱33相对于吸附基体21的轴线发生偏移，这样也相对的确保上部的吸附盘23的平面度。

内盘体24与外盘体25的上表面均配置有柔性柱31；多个柔性柱31均匀分布；并且设于外盘体25上方的多个柔性柱31由内至外高度递减。柔性柱31的设置，一方面利用柔性柱31的弹性形变削弱物料取放过程中的振动能量，降低碰撞过程中的磨损，另一方面，柔性柱31使得物料与吸附盘23上表面之间形成间隙，通过柔性柱31与外接泵体的配合，可避免因吸力过大导致的物料与吸附盘23贴合过紧。外盘体25上方的多个柔性柱31越靠近外盘体25外缘，其高度越低，如此在外盘体25上下翻动过程中仍可保证物料摆放的水平度。

进一步的，吸附组件20配置有水平度检测传感器，用于对吸附盘23及其上方物料的水平度进行检测。在物料倾斜的状态下，可驱动升降杆32运作，调整外盘体25的角度，进而调整物料的摆放姿态，进而提高加工精度。另外，外盘体25有多个弧形板251拼接形成，可实现独立翻动，有助于辅助调整物料的姿态。

此外，利用可活动的外盘体25与柔性柱31以及外接泵体的配合，可降低物料移动的难度：在外接泵体停止运作的过程中，外盘体25上下摆动可以快速消除吸附盘23对物料的吸附力，使物料与柔性柱31之间产生松动，如此，在吸附盘23底部的吸力逐渐减弱的过程中，在柔性柱31的弹性作用下，物料可小幅度上移，可便于物料的移动。

减振组件40包括上下对应设置的第一支撑环41和第二支撑环42，第一支撑环41与第二支撑环42之间配置有支撑轴43，支撑轴43倾斜设置，并且支撑轴43的一个末端与第一支撑环41铰接，支撑轴43的另一个末端与第二支撑环42弹性连接。

第一支撑环41与第二支撑环42均为拼接结构，第一支撑环41包括三个第一支撑单体411，第二支撑环42包括三个第二支撑单体421。第一支撑单体411与第二支撑单体421均为弧形结构，并且三个第一支撑单体411与三个第二支撑单体421一一对应设置。相邻两个第一支撑单体411之间以及相邻两个第二支撑单体421之间通过连接基块连接；第一支撑单体411与第二支撑单体421之间配置有两个支撑轴43，且这两个支撑轴43呈倒V型设置。

支撑轴43与第二支撑环42之间配置有弹性件，弹性件包括条形的弹性板44，弹性板44的一端通过装夹块45等组件与第二支撑环42固定连接，弹性板44的另一端通过弹性套46与第二支撑环42相连；支撑轴43远离第一支撑环41的一端与弹性板44相连并与弹性套46对应设置。

利用弹性件的配合能够实现对支撑轴43倾斜角度的调节。设于底部的第二支撑环42受到振动后，现将振动力传递至弹性套46，弹性套46通过自身的弹性吸收部分振动能量，并将部分振动能量通过弹性板44传递至夹角配合的支撑轴43，多个支撑轴43配合，将剩余的振动能量向上传递至第一支撑环41。在此过程中，由于第一支撑环41与第二支撑环42体的限制，使得多个支撑轴43之间互相影响，其中一个支撑轴43的倾斜角度的变化可影响其他支撑轴43的状态，并在此过程中改变其余弹性套46和弹性板44的状态，通过多个支撑轴43与多个弹性套46、弹性板44的相互影响提高减振效果。

此外，本实施例中，第一支撑环41与第二支撑环42之间设置六个支撑轴43，六个支撑轴43两两配合，在向上传递振动能量的过程中在第一支撑环41上形成三个位点，这三个位点构成一个平面，并且由于第一支撑环41、第二支撑环42的限制，使得这三个位点构成的平面同步上下移动，如此可确保在振动状态下第一支撑环41始终处于水平状态，没有倾斜，从而提高其上方的吸附组件20以及物料的平面度。

实施例2

图7~图11示意性的显示了根据本发明另一实施方式的纳米精度光刻气浮运动台，与实施例1的不同之处在于：

气浮台12的侧方设有第一基面13，气浮台12的侧方配置有辅助支撑件51，为提高效果，辅助支撑件51贴合第一基面13设置。辅助支撑件51的下方对应设置辅助滑轨52，辅助滑轨52与气浮导轨11平行设置；辅助支撑件51能够随气浮台12上下浮动；辅助支撑件51包括辅助板62和滚动件64，滚动件64可滚动的设于辅助板62的下方，气浮轴承驱动气浮台12上下浮动能够带动滚动件64贴近或远离辅助滑轨52。由此，在气浮轴承断气、气浮台12下落的过程中，利用辅助支撑件51可起到一定的缓冲作用。

辅助支撑件51还包括支撑壳体61，支撑壳体61的下方设有开口，开口与辅助滑轨52对应设置，辅助板62与滚动件64均设于支撑壳体61的内部。并且，辅助板62的上表面还配置有弹性连接件63，用以与支撑壳体61的内顶面弹性连接，从而在气浮台12上下移动的过程中，利用弹性连接件63的弹性实现缓冲。

滚动件64包括环状的滚动基体65，滚动基体65的内部套设有滚轮66，滚轮66能够相对于滚动基体65转动，滚轮66为橡胶或硅胶材质。滚动基体65嵌设在辅助板62的下表面，并且，滚动基体65能够相对于辅助板62进行旋转运动。并且滚轮66与滚动基体65的旋转轴垂直设置。例如，本实施例中，嵌设在滚轮66基体内部的滚轮66能够绕水平方向的轴线转动，滚动基体65绕竖直方向的轴线转动。

具体的，辅助板62的下表面配置有装配槽，滚动基体65嵌设在装配槽内，并可在装配槽的内部旋转。滚动基体65的外侧壁上配置有限位槽67，限位槽67内嵌设有滚珠68。滚珠68与装配槽的内壁滚动连接。

一般的，限位槽67可设置为一个独立的环状槽体，该环状槽体沿滚动基体65的外壁环绕设置，多个滚珠68彼此贴合嵌设在限位槽67的内部。此外，限位槽67还可设置为多个孔槽，多个孔槽圆周阵列分布在滚动基体65的外壁，单独的孔槽内部嵌设一个或一个以上的滚珠68。

在气浮轴承没有充气的状态下，气浮台12在没有气体支撑的情况下会下降并与气浮导轨11接触，在此过程中，辅助支撑件51随气浮台12同步下落，滚动件64与辅助滑轨52接触，并且滚动件64采用橡胶等弹性材质，还可在与辅助滑轨52抵接后产生一定的弹性形变。如此，通过辅助支撑件51的设置可避免气浮台12下落过于迅速导致的碰撞摩擦风险，提高缓冲效果。

在气浮轴承充气的状态下，气浮台12带动辅助支撑件51向上浮动，并使得滚动件64脱离辅助滑轨52，形成间距，确保高效的气浮移动效果。

滚动件64中，滚动基体65在滚珠68的配合下能够绕竖直轴线旋转，滚动基体65内部的滚轮66能够绕水平轴线旋转。如此，在气浮台12水平高速下降的过程中，滚动件64向下的冲击力传动方向能够通过滚动件64转化，并可利用滚动基体65与滚轮66的配合调整气浮台12侧方的气体流动。

在气浮轴承没有充气状态下，通过贴合第一基面13设置的辅助支撑件51以及与之对应的辅助滑轨52，可调整气浮台12的位置，可确保气浮台12下落后相对于气浮导轨11的间距是一致的，这样在气浮轴承充气工作的时候，不会因两侧的气浮轴承相对于气浮导轨11间距不一致而产生冲击振动，也就是能够保证气浮轴承充气的时候能够带动气浮台12平稳的向上浮动。

本发明的操作步骤中的常规操作为本领域技术人员所熟知，在此不进行赘述。

以上所述的实施例对本发明的技术方案进行了详细说明，应理解的是以上所述仅为本发明的具体实施例，并不用于限制本发明，凡在本发明的原则范围内所做的任何修改、补充或类似方式替代等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.纳米精度光刻气浮运动台，包括气浮台（12）与气浮导轨（11），所述气浮台（12）能够沿所述气浮导轨（11）直线往复移动，所述气浮台（12）与气浮轴承相配合，所述气浮轴承用于实现所述气浮台（12）相对于所述气浮导轨（11）处于悬浮状态；其特征在于，

所述气浮台（12）的上方配置有吸附组件（20）；所述吸附组件（20）与所述气浮台（12）之间配置有减振组件（40）；

所述吸附组件（20）包括吸附基体（21），所述吸附基体（21）配置有安装槽（22），所述安装槽（22）的顶部配置有吸附盘（23），所述吸附盘（23）为多孔质结构；所述吸附基体（21）的内部与外接泵体相连通，用于对吸附盘（23）的底部进行抽吸；

所述吸附盘（23）包括内外套设的内盘体（24）和外盘体（25），所述外盘体（25）包括多个拼接配合的弧形板（251），所述安装槽（22）的内部设有升降杆（32），所述升降杆（32）的固定端与所述安装槽（22）的槽底相连，所述升降杆（32）的活动端与所述弧形板（251）的底部相连；所述内盘体（24）与所述外盘体（25）的上表面均配置有柔性柱（31）；多个所述柔性柱（31）均匀分布；并且设于所述外盘体（25）上方的多个柔性柱（31）由内至外高度递减。

2.根据权利要求1所述的纳米精度光刻气浮运动台，其特征在于，

所述安装槽（22）的内部配置有定位盘（34）和定位柱（33），所述定位盘（34）套设在所述定位柱（33）的外部，所述定位盘（34）设于所述吸附盘（23）的下方，并且所述定位盘（34）配置有孔体（35），所述定位柱（33）的顶部与所述吸附盘（23）的底部相连。

3.根据权利要求2所述的纳米精度光刻气浮运动台，其特征在于，

所述外盘体（25）的外侧与所述吸附基体（21）的内壁之间配置有橡胶环（26）。

4.根据权利要求1所述的纳米精度光刻气浮运动台，其特征在于，

所述减振组件（40）包括对应设置的第一支撑环（41）和第二支撑环（42），所述第一支撑环（41）与所述第二支撑环（42）之间配置有支撑轴（43），所述支撑轴（43）倾斜设置，并且所述支撑轴（43）的一个末端与所述第一支撑环（41）铰接，所述支撑轴（43）的另一个末端与所述第二支撑环（42）弹性连接。

5.根据权利要求4所述的纳米精度光刻气浮运动台，其特征在于，

所述支撑轴（43）与所述第二支撑环（42）之间配置有弹性件，所述弹性件包括弹性板（44），所述弹性板（44）的一端与所述第二支撑环（42）固定连接，所述弹性板（44）的另一端通过弹性套（46）与所述第二支撑环（42）相连。

6.根据权利要求4所述的纳米精度光刻气浮运动台，其特征在于，

所述第一支撑环（41）与所述第二支撑环（42）均为拼接结构，所述第一支撑环（41）包括多个第一支撑单体（411），所述第二支撑环（42）包括多个第二支撑单体（421），所述第一支撑单体（411）与所述第二支撑单体（421）一一对应设置；

所述第一支撑单体（411）与所述第二支撑单体（421）之间配置有两个所述支撑轴（43），所述两个支撑轴（43）呈倒V型设置。

7.根据权利要求1所述的纳米精度光刻气浮运动台，其特征在于，

所述气浮台（12）的侧方配置有辅助支撑件（51），所述辅助支撑件（51）的下方对应设置辅助滑轨（52），所述辅助滑轨（52）与所述气浮导轨（11）平行设置；

所述辅助支撑件（51）包括辅助板（62）和滚动件（64），所述滚动件（64）可滚动的设于所述辅助板（62）的下方。