CN116949533A - 一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺 - Google Patents
一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116949533A CN116949533A CN202310397877.8A CN202310397877A CN116949533A CN 116949533 A CN116949533 A CN 116949533A CN 202310397877 A CN202310397877 A CN 202310397877A CN 116949533 A CN116949533 A CN 116949533A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sealing agent
- aluminum alloy
- sealing
- anodic oxidation
- agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 177
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 72
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims abstract description 52
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 104
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 19
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000002455 scale inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 claims abstract description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 18
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 12
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 12
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 12
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 12
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 claims description 9
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000011684 sodium molybdate Substances 0.000 claims description 8
- 235000015393 sodium molybdate Nutrition 0.000 claims description 8
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N sodium molybdate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 claims description 7
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- -1 polyoxyethylene Polymers 0.000 claims description 6
- ZIWRUEGECALFST-UHFFFAOYSA-M sodium 4-(4-dodecoxysulfonylphenoxy)benzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)c1ccc(Oc2ccc(cc2)S([O-])(=O)=O)cc1 ZIWRUEGECALFST-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 claims description 6
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 claims description 6
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 claims description 6
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 6
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 6
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229940078487 nickel acetate tetrahydrate Drugs 0.000 claims description 5
- OINIXPNQKAZCRL-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Ni+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OINIXPNQKAZCRL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 claims description 4
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 claims description 4
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- YDEXUEFDPVHGHE-GGMCWBHBSA-L disodium;(2r)-3-(2-hydroxy-3-methoxyphenyl)-2-[2-methoxy-4-(3-sulfonatopropyl)phenoxy]propane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].COC1=CC=CC(C[C@H](CS([O-])(=O)=O)OC=2C(=CC(CCCS([O-])(=O)=O)=CC=2)OC)=C1O YDEXUEFDPVHGHE-GGMCWBHBSA-L 0.000 claims description 4
- OPGYRRGJRBEUFK-UHFFFAOYSA-L disodium;diacetate Chemical compound [Na+].[Na+].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPGYRRGJRBEUFK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 4
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 claims description 4
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 claims description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000017454 sodium diacetate Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 claims description 4
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- JXRVKYBCWUJJBP-UHFFFAOYSA-L calcium;hydrogen sulfate Chemical compound [Ca+2].OS([O-])(=O)=O.OS([O-])(=O)=O JXRVKYBCWUJJBP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);trisulfate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 3
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- RRIWRJBSCGCBID-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O RRIWRJBSCGCBID-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229940116202 nickel sulfate hexahydrate Drugs 0.000 claims description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 3
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TWHFLJSUZZJTQY-UHFFFAOYSA-N prop-1-enylthiourea Chemical compound CC=CNC(N)=S TWHFLJSUZZJTQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 claims description 3
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 3
- HEBRGEBJCIKEKX-UHFFFAOYSA-M sodium;2-hexadecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O HEBRGEBJCIKEKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 claims description 2
- LRFCRLLTPYGEKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.OC(=O)C(O)C(O)C(O)=O LRFCRLLTPYGEKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims description 2
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- 229920001732 Lignosulfonate Polymers 0.000 claims description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 2
- TVCNPFFNYUZMGE-UHFFFAOYSA-N benzyl(dodecyl)azanium;bromide Chemical compound Br.CCCCCCCCCCCCNCC1=CC=CC=C1 TVCNPFFNYUZMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- NKWPZUCBCARRDP-UHFFFAOYSA-L calcium bicarbonate Chemical compound [Ca+2].OC([O-])=O.OC([O-])=O NKWPZUCBCARRDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000020 calcium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 claims description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 claims description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims description 2
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims description 2
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- MYHXWQZHYLEHIU-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.OC(=O)C(O)=O MYHXWQZHYLEHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 claims description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 235000011083 sodium citrates Nutrition 0.000 claims description 2
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 2
- KVCOOBXEBNBTGL-UHFFFAOYSA-H ytterbium(3+);trisulfate Chemical compound [Yb+3].[Yb+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O KVCOOBXEBNBTGL-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 2
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 claims 1
- YAECNLICDQSIKA-UHFFFAOYSA-L calcium;sulfanide Chemical compound [SH-].[SH-].[Ca+2] YAECNLICDQSIKA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 238000004901 spalling Methods 0.000 claims 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000004227 thermal cracking Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 229920006197 POE laurate Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229940079886 disodium lauryl sulfosuccinate Drugs 0.000 description 1
- KHIQYZGEUSTKSB-UHFFFAOYSA-L disodium;4-dodecoxy-4-oxo-3-sulfobutanoate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(S(O)(=O)=O)CC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(S(O)(=O)=O)CC([O-])=O KHIQYZGEUSTKSB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M sodium;dodecane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCS([O-])(=O)=O DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
- C25D11/24—Chemical after-treatment
- C25D11/246—Chemical after-treatment for sealing layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
本发明涉及一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺。第一步预封孔剂，包括以下重量百分比的各组分：盐镍5‑15％，促进剂3‑12％，表面活性剂0.1‑1％，pH缓冲剂0.5‑5％，缓蚀剂0.05‑1％，阻垢剂0.05‑1％，余量为去离子水；第二步预封孔剂，包括以下重量百分比的各组分：主剂5‑15％，辅剂0.5‑3％，表面活性剂0.05‑1％，缓蚀剂0.1‑1％，抑灰剂0.1‑3％，余量为去离子水。铝合金阳极氧化封孔工艺包括以下步骤：S1、铝合金前处理及阳极氧化；S2、第一步预封孔；S3、第二步预封孔；S4、含镍中高温封孔；S5、后处理及水洗烘干。本发明提供的抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺有以下有益效果：通过独有的两步预封孔并结合含镍中高温封孔，可有效防止铝氧化膜在高温制程如PVD加工、丝印等过程中的膜裂。
Description
技术领域
本发明属于金属表面腐蚀防护处理技术领域，具体涉及一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺
背景技术
铝及其合金具有良好的导热性、导电性、无磁性、无低温脆性、反光性强、色泽美观、耐蚀性好、比重轻，以及可塑性和成形性好等优点，是一种具有优良综合性能的有色金属材料，也是目前在实际生活中应用最广泛的金属之一。铝及其合金表面在空气中容易生成一层极薄的氧化膜，有一定的抗腐蚀能力，但由于这层氧化膜是非晶体的，致使其膜不紧密、孔隙多，无光泽，且具有硬度低，不耐磨、抗蚀能力差、易发生晶间腐蚀等缺点，影响其应用范围和使用寿命。但经阳极氧化处理后，可以避短扬长，具有以下几方面优点:(1)防护性:提高工件的耐磨，耐蚀，耐气候腐蚀；(2)装饰性:可以改变色泽及表面处理效果；(3)绝缘性:每微米厚度可耐25V电压；(4)提高与有机覆盖层的结合力:作为电镀底层；(5)提高与有机涂层的结合力:作为涂装底层。有基于此，铝及其合金阳极氧化工艺可广泛应用于建筑、航天、电气、电子、食品、化工、医药、机械及交通运输等领域。
在上述领域的工业生产中，铝及其合金阳极氧化工艺所得制品经常还需要经过PVD、注塑、丝印、热熔胶焊接等后段工艺，以满足产品的外观以及功能性方面的需求，这就使铝合金氧化膜要经过一定时间和温度的高温过程。然而，铝合金热膨胀系数与热传系数是铝氧化膜的5-10倍，这两种材料相互紧靠、连接在一起。温度升高时铝合金膨胀较大，而铝氧化膜却不能达到相应的程度，从而使氧化膜因热应力的影响而产生裂纹。铝氧化膜裂纹产生后，会导致工件的耐蚀性能显著下降，因为有裂纹的地方，会更容易受到空气中酸汽、碱汽以及其它一些混合的腐蚀性气体的侵蚀，从而使工件寿命缩短。虽然有些裂纹不明显，需要一定的辅助手段才能看到，但有些严重的裂纹却肉眼可见，这也对产品的外观造成了较大的影响，严重时甚至导致产品报废。
现有专利文献CN102304743B公开了一种铝及铝合金表面电化学氧化膜封孔方法，其是以中温封孔加高温水合封孔结合进行的，但是这种方法所用的原料含氟，不利于当前废水处理和环保要求；而且此方法封孔后的氧化膜仅能通过85℃以下耐热裂测试，无法满足现在动辄120℃至150℃左右的高温热裂测试。因此，如何使铝氧化膜能够经受得住更高温度的烘烤和热裂测试是目前铝合金氧化行业中亟需解决的一个难题。
发明内容：
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺，以解决目前铝合金氧化膜耐热裂测试的问题。经本发明处理工艺得到的铝合金氧化膜，具有良好的抗高温膜裂能力和耐蚀性。
为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
本技术方案的第一个目的是提供一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂，包括以下重量份的各组分：
(1)第一步预封孔剂：镍盐5-15％，促进剂3-12％，表面活性剂0.1-1％，pH缓冲剂0.5-5％，缓蚀剂0.05-1％，阻垢剂0.05-1％，余量为去离子水。
(2)第二步预封孔剂：主剂5-15％，辅剂0.5-3％，表面活性剂0.05-1％，缓蚀剂0.1-1％，抑灰剂0.1-3％，余量为去离子水。
优选的，第一步预封孔剂中，所述的镍盐选自四水合醋酸镍、六水硫酸镍中的一种或组合。
优选的，第一步预封孔剂中，所述的促进剂选自硫酸镁、硫酸钴、亚硫酸氢钙、磷酸氢钙、磷酸钙、碳酸氢钙、硫酸氢钙中的一种或组合。
优选的，第一步预封孔剂中，所述的表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠、十六烷基苯磺酸钠、月桂基磺化琥珀酸单酯二钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、月桂酸聚氧乙烯酯、聚乙二醇中的一种或组合。
优选的，第一步预封孔剂中，所述的pH缓冲剂为醋酸、醋酸钠、双醋酸钠、硼酸、柠檬酸钠中的一种或组合。
优选的，第一步预封孔剂中，所述的缓蚀剂为钼酸钠、葡萄糖酸钠、硫脲、丙烯基硫脲、苯并三氮唑、巯基苯并噻唑、三乙醇胺、六次甲基四胺中的一种或组合。
优选的，第一步预封孔剂中，所述的阻垢剂为糊精、木质素磺酸钠、酒石酸钾钠、EDTA-2Na、聚丙烯酸(分子量2000-4000)中的一种或组合。
优选的，第二步预封孔剂中，所述的主剂为硫酸镁、硫酸铈、硫酸锂、硫酸锆、硫酸镱中的一种或组合。
优选的，第二步预封孔剂中，所述的辅剂为硅酸钾、硅酸钾钠、硅酸锂、硅酸季铵中的一种或组合。
优选的，第二步预封孔剂中，所述的表面活性剂为烷基苯磺酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠、月桂基磺化琥珀酸单酯二钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、木质素磺酸盐中的一种或组合。
优选的，第二步预封孔剂中，所述的缓蚀剂为十二烷基磺酸钠、十二烷基苄基溴化铵、硫脲、聚丙烯酸钠、钼酸钠、葡萄糖酸钠中的一种或组合。
优选的，第二步预封孔剂中，所述的抑灰剂为羟基羧酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、氨基磺酸、十二烷基苯磺酸、甲基磺酸、水杨酸中的一种或组合。
本技术方案的第二个目的是提供一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂的封孔工艺，包括以下步骤：
S1、将前处理后的铝合金工件进行阳极氧化，形成膜厚为5-15μm的氧化膜；
S2、将阳极氧化后的铝合金工件水洗干净，浸渍于浓度为10-30％的第一步预封孔剂中进行封孔2-10min；
S3、将做完第一步预封孔的铝合金氧化工件用40-70度热水清洗干净后，浸渍于浓度为10-30％的第二步预封孔剂中进行封孔10-20min；
S4、将做完第二步预封孔的铝氧化工件用50-80度热水清洗干净后，浸渍于镍盐中高温封孔剂中继续封孔20-50min；
S5、将封孔完毕后的工件进行必要的后处理以及水洗、烘干。
优选的，步骤S1中所述的阳极氧化方法包括硫酸阳极氧化、硫酸-酒石酸阳极氧化、硫酸-草酸阳极氧化、草酸阳极氧化中的任意一种。
优选的，步骤S2中所述的水洗方法包括浸泡水洗、鼓气水洗、超声波水洗中的一种或组合，所用的水为去离子水。
优选的，步骤S2中所述的封孔剂温度为70-85℃，pH值为5.0-6.5。
优选的，步骤S3中所述的封孔剂温度为75-95℃，pH值为9.0-11.0。
优选的，步骤S4中所述的镍盐中高温封孔剂的浓度为5-15g/L,pH值为5.0-6.5,封孔温度为70-99度。
优选的，步骤S5中所述的后处理方法包括除灰、超声波水洗中的一种或组合。
相比于现有技术，本发明的有益效果在于：两步预封孔中所含的金属离子和无机盐能够在预封孔步骤中通过水合反应快速地、优先地填充到铝合金氧化膜底部，并利用其较高的膨胀系数和热传系数，拉近与铝合金本体膨胀系数和热传系数的差别，进而控制住了铝合金氧化膜在高温烘烤、PVD加工、注塑、丝印等高温环境中的膜裂问题；两步预封孔后的镍盐中高温辅助封孔，使氧化膜封闭更加完全，提高了氧化膜的耐蚀性；本发明所用的封孔剂和封孔工艺性能稳定，操作简单，能显著提高产品良率，适于批量产品的稳定生产；不含铬、氟等元素，安全环保，废水处理简单。
附图说明：
图1为实施例1预封孔工艺处理的工件经烘烤和显色后放大50倍图片。
图2为实施例1预封孔工艺处理的工件经烘烤和显色后放大200倍图片。
图3为实施例2预封孔工艺处理的工件经烘烤和显色后放大50倍图片。
图4为实施例2预封孔工艺处理的工件经烘烤和显色后放大200倍图片。
图5为对比例1预封孔工艺处理的工件经烘烤和显色后放大50倍图片。
图6为对比例1预封孔工艺处理的工件经烘烤和显色后放大200倍图片。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明，但不以任何形式限制本发明。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。
实施例1
所用原料及重量份含量如下:
第一步预封孔剂：四水合醋酸镍8％，硫酸镁5％，十二烷基苯磺酸钠0.3％，烷基酚聚氧乙烯醚0.1％，醋酸钠3％，钼酸钠0.4％，木质素磺酸钠0.2％，余量为去离子水；
第二步预封孔剂：硫酸镁8％，硅酸锂1％，十二烷基二苯醚二磺酸钠0.3％，脂肪醇聚氧乙烯醚0.1％,葡萄糖酸钠0.3％，酒石酸0.5％，余量为去离子水。
上述铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺，包括以下步骤：
将前处理后的铝合金工件在硫酸浓度为180g/L、温度18℃、电压14V的氧化槽进行阳极氧化，形成膜厚为10μm的氧化膜；
将阳极氧化后的铝合金工件水洗干净，浸渍于浓度为20％的第一步预封孔剂中进行封孔3min，封孔剂温度为80℃，pH值为5.5；
将做完第一步预封孔的铝合金氧化工件用45度热水清洗干净后，浸渍于浓度为20％的第二步预封孔剂中进行封孔15min，封孔剂温度为85℃，pH值为10.5；
将做完第二步预封孔的铝氧化工件用75度热水清洗干净后，浸渍于奥野封孔剂DX500中继续封孔35min，封孔剂温度为95℃，pH值为5.6；
将封孔完毕后的工件水洗、烘干。
实施例2
所用原料及重量份含量如下:
第一步预封孔剂：四水合醋酸镍10％，硫酸镁3％，十六烷基苯磺酸钠0.5％，脂肪醇聚氧乙烯醚0.2％，双醋酸钠5％，钼酸钠0.5％，木质素磺酸钠0.2％，余量为去离子水；
第二步预封孔剂：硫酸铈5％，硅酸钾钠0.5％，月桂基磺化琥珀酸单酯二钠0.2％，脂肪醇聚氧乙烯醚0.1％,葡萄糖酸钠0.4％，酒石酸0.6％，余量为去离子水。
上述铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺，包括以下步骤：
将前处理后的铝合金工件在硫酸浓度为85g/L、酒石酸浓度为65g/L、温度20℃、电压20V的氧化槽进行阳极氧化，形成膜厚为10μm的氧化膜；
将阳极氧化后的铝合金工件水洗干净，浸渍于浓度为18％的第一步预封孔剂中进行封孔4min，封孔剂温度为75℃，pH值为5.4；
将做完第一步预封孔的铝合金氧化工件用50度热水清洗干净后，浸渍于浓度为22％的第二步预封孔剂中进行封孔13min，封孔剂温度为80℃，pH值为10.3；
将做完第二步预封孔的铝氧化工件用70度热水清洗干净后，浸渍于奥野封孔剂DX500中继续封孔40min，封孔剂温度为96℃，pH值为5.5；
将封孔完毕后的工件水洗、烘干。
实施例3
所用原料及重量份含量如下:
第一步预封孔剂：四水合醋酸镍10％，硫酸钴3％，十二烷基二苯醚二磺酸钠0.4％，月桂酸聚氧乙烯酯0.2％，双醋酸钠4％，硫脲0.5％，酒石酸钾钠0.5％，余量为去离子水；
第二步预封孔剂：硫酸镁10％，硅酸锂0.5％，烷基苯磺酸钠0.4％,烷基酚聚氧乙烯醚0.2％，钼酸钠0.3％，氨基磺酸0.4％，余量为去离子水。
上述铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺，包括以下步骤：
将前处理后的铝合金工件在硫酸浓度为30g/L、草酸浓度为30g/L、温度28℃、电压35V的氧化槽进行阳极氧化，形成膜厚为12μm的氧化膜；
将阳极氧化后的铝合金工件水洗干净，浸渍于浓度为22％的第一步预封孔剂中进行封孔5min，封孔剂温度为85℃，pH值为5.5；
将做完第一步预封孔的铝合金氧化工件用60度热水清洗干净后，浸渍于浓度为15％的第二步预封孔剂中进行封孔15min，封孔剂温度为90℃，pH值为10.0；
将做完第二步预封孔的铝氧化工件用75度热水清洗干净后，浸渍于奥野封孔剂DX500中继续封孔30min，封孔剂温度为97℃，pH值为5.7；
将封孔完毕后的工件水洗、烘干。
实施例4
所用原料及重量份含量如下:
第一步预封孔剂：六水硫酸镍15％，硫酸钴5％，月桂基磺化琥
珀酸单酯二钠0.3％，脂肪醇聚氧乙烯醚0.1％，柠檬酸钠3％，丙烯基硫脲0.7％，酒石酸钾钠0.5％，余量为去离子水；
第二步预封孔剂：硫酸镁15％，硅酸钾0.7％，月桂基磺化琥珀酸单酯二钠0.5％,烷基酚聚氧乙烯醚0.1％，钼酸钠0.5％，氨基磺酸0.5％，余量为去离子水。
上述铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺，包括以下步骤：
将前处理后的铝合金工件在硫酸浓度为70g/L、酒石酸浓度为70g/L、温度20℃、电压20V的氧化槽进行阳极氧化，形成膜厚为11μm的氧化膜；
将阳极氧化后的铝合金工件水洗干净，浸渍于浓度为25％的第一步预封孔剂中进行封孔7min，封孔剂温度为80℃，pH值为5.8；
将做完第一步预封孔的铝合金氧化工件用55度热水清洗干净后，浸渍于浓度为25％的第二步预封孔剂中进行封孔17min，封孔剂温度为85℃，pH值为9.5；
将做完第二步预封孔的铝氧化工件用70度热水清洗干净后，浸渍于奥野封孔剂DX500中继续封孔35min，封孔剂温度为98℃，pH值为5.5；
将封孔完毕后的工件水洗、烘干。
对比例1
与实施例1不同的是：铝合金工件经前处理与氧化之后，不过两步预封孔，按照常规工艺，直接进入市售奥野封孔剂DX500封孔槽内进行封孔。
其他处理方法完全同实施例1，这里不再赘述。
对比例2
与实施例2不同的是：铝合金工件经前处理与氧化之后，不过两步预封孔，按照常规工艺，直接进入市售奥野封孔剂DX500封孔槽内进行封孔。
其他处理方法完全同实施例2，这里不再赘述。
对上述实施例1～4和对比例1～2得到的铝合金氧化工件进行氧化膜耐热裂检测。
将上述工件放入烤箱，烘烤温度120-130度，烘烤时间2小时。
待工件冷却后，依照GBT12967.5-2013第5部分硫酸铜溶液显色法将工件进行显色处理，具体结果如下表：
| 实施例 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 对比例1 | 对比例2 |
| 结果 | 无膜裂 | 无膜裂 | 无膜裂 | 无膜裂 | 有膜裂 | 有膜裂 |
上述对实施例的描述是为便于该技术领域的普通技术人员能理解和使用发明。熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对这些实施例做出各种修改,并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此，本发明不限于上述实施例，本领域技术人员根据本发明的揭示，不脱离本发明范畴所做出的改进和修改都应该在本发明的保护范围之内。
Claims (19)
1.一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂，其特征在于，包括以下重量百分比的各组分：
(1)第一步预封孔剂：镍盐5-15％，促进剂3-12％，表面活性剂0.1-1％，pH缓冲剂0.5-5％，缓蚀剂0.05-1％，阻垢剂0.05-1％，余量为去离子水。
(2)第二步预封孔剂：主剂5-15％，辅剂0.5-3％，表面活性剂0.05-1％，缓蚀剂0.1-1％，抑灰剂0.1-3％，余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第一步预封孔剂中，所述的镍盐选自四水合醋酸镍、六水硫酸镍中的一种或组合。
3.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第一步预封孔剂中，所述的促进剂选自硫酸镁、硫酸钴、亚硫酸氢钙、磷酸氢钙、磷酸钙、碳酸氢钙、硫酸氢钙中的一种或组合。
4.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第一步预封孔剂中，所述的表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠、十六烷基苯磺酸钠、月桂基磺化琥珀酸单酯二钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、月桂酸聚氧乙烯酯、聚乙二醇中的一种或组合。
5.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第一步预封孔剂中，所述的pH缓冲剂为醋酸、醋酸钠、双醋酸钠、硼酸、柠檬酸钠中的一种或组合。
6.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第一步预封孔剂中，所述的缓蚀剂为钼酸钠、葡萄糖酸钠、硫脲、丙烯基硫脲、苯并三氮唑、巯基苯并噻唑、三乙醇胺、六次甲基四胺中的一种或组合。
7.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第一步预封孔剂中，所述的阻垢剂为糊精、木质素磺酸钠、酒石酸钾钠、EDTA-2Na、聚丙烯酸(分子量2000-4000)中的一种或组合。
8.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第二步预封孔剂中，所述的主剂为硫酸镁、硫酸铈、硫酸锂、硫酸锆、硫酸镱中的一种或组合。
9.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第二步预封孔剂中，所述的辅剂为硅酸钾、硅酸钾钠、硅酸锂、硅酸季铵中的一种或组合。
10.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第二步预封孔剂中，所述的表面活性剂为烷基苯磺酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠、月桂基磺化琥珀酸单酯二钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、木质素磺酸盐中的一种或组合。
11.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第二步预封孔剂中，所述的缓蚀剂为十二烷基磺酸钠、十二烷基苄基溴化铵、硫脲、聚丙烯酸钠、钼酸钠、葡萄糖酸钠中的一种或组合。
12.根据权利要求1所述的一种铝合金阳极氧化预封孔剂，其特征在于，第二步预封孔剂中，所述的抑灰剂为羟基羧酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、氨基磺酸、十二烷基苯磺酸、甲基磺酸、水杨酸中的一种或组合。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂的封孔工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将前处理后的铝合金工件进行阳极氧化，形成膜厚为5-15μm的氧化膜；
S2、将阳极氧化后的铝合金工件水洗干净，浸渍于浓度为10-30％的第一步预封孔剂中进行封孔2-10min；
S3、将做完第一步预封孔的铝合金氧化工件用40-70度热水清洗干净后，浸渍于浓度为10-30％的第二步预封孔剂中进行封孔10-20min；
S4、将做完第二步预封孔的铝氧化工件用50-80度热水清洗干净后，浸渍于镍盐中高温封孔剂中继续封孔20-50min；
S5、将封孔完毕后的工件进行必要的后处理以及水洗、烘干。
14.根据权利要求13所述的封孔工艺，其特征在于，步骤S1中所述的阳极氧化方法包括硫酸阳极氧化、硫酸-酒石酸阳极氧化、硫酸-草酸阳极氧化、草酸阳极氧化中的任意一种。
15.根据权利要求13所述的封孔工艺，其特征在于，步骤S2中所述的水洗方法包括浸泡水洗、鼓气水洗、超声波水洗中的一种或组合，所用的水为去离子水。
16.根据权利要求13所述的封孔工艺，其特征在于，步骤S2中所述的封孔剂温度为70-85℃，pH值为5.0-6.5。
17.根据权利要求13所述的封孔工艺，其特征在于，步骤S3中所述的封孔剂温度为75-95℃，pH值为9.0-11.0。
18.根据权利要求13所述的封孔工艺，其特征在于，步骤S4中所述的镍盐中高温封孔剂的浓度为5-15g/L,pH值为5.0-6.5,封孔温度为70-99度。
19.根据权利要求13所述的封孔工艺，其特征在于，步骤S5中所述的后处理方法包括除灰、超声波水洗中的一种或组合。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310397877.8A CN116949533A (zh) | 2023-04-14 | 2023-04-14 | 一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310397877.8A CN116949533A (zh) | 2023-04-14 | 2023-04-14 | 一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116949533A true CN116949533A (zh) | 2023-10-27 |
Family
ID=88457139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310397877.8A Pending CN116949533A (zh) | 2023-04-14 | 2023-04-14 | 一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116949533A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117845306A (zh) * | 2024-03-07 | 2024-04-09 | 深圳万佳原精化科技股份有限公司 | 一种提高染色铝合金阳极氧化膜耐碱性的封孔工艺 |
-
2023
- 2023-04-14 CN CN202310397877.8A patent/CN116949533A/zh active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117845306A (zh) * | 2024-03-07 | 2024-04-09 | 深圳万佳原精化科技股份有限公司 | 一种提高染色铝合金阳极氧化膜耐碱性的封孔工艺 |
| CN117845306B (zh) * | 2024-03-07 | 2024-05-17 | 深圳万佳原精化科技股份有限公司 | 一种提高染色铝合金阳极氧化膜耐碱性的封孔工艺 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104593793B (zh) | 一种铝和铝合金表面预处理中和液 | |
| CN116949533A (zh) | 一种铝合金阳极氧化抗膜裂预封孔剂及其封孔工艺 | |
| CN109440163B (zh) | 一种铝及铝合金阳极氧化膜无镍封孔剂及其应用 | |
| CN106670235B (zh) | 一种铜铝复合板带的生产方法、铜铝复合板带 | |
| CN102586769B (zh) | 一种无磷金属表面处理剂及其使用方法 | |
| CN105603409A (zh) | 一种铝合金常温碱性无铬钝化液及钝化方法 | |
| CN108950644B (zh) | 7系铝制品阳极氧化膜脱膜剂及脱膜方法 | |
| CN109913926A (zh) | 铝合金阳极氧化膜封孔剂及其封孔方法 | |
| CN107059026A (zh) | 一种铝合金材料的表面处理方法 | |
| CN109056028B (zh) | 一种铝及铝合金阳极氧化后处理液及其制备方法 | |
| KR20090007081A (ko) | 전도성 양극산화피막 형성방법 | |
| CN102732870A (zh) | 铝型材表面制备Al-Mo-Mn-Re四元复合钝化膜的处理液及其使用方法 | |
| CN112519099B (zh) | 一种注塑前铝合金表面处理方法 | |
| CN103422051A (zh) | 去除铜镍/铝石墨复合封严涂层材料的方法 | |
| CN110804754A (zh) | 一种铝高光手机中框表面阳极氧化膜脱膜剂及其脱膜方法 | |
| CN109536941B (zh) | Az31b镁合金金黄色转化膜处理剂及az31b镁合金表面处理方法 | |
| WO2024098749A1 (zh) | 一种运载火箭铝基复合材料阳极氧化工艺方法 | |
| CN109280922A (zh) | 一种钢件化学镀镍磷合金膜层化学退镀的工艺方法 | |
| CN110923711A (zh) | 一种压铸铝零件表面处理工艺 | |
| CN114921829A (zh) | 铝合金阳极氧化成膜方法 | |
| CN112281166B (zh) | 一种高温环保碱砂铝型材表面处理工艺 | |
| CN110205618B (zh) | 一种短流程制备镁合金表面高硬度膜层的方法 | |
| CN102181851A (zh) | 镁合金表面涂装的无水前处理方法 | |
| CN109536970A (zh) | 一种铝和铝合金表面预处理中和液及其制备方法 | |
| CN105331266A (zh) | 一种铝型材涂装前处理剂 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |