CN117015521A - 1,1,2﹣三氟乙烷的制造方法 - Google Patents

1,1,2﹣三氟乙烷的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明所要解决的技术问题在于:提供一种高效的HFC‑143或HFO‑1132的制造方法。作为其解决方案,提供一种HFC‑143的制造方法,其包括使1,1,2﹣三氟乙烯在催化剂的存在下与还原剂进行还原反应而得到1,1,2﹣三氟乙烷(HFC‑143)的工序。

Description

1,1,2﹣三氟乙烷的制造方法
技术领域
本发明涉及1,1,2﹣三氟乙烷(HFC-143)和1,2﹣二氟乙烯(HFO-1132)的制造方法。
背景技术
已经利用HFC-134a(C2H2F4)、HFC-125(C2HF5)、HFC-32(CH2F2)以及作为HFC-32与HFC-125的混合制冷剂的R410A来替代破坏臭氧层的CFC或HCFC等。
然而,R410A的全球变暖潜能值(GWP)为2088,由于对全球变暖的担忧变高,所以研究了各种能够替代R410A的低GWP制冷剂。
作为这样的替代制冷剂的一种的1,2﹣二氟乙烯(以下,也简称为“HFO-1132”。)的反式体HFO-1132(E)的制造方法,在专利文献1中公开了一种将CH2FX(其中,X为Cl或F。)热分解的方法。
另外,在专利文献2中公开了一种使用卤代乙烷或卤代乙烯制造HFC-142或HFC-143,接着使其脱氟化氢,由此得到HFO-1132的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2013-241348号公报
专利文献2:日本特开2019-196312号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
鉴于上述那样的事实,本发明的目的在于,提供一种高效的HFC-143或HFO-1132的制造方法。
用于解决技术问题的技术方案
本发明包含以下的技术方案。
项1.一种HFC-143的制造方法,其包括使1,1,2﹣三氟乙烯与还原剂进行还原反应而得到1,1,2﹣三氟乙烷(HFC-143)的工序。
项2.如项1所述的制造方法,其中,在100~500℃实施上述还原反应。
项3.如项1或2所述的制造方法,其中,上述还原剂包含氢气。
项4.一种HFO-1132的制造方法,其包括使利用项1~3中任一项所述的制造方法得到的HFC-143脱氟化氢而得到1,2﹣二氟乙烯(HFO-1132)的工序。
发明效果
利用本发明的HFC-143的制造方法,能够高效地得到HFC-143,另外,通过利用其制造方法,能够高效地得到HFO-1132。
附图说明
图1是本发明的HFC-143或HFO-1132的制造工艺的一个例子。
具体实施方式
HFC-143的制造方法
本发明的HFC-143的制造方法包括使1,1,2﹣三氟乙烯与还原剂进行还原反应而得到HFC-143的工序。
1,1,2﹣三氟乙烯能够利用公知的方法获得。例如基于美国专利2802887号所公开的方法,能够得到HFO-1123。具体地例示了:作为原料,使用氯三氟乙烯(以下,称为CTFE),作为催化剂,使用5%载持于活性炭的催化剂,反应温度100℃~160℃、接触时间7~15秒、氢气/CTFE比=0.5~1.0时,能够以高收率得到1,1,2﹣三氟乙烯。
作为所使用的还原剂,可以使用无机系和有机系的还原剂中的任意种,具体可以例示氢气、甲酸、甲酸铵、甲酸钠、甲酸﹣三乙胺、三乙基硅烷、四乙基二硅氧烷、聚甲基氢硅氧烷、NaBH3CN、NHCBH3(N-heterocyclic carbene boranes,N﹣杂环卡宾硼烷)或具有N-H部(亚氨基)的含氮不饱和杂环化合物。其中,作为在催化剂的存在下进行气相还原反应时所使用的还原剂,可以使用氢气、硫化氢、一氧化碳或甲烷等,特别优选使用氢气。
使用氢气作为还原剂时的使用量,相对于1,1,2﹣三氟乙烯1摩尔,优选使氢气为0.5~20摩尔,更优选为1.0~10摩尔。在使用其它还原剂的情况下,相对于1,1,2﹣三氟乙烯1摩尔,优选使还原剂为0.5~30摩尔,更优选为1.0~20摩尔。通过采用这样的构成,含有还原剂的量为必要的量,从而能够抑制催化剂的劣化,以高选择率得到目标物HFC-143。另外,通过不过量地含有还原剂的量,能够降低伴随未反应氢气的回收而造成的产物损失。
本发明的HFC-143的制造方法优选使用催化剂。作为催化剂,可以广泛使用公知的还原催化剂,没有特别限定。具体可以例示Pd、Pt、Rh、Ru或Re等金属、活性炭或氧化铝等金属氧化物、或载持于金属氟化物上而成的催化剂。作为使用催化剂的还原反应机理,已知有在金属表面上使氢原子活化、使其与有机物反应的机理。因此,可以广泛使用具有这样的作用的金属。其中,优选使用Pd或Pt。使用载持催化剂时,金属的载持比例优选为0.1~20质量%,更优选为0.1~10质量%,进一步优选为0.5~5质量%。
利用本发明的HFC-143的制造方法,催化剂的劣化非常少。作为其结果,与上述的专利文献2所公开的发明相比,能够抑制原料供应所产生的生产成本,并且不需要劣化催化剂的再生设备,由此能够缩小设备的尺寸。
本发明的HFC-143的制造方法优选在催化剂的存在下、以气相的方式实施。原因在于:通过以气相的方式进行反应,与液相反应相比,关于产物和未反应原料的回收、催化剂与产物的分离,具有优势。
反应温度优选为100~500℃的范围,更优选为120~400℃,进一步优选为150~300℃。
对于反应时的压力,没有特别限定,可以在减压下、常压下或加压下进行反应。其中,从降低后续的分离工序中的氢气、1,1,2﹣三氟乙烯等原料和作为产物的1,1,2﹣三氟乙烷的损失以及削减运转能量这样的理由考虑,优选在0.1~2MPaG的范围的压力下实施反应。
关于反应时间,将催化剂的重量设为W,将原料供给流量设为F0(F0为0℃、0.1013MPa时的流量)时,优选使W/F0为0.1~60,更优选为1~50。
HFO-1132的制造方法
本发明包括涉及HFO-1132的制造方法的发明,该HFO-1132的制造方法包括使利用上述的HFC-143的制造方法得到的HFC-143脱氟化氢而得到HFO-1132的工序。在该发明中,能够提供HFO-1132的制造方法,例如下述反应式1所示的那样,该制造方法包括:使1,1,2﹣三氟乙烯与还原剂进行反应而得到HFC-143的工序(a);和通过使该工序(a)所得到的HFC-143脱氟化氢而得到HFO-1132的工序(b)。
反应式1
工序(a)
工序(a)使1,1,2﹣三氟乙烯与还原剂在催化剂的存在下进行反应而得到HFC-143。关于工序(a),可以基于上述的HFC-143的制造方法实施。
工序(b)
在工序(b)中,通过使工序(a)所得到的HFC-143脱氟化氢,得到HFO-1132。
优选在工序(b)中使用脱氟化氢催化剂。作为该脱氟化氢催化剂,可以使用对利用氟化氢的氟化反应具有活性的公知的催化剂。例如可以使用氧化铬、氧化氟化铬、氟化铝、氧化氟化铝等金属氧化物、金属氧化氟化物,此外,还可以使用MgF2、TaF5、SbF5等金属氟化物。
在这些催化剂内,例如作为氧化铬,没有特别限定,优选使用在组成式:CrOm中m在1.5<m<3的范围的氧化铬。氧化铬催化剂的形状为粉末状、粒料状等,或者也可以使用适于反应的任意形状的氧化铬,其中,优选粒料状。
优选氧气与HFC-143一起供给反应器。关于氧气的供给量,相对于1摩尔的HFC-143,优选为0.5~20摩尔,更优选为1~10摩尔。通过设定在这样的数值范围内,能够获得能够抑制催化剂的劣化、稳定地进行反应这样的效果。
关于工序(b)的反应温度,作为反应器中的温度,优选为300~500℃,更优选为350~450℃。通过将该反应温度设定为这些充分高的温度,能够确保高的收率。另外,通过使该反应温度为这些过剩的温度以下,能够抑制杂质的生成,能够防止催化剂的结构变化所导致的不可逆的催化剂劣化。
关于反应时的压力,优选为HFC-143能够以气相状态存在的压力,可以为常压下和加压下中的任意种。具体而言,优选在0~1MPaG的压力条件下实施,更优选为0.05MPaG~0.7MPaG。
对于反应时间,没有特别限定,只要使催化剂填充量W(g)与反应系统中流动的原料气体的流量Fo(0℃、大气压0.1013MPa时的流量:cc/sec)的比率:W/Fo所示的接触时间为10~100g·sec/cc左右、优选为20~60g·sec/cc左右的范围即可。
经由工序(b)得到的HFO-1132包括顺式的HFO-1132(Z)和反式的HFO-1132(E)双方。通过适当设定反应条件,能够以HFO-1132总量中的HFO-1132(E)为1~30质量%、优选为5~20质量%这样的高选择率得到。
在专利文献1所公开的方法中,可能发生以热分解反应为特征的高温反应所导致的能量损失,并且副产物的产生过多。另外,HFO-1132(E)的收率非常低。利用本发明的HFO-1132的制造方法,能够以高的收率得到HFO-1132(E)。
工序(c)
工序(b)所得到的HFO-1132包含HFO-1132(E)和HFO-1132(Z)。也优选在工序(b)之后设置作为异构化工序的工序(c),其用于从包含HFO-1132(E)和HFO-1132(Z)的混合物中只得到HFO-1132(E),或者用于提高HFO-1132(E)的含有率。
作为工序(c)中的异构化反应所使用的催化剂,优选使用含有铬原子的催化剂,特别优选氧化铬。作为氧化铬,可以例示结晶质氧化铬和非晶氧化铬等。
作为氧化铬,没有特别限定,例如优选在组成式:CrOm中1.5<m<3、更优选2<m<2.75、进一步优选2<m<2.3的氧化铬。氧化铬催化剂只要适于反应,也可以使用粉末状和粒料状等任意形状的氧化铬。另外,特别优选使用进行了氟化的氧化铬催化剂。氧化铬优选利用无水氟化氢进行前处理。作为前体的氧化铬以及利用无水氟化氢的前处理的方法,例如可以使用日本特开平5-146680号公报(对应美国专利US6337299号公报)所记载的方法。
反应温度没有特别限定,可以适当设定。具体优选为180℃~500℃左右的范围,更优选为200℃~400℃左右的范围。
反应时间没有特别限定,可以适当设定。使接触时间变长时,能够提高转化率,但催化剂使用量变多,需要大的设备,不是有效的。通常,只要使催化剂充填量W(g)与反应系统内流动的原料气体的流量Fo(0℃、1个大气压下的流量:cc/sec)的比率:W/Fo所示的接触时间为10~80g·sec/cc左右、优选20~60g·sec/cc左右的范围即可。
反应器的压力没有特别限定,可以适当设定,压力高时,促进焦油等聚合物的生成,因此可以设定适当的压力。通常,只要为0~1MPaG、优选0~0.5MPaG左右的范围即可。
接着,基于图1对本发明的HFC-143或HFO-1132的制造方法的更具体方法的一个例子进行说明。
如上所述,在工序(a)中,使1,1,2﹣三氟乙烯与还原剂进行反应,得到HFC-143。该工序的目标物为HFC-143,对于其以外的中间体,再循环至反应器中。
在工序(b)中,使HFC-143脱卤化氢,得到HFO-1132。作为催化剂,可以使用氧化铝、氧化铬、或将这些氟化而成的氧化氟化铝、氧化氟化铬催化剂等。氧化氟化铬催化剂可以利用上述所例示的方法进行制备。
在工序(b)中,除了反式﹣1,2﹣二氟乙烯以外,还生成作为顺式-反式异构体的1,2﹣二氟乙烯(Z)。在工序(c)中,通过对含有两种异构体的组合物实施异构化反应,能够得到1,2﹣二氟乙烯(E)。
关于异构化反应,可以在催化剂的存在下、或不存在下进行。另外,通过照射具有紫外至真空紫外区域的波长的光的光反应,也能够进行,根据情况,可以共存光敏化剂进行。这些反应在气相、液相中都能够进行。
另外,优选在各工序中,在没有转变成HFC-143、或HFO-1132的中间体中,能够作为反应原料利用的成分在后续的蒸留工序中分离后,再循环至反应工序中。
以上,对本发明的实施方式进行了说明,但本发明不受这些例子任何限定,当然能够在不脱离本发明的要旨的范围内以各种方式实施。
实施例
以下,基于实施例对本发明的实施方式更具体地进行说明,但本发明并不限定于这些。
(实施例1)
由1,1,2﹣三氟乙烯制造HFC-143/工序(a)
将载持有1.5质量%的Pd的活性炭催化剂填充在1kg、内径50mm的SUS304制反应管内,通过200℃、3小时氮吹扫进行干燥。之后,以300Nml/min供给1,1,2﹣三氟乙烯,并且以1000Nml/min(Nml/min表示0℃、大气压0.1013MPa下的气体流量。)供给氢气,以反应温度200℃、接触时间(W/F0)=20、反应压力0.1MPaG进行还原反应。对出口气体进行水洗后,用氯化钙干燥后,利用装有GS-GASPRO毛细管柱(0.32mm×60m)的GC(岛津制造的GC-2030)进行分析。将每个反应温度下的1,1,2﹣三氟乙烯转化率和HFC-143选择率示于以下的表1中。
[表1]
反应温度(℃) 1,1,2﹣三氟乙烯转化率 HFC-143选择率
150 56 100
200 70 100
250 82 97
300 93 93
(实施例2)
由HFC-143制造HFO-1132/工序(b)
作为氟化催化剂,使用对组成式:CrO2所示的氧化铬实施氟化处理而得到的催化剂,将该催化剂10g(氟含量约15.0质量%)填充在内径15mm、长度1m的管状哈氏合金制反应器内。将该反应管在大气压(0.1013MPa)下维持在400℃,以15.0Nml/min的流速供给HFC-143。接触时间W/Fo为40.0g·sec/Nml。反应开始4小时后,HFC-143的转化率为98%,HFO-1132的选择率为89%。HFO-1132的2种异构体1,2﹣二氟乙烯(E)与1,2﹣二氟乙烯(Z)的摩尔比率(1,2﹣二氟乙烯(E)/1,2﹣二氟乙烯(Z))为19/81。
(实施例3)
异构化反应/工序(c)
与实施例2中所使用的催化剂同样,使用对CrO2所示的氧化铬实施氟化处理而得到的催化剂,将该催化剂10g填充在外径12.7mm、长度700mm的反应器内,进行异构化反应。为了防止催化剂的劣化,在1,2﹣二氟乙烯(Z)中添加氮气、氧气,将所得到的原料气体以6~10Nml/min的速度供给反应器内,在反应温度250~300℃进行异构化反应。将反应的结果示于表1中。
[表2]

Claims (4)

1.一种HFC-143的制造方法,其特征在于:
包括使1,1,2﹣三氟乙烯与还原剂进行还原反应而得到1,1,2﹣三氟乙烷(HFC-143)的工序。
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:
在100~500℃实施所述还原反应。
3.如权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于:
所述还原剂包含氢气。
4.一种HFO-1132的制造方法,其特征在于:
包括使利用权利要求1~3中任一项所述的制造方法得到的HFC-143脱氟化氢而得到1,2﹣二氟乙烯(HFO-1132)的工序。
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