CN117059532A - 一种刻蚀设备 - Google Patents
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Abstract
本发明属于半导体技术领域，公开了一种刻蚀设备，刻蚀设备包括刻蚀主体、匀气组件、静电吸盘、调节环和驱动组件，刻蚀主体包括反应室，匀气组件、静电吸盘、调节环均设置于反应室内；匀气组件和静电吸盘沿竖直方向由上至下依次间隔设置，调节环设置有至少一个且设置于匀气组件和静电吸盘之间，匀气组件、静电吸盘以及调节环之间形成有导流空间，驱动组件与调节环连接，驱动组件用于驱动调节环沿竖直方向移动。本发明提供的刻蚀设备，通过调节调节环的位置，进而改变导流空间的聚拢效果，实现对导流空间内的压强调节，通过压强的变化实现对作用于待刻蚀产品上的等离子体密度的调节，以保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种刻蚀设备。
背景技术
电容耦合等离子（Capacitively Coupled Plasma，简称CCP），由电容及电路耦合形成的一种高效的等离子体。原理上，通过电路和离子化学的特性，使气体形成电容耦合等离子体场，实现等离子体效应。
目前，电容耦合等离子的实际应用范围很广，例如保护清洁分解材料、净化空气、合成新物质、改变化学性质、与其他的物理过程相结合的离子反应等，具有良好的市场前景，尤其用于芯片产品制造刻蚀的工艺。
现有技术中，针对不同材质和结构的产品，需要调节等离子体的轰击力度，在保证等离子体的轰击力度适应相对应的产品的条件下，作用于产品上的等离子体的密度可能会降低，影响对产品的刻蚀均匀性，因此亟需一种刻蚀设备以解决上述技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种刻蚀设备，能调节作用于产品上的等离子体密度，保证产品刻蚀的均匀性。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
提供一种刻蚀设备，包括：
刻蚀主体，包括反应室；
匀气组件，设置于所述反应室内；
静电吸盘，设置于所述反应室内，所述匀气组件和所述静电吸盘沿竖直方向由上至下依次间隔设置，所述静电吸盘用于固定待刻蚀产品；
至少一个调节环，沿竖直方向并排设置于所述匀气组件和所述静电吸盘之间，所述匀气组件、所述静电吸盘以及所述调节环之间形成有导流空间，气体能经所述匀气组件流动至所述导流空间并被电离成等离子体以作用于所述静电吸盘上的所述待刻蚀产品；
驱动组件，与所述调节环连接，所述驱动组件用于驱动所述调节环沿竖直方向移动，以使相邻的所述调节环之间、所述匀气组件与所述调节环之间、所述静电吸盘与所述调节环之间中的至少一处形成有排气通道。
可选地，所述驱动组件包括：
第一转环，设置于所述刻蚀主体的顶部，所述第一转环沿周向设置有多个第一导向部；
多个传动杆，所述传动杆的第一端与所述第一导向部一一对应连接，所述传动杆的第二端沿竖直方向滑动穿设所述刻蚀主体并与所述调节环连接，所述传动杆能带动所述调节环沿竖直方向移动；
第一驱动件，设置于所述刻蚀主体上，所述第一驱动件用于驱动所述第一转环绕竖直方向轴转动以通过所述第一导向部带动对应的所述传动杆沿竖直方向滑动。
可选地，所述第一导向部设置为导向槽，所述导向槽沿所述第一转环的周向延伸且朝竖直方向倾斜设置；
所述传动杆的第一端连接有滑动头，所述滑动头滑动设置于所述导向槽内。
可选地，所述调节环包括：
第一调节环，所述第一调节环与所述传动杆的第二端固定连接；
第二调节环，设置于所述第一调节环与所述匀气组件之间，所述第二调节环滑动套设于所述传动杆上；
多个限位套A，所述限位套A一一对应套设于所述传动杆上，所述限位套A与所述第二调节环固定连接，所述限位套A的外壁上设置有挡环板A；以及
所述刻蚀主体上设置有多个与所述传动杆一一对应的滑孔，所述滑孔内设置有环形槽，所述滑孔内滑动设置对应的所述传动杆，所述环形槽内设置所述挡环板A。
可选地，所述传动杆包括外套件和内杆件，所述外套件转动套设于所述内杆件上，所述内杆件的第一端与对应的所述第一导向部连接；
所述驱动组件还包括第二驱动件，所述第二驱动件用于驱动所述外套件相对于所述内杆件绕竖直方向轴转动；以及
所述调节环包括：
第一调节环，与所述内杆件的第二端固定连接；
第二调节环，设置于所述第一调节环与所述匀气组件之间，所述第二调节环滑动套设于所述内杆件上；
多个限位套B，所述限位套B一一对应套设于所述外套件上，所述限位套B与所述第二调节环固定连接，所述限位套B设置有第二导向部，所述第二导向部与所述外套件连接，所述外套件相对于所述内杆件绕竖直方向轴转动能通过所述第二导向部带动所述第二调节环沿竖直方向移动。
可选地，所述第二导向部设置为第一导向环，所述第一导向环设置于所述限位套B的内壁上；
所述外套件的周部设置有第二导向环，所述第二导向环位于所述第二调节环与对应的所述第一导向环之间；其中，
所述第一导向环的下表面设置有第一导向斜面，所述第二导向环的上表面设置有第二导向斜面，所述第二导向斜面相对于所述第一导向斜面滑动能带动所述第二调节环沿竖直方向移动。
可选地，所述刻蚀主体上设置有多个与所述传动杆一一对应的滑孔，所述滑孔内设置有环形槽，所述滑孔内滑动设置对应的所述传动杆；
所述限位套B上设置有挡环板B，所述挡环板B设置于所述环形槽内。
可选地，所述外套件和所述内杆件之间设置有杆内弹性件。
可选地，所述传动杆和所述刻蚀主体之间设置有杆外弹性件。
可选地，还包括：
排气主体，设置于所述刻蚀主体的底部，所述排气主体设置有环形腔和与所述环形腔连通的排气管，所述环形腔与所述反应室连通设置；
控制阀，与所述排气管连通设置，所述控制阀用于控制所述排气管的开度。
有益效果
本发明提供的刻蚀设备，气体经匀气组件流动至导流空间并被电离成等离子体以作用于静电吸盘上的待刻蚀产品且经排气通道脱离导流空间，导流空间具有聚拢效果，使导流空间内的压强高于反应室其他区域，且通过驱动组件驱动调节环沿竖直方向移动，以调节调节环的位置，进而改变导流空间的聚拢效果，实现对导流空间内的压强调节，通过压强的变化实现对作用于待刻蚀产品上的等离子体密度的调节，以保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。
附图说明
图1是本发明提供的刻蚀设备的内部结构示意图；
图2是本发明提供的刻蚀设备一局部剖视图；
图3是本发明提供的驱动组件的一种实施方式的结构剖视图；
图4是本发明提供的刻蚀设备部分结构示意图；
图5是本发明提供的刻蚀设备的一视角结构示意图；
图6是本发明提供的驱动组件的另一种实施方式的结构剖视图；
图7是本发明提供的刻蚀设备的另一视角结构示意图。
图中：
100、刻蚀主体；101、反应室；102、导流空间；103、排气通道；104、滑孔；1041、环形槽；1042、让位槽；1043、密封槽；105、进气腔；106、排气孔；107、门孔；110、第一密封圈；120、密封盖；130、第二密封圈；141、门板；142、第三驱动件；
200、匀气组件；210、匀气盘；211、通气孔；212、容纳槽；213、环形压边；220、固定环；230、环形压块；
300、静电吸盘；
400、调节环；410、第一调节环；411、第一孔；420、第二调节环；421、第二孔；430、限位套A；431、挡环板A；440、紧固件；450、滑套；460、限位套B；461、第二导向部；4611、第一导向斜面；462、挡环板B；
500、驱动组件；510、传动杆；511、滑动头；512、转接头；513、外套件；5131、第二导向斜面；514、内杆件；515、齿圈件；520、第一转环；521、第一导向部；5211、导向槽；530、第一驱动件；531、主动带轮；532、同步带；541、杆外弹性件；542、垫圈；543、杆内弹性件；551、位置传感器；552、感应件；561、第一限位轮；562、第二限位轮；563、第三限位轮；564、支撑环；
600、排气主体；601、环形腔；610、排气管；
700、控制阀。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
参照图1至图2所示，本实施例提供了一种刻蚀设备，包括刻蚀主体100、匀气组件200、静电吸盘300、调节环400和驱动组件500。
具体地，刻蚀主体100包括反应室101，匀气组件200、静电吸盘300、调节环400均设置于反应室101内；匀气组件200和静电吸盘300沿竖直方向由上至下依次间隔设置，静电吸盘300用于固定待刻蚀产品；调节环400设置有至少一个且设置于匀气组件200和静电吸盘300之间，当调节环400设置有两个或两个以上时，调节环400沿竖直方向并排设置。其中，匀气组件200、静电吸盘300以及调节环400之间形成有导流空间102，气体能经匀气组件200流动至导流空间102并被电离成等离子体以作用于静电吸盘300上的待刻蚀产品。其中，图1中的a方向为竖直方向。其中，图2中的箭头方向为气体的流动方向。其中，气体被电离成等离子体的具体原理和结构为现有技术，且非本申请重点，此次不再赘述。
进一步具体地，驱动组件500与调节环400连接，驱动组件500用于驱动调节环400沿竖直方向移动，以使相邻的调节环400之间、匀气组件200与调节环400之间、静电吸盘300与调节环400之间中的至少一处形成有排气通道103。
在本实施例中，气体经匀气组件200流动至导流空间102并被电离成等离子体以作用于静电吸盘300上的待刻蚀产品且经排气通道103脱离导流空间102，导流空间102具有聚拢效果，使导流空间102内的压强高于反应室101其他区域，且通过驱动组件500驱动调节环400沿竖直方向移动，以调节调节环400的位置，进而改变导流空间102的聚拢效果，实现对导流空间102内的压强调节，通过压强的变化实现对作用于待刻蚀产品上的等离子体密度的调节，以保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。
示例性地，调节环400的材质可以为陶瓷。在本实施例中，调节环400的表面可以喷涂三氧化二钇涂层，以防止颗粒物沉积并且增加调节环400的耐刻蚀性，提高调节环400的使用寿命。调节环400采用陶瓷材料并且表面喷涂三氧化二钇涂层设计，可以防止颗粒物沉积并且增加零件耐刻蚀性，从而增加零件的使用时间。
于本实施例中，参照图3至图4所示，驱动组件500包括传动杆510、第一转环520和第一驱动件530。其中，第一转环520设置于刻蚀主体100的顶部，第一转环520沿周向设置有多个第一导向部521；传动杆510设置有多个，传动杆510的第一端与第一导向部521一一对应连接，传动杆510的第二端沿竖直方向滑动穿设刻蚀主体100并与调节环400连接，传动杆510能带动调节环400沿竖直方向移动；第一驱动件530设置于刻蚀主体100上，第一驱动件530用于驱动第一转环520绕竖直方向轴转动以通过第一导向部521带动对应的传动杆510沿竖直方向滑动。在本实施例中，通过第一驱动件530驱动第一转环520绕竖直方向轴转动以带动所有的传动杆510沿竖直方向滑动，进而带动调节环400沿竖直方向移动，通过多个传动杆510的设计，有效保证调节环400移动的稳定性。此外，第一转环520的设计能为刻蚀主体100的顶部的其他构件形成让位，以使刻蚀设备更加紧凑。
具体地，传动杆510绕竖直方向间隔设置，以避让匀气组件200。
示例性地，传动杆510设置三至八个，例如四个或六个。
在一种可行的实施方式中，第一导向部521可以设置为导向槽5211，导向槽5211沿第一转环520的周向延伸且朝竖直方向倾斜设置。示例性地，导向槽5211可以呈螺旋状。进一步地，传动杆510的第一端连接有滑动头511，滑动头511滑动设置于导向槽5211内。在本实施例中，第一转环520绕竖直方向轴转动，以使滑动头511相对于导向槽5211滑动，在导向槽5211的导向下，滑动头511带动传动杆510沿竖直方向移动，进而实现调节环400沿竖直方向的位置调整，结构简单，传动可靠稳定，且具有较好的精度。
示例性地，为使刻蚀设备的结构更加紧凑，将传动杆510设置于第一转环520的下方，传动杆510的第一端设置有转接头512，转接头512延伸至导向槽5211处并连接滑动头511。
示例性地，滑动头511可以为滚轮，以使传动杆510的动作更为顺畅。
在一种可行的实施方式中，传动杆510和刻蚀主体100之间设置有杆外弹性件541，杆外弹性件541使传动杆510始终具有竖直朝上滑动的趋势，即使滑动头511始终与导向槽5211的上孔壁贴合设置，有效保证传动精度。示例性地，传动杆510的第一端为阶梯状，传动杆510上套设有垫圈542，垫圈542抵靠于传动杆510的第一端的阶梯面上，杆外弹性件541的第一端抵靠于垫圈542上，传动杆510的第二端抵靠于刻蚀主体100上。
示例性地，杆外弹性件541可以为弹簧。
在一种可行的实施方式中，第一导向部521可以设置为滑轨，传动杆510的第一端连接有与滑轨滑动连接的滑块。当然，第一导向部521还可以为其他结构形式的，本申请不做具体限定。
于本实施例中，第一驱动件530可以为电机。
在一种可行的实施方式中，第一驱动件530的输出轴设置有主动带轮531，主动带轮531与第一转环520之间设置有同步带532，同步带532的两端固定于第一转环520上，即第一转环520上不设带轮，以使刻蚀设备结构紧凑。在另一种可行的实施方式中，第一驱动件530的输出轴设置有主动齿轮，第一转环520上可以设置与主动齿轮啮合的半齿环，以使刻蚀设备结构紧凑。当然，第一驱动件530与第一转环520的驱动连接方式还可以为其他形式的，本申请不做具体限定。
当然，第一驱动件530还可以为其他驱动件，例如气缸、电动缸等，本申请不做具体限定。
在一种可行的实施方式中，刻蚀主体100的顶部还设置有多个位置传感器551，第一转环520上设置有感应件552，通过位置传感器551识别感应件552以实现第一转环520的精确定位，且提高刻蚀设备运行的安全性。示例性地，位置传感器551可以为槽型传感器，感应件552可以为片状体，其中，位置传感器551可以于感应件552的转动路径上间隔设置有多个，例如二至六个。此外，位置传感器551的位置可以调整，以方便刻蚀设备的调试。
于本实施例中，参照图5所示，刻蚀主体100的顶部绕竖直方向间隔设置有多个第一限位轮561，多个第一限位轮561设置于第一转环520的内侧且与第一转环520的内环面贴合设置，以对第一转环520形成水平方向的限位，且使第一转环520能绕竖直方向轴转动。
进一步地，刻蚀主体100的顶部设置有多个第二限位轮562和多个第三限位轮563，多个第二限位轮562和多个第三限位轮563分别绕竖直方向间隔设置，且多个第二限位轮562设置于第一转环520的顶部且与第一转环520的面贴合设置，且多个第三限位轮563设置于第一转环520的底部且与第一转环520的顶面贴合设置，以对第一转环520形成沿竖直方向的定位。
进一步地，刻蚀主体100的顶部设置有支撑环564，支撑环564的顶端设置有环形凸起，第一转环520套设于环形凸起上，且第一限位轮561、第二限位轮562和第三限位轮563均设置于支撑环564上，方便组装，且结构紧凑。
在一些实施例中，参照图3所示，调节环400包括第一调节环410、第二调节环420和限位套A430。其中，第一调节环410与传动杆510的第二端固定连接；第二调节环420设置于第一调节环410与匀气组件200之间，第二调节环420滑动套设于传动杆510上；限位套A430设置有多个，限位套A430一一对应套设于传动杆510上，限位套A430与第二调节环420固定连接，限位套A430的外壁上设置有挡环板A431。进一步地，刻蚀主体100上设置有多个与传动杆510一一对应的滑孔104，滑孔104内设置有环形槽1041，滑孔104内滑动设置对应的传动杆510，环形槽1041内设置挡环板A431。其中，挡环板A431背向第二调节环420的一端设置挡环板A431。在本实施例中，传动杆510由上至下滑动依次具有初始位和极限位，当传动杆510由初始位朝极限位滑动的过程中，首先第二调节环420在自重的情况下随第一调节环410下移，直至挡环板A431与环形槽1041的下槽面抵接，随后第一调节环410下滑至极限位，此时，第一调节环410与第二调节环420之间、匀气组件200与第二调节环420之间、静电吸盘300与第一调节环410之间分别形成排气通道103；当传动杆510由极限位朝初始位滑动的过程中，第一调节环410先动作，随传动杆510上移，直至第一调节环410与第二调节环420接触，随后第一调节环410抵推第二调节环420上移。控制第一驱动件530通过第一转环520驱动传动杆510于初始位和极限位之间滑动，进而实现第一调节环410和第二调节环420的位置调节，以改变导流空间102的聚拢效果，实现对导流空间102内的压强调节，以保证作用于待刻蚀产品上的等离子体密度，保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。示例性地，当传动杆510位于初始位时，第一调节环410和第二调节环420可以贴合在一起，也可以间隔设置，本申请不做具体限定。
具体地，第一调节环410通过一紧固件440与传动杆510的第二端连接。进一步具体地，第一调节环410上开设有多个第一孔411，紧固件440一一对应穿设第一孔411并与传动杆510的第二端螺纹连接。示例性地，紧固件440可以为螺钉，紧固件440的头部和传动杆510的第二端端部对第一调节环410形成夹持，以实现第一调节环410与传动杆510的固定连接。示例性地，第一孔411为沉头孔，紧固件440的头部置于第一孔411的沉槽内。
具体地，调节环400还包括多个滑套450，滑套450与限位套A430一一对应并对第二调节环420形成夹持，以实现第二调节环420与限位套A430的固定连接。进一步具体地，第二调节环420上开设有多个第二孔421，滑套450的第一端一一对应穿设第二孔421并滑动套设于传动杆510上，以实现第二调节环420与传动杆510的滑动连接。进一步具体地，滑套450的第二端插接于限位套A430内，其中，滑套450和限位套A430之间可以为螺纹连接。进一步具体地，滑套450的第二端设置有挡边，挡边与限位套A430朝向第二调节环420的一端对第二调节环420形成夹持。示例性地，第二孔421为沉头孔，挡边置于第二孔421的沉槽内。
具体地，滑孔104背向调节环400的一端设置有让位槽1042，让位槽1042的槽底连通设置有密封槽1043，杆外弹性件541设置于让位槽1042内，密封槽1043内设置有至少一个第一密封圈110，以保证反应室101的密封性，让位槽1042的槽底设置有密封盖120，密封盖120用于遮挡抵挡第一密封圈110。
示例性地，当调节环400设置有一个时，即仅包括第一调节环410。
示例性地，当调节环400设置有两个以上时，相邻的调节环400之间的连接方式与第二调节环420与传动杆510的连接方式相同，本申请不做过多赘述。
在另一些实施例中，参照图6所示，传动杆510包括外套件513和内杆件514，外套件513转动套设于内杆件514上，内杆件514的第一端与对应的第一导向部521连接；驱动组件500还包括第二驱动件（未示出），第二驱动件用于驱动外套件513相对于内杆件514绕竖直方向轴转动；以及调节环400包括第一调节环410、第二调节环420和多个限位套B460，第一调节环410与内杆件514的第二端固定连接；第二调节环420设置于第一调节环410与匀气组件200之间，第二调节环420滑动套设于内杆件514上；限位套B460一一对应套设于外套件513上，限位套B460与第二调节环420固定连接，限位套B460设置有第二导向部461，第二导向部461与外套件513连接，外套件513相对于内杆件514绕竖直方向轴转动能通过第二导向部461带动第二调节环420沿竖直方向移动。在本实施例中，传动杆510于初始位与极限位往复滑动，能带动第一调节环410往复移动，第二调节环420在自重的作用下随第一调节环410往复移动，实现第一调节环410和第二调节环420的位置调节，且外套件513相对于内杆件514绕竖直方向轴转动能使第二调节环420沿竖直方向移动，以实现第二调节环420相对于第一调节环410的位置调节，第二调节环420的位置调节更为灵活，对导流空间102内的压强调节更为精确，提高适用性。
在一种可行的实施方式中，第二导向部461可以设置为第一导向环，第一导向环设置于限位套B460的内壁上，外套件513的周部设置有第二导向环，第二导向环位于第二调节环420与对应的第一导向环之间。具体地，第一导向环的下表面设置有第一导向斜面4611，第二导向环的上表面设置有第二导向斜面5131，第二导向斜面5131相对于第一导向斜面4611滑动能带动第二调节环420沿竖直方向移动，稳定可靠。
具体地，第一导向环的下表面设置有至少一个第一凸起，第一凸起的相对的两个侧面中的至少一面设置为第一导向斜面4611；第二导向环的上表面设置有至少一个第二凸起，第二凸起的相对的两个侧面中的至少一面设置为第二导向斜面5131。以第一凸起的相对的两个侧面均设置为第一导向斜面4611，第二凸起的相对的两个侧面均设置为第二导向斜面5131为例，外套件513能相对于内杆件514绕竖直方向正反转。
当然，第二导向部461还可以为其他结构形式的，例如第二导向部461设置为螺旋状导槽，外套件513上固定设置有滑动穿设于螺旋状导槽内的销轴，本申请不做具体限定。
示例性地，内杆件514可以为阶梯轴状，内杆件514的第一端为小端部，内杆件514的第二端为大端部，外套件513转动套设于小端部上，以保证结构紧凑。进一步地，内杆件514和外套件513可以通过轴承转动连接。
在一种可行的实施方式中，外套件513和内杆件514之间设置有杆内弹性件543，杆内弹性件543使外套件513始终具有朝向或背向调节环400移动的趋势，以保证外套件513和内杆件514之间沿竖直方向保持相对的位置固定，有效保证第二调节环420的调节精度。示例性地，杆内弹性件543的第一端抵靠于转接头512上，杆内弹性件543的第二端抵靠于外套件513背向调节环400的一端面上，使外套件513始终具有朝向调节环400移动的趋势。示例性地，杆内弹性件543可以为弹簧。
于本实施例中，驱动组件500还包括第二转环（未示出），第二驱动件用于驱动第二转环绕竖直方向轴转动，以带动外套件513绕竖直方向轴转动。其中，第二转环与刻蚀主体100的连接方式和第一转环520与刻蚀主体100的连接方式可以相同，本申请不做过多赘述。
示例性地，第二驱动件可以为电机，第二驱动件与第二转环的连接方式和第一驱动件530与第一转环520的连接方式可以相同，本申请不做过多赘述。当然，第二驱动件还可以为其他驱动件，例如气缸、电动缸等，本申请不做具体限定。
在一种可行的实施方式中，如图6所示，外套件513可以通过齿轮啮合的方式与第二转环传动连接。示例性地，外套件513上套设有齿圈件515，第二转环上设置有多个与齿圈件515一一对应啮合的齿条件（未示出）。其中，外套件513可以与齿圈件515一体成型，第二转环可以与齿条件一体成型。示例性地，垫圈542可以抵接于齿圈件515上。在本实施例中，齿圈件515的厚度大于齿条件的厚度，以使齿圈件515始终与齿条件保持啮合。在另一种可行的实施方式中，外套件513可以通过连杆结构与第二转环传动连接。示例性地，外套件513上固定连接第一连杆（未示出），第二转环上铰接多个第二连杆（未示出），第二连杆一一对应与第一连杆铰接。
在一种可行的实施方式中，如图6所示，限位套B460上设置有挡环板B462，挡环板B462设置于环形槽1041内。在本实施例中，传动杆510沿竖直方向滑动还具有位于初始位和极限位之间的中间位，外套件513相对于内杆件514绕竖直方向轴转动具有下限位和上限位，当外套件513位于下限位，且传动杆510于初始位与中间位之间时，传动杆510带动第一调节环410移动的过程中，第二调节环420在自重的作用下随第一调节环410移动，且第一调节环410和第二调节环420之间的距离最小；当外套件513位于下限位，且传动杆510于中间位与极限位之间时，挡环板B462与环形槽1041的下槽面抵接，第二调节环420脱离第一调节环410且固定不动，第一调节环410随传动杆510滑动。
于本实施例中，参照图2和图5所示，匀气组件200包括多个沿竖直方向并排设置的匀气盘210，匀气盘210上开设有多个通气孔211，且沿竖直方向由上至下的多个匀气盘210的通气孔211数量依次增多，具有良好的匀气效果，有效保证导流空间102内的压强趋于均匀，以保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。
具体地，刻蚀主体100的顶部形成有进气腔105，刻蚀主体100上开设有至少一个进气孔，进气孔与进气腔105和匀气组件200的通气孔211连通设置，气体依次经进气腔105、进气孔并流至匀气组件200，使匀气组件200的匀气效果更好。
具体地，匀气组件200还包括固定环220，通过固定环220将匀气盘210限位于反应室101的顶部。其中，环形槽1041由固定环220和刻蚀主体100围合而成，固定环220限位挡环板A431或挡环板B462的向下移动。在本实施例中，匀气组件200与相邻的调节环400之间形成的排气通道103可以理解为，固定环220与相邻的调节环400之间形成的排气通道103。
示例性地，固定环220的材质可以为碳化硅，以增加耐刻蚀性。
在一种可行的实施方式中，位于最下方的匀气盘210设置有容纳槽212，容纳槽212的槽底开设通气孔211，其余的匀气盘210设置于容纳槽212内。具体地，位于最下方的匀气盘210设置有环形压边213，固定环220通过一环形压块230挤压环形压边213，以使环形压边213抵靠于反应室101的顶部上，以实现匀气盘210的固定组装。其中，环形压边213与反应室101之间设置有至少一个第二密封圈130，以使位于最下方的匀气盘210和反应室101之间形成有封闭的匀气腔，以使气体依次经进气孔、多个匀气盘210流入至导流空间102内。
于本实施例中，参照图1和图7所示，刻蚀设备还包括排气主体600和控制阀700，排气主体600设置于刻蚀主体100的底部，排气主体600设置有环形腔601和与环形腔601连通的排气管610，环形腔601与反应室101连通设置；控制阀700与排气管610连通设置，控制阀700用于控制排气管610的开度。在本实施例中，通过控制阀700控制排气管610的开度，可以调节反应室101内的压强，进而对导流空间102内的压强也具有调节作用，配合调节环400，可以更精确地调控导流空间102内的压强，以保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。
在一种可行的实施方式中，反应室101的底部环绕静电吸盘300等间隔设置有多个排气孔106，排气孔106与环形腔601连通设置，有效保证导流空间102内的压强均匀性，以保证待刻蚀产品刻蚀的均匀性。
于本实施例中，参照图7所示，刻蚀主体100的一侧设置有与反应室101连通的门孔107，通过门孔107实现产品的上下料。具体地门孔107的外端部设置有门板141，刻蚀主体100上设置有第三驱动件142，第三驱动件142用于驱动门板141移动，以实现门板141对门孔107的封闭与打开。示例性地，第三驱动件142包括但不限于直线电机、电动推杆或气缸。
显然，本发明的上述实施例仅仅是为了清楚说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括：
刻蚀主体（100），包括反应室（101）；
匀气组件（200），设置于所述反应室（101）内；
静电吸盘（300），设置于所述反应室（101）内，所述匀气组件（200）和所述静电吸盘（300）沿竖直方向由上至下依次间隔设置，所述静电吸盘（300）用于固定待刻蚀产品；
至少一个调节环（400），沿竖直方向并排设置于所述匀气组件（200）和所述静电吸盘（300）之间，所述匀气组件（200）、所述静电吸盘（300）以及所述调节环（400）之间形成有导流空间（102），气体能经所述匀气组件（200）流动至所述导流空间（102）并被电离成等离子体以作用于所述静电吸盘（300）上的所述待刻蚀产品；
驱动组件（500），与所述调节环（400）连接，所述驱动组件（500）用于驱动所述调节环（400）沿竖直方向移动，以使相邻的所述调节环（400）之间、所述匀气组件（200）与所述调节环（400）之间、所述静电吸盘（300）与所述调节环（400）之间中的至少一处形成有排气通道（103）。
2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述驱动组件（500）包括：
第一转环（520），设置于所述刻蚀主体（100）的顶部，所述第一转环（520）沿周向设置有多个第一导向部（521）；
多个传动杆（510），所述传动杆（510）的第一端与所述第一导向部（521）一一对应连接，所述传动杆（510）的第二端沿竖直方向滑动穿设所述刻蚀主体（100）并与所述调节环（400）连接，所述传动杆（510）能带动所述调节环（400）沿竖直方向移动；
第一驱动件（530），设置于所述刻蚀主体（100）上，所述第一驱动件（530）用于驱动所述第一转环（520）绕竖直方向轴转动以通过所述第一导向部（521）带动对应的所述传动杆（510）沿竖直方向滑动。
3.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述第一导向部（521）设置为导向槽（5211），所述导向槽（5211）沿所述第一转环（520）的周向延伸且朝竖直方向倾斜设置；
所述传动杆（510）的第一端连接有滑动头（511），所述滑动头（511）滑动设置于所述导向槽（5211）内。
4.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述调节环（400）包括：
第一调节环（410），所述第一调节环（410）与所述传动杆（510）的第二端固定连接；
第二调节环（420），设置于所述第一调节环（410）与所述匀气组件（200）之间，所述第二调节环（420）滑动套设于所述传动杆（510）上；
多个限位套A（430），所述限位套A（430）一一对应套设于所述传动杆（510）上，所述限位套A（430）与所述第二调节环（420）固定连接，所述限位套A（430）的外壁上设置有挡环板A（431）；以及
所述刻蚀主体（100）上设置有多个与所述传动杆（510）一一对应的滑孔（104），所述滑孔（104）内设置有环形槽（1041），所述滑孔（104）内滑动设置对应的所述传动杆（510），所述环形槽（1041）内设置所述挡环板A（431）。
5.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述传动杆（510）包括外套件（513）和内杆件（514），所述外套件（513）转动套设于所述内杆件（514）上，所述内杆件（514）的第一端与对应的所述第一导向部（521）连接；
所述驱动组件（500）还包括第二驱动件，所述第二驱动件用于驱动所述外套件（513）相对于所述内杆件（514）绕竖直方向轴转动；以及
所述调节环（400）包括：
第一调节环（410），与所述内杆件（514）的第二端固定连接；
第二调节环（420），设置于所述第一调节环（410）与所述匀气组件（200）之间，所述第二调节环（420）滑动套设于所述内杆件（514）上；
多个限位套B（460），所述限位套B（460）一一对应套设于所述外套件（513）上，所述限位套B（460）与所述第二调节环（420）固定连接，所述限位套B（460）设置有第二导向部（461），所述第二导向部（461）与所述外套件（513）连接，所述外套件（513）相对于所述内杆件（514）绕竖直方向轴转动能通过所述第二导向部（461）带动所述第二调节环（420）沿竖直方向移动。
6.根据权利要求5所述的刻蚀设备，其特征在于，所述第二导向部（461）设置为第一导向环，所述第一导向环设置于所述限位套B（460）的内壁上；
所述外套件（513）的周部设置有第二导向环，所述第二导向环位于所述第二调节环（420）与对应的所述第一导向环之间；其中，
所述第一导向环的下表面设置有第一导向斜面（4611），所述第二导向环的上表面设置有第二导向斜面（5131），所述第二导向斜面（5131）相对于所述第一导向斜面（4611）滑动能带动所述第二调节环（420）沿竖直方向移动。
7.根据权利要求5所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀主体（100）上设置有多个与所述传动杆（510）一一对应的滑孔（104），所述滑孔（104）内设置有环形槽（1041），所述滑孔（104）内滑动设置对应的所述传动杆（510）；
所述限位套B（460）上设置有挡环板B（462），所述挡环板B（462）设置于所述环形槽（1041）内。
8.根据权利要求5所述的刻蚀设备，其特征在于，所述外套件（513）和所述内杆件（514）之间设置有杆内弹性件（543）。
9.根据权利要求2所述的刻蚀设备，其特征在于，所述传动杆（510）和所述刻蚀主体（100）之间设置有杆外弹性件（541）。
10.根据权利要求1-9任一项所述的刻蚀设备，其特征在于，还包括：
排气主体（600），设置于所述刻蚀主体（100）的底部，所述排气主体（600）设置有环形腔（601）和与所述环形腔（601）连通的排气管（610），所述环形腔（601）与所述反应室（101）连通设置；
控制阀（700），与所述排气管（610）连通设置，所述控制阀（700）用于控制所述排气管（610）的开度。
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