CN116917123A - 转印膜以及导体图案的制造方法 - Google Patents

Abstract

一种转印膜及其应用，所述转印膜依次包含临时支承体、转印层以及保护膜，在25℃下的上述转印层的上述保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa。

Description

转印膜以及导体图案的制造方法

技术领域

本发明涉及一种转印膜以及导体图案的制造方法。

背景技术

转印膜广泛用于光刻法等各种的图案形成方法中。通常，转印膜包含转印层。例如在使用转印膜的图案形成方法中，转印层通过转印到对象物(例如，基板)配置在对象物上。配置在对象物上的转印层例如能够经过曝光以及显影形成图案。

下述的专利文献1公开有转印膜，所述转印膜具备支承膜和由设置在支承膜上的特定的感光性树脂组合物组成的感光性树脂层。

专利文献1：日本特开2020-086238号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

然而，在使用以往的转印膜的图案形成方法中，分辨性有时因以下原因而降低。例如通过贴合转印膜和对象物来实施转印层转印到对象物。但是，若转印层与对象物的密合性低，则例如显影时显影液侵入转印层与对象物的间隙，有时分辨性下降。而且，在转印膜包含转印层以及保护膜的情况下，从转印膜剥离保护膜的过程中，有时附着在转印层的一部分被剥离的保护膜的表面。即，有时转印层的一部分逐保护膜被去除。若转印层的一部分逐保护膜被去除，则转印层的本来的特性不显现，例如有时分辨性下降。

本发明的一实施方式的目的在于提供一种具有优异的分辨性的转印膜。本发明的另一实施方式的目的在于提供一种使用具有优异的分辨性的转印膜的导体图案的制造方法。

用于解决技术课题的手段

本发明包括以下方式。

<1>一种转印膜，其依次包含临时支承体、转印层以及保护膜，在25℃下的上述转印层的上述保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa。

<2>根据<1>所述的转印膜，其中，在25℃下的上述转印层的上述临时支承体侧的储能模量为1.0×10⁶Pa以上。

<3>根据<1>或<2>所述的转印膜，其中，朝向上述临时支承体的上述转印层的表面的粗糙度Ra为0.1nm～15nm。

<4>根据<1>至<3>中任一项所述的转印膜，其中，朝向上述转印层的上述临时支承体的表面的粗糙度Ra为0.1nm～15nm。

<5>根据<1>至<4>中任一项所述的转印膜，其中，上述转印层为感光层。

<6>根据<1>至<4>中任一项所述的转印膜，其中，上述转印层包括中间层以及感光层。

<7>根据<6>所述的转印膜，其中，上述中间层包含碱溶性树脂以及聚合性化合物，上述中间层中的上述聚合性化合物的质量相对于上述碱溶性树脂的质量之比为0.5以上。

<8>根据<6>或<7>所述的转印膜，其中，上述中间层的厚度为10μm以下。

<9>根据<6>至<8>中任一项所述的转印膜，其中，上述中间层包括热塑性树脂层以及水溶性树脂层。

<10>根据<5>至<9>中任一项所述的转印膜，其中，上述感光层包含碱溶性树脂以及聚合性化合物，上述感光层中的上述聚合性化合物的质量相对于上述碱溶性树脂的质量之比为0.6以上。

<11>根据<5>至<10>中任一项所述的转印膜，其中，上述感光层的厚度为10μm以下。

<12>一种导体图案的制造方法，其依次包括：剥离<1>至<11>中任一项所述的转印膜的保护膜的工序；将上述转印膜与包括金属层的基板进行贴合，在上述基板的上述金属层上依次配置上述转印层以及上述临时支承体的工序；对上述转印层进行曝光的工序；对上述转印层进行显影，形成抗蚀图案的工序；对未覆盖上述抗蚀图案的上述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序；以及剥离上述抗蚀图案的工序。

<13>一种导体图案的制造方法，其依次包括：剥离<1>至<11>中任一项所述的转印膜的保护膜的工序；将上述转印膜与包括金属层的基板进行贴合，在上述基板的上述金属层上依次配置上述转印层以及上述临时支承体的工序；剥离上述临时支承体的工序；对上述转印层进行曝光的工序；对上述转印层进行显影，形成抗蚀图案的工序；对未覆盖上述抗蚀图案的上述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序；以及剥离上述抗蚀图案的工序。

<14>根据<13>所述的导体图案的制造方法，其中，剥离上述临时支承体时的上述临时支承体的剥离强度为0.3mN/mm～2.0mN/mm。

发明效果

根据本发明的一实施方式，提供一种具有优异的分辨性的转印膜。根据本发明的另一实施方式，提供一种使用具有优异的分辨性的转印膜的导体图案的制造方法。

附图说明

图1是表示某一实施方式的转印膜的结构的一例的示意图。

图2是表示图案A的概略俯视图。

图3是表示图案B的概略俯视图。

具体实施方式

以下，对本发明的内容进行说明。另外，虽然参考附图进行说明，但有时省略符号。

在本发明中，使用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。

在本发明中，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸以及甲基丙烯酸这两者或者任一个，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯这两者或任一个，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基以及甲基丙烯酰基这两者或任一个。

在本发明中，关于组合物中的各成分的量，当组合物中存在多种对应于各成分的物质时，只要没有特别指定，则是指存在于组合物中的对应的多种物质的合计量。

在本发明中，“工序”这一术语不仅包含独立的工序，即使在无法与其他工序明确地区分的情况下，只要能够实现工序的预期目的，则也包含于本术语中。

在本发明中的基团(原子团)的标记中，未标有经取代以及未经取代的标记包含不具有取代基的基团，并且还包含具有取代基的基团。例如，“烷基”是指，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，也包含具有取代基的烷基(取代的烷基)。

在本发明中，只要没有特别指定，则“曝光”不仅包括使用光的曝光，还包括使用电子束、离子束等粒子束的描绘。并且，作为曝光中所使用的光，通常可举出汞灯的明线光谱、准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等活化光线(活性能量射线)。

本发明中的化学结构式也有时以省略了氢原子的简略结构式来记载。

在本发明中，“质量％”的含义与“重量％”的含义相同，并且“质量份”的含义与“重量份”的含义相同。

在本发明中，2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。

在本发明中，“透明”是指波长400nm～700nm的可见光的平均透射率为80％以上，优选为90％以上。

在本发明中，可见光的平均透射率为使用分光光度计测量的值，例如能够使用Hitachi，Ltd.制造的分光光度计U-3310进行测量。

关于本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)，除非另有说明，是利用使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制的产品名称)的管柱的凝胶渗透色谱法(GPC)分析装置，通过溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计来进行检测，使用聚苯乙烯作为标准物质而换算的分子量。

在本发明中，只要没有特别指定，则金属元素的含量为使用电感耦合等离子体(ICP：Inductively Coupled Plasma)分光分析装置测量的值。

在本发明中，只要没有特别指定，则折射率为在波长550nm下使用椭圆偏振仪测量的值。

在本发明中，只要没有特别指定，则色相为使用色差计(CR-221，Minolta Co.，Ltd.制造)测量的值。

在本发明中，“碱溶性”是指对液温为22℃的碳酸钠的1质量％水溶液100g的溶解度为0.1g以上。

在本发明中，“水溶性”是指对于液温为22℃的pH7.0的水100g的溶解度为0.1g以上。因此，例如，水溶性树脂是指满足上述溶解度条件的树脂。

在本发明中，“固体成分”是指除溶剂以外的所有成分。

在本发明中，转印膜所具备的各层的厚度通过利用扫描型电子显微镜(SEM)观察相对于转印膜的主表面垂直的方向的剖面，并根据所得到的观察图像在任意5点以上测量各层的厚度并算出其平均值来测量。

<转印膜>

本发明的一实施方式所涉及的转印膜依次包含临时支承体、转印层以及保护膜，在25℃下的上述转印层的上述保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa。在本发明中，“转印层的保护膜侧的储能模量”通过在转印层中位于最靠近保护膜的位置的层的储能模量来规定。例如，在转印层具有多层结构的情况下，将转印层中所包含的多个层中位于最靠近保护膜的位置的层的储能模量称为“转印层的保护膜侧的储能模量”，在转印层具有单层结构的情况下，将单一的转印层的储能模量称为“转印层的保护膜侧的储能模量”。若在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa以上，则抑制转印层附着在被剥离的保护膜的表面，还抑制分辨性的下降。若在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量为3.0×10⁸Pa以下，则转印层转印到对象物(例如，基板)时转印层与对象物的密合性提高，分辨性也提高。因此，根据本发明的一实施方式，提供一种具有优异的分辨性的转印膜。

转印膜中的各层也可以具有单层结构或者多层结构。作为转印层，例如可以举出感光层及中间层。作为中间层，例如可以举出热塑性树脂层及水溶性树脂层。将转印膜的结构例如下所示。但是，转印膜的结构并不限于以下的例子。在以下的各结构中，感光层优选为负型感光层。并且，感光层优选为着色树脂层。

(1)“临时支承体/感光层/保护膜”

(2)“临时支承体/中间层/感光层/保护膜”

(3)“临时支承体/热塑性树脂/水溶性树脂层/感光层/保护膜”

参考图1对转印膜的结构进行说明。图1是表示某一实施方式所涉及的转印膜的结构的示意图。图1所示的转印膜100依次包含临时支承体10、中间层20、感光层30以及保护膜40。

从抑制后述的贴合工序中的气泡产生的观点出发，转印膜的波纹的最大宽度优选为300μm以下，更优选为200μm以下，进一步优选为60μm以下。转印膜的波纹的最大宽度优选为0μm以上，更优选为0.1μm以上，进一步优选为1μm以上。通过以下顺序测量转印膜的波纹的最大宽度。首先，将转印膜沿与主表面垂直的方向裁切，以使成为纵20cm×横20cm的尺寸，制作试验样品。另外，当转印膜包含保护膜时，剥离保护膜。接着，在表面平滑并且水平的工作台上静放试验样品，以使临时支承体的表面与工作台相向。静放后，针对试验样品的中心10cm见方的范围，用激光显微镜(例如KEYENCE CORPORATION制VK-9700SP)扫描试验样品的表面，获取3维表面图像，从在所得到的3维表面图像中观察的最大凸高度减去最低凹高度。针对10个试验样品进行上述操作，将算术平均值作为“转印膜的波纹的最大宽度”。

(转印膜的构成要件：临时支承体)

本发明的一实施方式所涉及的转印膜包含临时支承体。临时支承体为支承转印层且能够剥离的支承体。

朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra优选为0.1nm～15nm，更优选为0.1nm～10nm，进一步优选为0.1nm～6nm，尤其优选为0.1nm～2nm。具体而言，“朝向转印层的临时支承体的表面”是指，临时支承体的表面且朝向转印层的表面。若朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra变大，则提高临时支承体的剥离性，例如，抑制转印层附着在被剥离的临时支承体的表面。若朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra变小，则抑制由临时支承体引起的转印层的表面的粗糙度Ra的增大。并且，若朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra变小，则经由临时支承体的转印层的曝光中抑制光散射。这些结果提高分辨性。

朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra为通过以下的方法测量的算术平均粗糙度Ra。使用三维光学轮廓仪(New View7300，Zygo公司)得到对象面的表面轮廓。作为测量以及分析软件，使用“MetroPro ver8.3.2”的“Microscope Application(显微镜应用)”。接着，通过上述软件显示“Surface Map”画面，在“Surface Map”画面中得到直方图数据。从所得到的直方图数据，计算出对象面的算术平均粗糙度Ra。在对象面被其他层覆盖的情况下，通过剥离其他层暴露对象面之后，测量对象面的算术平均粗糙度Ra。

临时支承体可以为单层结构，也可以为多层结构。临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，优选为具有柔性且在加压下或者加压及加热下不会产生显著的变形、收缩或者拉伸的膜。

作为膜，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜(例如，双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜)、聚甲基丙烯酸甲酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。作为临时支承体，优选为聚对苯二甲酸乙二酯膜。优选为在用作临时支承体的膜中没有褶皱等变形及划痕等。

从能够经由临时支承体进行图案曝光的观点出发，优选为临时支承体的透明性高。在365nm下的临时支承体透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。

从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，优选临时支承体的雾度小。具体而言，临时支承体的雾度优选为2％以下，更优选为0.5％以下，进一步优选为0.1％以下。

从经由临时支承体图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，优选为临时支承体中所包含的粗大粒子、异物以及缺陷的数量少。临时支承体中的直径1μm以上的粒子、异物以及缺陷的数量优选为50个/10mm²以下，更优选为10个/10mm²以下，进一步优选为3个/10mm²以下，尤其优选为0个/10mm²。

临时支承体的厚度并无特别限制，但是优选为5μm～200μm，从易操作性及通用性的观点出发，更优选为10μm～150μm，进一步优选为10μm～50μm。

作为临时支承体，例如可以举出膜厚16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜、膜厚12μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜以及膜厚9μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。

作为临时支承体的优选方式，例如在日本特开2014-85643号公报的0017段落～0018段落、日本特开2016-27363号公报的0019～0026段落、国际公开第2012/081680号的0041～0057段落、国际公开第2018/179370号的0029～0040段落以及日本特开2019-101405号公报的0012段落～0032段落中有记载，这些公报的内容被编入本说明书中。

从赋予操作性的观点考虑，可以在临时支承体的表面设置包含微小粒子的层(也称为“润滑剂层”或者“粒子含有层”。)。润滑剂层可以设置于临时支承体的单面上，也可以设置于两个面上。润滑剂层中所包含的粒子的直径优选为0.05μm～0.8μm。并且，润滑剂层的厚度优选为0.05μm～1.0μm。

(转印膜的构成要件：转印层)

本发明的一实施方式所涉及的转印膜包括转印层。在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa。若在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa以上，则抑制转印层附着在被剥离的保护膜的表面，还抑制分辨性的下降。若在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量为3.0×10⁸Pa以下，则转印层转印到对象物(例如，基板)时转印层与对象物的密合性提高，分辨性也提高。从分辨性的观点出发，在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量优选为1.0×10⁶Pa～2.0×10⁸Pa，更优选为1.0×10⁷Pa～1.0×10⁸Pa。

在25℃下的转印层的临时支承体侧的储能模量优选为1.0×10⁶Pa以上。在本发明中，“转印层的临时支承体侧的储能模量”通过在转印层中位于最靠近临时支承体的位置的层的储能模量来规定。例如，在转印层具有多层结构的情况下，将转印层中所包含的多个层中位于最靠近临时支承体的位置的层的储能模量称为“转印层的临时支承体侧的储能模量”，在转印层具有单层结构的情况下，将单一的转印层的储能模量称为“转印层的临时支承体侧的储能模量”。若在25℃下的转印层的临时支承体侧的储能模量为1.0×10⁶Pa以上，则抑制转印层附着在被剥离的临时支承体的表面，还抑制分辨性的下降。若在25℃下的转印层的临时支承体侧的储能模量变小，则例如在使转印层与光掩模接触的曝光方式中提高分辨性。从分辨性的观点出发，在25℃下的转印层的临时支承体侧的储能模量优选为1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa，更优选为1.0×10⁶Pa～2.0×10⁸Pa，进一步优选为1.0×10⁷Pa～1.0×10⁸Pa。

在本发明中，使用粘弹性测量装置(TA Instruments.制造Rheometer DHR-2)、20mmφ的平行板以及帕耳帖板(Gap：约0.5mm)，在温度20℃～125℃、升温速度5℃/分钟、频率1Hz以及应变0.5％的条件下测量储能模量。具体而言，在测量之前在80℃～95℃的条件下在帕耳帖板上使试样熔融，以降温速度5℃/分冷却至20℃之后，以Gap规定模式进行测量。对储能模量采用在25℃下的值。

转印层的储能模量的调整方法并不受限制。作为对转印层的储能模量造成影响的因素，例如，可以举出转印层的组成。转印层的储能模量例如可以通过碱溶性树脂的种类、聚合性化合物的种类、聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比以及添加剂的种类来调整。

从分辨性的观点出发，朝向临时支承体的转印层的表面的粗糙度Ra优选为0.1nm～15nm，更优选为0.1nm～10nm，进一步优选为0.1nm～6nm，尤其优选为0.1nm～2nm。具体而言，“朝向临时支承体的转印层的表面”是指，转印层的表面且朝向临时支承体的表面。朝向临时支承体的转印层的表面的粗糙度Ra可以通过以上述“临时支承体”的项中所记载的朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra的测量方法为基准的方法来测量。

转印层可以具有单层结构或者多层结构。转印层优选为包括感光层。转印层可以为感光层。转印层还可以进一步包括除了感光层以外的层。例如，转印层可以包括中间层以及感光层。中间层提高转印膜的层压性。根据中间层，例如，提高转印膜与基板贴合时对基板的追随性，抑制气泡混入基板与转印膜之间，提高基板与转印膜的密合性。中间层优选为配置于临时支承体与感光层之间。即，转印膜优选为依次包含临时支承体、中间层、感光层以及保护膜。作为中间层，例如可以举出热塑性树脂层及水溶性树脂层。以下，对构成转印层的各层的具体方式进行说明。

(转印层的构成要件：感光层)

感光层例如转印到基板上之后，能够通过曝光以及显影来形成图案。感光层可以为负型感光层或者正型感光层。感光层优选为负型感光层。当感光层为负型感光层时，所形成的图案对应于固化层。当感光层为负型感光层时，负型感光层优选包含树脂、聚合性化合物以及聚合引发剂。并且，当感光层为负型感光层时，作为树脂的一部分或者全部，还优选为包含碱溶性树脂。即，在一方式中，感光层优选包含具有碱溶性树脂的树脂、聚合性化合物以及聚合引发剂。感光层优选包含相对于感光层的总质量10质量％～90质量％的碱溶性树脂、5质量％～70质量％的烯键式不饱和化合物以及0.01质量％～20质量％的光聚合引发剂。

(感光层的成分：碱溶性树脂)

感光层优选包含碱溶性树脂。作为碱溶性树脂，例如可以优选举出用于蚀刻抗蚀剂(etching resist)的公知的碱溶性树脂。并且，碱溶性树脂优选为粘合剂聚合物。碱溶性树脂优选为具有酸基的碱溶性树脂。作为碱溶性树脂，优选为后述的聚合物A。

感光层优选包含聚合物A作为碱溶性树脂。从通过抑制由显影液引起的感光层的膨润而分辨性更优异的观点出发，聚合物A的酸值优选为220mgKOH/g以下，更优选为小于200mgKOH/g，进一步优选为小于190mgKOH/g。聚合物A的酸值的下限并不受特别限制。从显影性更优异的观点出发，聚合物A的酸值优选为60mgKOH/g以上，更优选为120mgKOH/g以上，进一步优选为150mgKOH/g以上，尤其优选为170mgKOH/g以上。酸值为在将试样1g进行中和时所需的氢氧化钾的质量[mg]，在本发明中，将单位记载为mgKOH/g。酸值例如能够由化合物中的酸基的平均含量来算出。聚合物A的酸值可以通过构成聚合物A的结构单元的种类及含有酸基的结构单元的含量来调整。

聚合物A的重均分子量优选为5,000～500,000。从提高分辨性及显影性的观点出发，优选为将重均分子量设为500,000以下。聚合物A的重均分子量更优选为100,000以下，进一步优选为60,000以下，尤其优选为50,000以下。另一方面，从控制显影凝聚物的性状以及感光层中的边缘熔融性及切屑性等未曝光膜的特性的观点出发，优选为将重均分子量设为5,000以上。聚合物A的重均分子量更优选为10,000以上，进一步优选为20,000以上，尤其优选为30,000以上。边缘熔融性是指，当将转印膜卷取为卷状时感光层容易从辊的端面溢出的程度。切屑性是指用切刀切断未曝光膜时碎屑飞散的容易程度。若该碎屑附着于感光层的上表面等上，则会在其后的曝光工序等中转印到掩模而成为不良品的原因。聚合物A的分散度优选为1.0～6.0，更优选为1.0～5.0，进一步优选为1.0～4.0，尤其优选为1.0～3.0。在本发明中，重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)为使用凝胶渗透色谱法测量的值。并且，分散度为重均分子量相对于数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)。

从抑制曝光时焦点位置偏离时的线宽变粗及分辨率的恶化的观点出发，聚合物A优选具有芳香族烃基，更优选具备具有芳香族烃基的结构单元。作为芳香族烃基，例如，可以举出经取代或未经取代的苯基以及经取代或未经取代的芳烷基。聚合物A中的具有芳香族烃基的结构单元的含量比例以聚合物A的总质量为基准优选为20质量％以上，更优选为30质量％以上，进一步优选为40质量％以上，尤其优选为45质量％以上，最优选为50质量％以上。作为上限，并不受特别限定，但优选为95质量％以下，更优选为85质量％以下。另外，含有多种聚合物A时的具有芳香族烃基的结构单元的含有比例作为重量平均值而求出。

作为形成具有芳香族烃基的结构单元的单体，例如可以举出具有芳烷基的单体、苯乙烯及能够聚合的苯乙烯衍生物(例如，甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、叔丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、4-乙烯基苯甲酸、苯乙烯二聚物、苯乙烯三聚物等)。其中，优选为具有芳烷基的单体或苯乙烯。在一方式中，当形成聚合物A中的具有芳香族烃基的结构单元的单体为苯乙烯时，源自苯乙烯的结构单元的含有比例以聚合物A的总质量为基准优选为20质量％～50质量％，更优选为25质量％～45质量％，进一步优选为30质量％～40质量％，尤其优选为30质量％～35质量％。

作为芳烷基，可以举出经取代或未经取代的苯基烷基等，优选为经取代或未经取代的苄基。

作为具有除了经取代或未经取代的苄基以外的苯基烷基的单体，可以举出(甲基)丙烯酸苯基乙酯等。

作为具有经取代或未经取代的苄基的单体，可以举出具有经取代或未经取代的苄基的(甲基)丙烯酸酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸氯苄酯等)；具有苄基的乙烯基单体(例如，乙烯基苄基氯、乙烯基苯甲醇等)。其中，优选为(甲基)丙烯酸苄酯。在一方式中，当形成聚合物A中的具有芳香族烃基的结构单元的单体为(甲基)丙烯酸苄酯时，源自(甲基)丙烯酸苄酯的结构单元的含有比例以聚合物A的总质量为基准优选为50质量％～95质量％，更优选为60质量％～90质量％，进一步优选为70质量％～90质量％，尤其优选为75质量％～90质量％。

含有具有芳香族烃基的结构单元的聚合物A优选为通过使具有芳香族烃基的单体与至少一种后述的第一单体和/或至少一种后述的第二单体聚合而得到。

不含有具有芳香族烃基的结构单元的聚合物A优选为通过使至少一种后述的第一单体聚合而得到，更优选为通过使至少一种第一单体与至少一种后述的第二单体共聚而得到。

第一单体为在分子中具有羧基的单体。作为第一单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸、富马酸、肉桂酸、巴豆酸、衣康酸、4-乙烯基苯甲酸、马来酸酐、马来酸半酯等。在这些之中，优选为(甲基)丙烯酸。

聚合物A中的源自第一单体的结构单元的含有比例以聚合物A的总质量为基准优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％，进一步优选为15质量％～30质量％。

源自第一单体的结构单元的含有比例以聚合物A的总质量为基准优选为10质量％～50质量％。从显现良好的显影性的观点、控制边缘熔融性等观点出发，优选为将上述比例设为10质量％以上，更优选为15质量％以上，进一步优选为20质量％以上。从抗蚀图案的高分辨性及下摆部形状的观点出发，进一步从抗蚀图案的耐化学性的观点出发，优选为将上述含有比例设为50质量％以下，在这些观点上，更优选为35质量％以下，进一步优选为30质量％以下，尤其优选为27质量％以下。

第二单体为非酸性且在分子中具有至少1个烯键式不饱和基团的单体。作为第二单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯类；乙酸乙烯酯等乙烯醇的酯类；以及(甲基)丙烯腈等。其中，优选为(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯以及(甲基)丙烯酸正丁酯，尤其优选为(甲基)丙烯酸甲酯。

聚合物A中的源自第二单体的结构单元的含有比例以聚合物A的总质量为基准优选为5质量％～60质量％，更优选为15质量％～50质量％，进一步优选为20质量％～45质量％。

并且，从抑制曝光时焦点位置偏移时的线宽变粗及分辨率的恶化的观点出发，聚合物A优选为含有选自具有芳烷基的结构单元及源自苯乙烯的结构单元中的至少一种结构单元。作为聚合物A，例如优选为包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸苄酯及苯乙烯的共聚物、包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸苄酯及苯乙烯的共聚物等。

在一方式中，聚合物A优选为包含具有芳香族烃基的结构单元25质量％～40质量％、源自第一单体的结构单元20质量％～35质量％及源自第二单体的结构单元30质量％～45质量％的聚合物。并且，在另一方式中，优选为包含具有芳香族烃基的结构单元70质量％～90质量％及源自第一单体的结构单元10质量％～25质量％的聚合物。

聚合物A可以在侧链中具有分支结构和/或脂环结构。通过使用包含在侧链中具有分支结构的基团的单体或包含在侧链中具有脂环结构的基团的单体，能够将分支结构或脂环结构导入到聚合物A的侧链中。脂环结构可以为单环结构，也可以为多环结构。

作为包含在侧链中具有分支结构的基团的单体的具体例，可以举出(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸2-辛酯、(甲基)丙烯酸3-辛酯及(甲基)丙烯酸叔辛酯等。在这些之中，优选为(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯或甲基丙烯酸叔丁酯，更优选为甲基丙烯酸异丙酯或甲基丙烯酸叔丁酯。

作为包含在侧链中具有脂环结构的基团的单体的具体例，可以举出具有单环的脂肪族烃基的单体及具有多环的脂肪族烃基的单体。并且，可以举出具有碳原子数(carbonatom number)5个～20个的脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯。作为更具体的例子，可以举出(甲基)丙烯酸(双环[2.2.1]庚基-2)酯、(甲基)丙烯酸-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3，5-二甲基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3-乙基金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-5-乙基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3，5，8-三乙基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3，5-二甲基-8-乙基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸八氢-4，7-甲桥茚(methanoinden)-5-基酯、(甲基)丙烯酸八氢-4，7-甲桥茚-1-基甲酯、(甲基)丙烯酸-1-薄荷酯、(甲基)丙烯酸三环癸烷、(甲基)丙烯酸-3-羟基-2，6，6-三甲基-双环[3.1.1]庚酯、(甲基)丙烯酸-3，7，7-三甲基-4-羟基-双环[4.1.0]庚酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片基酯、(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸-2，2，5-三甲基环己酯及(甲基)丙烯酸环己酯等。

在这些(甲基)丙烯酸酯之中，优选为(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸-1-薄荷酯或(甲基)丙烯酸三环癸烷，更优选为(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-金刚烷基酯或(甲基)丙烯酸三环癸烷。

感光层可以单独含有一种聚合物A，也可以含有两种以上的聚合物A。当含有两种以上时，优选为混合使用两种具有芳香族烃基的聚合物A，或者混合使用具有芳香族烃基的聚合物A和不具有芳香族烃基的聚合物A。在后者的情况下，具有芳香族烃基的聚合物A的含有比例相对于聚合物A的总质量优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为80质量％以上，尤其优选为90质量％以上。

聚合物A的合成优选为通过向将上述中所说明的一种或多种单体用丙酮、甲基乙基酮、异丙醇等溶剂稀释而成的溶液中添加适量过氧化苯甲酰、偶氮异丁腈等自由基聚合引发剂并加热搅拌来进行。有时也会一边将混合物的一部分滴加到反应液中一边进行合成。反应结束后，有时也会进一步加入溶剂而调整为所期望的浓度。作为合成方法，除了溶液聚合以外，可以使用本体聚合、悬浮聚合或乳液聚合。

聚合物A的玻璃化转变温度Tg优选为30℃以上且135℃以下。通过在感光层中使用具有135℃以下的Tg的聚合物A，能够抑制曝光时焦点位置偏移时的线宽变粗或分辨率的恶化。从该观点出发，聚合物A的Tg更优选为130℃以下，进一步优选为120℃以下，尤其优选为110℃以下。并且，从提高耐边缘熔融性的观点出发，优选为使用具有30℃以上的Tg的聚合物A。从该观点出发，聚合物A的Tg更优选为40℃以上，进一步优选为50℃以上，尤其优选为60℃以上，最优选为70℃以上。

碱溶性树脂可以单独使用一种，也可以混合使用两种以上。

碱溶性树脂相对于感光层的总质量的比例优选为10质量％～90质量％，更优选为30质量％～70质量％，进一步优选为40质量％～60质量％。从控制显影时间的观点出发，优选为将碱溶性树脂与感光层的比例设为90质量％以下。另一方面，从提高耐边缘熔融性的观点出发，优选为将碱溶性树脂与感光层的比例设为10质量％以上。

感光层可以含有除了碱溶性树脂以外的树脂。作为除了碱溶性树脂以外的树脂，只要为在液温为22℃的碳酸钠的1质量％水溶液100g中的溶解度小于0.1g的树脂即可，例如可以举出丙烯酸树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物(其中，苯乙烯含有率为40质量％以下的共聚物)、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛(polyvinyl formal)、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺(polyethylenimine)、聚烯丙基胺及聚亚烷基二醇(polyalkylene glycol)。

(感光层的成分：聚合性化合物)

当感光层为负型感光层时，负型感光层优选包含具有聚合性基团的聚合性化合物。在本发明中，“聚合性化合物”是指，受到聚合引发剂的作用而聚合的化合物，并且与上述的碱溶性树脂不同的化合物。聚合性化合物的分子量优选为1，500以下。聚合性化合物的分子量优选为150以上。

聚合性基团的种类只要为参与聚合反应的基团，则不受限制。作为聚合性基团，例如，可以举出乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯乙烯基、马来酰亚胺基等具有烯键式不饱和基团的基团。并且，作为聚合性基团，例如可以举出环氧基、氧杂环丁烷基等具有阳离子性聚合性基团的基团。作为聚合性基团，优选为具有烯键式不饱和基团的基团，更优选为丙烯酰基或甲基丙烯酰基。

聚合性化合物优选包含具有2个以上的聚合性基团的聚合性化合物。聚合性化合物更优选为包含具有2个以上的聚合性基团的聚合性化合物和具有3个以上的聚合性基团的聚合性化合物。

作为聚合性化合物，在负型感光层的感光性更优异的观点上，优选为具有1个以上的烯键式不饱和基团的化合物(即，烯键式不饱和化合物)，更优选为在一分子中具有2个以上的烯键式不饱和基团的化合物(即，多官能烯键式不饱和化合物)。并且，从分辨性及剥离性更优异的观点上，烯键式不饱和化合物在一个分子中所具有的烯键式不饱和基团的数量优选为6个以下，更优选为3个以下，进一步优选为2个以下。

从负型感光层的感光性与分辨性以及剥离性的平衡更优异的观点上，感光层优选为包含在一分子中具有2个或者3个烯键式不饱和基团的化合物(即，2官能或者3官能烯键式不饱和化合物)，更优选为包含在一分子中具有2个烯键式不饱和基团的化合物(即，2官能烯键式不饱和化合物)。从剥离性优异的观点出发，相对于聚合性化合物的总质量的2官能烯键式不饱和化合物的含量相对于负型感光层的总质量优选为20质量％以上，更优选为超过40质量％，进一步优选为55质量％以上。上限并没有特别限制，可以为100质量％。即，聚合性化合物可以全部为2官能烯键式不饱和化合物。并且，作为烯键式不饱和化合物，优选为具有(甲基)丙烯酰基作为聚合性基团的(甲基)丙烯酸酯化合物。

感光层优选包含具有芳香环及2个烯键式不饱和基团的烯键式不饱和化合物B1。烯键式不饱和化合物B1为上述烯键式不饱和化合物之中在一个分子中具有1个以上的芳香环的2官能烯键式不饱和化合物。

在感光层中，从分辨性更优异的观点出发，烯键式不饱和化合物B1的含量相对于烯键式不饱和化合物的含量的质量比优选为40质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为55质量％以上，尤其优选为60质量％以上。上限并不受特别限制，但从剥离性的观点出发，优选为99质量％以下，更优选为95质量％以下，进一步优选为90质量％以下，尤其优选为85质量％以下。

作为烯键式不饱和化合物B1所具有的芳香环，例如可以举出苯环、萘环、蒽环等芳香族烃环、噻吩环、呋喃环、吡咯环、咪唑环、三唑环、吡啶环等芳香族杂环以及它们的稠环，优选为芳香族烃环，更优选为苯环。另外，上述芳香环可以具有取代基。烯键式不饱和化合物B1可以仅具有1个芳香环，也可以具有2个以上的芳香环。

从通过抑制由显影液引起的感光层的膨润而分辨性提高的观点出发，烯键式不饱和化合物B1优选具有双酚结构。作为双酚结构，例如可以举出源自双酚A(2，2-双(4-羟基苯基)丙烷)的双酚A结构、源自双酚F(2，2-双(4-羟基苯基)甲烷)的双酚F结构以及源自双酚B(2，2-双(4-羟基苯基)丁烷)的双酚B结构，优选为双酚A结构。

作为具有双酚结构的烯键式不饱和化合物B1，例如可以举出具有双酚结构和键合于该双酚结构的两端的2个聚合性基团(优选为(甲基)丙烯酰基)的化合物。双酚结构的两端与2个聚合性基团可以直接键合，也可以经由1个以上的亚烷氧基而键合。作为加成于双酚结构的两端的亚烷氧基，优选为亚乙氧基或亚丙氧基，更优选为亚乙氧基。加成于双酚结构的亚烷氧基的加成数并不受特别限制，但在每个分子中优选为4个～16个，更优选为6个～14个。关于具有双酚结构的烯键式不饱和化合物B1，记载于日本特开2016-224162号公报的0072～0080段中，该公报中所记载的内容被编入本说明书中。

作为烯键式不饱和化合物B1，优选为具有双酚A结构的2官能烯键式不饱和化合物，更优选为2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚烷氧基)苯基)丙烷。作为2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚烷氧基)苯基)丙烷，例如可以举出2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(FA-324M，Hitachi Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基乙氧基丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷(BPE-500，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十二乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷(FA-3200MY，Hitachi Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷(BPE-1300，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(BPE-200，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)及乙氧基化(10)双酚A二丙烯酸酯(NK酯A-BPE-10，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)。

作为烯键式不饱和化合物B1，从放置时间线宽变化、显影温度线宽变化以及灵敏度的观点出发，优选包含下述式(Bis)所表示的化合物。

[化学式1]

在式(Bis)中，R₁以及R₂分别独立地表示氢原子或者甲基，A为C₂H₄，B为C₃H₆，n₁以及n₃分别独立为1～39的整数，且n₁+n₃为2～40的整数，n₂以及n₄分别独立为0～29的整数，且n₂+n₄为0～30的整数，-(A-O)-以及-(B-O)-的重复单元的排列可以为无规，也可以为嵌段。而且，在嵌段的情况下，-(A-O)-和-(B-O)-中的任一个可以在双酚结构侧。在一方式中，n₁+n₂+n₃+n₄优选为2～20的整数，更优选为2～16的整数，进一步优选为4～12的整数。并且，n₂+n₄优选为0～10的整数，更优选为0～4的整数，进一步优选为0～2的整数，尤其优选为0。

烯键式不饱和化合物B1可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。从分辨性更优异的观点出发，感光层中的烯键式不饱和化合物B1的含量相对于感光层的总质量，优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上。上限并不受特别限制，但从转印性及边缘融合(感光层中的成分从转印膜的端部渗出的现象)的观点出发，优选为70质量％以下，更优选为60质量％以下。

感光层可以含有除了上述烯键式不饱和化合物B1以外的烯键式不饱和化合物。除了烯键式不饱和化合物B1以外的烯键式不饱和化合物并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。例如，可以举出在一个分子中具有1个烯键式不饱和基团的化合物(单官能烯键式不饱和化合物)、不具有芳香环的2官能烯键式不饱和化合物及3官能以上的烯键式不饱和化合物。

作为单官能烯键式不饱和化合物，例如可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯以及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯。

作为不具有芳香环的2官能烯键式不饱和化合物，例如可以举出亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯及三羟甲基丙烷二丙烯酸酯。

作为亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、1，9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N，Shin-NakamuraChemical Co.，Ltd.制造)、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，10-癸二醇二丙烯酸酯以及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯。

作为聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯以及聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯。

作为氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯以及环氧乙烷及环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯。作为氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯的市售品，例如可以举出8UX-015A(Taisei Fine Chemical Co.，Ltd.制造)、UA-32P(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)以及UA-1100H(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)。

作为3官能以上的烯键式不饱和化合物，例如可以举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯以及它们的环氧烷改性物。其中，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”为包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。在一方式中，感光层优选为包含上述烯键式不饱和化合物B1及3官能以上的烯键式不饱和化合物，更优选为包含上述烯键式不饱和化合物B1及两种以上的3官能以上的烯键式不饱和化合物。此时，烯键式不饱和化合物B1与3官能以上的烯键式不饱和化合物的质量比优选为(烯键式不饱和化合物B1的合计质量)∶(3官能以上的烯键式不饱和化合物的合计质量)＝1∶1～5∶1，更优选为1.2∶1～4∶1，进一步优选为1.5∶1～3∶1。并且，在一方式中，感光层优选包含上述烯键式不饱和化合物B1及两种以上的3官能的烯键式不饱和化合物。

作为3官能以上的烯键式不饱和化合物的环氧烷改性物，可以举出己内酯改性(甲基)丙烯酸酯化合物(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的A-9300-1CL等)、环氧烷改性(甲基)丙烯酸酯化合物(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的ATM-35E及A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制造的EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的A-GLY-9E等)、ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.，LTD.制造)、ARONIX M-520(TOAGOSEI CO.，LTD.制造)以及ARONIX M-510(TOAGOSEI CO.，LTD.制造)。

并且，作为除了烯键式不饱和化合物B1以外的烯键式不饱和化合物，可以使用日本特开2004-239942号公报的0025段～0030段中所记载的具有酸基的烯键式不饱和化合物。

从分辨性以及直线性的观点出发，感光层中的烯键式不饱和化合物的含量Mm与碱溶性树脂的含量Mb之比Mm/Mb的值优选为1.0以下，更优选为0.9以下，尤其优选为0.5以上0.9以下。并且从固化性及分辨性的观点出发，感光层中的烯键式不饱和化合物优选为包含(甲基)丙烯酸化合物，更优选为包含(甲基)丙烯酸酯化合物。此外，从固化性、分辨性及直线性的观点出发，感光层中的烯键式不饱和化合物更优选为包含(甲基)丙烯酸化合物，且丙烯酸化合物的含量相对于感光层中所包含的上述(甲基)丙烯酸化合物的总质量为60质量％以下。

作为包含烯键式不饱和化合物B1的烯键式不饱和化合物的分子量(当具有分布时为重均分子量(Mw))，优选为200～3,000，更优选为280～2,200，进一步优选为300～2,200。

聚合性化合物优选包含氧乙烯链。氧乙烯链为由-CH₂-CH₂-O-表示的部分结构。作为包含氧乙烯链的聚合性化合物，例如可以举出2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(FA-324M，Hitachi Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基乙氧基丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷(BPE-500，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十二乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷(FA-3200MY，Hitachi Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷(BPE-1300，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(BPE-200，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)及乙氧基化(10)双酚A二丙烯酸酯(NK酯A-BPE-10，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造)。

聚合性化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。感光层中的聚合性化合物的含量相对于感光层的总质量优选为10质量％～70质量％，更优选为20质量％～60质量％，进一步优选为20质量％～50质量％。

在感光层包含碱溶性树脂以及聚合性化合物的情况下，感光层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比优选为0.6以上，更优选为0.7～1.1，尤其优选为0.8～1.0。感光层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比影响感光层的储能模量。例如，若感光层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比变大，则感光层的储能模量变小。若感光层的储能模量变小，则转印层转印到对象物(例如，基板)时转印层与对象物的密合性提高，分辨性也提高。另一方面，若感光层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比变小，则感光层的储能模量变大。若感光层的储能模量变大，则抑制转印层附着于被剥离的临时支承体或保护膜的表面，也抑制分辨性的下降。

(感光层的成分：聚合引发剂)

当感光层为负型感光层时，负型感光层优选包含聚合引发剂。聚合引发剂可以根据聚合反应的形式进行选择，例如可以举出热聚合引发剂及光聚合引发剂。并且，作为聚合引发剂，可以举出自由基聚合引发剂及阳离子聚合引发剂。

负型感光层优选包含光聚合引发剂。光聚合引发剂为受到紫外线、可见光线及X射线等活化光线而引发聚合性化合物的聚合的化合物。作为光聚合引发剂，并没有特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如可以举出光自由基聚合引发剂及光阳离子聚合引发剂，优选为光自由基聚合引发剂。

作为光自由基聚合引发剂，例如可以举出具有肟酯结构的光聚合引发剂、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有α-羟基烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂及具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂。

并且，从感光性、曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，负型感光层优选包含选自2，4，5-三芳基咪唑二聚物以及其衍生物中的至少一种作为光自由基聚合引发剂。另外，2，4，5-三芳基咪唑二聚物以及其衍生物中的2个2，4，5-三芳基咪唑结构可以相同也可以不同。作为2，4，5-三芳基咪唑二聚物的衍生物，例如可以举出2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻氯苯基)-4，5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(邻氟苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物以及2-(对甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物。

作为光自由基聚合引发剂，例如可以使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段落、日本特开2015-14783号公报的0064～0081段落中所记载的聚合引发剂。

作为光自由基聚合引发剂，例如可以举出二甲基氨基苯甲酸乙酯(DBE，CASNo.10287-53-3)、茴香偶酰(4，4’-二甲氧基苯偶酰)、TAZ-110(产品名称：Midori KagakuCo.，Ltd.制造)、二苯甲酮、TAZ-111(产品名称：Midori Kagaku Co.，Ltd.制造)、IrgacureOXE01、OXE02、OXE03、OXE04(BASF公司制造)、Omnirad651及369(产品名称：IGM ResinsB.V.公司制造)以及2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑(TokyoChemicalIndustry Co.，Ltd.制造)。

作为光自由基聚合引发剂的市售品，例如可以举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮-2-(O-苯甲酰肟)(产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-01，BASF公司制造)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰肟)(产品名称：IRGACURE OXE-02，BASF公司制造)、IRGACURE OXE-03(BASF公司制造)、、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(产品名称：Omnirad 379EG，IGM Resins B.V.制造)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮(产品名称：Omnirad907，IGM ResinsB.V.制造)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮(产品名称：Omnirad 127，IGM Resins B.V.制造)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮-1(产品名称：Omnirad 369，IGM Resins B.V.制造)、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮(产品名称：Omnirad 1173，IGM Resins B.V.制造)、1-羟基环己基苯基酮(产品名称：Omnirad 184，IGM Resins B.V.制造)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮(产品名称：Omnirad 651，IGM Resins B.V.制造)、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(产品名称：Omnirad TPO H，IGM Resins B.V.制造)、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦(产品名称：Omnirad 819，IGM Resins B.V.制造)、肟酯类的光聚合引发剂(产品名称：Lunar 6，DKSHHolding Ltd.制造)、2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑(2-(2-氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物)(产品名称：B-CIM，Hampford公司制造)及2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物(产品名称：BCTB，Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制造)、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙烷-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(产品名称：TR-PBG-305，ChangzhouTronly New Flectronic Materials CO.，LTD.制造)、1，2-丙二酮，3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃基羰基)-9H-咔唑-3-基]-，2-(O-乙酰肟)(产品名称：TR-PBG-326，ChangzhouTronly New Electronic Materials CO.，LTD.制造)及3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)辛酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)-丙烷-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(产品名称：TR-PBG-391，Changzhou Tronly New Flectronic Materials CO.，LTD.制造)。

光阳离子聚合引发剂(光产酸剂)为受活化光线而产生酸的化合物。作为光阳离子聚合引发剂，优选为反应于波长300nm以上(优选为波长300～450nm)的活化光线而产生酸的化合物，但其化学结构并不受限制。并且，关于不直接感应于波长300nm以上的活化光线的光阳离子聚合引发剂，只要为通过同时使用敏化剂而感应于波长300nm以上的活化光线从而产生酸的化合物，则也能够与敏化剂组合而优选使用。

作为光阳离子聚合引发剂，优选为产生pKa为4以下的酸的光阳离子聚合引发剂，更优选为产生pKa为3以下的酸的光阳离子聚合引发剂，尤其优选为产生pKa为2以下的酸的光阳离子聚合引发剂。pKa的下限值并没有特别规定，例如优选为-10.0以上。

作为光阳离子聚合引发剂，可以举出离子性光阳离子聚合引发剂以及非离子性光阳离子聚合引发剂。作为离子性光阳离子聚合引发剂，例如可以举出二芳基碘鎓盐类及三芳基锍盐类等鎓盐化合物以及季铵盐类。作为离子性光阳离子聚合引发剂，可以使用日本特开2014-85643号公报的0114～0133段落中所记载的离子性光阳离子聚合引发剂。

作为非离子性光阳离子聚合引发剂，例如可以举出三氯甲基-s-三嗪类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物。作为三氯甲基-s-三嗪类、重氮甲烷化合物及酰亚胺磺酸酯化合物，可以使用日本特开2011-221494号公报的0083～0088段落中所记载的化合物。并且，作为肟磺酸酯化合物，可以使用国际公开第2018/179640号的0084～0088段落中所记载的化合物。

感光层可以单独含有一种光聚合引发剂，也可以含有两种以上的光聚合引发剂。感光层中的光聚合引发剂的含量并不受特别限制，但相对于感光层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。上限并不受特别限制，但相对于感光层的总质量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。

(感光层的成分：色素)

从曝光部及非曝光部的可见性、显影后的图案可见性及分辨性的观点出发，感光层优选为含有色素，更优选为含有显色时的波长范围400nm～780nm中的极大吸收波长为450nm以上且极大吸收波长通过酸、碱或自由基而发生变化的色素(也简称为“色素N”。)。虽然详细的机理尚不明确，但若含有色素N，则提高与相邻的层(例如临时支承体及中间层)的密合性，分辨性更优异。

在本发明中，色素的“极大吸收波长通过酸、碱或自由基而发生变化”可以指，处于显色状态的色素通过酸、碱或自由基而脱色的方式、处于脱色状态的色素通过酸、碱或自由基而显色的方式以及处于显色状态的色素变为其他色相的显色状态的方式中的任一方式。具体而言，色素N可以为通过曝光从脱色状态发生变化而显色的化合物，也可以为通过曝光从显色状态发生变化而脱色的化合物。此时，可以为通过曝光在感光层内产生酸、碱或自由基且使它们起作用，从而显色或脱色状态发生变化的色素，也可以为感光层内的状态(例如pH)通过酸、碱或自由基而发生变化，从而显色或脱色状态发生变化的色素。并且，也可以为不经过曝光而直接接受酸、碱或自由基作为刺激而显色或脱色的状态发生变化的色素。

其中，从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，色素N优选为极大吸收波长通过酸或自由基而发生变化的色素，更优选为极大吸收波长通过自由基而发生变化的色素。

从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，感光层优选为含有极大吸收波长通过自由基而发生变化的色素作为色素N以及光自由基聚合引发剂这两者。

并且，从曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，色素N优选为通过酸、碱或自由基而显色的色素。

作为本发明中的色素N的显色机构的例子，可以举出自由基反应性色素、酸反应性色素或碱反应性色素(例如，无色色素)通过向感光层中添加光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂(即，光产酸剂)或光产碱剂并进行曝光之后由光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂或光产碱剂产生的自由基、酸或碱而显色的方式。

从曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，色素N的显色时的波长范围400nm～780nm中的极大吸收波长优选为550nm以上，更优选为550nm～700nm，进一步优选为550nm～650nm。并且，色素N可以仅具有1个显色时的波长范围400nm～780nm中的极大吸收波长，也可以具有2个以上。当色素N具有2个以上显色时的波长范围400nm～780hm中的极大吸收波长时，2个以上的极大吸收波长中吸光度最高的极大吸收波长为450nm以上即可。

色素N的极大吸收波长是通过在大气环境下，使用分光光度计：UV3100(ShimadzuCorporation制造)，在400nm～780nm的范围内测量含有色素N的溶液(液温25℃)的透射光谱，并且检测光的强度成为极小的波长(即，极大吸收波长)而得到。

作为通过曝光而显色或脱色的色素，例如可以举出无色化合物。作为通过曝光而脱色的色素，例如可以举出无色化合物、二芳基甲烷类色素、噁嗪类色素、呫吨类色素、亚氨基萘醌类色素、偶氮次甲基类色素及蒽醌类色素。作为色素N，从曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，优选为无色化合物。

作为无色化合物，例如可以举出具有三芳基甲烷骨架的无色化合物(即，三芳基甲烷类色素)、具有螺旋吡喃骨架的无色化合物(即，螺吡喃类色素)、具有荧烷骨架的无色化合物(即，荧烷类色素)、具有二芳基甲烷骨架的无色化合物(即，二芳基甲烷类色素)、具有罗丹明内酰胺骨架的无色化合物(即，罗丹明内酰胺类色素)、具有吲哚苯酞骨架的无色化合物(即，吲哚苯酞类色素)以及具有无色金胺骨架的无色化合物(即，无色金胺类色素)。其中，优选为三芳基甲烷类色素或荧烷类色素，更优选为具有三苯基甲烷骨架的无色化合物(即，三苯基甲烷类色素)或者荧烷类色素。

作为无色化合物，从曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，优选具有内酯环、亚磺内酯环(sultine ring)或者磺内酯环。由此，能够使无色化合物所具有的内酯环、亚磺内酯环或磺内酯环与由光自由基聚合引发剂产生的自由基或由光阳离子聚合引发剂产生的酸进行反应使无色化合物变为闭环状态而使其脱色，或者使无色化合物变为开环状态而使其显色。作为无色化合物，优选为具有内酯环、亚磺内酯环或磺内酯环且内酯环、亚磺内酯环或磺内酯环通过自由基或酸开环而显色的化合物，更优选为具有内酯环且内酯环通过自由基或酸开环而显色的化合物。

作为色素N，例如可以举出以下染料及无色化合物。作为色素N中染料的具体例，可以举出亮绿(brilliant green)、乙基紫、甲基绿、结晶紫、碱性品红(basic fuchsine)、甲基紫2B、喹纳啶红(quinaldine red)、孟加拉玫瑰红(rose bengal)、米塔尼尔黄(meranilyellow)、百里酚磺酞(thymol sulfonphthalein)、二甲酚(xylenol)蓝、甲基橙、对甲基红、刚果红、苯并红紫素(benzopurpurine)4B、α-萘基红、尼罗蓝(nile blue)2B、尼罗蓝A、甲基紫、孔雀绿(malachite green)、副品红(parafuchsin)、维多利亚纯蓝(victoria pureblue)-萘磺酸盐、维多利亚纯蓝BOH(Hodogaya Chemical Co.，Ltd.制造)、油蓝#603(Orient Chemical Industries Co.，Ltd.制造)、油粉红#312(Orient ChemicalIndustries Co.，Ltd.制造)、油红5B(Orient Chemical Industries Co.，Ltd.制造)、油猩红(oil scarlet)#308(Orient Chemical Industries Co.，Ltd.制造)、油红OG(OrientChemical Industries Co.，Ltd.制造)、油红RR(Orient Chemical IndustriesCo.，Ltd.制造)、油绿#502(Orient Chemical Industries Co.，Ltd.制造)、史必隆红(spilon red)BEH特殊(Hodogaya Chemical Co.，Ltd.制造)、间甲酚紫、甲酚红、罗丹明B、罗丹明6G、磺基罗丹明B、金胺、4-对二乙基氨基苯基亚氨基萘醌、2-羧基苯胺基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基萘醌、2-羧基硬脂基氨基-4-对-N，N-双(羟基乙基)氨基-苯基亚氨基萘醌、1-苯基-3-甲基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮及1-β-萘基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮。

在色素N之中，作为无色化合物的具体例，可以举出p，p’，p”-六甲基三氨基三苯基甲烷(也称为退色结晶紫)、Pergascript Blue SRB(Ciba-Geigy公司制造)、结晶紫内酯、孔雀绿内酯、苯甲酰无色亚甲基蓝、2-(N-苯基-N-甲基氨基)-6-(N-对甲苯基-N-乙基)氨基荧烷、2-苯胺基-3-甲基-6-(N-乙基-对甲苯胺基)荧烷、3，6-二甲氧基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-5-甲基-7-(N，N-二苄基氨基)荧烷、3-(N-环己基-N-甲基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-氯荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲氧基-7-氨基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7-(4-氯苯胺基)荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7-氯荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7-苄基氨基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7，8-苯并荧烷、3-(N，N-二丁基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二丁基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-哌啶基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-吡咯烷基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3，3-双(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)酞内酯(phthalide)、3，3-双(1-正丁基-2-甲基吲哚-3-基)酞内酯、3，3-双(对二甲基氨基苯基)-6-二甲基氨基酞内酯、3-(4-二乙基氨基-2-乙氧基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)-4-氮杂苯酞、3-(4-二乙基氨基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞及3’，6’-双(二苯基氨基)螺异苯并呋喃-1(3H)，9’-[9H]呫吨-3-酮。

从曝光部及非曝光部的可见性、显影后的图案可见性及分辨性的观点出发，色素N优选为极大吸收波长通过自由基而发生变化的色素，更优选为通过自由基而显色的色素。作为色素N，优选为无色结晶紫、结晶紫内酯、亮绿或者维多利亚纯蓝-萘磺酸盐。

色素可以单独使用一种，也可以使用两种以上。从曝光部及非曝光部的可见性、显影后的图案可见性及分辨性的观点出发，色素的含量相对于感光层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.1质量％～5质量％，尤其优选为0.1质量％～1质量％。并且，从曝光部及非曝光部的可见性、显影后的图案可见性及分辨性的观点出发，色素N的含量相对于感光层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.1质量％～5质量％，尤其优选为0.1质量％～1质量％。

色素N的含量是指，使感光层中所包含的所有色素N成为显色状态时的色素的含量。以下，以通过自由基而显色的色素为例子，对色素N的含量的定量方法进行说明。制备在甲基乙基酮100mL中溶解有色素0.001g或0.01g的两种溶液。向所得到的各溶液中加入光自由基聚合引发剂Irgacure OXE01(产品名称，BASF公司制造)，并照射365nm的光，由此产生自由基而使所有色素成为显色状态。然后，在大气环境下，使用分光光度计(UV3100，Shimadzu Corporation制造)测量液温为25℃的各溶液的吸光度，并制作校准曲线。接着，除了代替色素而将感光层3g溶解于甲基乙基酮以外，通过与上述相同的方法，测量使色素全部显色的溶液的吸光度。根据所得到的含有感光层的溶液的吸光度，基于校准曲线计算出感光层中所包含的色素的含量。

(感光层的成分：热交联性化合物)

从所得到的固化膜的强度及所得到的未固化膜的粘结性的观点出发，感光层优选包含热交联性化合物。另外，在本发明中，后述的具有烯键式不饱和基团的热交联性化合物不作为烯键式不饱和化合物，而用作热交联性化合物。作为热交联性化合物，可以举出羟甲基化合物及封端异氰酸酯化合物。其中，从所得到的固化膜的强度以及所得到的未固化膜的粘结性的观点出发，优选为封端异氰酸酯化合物。封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基进行反应，因此例如在碱溶性树脂和/或烯键式不饱和化合物等具有羟基及羧基中的至少一个的情况下，所形成的膜的亲水性下降，从而将固化感光层而成的膜用作保护膜时的功能趋于增强。另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有使用封端剂保护(所谓掩模)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物。

封端异氰酸酯化合物的解离温度并不受特别限制，但优选为100℃～160℃，更优选为130℃～150℃。封端异氰酸酯的解离温度是指“使用差示扫描量热计并通过DSC(Differential scanning calorimetry：示差扫描热量法)分析测量时的伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。作为差示扫描量热计，例如能够优选地使用SeikoInstruments Inc.制造的差示扫描量热计(型号：DSC6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于此。

作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，可以举出活性亚甲基化合物〔丙二酸二酯(例如，丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯以及丙二酸二2-乙基己酯)〕、肟化合物(例如，甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟及环己酮肟等在分子内具有-C(＝N-OH)-所表示的结构的化合物)。在这些之中，作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，例如从保存稳定性的观点出发，优选包含肟化合物。

例如，从改善膜的脆性、提高与被转印体的密合力等观点出发，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如可以通过将六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化并保护而得到。在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物之中，从与不具有肟结构的化合物相比，更容易将解离温度设在优选的范围，且容易减少显影残渣的观点出发，优选为具有将肟化合物用作封端剂的肟结构的化合物。

封端异氰酸酯化合物可以具有聚合性基团。作为聚合性基团，并没有特别限制，能够使用公知的聚合性基团，优选为自由基聚合性基团。作为聚合性基团，可以举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基等烯键式不饱和基团以及缩水甘油基等具有环氧基的基团。其中，作为聚合性基团，优选为烯键式不饱和基团，更优选为(甲基)丙烯酰氧基，进一步优选为丙烯酰氧基。

作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，可以举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BP等(以上为SHOWA DENKO K.K.制造)、封端型的Duranate系列(例如，Duranate(注册商标)TPA-B80E、Duranate(注册商标)WT32-B75P等，Asahi Kasei Chemicals Corporation制造)。并且，作为封端异氰酸酯化合物，也能够使用下述结构的化合物。

[化学式2]

热交联性化合物可以单独使用一种，也可以使用两种以上。在感光层包含热交联性化合物的情况下，热交联性化合物的含量相对于感光层的总质量优选为1质量％～50质量％，更优选为5质量％～30质量％。

(感光层的成分：其他成分)

感光层可以含有除了上述的成分以外的其他成分。作为其他成分，例如可以举出自由基聚合抑制剂、表面活性剂、敏化剂、各种添加剂等。其他成分可以单独使用一种，也可以使用两种以上。

感光层可以包含自由基聚合抑制剂。作为自由基聚合抑制剂，例如可以举出日本专利第4502784号公报的0018段落中所记载的热聚合抑制剂。其中，优选为吩噻嗪、吩噁嗪或4-甲氧基苯酚。作为其他自由基聚合抑制剂，可以举出萘胺、氯化亚铜、亚硝基苯基羟基胺铝盐及二苯基亚硝基胺等。为了不损害感光层的灵敏度，优选为将亚硝基苯基羟基胺铝盐用作自由基聚合抑制剂。

自由基聚合抑制剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。在感光层包含自由基聚合抑制剂的情况下，自由基聚合抑制剂的含量相对于感光层的总质量优选为0.001质量％～5.0质量％，更优选为0.01质量％～3.0质量％，进一步优选为0.02质量％～2.0质量％。并且，自由基聚合抑制剂的含量相对于聚合性化合物的总质量优选为0.005质量％～5.0质量％，更优选为0.01质量％～3.0质量％，进一步优选为0.01质量％～1.0质量％。

感光层优选包含表面活性剂。作为表面活性剂，例如可以举出日本专利第4502784号公报的0017段落及日本特开2009-237362号公报的0060～0071段落中所记载的表面活性剂。并且，作为表面活性剂，优选为非离子类表面活性剂、氟类表面活性剂或者硅酮类表面活性剂。

作为氟类表面活性剂的市售品，例如可以举出MEGAFACE(产品名称)F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-444、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP.MFS-330、EXP.MFS-578、EXP.MFS578-2、EXP.MFS-579、EXP.MFS-586、EXP.MFS-587、EXP.MFS-628、EXP.MFS-631、EXP.MFS-603、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上为DIC Corporation制造)、Fluorad(产品名称)FC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3MLimited制造)、Surflon(产品名称)S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为AGC Inc.制造)、PolyFox(产品名称)PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVA Solutions Inc.制造)、Ftergent(产品名称)710FL、710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F、251、212M、250、209F、222F、208G、710LA、710FS、730LM、650AC、681、683(以上为Neos Company Limited制造)、U-120E(Uni-chem Co.，Ltd.)等。并且，氟类表面活性剂也能够优选地使用丙烯酸系化合物，该丙烯酸系化合物具有具备含有氟原子的官能团的分子结构，若加热，则因含有氟原子的官能团部分被切断而氟原子被挥发。作为这种氟类表面活性剂，可以举出DIC Corporation制的MEGAFACE(产品名称)DS系列(化学工业日报(2016年2月22日)、日经产业新闻(2016年2月23日))、例如MEGAFACE(产品名称)DS-21。

并且，作为氟类表面活性剂，也优选为使用具有氟化烷基或者氟化亚烷基醚基的含氟原子的乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。作为氟类表面活性剂，也能够使用封端聚合物。氟类表面活性剂也能够优选地使用含氟高分子化合物，该含氟高分子化合物含有：源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元；及源自具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元。作为氟类表面活性剂，也能够使用在侧链中具有烯键式不饱和基团的含氟聚合物。可以举出MEGAFACE(产品名称)RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上为DIC Corporation制)等。作为氟类表面活性剂，例如，也可以使用具有碳原子数为7以上的直链状全氟烷基的化合物。但是，从提高环境适应性的观点出发，作为氟类表面活性剂，优选为使用全氟辛酸(PFOA)或全氟辛烷磺酸(PFOS)的替代材料。

作为非离子类表面活性剂，可以举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及它们的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、作为具体的例子，PLURONIC(产品名称)L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上为BASF公司制)、TETRONIC(产品名称)304、701、704、901、904、150R1、HYDROPALAT WE 3323(以上为BASF公司制)、SOLSPERSE(产品名称)20000(以上为Lubrizol Japan Ltd.制)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上为FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)、PIONIN(产品名称)D-1105、D-6112、D-6112-W、D-6315(以上为Takemoto Oil&Fat Co.，Ltd.制)、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440(以上为Nissin Chemical Co.，Ltd.制)等。

作为硅酮类表面活性剂，可以举出包括硅氧烷键的直链状聚合物及将有机基团导入到侧链或末端中的改性硅氧烷聚合物。作为硅酮类表面活性剂的具体例，可以举出EXP.S-309-2、EXP.S-315、EXP.S-503-2、EXP.S-505-2(以上为DIC Corporation制造)、DOWSIL(产品名称)8032ADDITIVE、Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、ToraySilicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray SiliconeSH29PA、Toray Silicone SH30PA、ToraySilicone SH8400(以上为Dow Corning TorayCo.，Ltd.制造)以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002、KP-101、KP-103、KP-104、KP-105、KP-106、KP-109、KP-112、KP-120、KP-121、KP-124、KP-125、KP-301、KP-306、KP-310、KP-322、KP-323、KP-327、KP-341、KP-368、KP-369、KP-611、KP-620、KP-621、KP-626、KP-652(以上为Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上为Momentive Performance Materials Inc.制造)、BYK300、BYK306、BYK307、BYK310、BYK320、BYK323、BYK325、BYK330、BYK313、BYK315N、BYK331、BYK333、BYK345、BYK347、BYK348、BYK349、BYK370、BYK377、BYK378、BYK323(以上为BYK Chemie公司制造)等。

感光层可以单独含有一种表面活性剂，也可以含有两种以上的表面活性剂。表面活性剂的含量相对于感光层的总质量优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～3质量％。

感光层可以包含敏化剂。敏化剂并没有特别限制，能够使用公知的敏化剂、染料以及颜料。作为敏化剂，例如可以举出二烷基氨基二苯甲酮化合物、吡唑啉化合物、蒽化合物、香豆素化合物、呫吨酮(xanthone)化合物、噻吨酮(thioxanthone)化合物、吖啶酮化合物、噁唑化合物、苯并噁唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、三唑化合物(例如，1，2，4-三唑)、芪化合物、三嗪化合物、噻吩化合物、萘二甲酰亚胺化合物、三芳基胺化合物及氨基吖啶化合物。

敏化剂可以单独使用一种，也可以使用两种以上。当感光层包含敏化剂时，敏化剂的含量能够根据目的适当选择，但从提高对光源的灵敏度及通过聚合速度与链转移的平衡而提高固化速度的观点出发，相对于感光层的总质量优选为0.01～5质量％，更优选为0.05～1质量％。

感光层除了上述成分以外，根据需要可以含有公知的添加剂。作为添加剂，例如可以举出增塑剂、杂环状化合物、苯并三唑类、羧基苯并三唑类、吡啶类(异烟酰胺等)、嘌呤碱(腺嘌呤等)及溶剂。感光层可以单独含有一种各添加剂，也可以含有两种以上的各添加剂。

作为苯并三唑类，例如可以举出1，2，3-苯并三唑、1-氯-1，2，3-苯并三唑、双(N-2-乙基己基)氨基亚甲基-1，2，3-苯并三唑、双(N-2-乙基己基)氨基亚甲基-1，2，3-甲苯基三唑及双(N-2-羟基乙基)氨基亚甲基-1，2，3-苯并三唑等。

作为羧基苯并三唑类，例如可以举出4-羧基-1，2，3-苯并三唑、5-羧基-1，2，3-苯并三唑、N-(N，N-二-2-乙基己基)氨基亚甲基羧基苯并三唑、N-(N，N-二-2-羟基乙基)氨基亚甲基羧基苯并三唑及N-(N，N--二-2-乙基己基)氨基亚乙基羧基苯并三唑等。作为羧基苯并三唑类，例如能够使用CBT-1(JOHOKUCHEMICAL CO.，LTD.，产品名称)等市售品。

苯并三唑类及羧基苯并三唑类的合计含量相对于感光层的总质量优选为0.01质量％～3质量％，更优选为0.05质量％～1质量％。从对感光层赋予保存稳定性的观点出发，优选为将上述含量设为0.01质量％以上。另一方面，从维持灵敏度并抑制染料的脱色的观点出发，优选为将上述含量设为3质量％以下。

感光层可以含有选自增塑剂及杂环状化合物中的至少一种。

作为增塑剂及杂环状化合物，可以举出国际公开第2018/179640号的0097～0103及0111～0118段落中所记载的化合物。

感光层可以含有溶剂。在由含有溶剂的感光性树脂组合物形成感光层的情况下，有时溶剂残留在感光层中。

并且，感光层还可以含有金属氧化物粒子、抗氧化剂、分散剂、酸增殖剂、显影促进剂、导电性纤维、热产酸剂、紫外线吸收剂、增稠剂、交联剂以及有机或无机的悬浮剂等公知的添加剂。关于感光层中所包含的添加剂，记载于日本特开2014-85643号公报的0165～0184段落中，该公报的内容被编入本说明书中。

(感光层的成分：杂质等)

感光层可以包含规定量的杂质。作为杂质的具体例，可以举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡、卤素以及它们的离子。其中，卤化物离子、钠离子及钾离子容易以杂质形式混入，因此优选为设为下述含量。

感光层中的杂质的含量以质量基准计，优选为80ppm以下，更优选为10ppm以下，进一步优选为2ppm以下。杂质的含量以质量基准计能够设为1ppb以上，也可以设为0.1ppm以上。

作为将杂质设在上述范围内的方法，可以举出选择杂质的含量少的原料作为组合物的原料、在制作感光层时防止杂质混入及清洗去除。通过这种方法，能够将杂质量设定在上述范围内。

杂质例如能够通过ICP(Inductively Coupled Plasma：电感耦合等离子体)发射光谱分析法、原子吸收光谱法及离子色谱法等公知的方法来定量。

感光层中的、苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺及己烷等化合物的含量优选为少。作为这些化合物相对于感光层的总质量的含量，以质量基准计优选为100ppm以下，更优选为20ppm以下，进一步优选为4ppm以下。下限以质量基准计相对于感光层的总质量，能够设为10ppb以上，也能够设为100ppb以上。这些化合物能够通过与上述金属的杂质相同的方法来抑制含量。并且，能够通过公知的测量法来定量。

从提高可靠性及层压性的观点出发，感光层中的水的含量优选为0.01质量％～1.0质量％，更优选为0.05质量％～0.5质量％。

(感光层的成分：残留单体)

感光层有时包含与上述碱溶性树脂的各结构单元对应的残留单体。从图案形成性及可靠性的观点出发，相对于碱溶性树脂总质量，残留单体的含量优选为5,000质量ppm以下，更优选为2,000质量ppm以下，进一步优选为500质量ppm以下。下限并无特别限制，优选我1质量ppm以上，更优选为10质量ppm以上。从图案形成性及可靠性的观点出发，相对于感光层的总质量，碱溶性树脂的各结构单元的残留单体优选为3,000质量ppm以下，更优选为600质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。下限并无特别限制，优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。

通过高分子反应合成碱溶性树脂时的单体的残留单体量也优选为设为上述范围。例如，在使丙烯酸缩水甘油酯与羧酸侧链反应而合成碱溶性树脂的情况下，将丙烯酸缩水甘油酯的含量优选为设为上述范围。残留单体的量能够通过液相色谱法及气相色谱法等公知的方法来测量。

(感光层的物理性质等)

从显影性及分辨性的观点出发，感光层的厚度优选为20μm以下，更优选为10μm以下，进一步优选为8μm以下，尤其优选为5μm以下，最优选为1μm以上且5μm以下。

从密合性更优异的观点出发，感光层的波长365nm的光的透射率优选为10％以上，优选为30％以上，更优选为50％以上。上限并无特别限制，但优选为99.9％以下。

(感光层的形成方法)

感光层的形成方法只要为能够形成含有上述成分的层的方法，则不受特别限制。作为感光层的形成方法，例如，可以举出通过制备含有碱溶性树脂、烯键式不饱和化合物、光聚合引发剂以及溶剂等的感光性树脂组合物，并且将感光性树脂组合物涂布在中间层等的表面，对感光性树脂组合物的涂膜进行干燥来形成的方法。作为感光性树脂组合物的涂膜的干燥方法，优选为加热干燥及真空干燥。另外，在本发明中，“干燥”是指去除组合物中所包含的溶剂的至少一部分。作为干燥方法，例如可以举出自然干燥、加热干燥及真空干燥。能够单独或组合多个来适用上述方法。作为干燥温度，优选为80℃以上，更优选为90℃以上。并且，作为其上限值，优选为130℃以下，更优选为120℃以下。也能够连续地改变温度而进行干燥。作为干燥时间，优选为20秒以上，更优选为40秒以上，进一步优选为60秒以上。并且，作为其上限值，并不受特别限定，但优选为600秒以下，更优选为300秒以下。

作为感光层的形成中所使用的感光性树脂组合物，例如可以举出含有碱溶性树脂、烯键式不饱和化合物、光聚合引发剂、上述任意成分以及溶剂的组合物。感光性树脂组合物优选为含有溶剂，以调节感光性树脂组合物的粘度，并容易形成感光层。

作为感光性树脂组合物中所含有的溶剂，只要能够溶解或者分散碱溶性树脂、烯键式不饱和化合物、光聚合引发剂以及上述的任意成分则并没有特别限制，能够使用公知的溶剂。作为溶剂，例如，可以举出亚烷基二醇醚溶剂、亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂、醇溶剂(甲醇及乙醇等)、酮溶剂(丙酮及甲基乙基酮等)、芳香族烃溶剂(甲苯等)、非质子性极性溶剂(N，N-二甲基甲酰胺等)、环状醚溶剂(四氢呋喃等)、酯溶剂、酰胺溶剂、内酯溶剂以及包含它们中的两种以上的混合溶剂。感光性树脂组合物优选为含有选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少一种。其中，更优选为包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少一种和选自酮溶剂及环状醚溶剂中的至少一种的混合溶剂，进一步优选为至少包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少一种、酮溶剂以及环状醚溶剂这三种的混合溶剂。

作为亚烷基二醇醚溶剂，例如，可以举出乙二醇单烷基醚、乙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇二烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇单烷基醚及二丙二醇二烷基醚。作为亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂，例如，可以举出乙二醇单烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚乙酸酯以及二丙二醇单烷基醚乙酸酯。作为溶剂，可以使用国际公开第2018/179640号的0092～0094段落中所记载的溶剂以及日本特开2018-177889号公报的0014段落中所记载的溶剂，这些内容被编入本说明书中。

感光性树脂组合物可以单独含有1种溶剂，也可以含有2种以上溶剂。涂布感光性树脂组合物时的溶剂的含量相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份优选为50质量份～1，900质量份，更优选为100质量份～900质量份。

感光性树脂组合物的制备方法并没有特别限制，例如，可以举出如下方法：预先制备使各成分溶解于上述溶剂中的溶液，以规定的比例混合所得到的溶液，由此制备感光性树脂组合物。感光性树脂组合物优选为在形成感光层之前使用孔径0.2μm～30μm的过滤器进行过滤。

感光性树脂组合物的涂布方法并没有特别限制，只要以公知的方法进行涂布即可。作为涂布方法，例如可以举出狭缝涂布、旋转涂布、帘式涂布以及喷墨涂布。并且，感光层也可以通过将感光性树脂组合物涂布于后述的保护膜上并进行干燥而形成。

(转印层的构成要件：中间层)

中间层优选包含碱溶性树脂以及聚合性化合物。作为碱溶性树脂，例如可举出作为已叙述的感光层的成分的碱溶性树脂及作为后述的热塑性树脂层的成分的碱溶性树脂。作为聚合性化合物，例如，可以举出作为已叙述的感光层的成分的聚合性化合物。

在中间层包含碱溶性树脂以及聚合性化合物的情况下，中间层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比优选为0.5以上，更优选为0.6～1.1，尤其优选为0.6～0.9。中间层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比影响中间层的储能模量。例如，若中间层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比变大，则中间层的储能模量变小。若中间层的储能模量变小，则转印层转印到对象物(例如，基板)时转印层与对象物的密合性提高，分辨性也提高。另一方面，若中间层中的聚合性化合物的质量相对于碱溶性树脂的质量之比变小，则中间层的储能模量变大。若中间层的储能模量变大，则抑制转印层附着在被剥离的临时支承体或保护膜的表面，也抑制分辨性的下降。

从与邻接层的密合性的观点考虑，中间层的厚度优选为1μm以上，更优选为2μm以上。从显影性以及分辨性的观点出发，中间层的厚度优选为20μm以下，更优选为10μm以下，尤其优选为5μm以下。

中间层可以具有单层结构或多层结构。作为优选的中间层，例如可举出热塑性树脂层及水溶性树脂层。中间层可以包括热塑性树脂层、水溶性树脂层或热塑性树脂层以及水溶性树脂层这两者。中间层优选为包括热塑性树脂层及水溶性树脂层。在中间层包括热塑性树脂层及水溶性树脂层的情况下，转印膜优选为依次包含临时支承体、热塑性树脂层、水溶性树脂层、感光层以及保护膜。并且，作为中间层，例如还可以举出在日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”而记载的具有阻氧功能的阻氧层。若中间层为阻氧层，则曝光时的灵敏度提高，曝光机的时间负荷减少，从而生产率提高。

(中间层的构成要件：热塑性树脂层)

关于热塑性树脂层，例如，贴合转印膜与基板时提高对基板的追随性，抑制在基板与转印膜之间混入气泡，提高基板与转印膜的密合性。

(热塑性树脂层的成分：碱溶性树脂)

热塑性树脂层优选为含有碱溶性树脂作为热塑性树脂。作为其他树脂，例如可以举出丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺以及聚亚烷基二醇。

作为碱溶性树脂，从显影性及与相邻的层的密合性的观点出发，优选为丙烯酸树脂。其中，丙烯酸树脂是指，具有选自源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元以及源自(甲基)丙烯酸酰胺的结构单元中的至少一种结构单元的树脂。作为丙烯酸树脂，源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元以及源自(甲基)丙烯酸酰胺的结构单元的合计含量相对于丙烯酸树脂的总质量，优选为50质量％以上。其中，源自(甲基)丙烯酸的结构单元以及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量相对于丙烯酸树脂的总质量优选为30质量％～100质量％，更优选为50质量％～100质量％。

并且，碱溶性树脂优选为具有酸基的聚合物。作为酸基，可以举出羧基、磺基、磷酸基以及膦酸基，优选为羧基。从显影性的观点出发，碱溶性树脂更优选为酸值60mgKOH/g以上的碱溶性树脂，进一步优选为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。碱溶性树脂的酸值的上限并无特别限制，优选为200mgKOH/g以下，更优选为150mgKOH/g以下。

作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，并没有特别限制，能够从公知的树脂中适当选择使用。例如，可以举出日本特开2011-95716号公报的0025段中所记载的聚合物之中作为酸值为60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂的碱溶性树脂、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段中所记载的聚合物之中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂及日本特开2016-224162号公报的0053～0068段中所记载的碱溶性树脂之中酸值为60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。上述含有羧基的丙烯酸树脂中的具有羧基的结构单元的共聚比相对于丙烯酸树脂的总质量优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％，进一步优选为12质量％～30质量％。作为碱溶性树脂，从显影性及与相邻的层的密合性的观点出发，尤其优选为具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元的丙烯酸树脂。

碱溶性树脂可以具有反应性基团。作为反应性基团，只要为能够聚合的基团，例如能够加聚、缩聚或聚加成的基团即可，可以举出烯键式不饱和基团；羟基及羧基等缩聚性基团；环氧基、(封端)异氰酸酯基等聚加成反应性基团。

碱溶性树脂的重均分子量(Mw)优选为1,000以上，更优选为1万～10万，进一步优选为2万～5万。

热塑性树脂层可以单独含有1种碱溶性树脂，也可以含有2种以上碱溶性树脂。

从显影性及与相邻的层的密合性的观点出发，碱溶性树脂的含量相对于热塑性树脂层的总质量优选为10质量％～99质量％，更优选为20质量％～90质量％，进一步优选为40质量％～80质量％，尤其优选为50质量％～70质量％。

(热塑性树脂层的成分：色素)

热塑性树脂层优选为含有显色时的波长范围400nm～780nm中的极大吸收波长为450nm以上且极大吸收波长通过酸、碱或自由基而发生变化的色素(也简称为“色素B”。)。关于色素B的优选方式，除了后述的点以外，与色素N的优选方式也相同。

从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，色素B优选为极大吸收波长通过酸或自由基而发生变化的色素，更优选为极大吸收波长通过酸而发生变化的色素。从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，热塑性树脂层优选为含有作为色素B的极大吸收波长通过酸而发生变化的色素及后述的通过光而产生酸的化合物这两者。

色素B可以单独使用一种，也可以使用两种以上。

从曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，色素B的含量相对于热塑性树脂层的总质量优选为0.2质量％以上，更优选为0.2质量％～6质量％，进一步优选为0.2质量％～5质量％，尤其优选为0.25质量％～3.0质量％。

其中，色素B的含量是指，使热塑性树脂层中所包含的所有色素B处于显色状态时的色素的含量。以下，以通过自由基而显色的色素为例子，对色素B的含量的定量方法进行说明。制备在甲基乙基酮100mL中溶解有色素0.001g或0.01g的两种溶液。向所得到的各溶液中加入光自由基聚合引发剂Irgacure OXE01(产品名称，BASF公司制造)，并照射365nm的光，由此产生自由基而使所有色素成为显色状态。然后，在大气环境下，使用分光光度计(UV3100，Shimadzu Corporation制造)测量液温为25℃的各溶液的吸光度，并制作校准曲线。接着，代替色素将0.1g热塑性树脂层溶解于甲基乙基酮中，除此以外，以与上述相同的方法测量使所有色素显色的溶液的吸光度。由含有所得到的热塑性树脂层的溶液的吸光度，并根据校准曲线计算出热塑性树脂层中所包含的色素的量。

(热塑性树脂层的成分：通过光产生酸、碱或自由基的化合物)

热塑性树脂层可以含有通过光而产生酸、碱或自由基的化合物(也简称为“化合物C”。)。作为化合物C优选为受到紫外线及可见光线等活化光线而产生酸、碱或自由基的化合物。作为化合物C，能够使用公知的光产酸剂、光产碱剂以及光自由基聚合引发剂(即，光自由基产生剂)。其中，优选为光产酸剂。

从分辨性的观点出发，热塑性树脂层优选为含有光产酸剂。作为光产酸剂，可以举出上述感光层可以含有的光阳离子聚合引发剂，除了后述的点以外，优选方式也相同。

作为光产酸剂，从灵敏度及分辨性的观点出发，优选为含有选自鎓盐化合物及肟磺酸酯化合物中的至少一种化合物，从灵敏度、分辨性及密合性的观点出发，更优选为含有肟磺酸酯化合物。并且，作为光产酸剂，还优选为具有以下结构的光产酸剂。

[化学式3]

热塑性树脂可以含有光自由基聚合引发剂。作为光自由基聚合引发剂，可以举出上述感光层可以含有的光自由基聚合引发剂，优选方式也相同。

热塑性树脂层可以含有光产碱剂。作为光产碱剂，只要为公知的光产碱剂，则不受特别限制，例如可以举出2-硝基苄基环己基氨甲酸酯、三苯基甲醇、O-氨甲酰基羟基酰胺、O-氨甲酰基肟、{[(2，6-二硝基苄基)氧基]羰基}环己基胺、双{[(2-硝基苄基)氧基]羰基}己烷-1，6-二胺、4-(甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗啉基乙烷、(4-吗啉基苯甲酰基)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、N-(2-硝基苄氧基羰基)吡咯烷、六氨合钴(III)三(三苯基甲基硼酸盐)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮、2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2-硝基苯基)-1，4-二氢吡啶以及2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2，4-二硝基苯基)-1，4-二氢吡啶。

热塑性树脂层可以单独含有1种化合物C，也可以含有2种以上化合物C。

从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，化合物C的含量相对于热塑性树脂层的总质量优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.5质量％～5质量％。

(热塑性树脂层的成分：增塑剂)

从分辨性、与相邻的层的密合性及显影性的观点出发，热塑性树脂层优选为含有增塑剂。

增塑剂的分子量优选为小于碱溶性树脂的分子量(低聚物或聚合物时为重均分子量(Mw))。增塑剂的分子量(重均分子量(Mw))优选为200～2,000。

增塑剂只要为与碱溶性树脂相容而显现可塑性的化合物，则不受特别限制，但从赋予可塑性的观点出发，增塑剂优选为在分子中具有亚烷氧基，更优选为聚亚烷基二醇化合物。增塑剂中所包含的亚烷基氧基更优选具有聚乙烯氧基结构或聚丙烯氧基结构。

并且，从分辨性及保存稳定性的观点出发，增塑剂优选为含有(甲基)丙烯酸酯化合物。从相容性、分辨性以及与相邻的层的密合性的观点出发，更优选为碱溶性树脂为丙烯酸树脂且增塑剂含有(甲基)丙烯酸酯化合物。作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，可以举出作为上述感光层中所含有的烯键式不饱和化合物而记载的(甲基)丙烯酸酯化合物。

当在转印膜中热塑性树脂层与感光层直接接触而层叠时，优选为热塑性树脂层及感光层均含有相同的(甲基)丙烯酸酯化合物。这是因为，通过热塑性树脂层及感光层分别含有相同的(甲基)丙烯酸酯化合物，可抑制层间的成分扩散，提高保存稳定性。

在热塑性树脂层含有(甲基)丙烯酸酯化合物作为增塑剂的情况下，从与相邻的层的密合性的观点出发，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物即使在曝光后的曝光部中也不会聚合。

并且，从分辨性、与邻接层的密合性以及显影性的观点出发，作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，优选为在一个分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。

此外，作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，还优选为具有酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。

热塑性树脂层可以单独含有1种增塑剂，也可以含有2种以上的增塑剂。

从分辨性、与相邻的层的密合性以及显影性的观点出发，增塑剂的含量相对于热塑性树脂层的总质量优选为1质量％～70质量％，更优选为10质量％～60质量％，尤其优选为20质量％～50质量％。

(热塑性树脂层的成分：表面活性剂)

从厚度均匀性的观点出发，热塑性树脂层优选为含有表面活性剂。作为表面活性剂，可以举出上述感光层可以含有的表面活性剂，优选方式也相同。

热塑性树脂层可以单独含有1种表面活性剂，也可以含有2种以上的表面活性剂。

表面活性剂的含量相对于热塑性树脂层的总质量优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～3质量％。

(热塑性树脂层的成分：敏化剂)

热塑性树脂层可以含有敏化剂。作为敏化剂，并没有特别限制，可以举出上述感光层可以含有的敏化剂。

热塑性树脂层可以单独含有1种敏化剂，也可以含有2种以上的敏化剂。

敏化剂的含量能够根据目的适当选择，从提高对光源的灵敏度以及曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，相对于热塑性树脂层的总质量优选为0.01质量％～5质量％的范围，更优选为0.05质量％～1质量％的范围。

(热塑性树脂层的成分：添加剂等)

热塑性树脂层除上述成分以外，可以根据需要含有公知的添加剂。并且，关于热塑性树脂层，记载于日本特开2014-85643号公报的0189～0193段落中，该公报中所记载的内容被编入本说明书中。

(热塑性树脂层的物理性质等)

热塑性树脂层的层厚并无特别限制，但从与相邻的层的密合性的观点出发，优选为1μm以上，更优选为2μm以上。上限并无特别限制，但从显影性及分辨性的观点出发，优选为20μm以下，更优选为10μm以下，进一步优选为5μm以下。

(热塑性树脂层的形成方法)

热塑性树脂层的形成方法只要是能够形成含有上述成分的层的方法，则并无特别限制。作为热塑性树脂层的形成方法，例如可以举出如下方法：通过制备含有上述的成分和溶剂的热塑性树脂组合物，并将热塑性树脂组合物涂布于临时支承体等的表面，并且对热塑性树脂组合物的涂膜进行干燥来形成。

热塑性树脂组合物优选为含有溶剂，以调节热塑性树脂组合物的粘度，并容易形成热塑性树脂层。

作为热塑性树脂组合物中所含有的溶剂，只要能够溶解或分散热塑性树脂层中所含有的上述成分，则并无特别限制。

作为热塑性树脂组合物中所含有的溶剂，可以举出上述的感光性树脂组合物可以含有的溶剂，优选方式也相同。

热塑性树脂组合物中所含有的溶剂可以是单独1种，也可以是2种以上。

涂布热塑性树脂组合物时的溶剂的含量相对于热塑性树脂组合物中的总固体成分100质量份优选为50质量份～1,900质量份，更优选为100质量份～900质量份。

热塑性树脂组合物的制备及热塑性树脂层的形成，按照上述的感光性树脂组合物的制备方法及感光层的形成方法进行即可。

例如，预先制备使热塑性树脂中所含有的各成分溶解在上述溶剂中的溶液，以规定的比例混合所得到的溶液，由此制备热塑性树脂组合物之后，将所得到的热塑性树脂组合物涂布在临时支承体的表面，并且使热塑性树脂组合物的涂膜干燥，由此形成热塑性树脂。

并且，可以在后述的保护膜上形成感光层及中间层之后，在中间层的表面形成热塑性树脂层。

(转印层的构成要件：水溶性树脂层)

水溶性树脂层优选为含有水溶性树脂。作为水溶性树脂，例如可以举出聚乙烯醇类树脂、聚乙烯吡咯烷酮类树脂、纤维素类树脂、丙烯酰胺类树脂、聚环氧乙烷类树脂、明胶、乙烯醚类树脂、聚酰胺树脂以及它们的共聚物等树脂。从抑制多个层间的成分的混合的观点出发，水溶性树脂层中所含有的树脂优选为与感光层中所含有的聚合物A及热塑性树脂层中所含有的热塑性树脂(例如，碱溶性树脂)均不同的树脂。

从阻氧性以及抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合的观点出发，水溶性树脂层优选为含有聚乙烯醇，更优选为含有聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮这两者。

水溶性树脂层可以单独含有一种水溶性树脂，也可以含有两种以上的水溶性树脂。

水溶性树脂层中的水溶性树脂的含量并不受特别限制，从阻氧性以及抑制涂布多个层时及涂布后的保存时的成分的混合的观点出发，相对于水溶性树脂层的总质量优选为50质量％～100质量％，更优选为70质量％～100质量％，进一步优选为80质量％～100质量％，尤其优选为90质量％～100质量％。

并且，水溶性树脂层根据需要可以含有表面活性剂等添加剂。

水溶性树脂层的层厚并不受特别限制，但优选为0.1μm～5μm，更优选为0.5μm～3μm。

这是因为，若水溶性树脂层的厚度在上述范围内，则不会使阻氧性下降而能够抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合，并且能够抑制显影时的水溶性树脂层的去除时间增加。

水溶性树脂层的形成方法并没有特别限制，例如可举出制备含有上述树脂及任意的添加剂的水溶性树脂组合物，涂布于热塑性树脂层或者感光层的表面，并且对水溶性树脂组合物的涂膜进行干燥，由此形成水溶性树脂层的方法。水溶性树脂组合物优选为含有溶剂，以调节水溶性树脂组合物的粘度，并且容易形成水溶性树脂层。

作为水溶性树脂组合物中所含有的溶剂，只要能够溶解或分散上述树脂，则不受特别限制，优选为选自水及水混合性有机溶剂中的至少一种，更优选为水或者水与水混合性有机溶剂的混合溶剂。

作为水混合性有机溶剂，例如可以举出碳原子数1～3的醇、丙酮、乙二醇及甘油，优选为碳原子数1～3的醇，更优选为甲醇或乙醇。

(转印膜的构成要件：保护膜)

本发明的一实施方式所涉及的转印膜包括保护膜。作为构成保护膜的材料，可以举出树脂膜及纸，从强度及柔性的观点出发，优选树脂膜。作为树脂膜，可以举出聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜以及聚碳酸酯膜。其中，优选为聚乙烯膜、聚丙烯膜或者聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

保护膜的厚度(层厚)并不受特别限制，但优选为1μm～100μm，更优选为5μm～50μm，进一步优选为5μm～40μm，尤其优选为15μm～30μm。并且，从分辨性更优异的观点出发，与保护膜的感光层接触的表面(以下简称为“保护膜的表面”)的算术平均粗糙度Ra值优选为0.3μm以下，更优选为0.1μm以下，进一步优选为0.05μm以下。认为这是因为通过保护膜的表面的Ra值在上述范围内，感光层及所形成的树脂图案的层厚的均匀性提高。保护膜的表面的Ra值的下限并不受特别限制，但优选为0.001μm以上。

保护膜的表面的Ra值利用以下方法进行测量。使用三维光学轮廓仪(NewView7300，Zygo公司制造)在以下条件下测量保护膜的表面而得到光学膜的表面轮廓。作为测量/分析软件，使用MetroPro ver8.3.2的Microscope Application(显微镜应用)。接着，通过上述分析软件显示Surface Map画面，在Surface Map画面中得到直方图数据。由所得到的直方图数据算出算术平均粗糙度，得到保护膜的表面的Ra值。在保护膜贴合在转印膜的情况下，从转印膜剥离保护膜，测量所剥离的一侧的表面的Ra值。

通过公知的方法来实施将保护膜导入到转印膜。例如，通过转印层与保护膜的贴合，保护膜配置在转印层上。作为用于贴合转印层与保护膜的装置，例如，可以举出真空层压机以及自动切割层压机等公知的层压机。层压机优选为具备橡胶辊等任意的可加热的辊，并且能够进行加压及加热。并且，在转印膜的制造中，可以在保护膜上依次形成转印层以及临时支承体。

(临时支承体、感光层以及保护膜的关系)

在本发明的一实施方式所涉及的转印膜中，优选为将感光层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率为15％以上，临时支承体的感光层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为50nm以下，保护膜的感光层侧的表面的算术平均粗糙度Ra为15Onm以下。

并且，本发明所涉及的转印膜优选为满足下述式(R1)。

X×Y<1,500 式(R1)

其中，上述式(R1)中，X表示使感光层固化而成的固化膜在120℃下的断裂伸长率的值(％)，Y表示临时支承体的感光层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)。X×Y更优选为750以下。

优选为相对于使感光层固化而成的固化膜在23℃下的断裂伸长率，在120℃下的断裂伸长率大2倍以上。使用固化膜，通过拉伸试验测量断裂伸长率，该固化膜为利用超高压汞灯以120mJ/cm²对厚度20μm的感光层进行曝光而使其固化之后，用高压汞灯以400mJ/cm²进一步追加进行曝光，并且在145℃条件下加热30分钟之后的固化膜。

并且，本发明所涉及的转印膜优选为满足下述式(R2)。

Y≤Z 式(R2)

其中，在上述式(R2)中，Y表示临时支承体的感光层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)，Z表示保护膜的感光层侧的表面的算术平均粗糙度Ra的值(nm)。

(转印膜的制造方法)

本发明所涉及的转印膜的制造方法并没有特别限制，能够使用公知的制造方法，例如能够使用公知的各层的形成方法。以下，参考图1，对本发明所涉及的转印膜的制造方法进行说明。但是，本发明所涉及的转印膜并不限于具有图1所示的结构的转印膜。

作为转印膜100的制造方法，例如，可以举出包括将中间层用组合物涂布在临时支承体10的表面之后，使中间层用组合物的涂膜干燥而形成中间层20的工序以及将包含碱溶性树脂以及烯键式不饱和化合物的感光性树脂组合物涂布在中间层20的表面之后，使感光性树脂组合物的涂膜干燥而形成感光层30的工序的方法。在上述的制造方法中，优选为使用包含选自水以及水混和性的有机溶剂中的至少1种的中间层用组合物，进一步使用包含选自碱溶性树脂、烯键式不饱和化合物、亚烷基二醇醚溶剂以及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种的感光性树脂组合物。

将保护膜40压接在通过上述的制造方法制造而成的层叠体的感光层30上，由此制造转印膜100。作为本发明中所使用的转印膜的制造方法，优选为通过包括以与感光层30中的与设置有临时支承体10的一侧相反的一侧的面接触的方式设置保护膜40的工序，制造具备临时支承体10、中间层20、感光层30以及保护膜40的转印膜100。通过上述的制造方法制造转印膜100之后，可以通过卷取转印膜100而制作及保管卷形态的转印膜。卷形态的转印膜能够以保持原样的形态提供给后述的以卷对卷方式与基板贴合的工序。

本发明的一实施方式所涉及的转印膜能够优选用于需要利用光刻法进行精密微细加工的各种用途。在将感光层图案化之后，可以将感光层作为被膜进行蚀刻，也可以进行以镀敷为主体的电铸。并且，通过图案化而得到的固化膜可以用作永久膜，例如可以用作层间绝缘膜、配线保护膜、具有折射率匹配层的配线保护膜等。本发明的一实施方式所涉及的转印膜优选为用于形成抗蚀图案。并且，本发明的一实施方式所涉及的转印膜可以优选地用于半导体封装、印制电路板、传感器基板的各种配线形成用途、触摸面板、电磁波屏蔽材料、膜加热器之类的导电性膜、液晶密封材料、微型机械或微电子领域中的结构物的形成等用途中。

并且，本发明的一实施方式所涉及的转印膜也可以优选举出感光层包含颜料的着色树脂层的方式。作为着色树脂层的用途，除了上述以外，例如适合于形成用于液晶显示装置(LCD)以及固体摄像元件〔例如，CCD(charge-coupled device：电荷耦合器件)及CMOS(complementary metal oxide semiconductor：互补金属氧化物膜)〕的滤色器等着色像素或黑矩阵的用途。近年来，有时为了保护液晶显示窗而在电子设备所具有的液晶显示窗上安装有在透明的玻璃基板等的背面周缘部形成有黑色的框状遮光层的盖玻璃(coverglass)。为了形成这种遮光层，可以使用着色树脂层。关于着色树脂层中的除颜料以外的方式，与上述方式相同。

作为用于着色树脂层的颜料，只要根据所期望的色相适当选择即可，能够从黑色颜料、白色颜料、除黑色及白色以外的彩色颜料中选择。其中，当形成黑色系图案时，作为颜料，优选地选择黑色颜料。

作为黑色颜料，只要在不损害本发明中的效果的范围内，则能够适当选择公知的黑色颜料(有机颜料或无机颜料等)。其中，从光密度的观点出发，作为黑色颜料，例如可以优选举出炭黑、氧化钛、碳化钛、氧化铁、氧化钛及石墨，尤其优选为炭黑。作为炭黑，从表面电阻的观点出发，优选为表面的至少一部分被树脂包覆的炭黑。

从分散稳定性的观点出发，黑色颜料的粒径以数均粒径计优选为0.001μm～0.1μm，更优选为0.01μm～0.08μm。其中，粒径是指，根据用电子显微镜拍摄的颜料粒子的照片图像求出颜料粒子的面积，并且考虑与颜料粒子的面积相同面积的圆时的圆的直径，数均粒径为，对任意100个粒子求出上述粒径，并且将所求出的100个粒径进行平均而得到的平均值。

作为除黑色颜料以外的颜料，关于白色颜料，能够使用日本特开2005-007765号公报的0015及0114段落中所记载的白色颜料。具体而言，在白色颜料之中，作为无机颜料，优选为氧化钛、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白碳、氧化铝、氢氧化铝或硫酸钡，更优选氧化钛或氧化锌，进一步优选为氧化钛。作为无机颜料，进一步优选为金红石型或锐钛矿型的氧化钛，尤其优选为金红石型的氧化钛。并且，氧化钛的表面可以实施二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、二氧化锆处理或有机物处理，也可以实施2种以上的处理。由此，氧化钛的催化活性得到抑制，耐热性及褪光性等得到改善。从减薄加热后的感光层的厚度的观点出发，作为对氧化钛的表面的表面处理，优选为氧化铝处理及二氧化锆处理中的至少一个，尤其优选为氧化铝处理及二氧化锆处理这两个。

并且，当感光层为着色树脂层时，从转印性的观点出发，也优选为感光层还包含除黑色颜料及白色颜料以外的彩色颜料。当包含彩色颜料时，作为彩色颜料的粒径，在分散性更优异的观点上，优选为0.1μm以下，更优选为0.08μm以下。作为彩色颜料，例如可以举出维多利亚纯蓝BO(Color Index(比色指数)(以下C.I.)42595)、金胺(C.I.41000)、脂肪黑(fatblack)HB(C.I.26150)、莫诺莱特黄(monolight yellow)GT(C.I.颜料黄12)、永久黄(permanent yellow)GR(C.I.颜料黄17)、永久黄HR(C.I.颜料黄83)、永久胭脂红(permanent carmine)FBB(C.I.颜料红146)、赫斯塔巴姆红(hostaperm red)ESB(C.I.颜料紫19)、永久宝石红(permanent ruby)FBH(C.I.颜料红11)、法斯特尔粉红(pastel pink)B司普拉(supura)(C.I.颜料红81)、莫纳斯特拉坚牢蓝(monastral fast blue)(C.I.颜料蓝15)、莫诺莱特坚牢黑B(C.I.颜料黑1)及碳、C.I.颜料红97、C.I.颜料红122、C.I.颜料红149、C.I.颜料红168、C.I.颜料红177、C.I.颜料红180、C.I.颜料红192、C.I.颜料红215、C.I.颜料绿7、C.I.颜料蓝15：1、C.I.颜料蓝15：4、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝64及C.I.颜料紫23。其中，优选为C.I.颜料红177。

当感光层包含颜料时，作为颜料的含量，相对于感光层的总质量优选为超过3质量％且40质量％以下，更优选为超过3质量％且35质量％以下，进一步优选为超过5质量％且35质量％以下，尤其优选为10质量％以上且35质量％以下。

当感光层包含除黑色颜料以外的颜料(白色颜料及彩色颜料)时，除黑色颜料以外的颜料的含量相对于黑色颜料优选为30质量％以下，更优选为1质量％～20质量％，进一步优选为3质量％～15质量％。

另外，当感光层包含黑色颜料且感光层由感光性树脂组合物形成时，黑色颜料(优选炭黑)优选为以颜料分散液的形态导入到感光性树脂组合物中。分散液可以通过将预先混合黑色颜料和颜料分散剂而得到的混合物加入到有机溶剂(或媒液(vehicle))中并且用分散机使其分散而制备。颜料分散剂只要根据颜料及溶剂选择即可，例如能够使用市售的分散剂。另外，媒液是指制成颜料分散液时使颜料分散的媒介部分，其为液状，包含将黑色颜料以分散状态保持的粘合剂成分和溶解及稀释粘合剂成分的溶剂成分(优选为有机溶剂)。

作为分散机，并没有特别限制，例如可以举出捏合机、辊磨机、磨碎机(attritor)、超级研磨机(super mill)、溶解器(dissolver)、均质混合器(homo mixer)及砂磨机(sandmill)等公知的分散机。此外，也可以通过机械式磨碎，利用摩擦力进行微粉碎。关于分散机及微粉碎，能够参考“颜料词典”(朝仓邦造著，第一版，朝仓书店，2000年，438页，310页)的记载。

<导体图案的制造方法>

本发明的一实施方式所涉及的导体图案的制造方法依次包括：剥离本发明的一实施方式所涉及的转印膜的保护膜的工序(以下，有时称为“保护膜的剥离工序”。)；贴合上述转印膜与包含金属层的基板，在上述基板的上述金属层的上依次配置上述转印层以及上述临时支承体的工序(以下，有时称为“贴合工序”。)；曝光上述转印层的工序(以下，有时称为“曝光工序”。)；对上述转印层进行显影，形成抗蚀图案的工序(以下，有时称为“抗蚀图案形成工序”。)；对未覆盖上述抗蚀图案的上述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序(以下，有时称为“蚀刻或者镀敷工序”。)；以及剥离上述抗蚀图案的工序(以下，有时称为“抗蚀图案的剥离工序”。)。上述的导体图案的制造方法在贴合工序与曝光工序之间可以包括剥离临时支承体的工序(以下，有时称为“临时支承体的剥离工序”。)。上述的导体图案的制造方法在曝光工序之前，可以包括临时支承体的剥离工序。

本发明的另一实施方式所涉及的导体图案的制造方法依次包括：剥离本发明的一实施方式所涉及的转印膜的保护膜的工序(即，“保护膜的剥离工序”。)；贴合上述转印膜与包含金属层的基板，在上述基板的上述金属层上依次配置上述转印层以及上述临时支承体的工序(即，“贴合工序”。)；剥离上述临时支承体的工序(即，“临时支承体的剥离工序”)；曝光上述转印层的工序(即，“曝光工序”。)；对上述转印层进行显影，形成抗蚀图案的工序(即，“抗蚀图案形成工序”。)；对未覆盖上述抗蚀图案的上述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序(即，“蚀刻或者镀敷工序”。)；以及剥离上述抗蚀图案的工序(即，“抗蚀图案的剥离工序”。)。

以下，对上述的各实施方式所涉及的工序的具体的方式进行说明。另外，导体图案的制造方法中所使用的转印膜的方式如上所述。在以下的说明中，省略转印膜的说明。

(保护膜的剥离工序)

在保护膜的剥离工序中，剥离转印膜的保护膜。作为保护膜的剥离方法，适用公知的方法。在保护膜的剥离工序中，例如，能够使用与日本特开2010-072589号公报的0161～0162段中所记载的覆盖膜剥离机构相同的机构。

剥离保护膜时的保护膜的剥离强度优选为0.3mN/mm～2.0mN/mm，更优选为0.3mN/mm～1.5mN/mm，尤其优选为0.5mN/mm～1.0mN/mm。若保护膜的剥离强度变大，则防止无意中保护膜被剥离，并且提高操作性。若保护膜的剥离强度变小，则转印层难以附着在被剥离的保护膜的表面。保护膜的剥离强度通过以下的方法来测量。将胶带(NITTO DENKOCORPORATI0N制造PRINTACK)粘贴在转印膜的保护膜的表面之后，将其剪切成70mm×10mm的大小来制作试样。将试样的临时支承体固定在试样台上。使用拉伸压缩试验机(IMADA-SSCorporation.制造SV-55)，将胶带沿180度的方向以5.5mm/秒进行拉伸而剥离保护膜，并且测量保护膜的剥离强度。另外，与上述的保护膜的剥离强度有关的事项不仅适用于本发明所涉及的导体图案的制造方法中所使用的转印膜的保护膜，还适用于上述“转印膜的构成要件：保护膜”项中所记载的保护膜。

(贴合工序)

在贴合工序中，将转印膜与包括金属层的基板进行贴合，在基板的金属层上依次配置转印层以及临时支承体。转印膜与基板的贴合优选为包括将转印膜与基板进行压接。

作为压接转印膜与基板的方法，并没有特别限制，能够使用公知的转印方法以及层压方法。转印膜与基板的贴合优选为通过将转印膜和基板进行重叠，使用辊等装置实施加压以及加热来进行。在贴合中，能够使用层压机、真空层压机以及能够进一步提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。作为层压温度，并不受特别限制，例如优选为70～130℃。

包括贴合工序的导体图案的制造方法优选为以卷对卷方式进行。以下，对卷对卷方式进行说明。卷对卷方式是指如下方式：使用能够进行卷取及展开的基板作为基板，包括在导体图案的制造方法中所包括的任意工序之前展开基板或包括基板的结构体的工序(也称为“展开工序”。)及在任一工序之后卷取基板或包扩基板的结构体的工序(也称为“卷取工序”。)，一边输送基板或包括基板的结构体，一边进行至少任一工序(优选为所有工序或除加热工序以外的所有工序)。作为展开工序中的展开方法及卷取工序中的卷取方法，并没有特别限制，在适用卷对卷方式的制造方法中，使用公知的方法即可。

作为基板，例如可以举出树脂基板、玻璃基板以及半导体基板。作为基板的优选方式，例如，可以举出国际公开第2018/155193号的0140段的记载，该内容被编入本说明书中。作为树脂基板的材料，优选为环烯烃聚合物以及聚酰亚胺。树脂基板的厚度优选为5μm～200μm，更优选为10μm～100μm。

基板包括金属层。基板可以包括2层以上的金属层。作为金属层中所包含的金属，例如，可以举出Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo、Ag以及Au。金属层优选为包含选自铜及银中的至少1种，更优选为包含铜或者银。

基板可以包括除了金属层以外的层。作为金属层以外的层，例如，可以举出导电性金属氧化物层、石墨烯层、碳纳米管层以及导电聚合物层。作为导电性金属氧化物，可以举出ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)以及SiO₂。另外，在本发明中，“导电性”是指，体积电阻率小于1×10⁶Ωcm。导电性金属氧化物的体积电阻率优选为小于1×10⁴Ωcm。

基板可以包括透明电极以及迂回配线的至少一个。如上所述的基板能够优选地用作触摸面板用基板。透明电极能够优选地作为触摸面板用电极而发挥作用。透明电极优选为由ITO(氧化铟锡)及IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜以及金属网及金属纳米线等金属细线构成。作为金属细线，可以举出银、铜等细线。其中，优选为银网、银纳米线等银导电性材料。作为迂回配线的材质，优选为金属。关于作为迂回配线的材质的金属，可以举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及由它们的金属元素的两种以上形成的合金。作为迂回配线的材质，优选为铜、钼、铝或钛，尤其优选为铜。

(临时支承体的剥离工序)

在临时支承体的剥离工序中，剥离临时支承体。具体而言，剥离通过贴合工序得到的层叠体的临时支承体。通过临时支承体的剥离，通常使转印层暴露。作为临时支承体的剥离方法，适用公知的方法。在临时支承体的剥离工序中，例如，能够使用与日本特开2010-072589号公报的0161～0162段中所记载的覆盖膜剥离机构相同的机构。

剥离临时支承体时的临时支承体的剥离强度优选为0.3mN/mm～2.5mN/mm，更优选为0.3mN/mm～1.5mN/mm，尤其优选为0.5mN/mm～1.0mN/mm。若临时支承体的剥离强度变大，则防止无意中临时支承体被剥离，并且提高操作性。若临时支承体的剥离强度变小，则转印层难以附着在被剥离的临时支承体的表面。并且，为了在临时支承体之前剥离保护膜，优选为使临时支承体的剥离强度高于保护膜的剥离强度。临时支承体的剥离强度通过以下的方法来测量。通过从转印膜剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜和基板(具体而言是铜基板)进行贴合来得到层叠体。将胶带(NITTO制造PRINTACK)粘贴在通过如上所述的贴合工序得到的层叠体的临时支承体的表面之后，将其剪切成70mm×10mm来制作试样。将试样的基板固定在试样台上。使用拉伸压缩试验机(IMADA-SS Corporation.制造SV-55)，将胶带沿180度的方向以5.5mm/秒进行拉伸而剥离临时支承体，并且测量临时支承体的剥离强度。另外，与上述的临时支承体的剥离强度有关的事项还可以适用于上述“转印膜的构成要件：临时支承体”项中所记载的临时支承体。在与上述的临时支承体的剥离强度有关的事项适用于上述“转印膜的构成要件：临时支承体”项中所记载的临时支承体的情况下，临时支承体的剥离强度的测量中所使用的层叠体是通过从转印膜剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜和基板进行贴合来得到。

(曝光工序)

在曝光工序中，对转印层进行曝光。在曝光工序中，优选为对转印层进行图案曝光。“图案曝光”是指以图案状曝光的方式、即存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。图案曝光中的曝光部与未曝光部的位置关系并没有特别限制，可以适当调整。曝光可以沿着从基板朝向转印层的方向实施，也可以沿着从转印层朝向基板的方向实施。

图案曝光中的图案的详细配置及具体尺寸并不受特别限制。例如，为了提高具备具有电路配线的输入装置的显示装置(例如触摸面板)的显示质量，并且减少引出配线所占的面积，图案的至少一部分(优选为触摸面板的电极图案和/或引出配线的部分)优选为包含宽度为20μm以下的细线，更优选为包含宽度为10μm以下的细线。

曝光中使用的光源只要是照射能够曝光转印层(尤其是感光层)的波长的光(例如、365nm或405nm)的光源，则能够适当选择而使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯以及LED(Light Emitting Diode：发光二极管)。作为曝光量，优选为5mJ/cm²～200mJ/cm²，更优选为10mJ/cm²～100mJ/cm²。作为用于曝光的光源、曝光量及曝光方法的优选方式，例如，可以举出国际公开第2018/155193号的0146～0147段中的记载，这些内容被编入本说明书中。

曝光工序可以在剥离临时支承体之后实施，也可以在剥离临时支承体之前实施。在曝光前剥离临时支承体的情况下，掩模可以与转印层(尤其是感光层)接触而进行曝光，也可以不接触而接近转印层(尤其是感光层)进行曝光。在不剥离临时支承体而进行曝光的情况下，掩模可以与临时支承体接触而进行曝光，也可以不接触而接近临时支承体进行曝光。为了防止因转印层(尤其是感光层)与掩模的接触而引起的掩模污染及避免因附着于掩模的异物而引起的对曝光的影响，优选为不剥离临时支承体而进行图案曝光。另外，关于曝光方式，在接触曝光的情况下，能够使用接触曝光方式，在非接触曝光方式的情况下，能够适当选择使用接近曝光方式、透镜系或反射镜系的投影曝光方式以及使用曝光激光器等的直接曝光方式。在透镜系或镜子系的投影曝光的情况下，能够根据所需要的分辨率、焦深使用具有适当的透镜的数值孔径(NA)的曝光机。在直接曝光方式的情况下，可以对转印层(尤其是感光层)进行描绘，也可以经由透镜对转印层(尤其是感光层)进行缩小投影曝光。并且，曝光不仅可以在大气下进行，也可以在减压、真空下进行，并且，可以将水等液体介于光源与转印层(尤其是感光层)之间来进行曝光。

(抗蚀图案形成工序)

在抗蚀图案形成工序中，对转印层进行显影来形成抗蚀图案。显影能够使用显影液来进行。

作为显影液，例如，能够使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。作为显影液，优选为以0.05mol/L～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物的碱水溶液类显影液。显影液可以含有水溶性有机溶剂和/或表面活性剂。作为可以包含于碱性水溶液中的碱性化合物，例如可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵以及胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)。作为显影液，还可以优选举出国际公开第2015/093271号的0194段中记载的显影液。

作为优选使用的显影方式，例如，可以举出国际公开第2015/093271号的0195段中记载的显影方式。

作为显影方式，并没有特别限制，可以为旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影以及浸渍显影中的任一种。喷淋显影是指，通过喷淋对曝光后的感光层喷射显影液，由此去除曝光部或者非曝光部的显影处理。优选为在显影之后，通过喷淋喷射清洗剂，一边利用刷子擦拭，一边去除显影残渣。显影液的液温并不受特别限制，优选为20℃～40℃。

(蚀刻或者镀敷工序)

在蚀刻或者镀敷工序中，对未覆盖有抗蚀图案的金属层进行蚀刻或者镀敷。若对未覆盖有抗蚀图案的金属层进行蚀刻，则未覆盖有抗蚀图案的金属层被去除而形成导体图案。若对未覆盖有抗蚀图案的金属层进行镀敷，则在未覆盖有抗蚀图案的金属层上形成导体图案。后者的方法有时被称为半加法。在某一实施方式中，优选为对未覆盖有抗蚀图案的金属层进行蚀刻。在某一实施方式中，优选为对未覆盖有抗蚀图案的金属层进行镀敷。

作为蚀刻的方法，能够适用公知的方法，例如可以举出日本特开2017-120435号公报的0209段～0210段中所记载的方法、日本特开2010-152155号公报的0048段～0054段中所记载的方法、浸渍于蚀刻液的湿式刻蚀法及基于等离子蚀刻等干式蚀刻的方法。

用于湿式蚀刻的蚀刻液只要根据蚀刻的对象而适当选择酸性或碱性蚀刻液即可。作为酸性蚀刻液，例如可以举出选自盐酸、硫酸、硝酸、乙酸、氟酸、草酸及磷酸的单独的酸性成分的水溶液，以及酸性成分与选自氯化亚铁、氟化铵及过锰酸钾的盐的混合水溶液。酸性成分也可以为将多个酸性成分组合而成的成分。作为碱性蚀刻液，可以举出选自氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺及有机胺的盐(氢氧化四甲基铵等)的单独的碱成分的水溶液，以及碱成分与盐(过锰酸钾等)的混合水溶液。碱成分也可以为将多个碱成分组合而成的成分。

作为镀敷的方法，能够适用公知的方法，例如，可以举出电镀以及非电解镀敷。镀敷优选为电镀，更优选为电镀铜。

作为在电镀中使用的镀敷液的成分，例如，可以举出水溶性铜盐。作为水溶性铜盐，能够使用通常用作镀敷液的成分的水溶性铜盐。作为水溶性铜盐，例如，优选为选自无机铜盐、链烷磺酸铜盐、烷醇磺酸铜盐以及有机酸铜盐中的至少1种。作为无机铜盐，例如，可以举出硫酸铜、氧化铜、氯化铜以及碳酸铜。作为链烷磺酸铜盐，例如，可以举出甲磺酸铜以及丙磺酸铜。作为烷醇磺酸铜盐，例如，可以举出羟乙磺酸铜以及丙醇磺酸铜。作为有机酸铜盐，例如，可以举出乙酸铜、柠檬酸铜以及酒石酸铜。

镀敷液可以含有硫酸。通过镀敷液包含硫酸，能够调整镀敷液的pH以及硫酸根离子浓度。

电镀的方法以及条件并不受限制。例如，通过向加入了镀敷液的镀敷槽供给显影工序后的透明基材，能够在导体图案上形成具有导电性的图案。在电镀中，例如，通过控制电流密度以及透明基材的传送速度，能够形成具有导电性的图案。

电镀中所使用的镀敷液的温度优选为70℃以下，更优选为10℃～4()℃。电镀时的电流密度优选为0.1A/dm²～100A/dm²，更优选为0.5A/dm²～20A/dmw。通过提高电流密度能够提高导体图案的生产率。通过降低电流密度能够提高导体图案的厚度均匀性。

(抗蚀图案的剥离工序)

在抗蚀图案的剥离工序中，剥离抗蚀图案。作为抗蚀图案的剥离方法，并不受特别限制，可以举出通过药品处理去除的方法，优选为使用去除液去除的方法。作为抗蚀图案的剥离方法，可以举出在液温为优选为30℃～80℃、更优选为50℃～80℃的搅拌中的去除液中将具有抗蚀图案的基板浸渍1分钟～30分钟的方法。

作为去除液，例如可以举出将无机碱成分或者有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合溶液而成的去除液。作为无机碱成分，例如可以举出氢氧化钠及氢氧化钾。作为有机碱成分，可以举出伯胺化合物、仲胺化合物、叔胺化合物及季铵盐化合物。并且，也可以使用去除液并通过喷涂法、喷淋法以及旋覆浸没法等公知的方法来去除。

(后曝光工序及后烘烤工序)

某一实施方式所涉及的导体图案的制造方法可以包括对通过抗蚀图案形成工序得到的抗蚀图案进行曝光的工序(后曝光工序)和/或进行加热的工序(后烘烤工序)。在导体图案的制造方法包括后曝光工序及后烘烤工序这两者的情况下，优选为后曝光后实施后烘烤。

后曝光的曝光量优选为100mJ/cm²～5,000mJ/cm²，更优选为200mJ/cm²～3,000mJ/cm²。

后烘烤的温度优选为80℃～250℃，更优选为90℃～160℃。

后烘烤的时间优选为1分钟～180分钟，更优选为10分钟～60分钟。

(其他工序)

作为可适用于导体图案的制造方法的工序，例如，也可以举出日本特开2006-23696号公报的0035～0051段中记载的工序。作为可适用于导体图案的制造方法的工序，例如，也可以举出在国际公开第2019/022089号的0172段中记载的降低可见光线反射率的工序以及在国际公开第2019/022089号的0172段中记载的在绝缘膜上形成新的导电层得工序，但是并不限于这些工序。

某一实施方式所涉及的导体图案的制造方法可以包括进行降低基板所具有的多个金属层的一部分或全部的可见光线反射率的处理的工序。作为降低可见光线反射率的处理，可以举出氧化处理。当基板具有含有铜的金属层时，对铜进行氧化处理而使其成为氧化铜，并使金属层黑化，由此能够降低金属层的可见光线反射率。关于降低可见光线反射率的处理，记载于日本特开2014-150118号公报的0017～0025段、以及日本特开2013-206315号公报的0041段、0042段、0048段及0058段中，这些公报中所记载的内容被编入到本说明书中。

某一实施方式所涉及的导体图案的制造方法也优选为包括导体图案的表面形成绝缘膜的工序和在绝缘膜的表面形成新的导电层的工序。通过上述工序，能够形成与第一电极图案绝缘的第二电极图案。作为形成绝缘膜的工序，并没有特别限制，可以举出公知的形成永久膜的方法。并且，也可以使用具有绝缘性的感光性材料并通过光刻法形成所期望的图案的绝缘膜。在绝缘膜上形成新的导电层的工序并没有特别限制，例如可以使用具有导电性的感光性材料并通过光刻法形成所期望的图案的新的导电层。

导体图案的制造方法也优选为使用在基板的两个表面分别具有多个金属层的基板，并且对形成于基板的两个表面的金属层逐次或同时形成电路。通过这种结构，能够形成在基板的一个表面上形成有第一导体图案且在另一个表面上形成有第二导体图案的触摸面板用电路配线。并且，也优选为以辊对辊方式从基板的两个面形成这种结构的触摸面板用电路配线。

(导体图案的用途)

导体图案能够适用于各种装置。作为具备通过上述制造方法制造的导体图案的装置，例如可以举出输入装置，优选为触摸面板，更优选为静电电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机EL显示装置及液晶显示装置等显示装置。

<触摸面板的制造方法>

本发明的一实施方式所涉及的触摸面板的制造方法依次包括：剥离本发明的一实施方式所涉及的转印膜的保护膜的工序(即，“保护膜的剥离工序”。)；贴合上述转印膜与包含金属层的基板，在上述基板的上述金属层上依次配置转印层以及临时支承体的工序(即，“贴合工序”。)；曝光上述转印层的工序(即，“曝光工序”。)；对上述转印层进行显影，形成抗蚀图案的工序(即，“抗蚀图案形成工序”。)；对未覆盖上述抗蚀图案的上述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序(即，“蚀刻或者镀敷工序”。)；以及剥离上述抗蚀图案的工序(即，“抗蚀图案的剥离工序”。)。上述的触摸面板的制造方法在贴合工序与曝光工序之间可以包括剥离临时支承体的工序(即，“临时支承体的剥离工序”)。上述的触摸面板的制造方法在曝光工序之前可以包括临时支承体的剥离工序。

本发明的另一实施方式所涉及的触摸面板的制造方法依次包括：剥离本发明的一实施方式所涉及的转印膜的保护膜的工序(即，“保护膜的剥离工序”。)；贴合上述转印膜与包含金属层的基板，在上述基板的上述金属层上依次配置转印层以及临时支承体的工序(即，“贴合工序”。)；剥离上述临时支承体的工序(即，“临时支承体的剥离工序”)；曝光上述转印层的工序(即，“曝光工序”。)；对上述转印层进行显影，形成抗蚀图案的工序(即，“抗蚀图案形成工序”。)；对未覆盖上述抗蚀图案的上述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序(即，“蚀刻或者镀敷工序”。)；以及剥离上述抗蚀图案的工序(即，“抗蚀图案的剥离工序”。)。

关于触摸面板的制造方法中的、各工序的具体方式以及进行各工序的顺序等实施方式，如在上述的“层叠体的制造方法”以及“电路配线的制造方法”的项中所说明的那样，优选方式也相同。触摸面板的制造方法除了通过上述的方法形成触摸面板用配线以外，可以参考公知的触摸面板的制造方法。并且，触摸面板的制造方法也可以包括除上述以外的任意的工序(其他工序)。

在图2及图3中示出触摸面板的制造中所使用的掩模的图案的一例。在图2所示的图案A及图3所示的图案B中，GR为非图像部(遮光部)，EX为图像部(曝光部)，DL为虚拟表示对准用框的部分。在触摸面板的制造方法中，例如，通过隔着具有图2中所示的图案A的掩模，对上述感光层进行曝光，能够制造形成有具有与EX对应的图案A的电路配线的触摸面板。具体而言，能够通过国际公开第2016/190405号的图1中所述的方法进行制作。在所制造的触摸面板的一例中，曝光部EX的中央部(连接四角的图案部分)为形成有透明电极(触摸面板用电极)的部分，曝光部EX的周缘部(细线部分)为形成有外围引出部的配线的部分。

通过上述的触摸面板的制造方法，可以制造至少具有触摸面板用配线的触摸面板。触摸面板优选具有透明基板、电极、绝缘层或者保护层。作为触摸面板中的检测方法，可以举出电阻膜方式、静电电容方式、超声波方式、电磁感应方式以及光学方式等公知的方式。其中，优选为静电电容方式。

作为触摸面板型，能够举出所谓的内嵌型(例如，日本特表2012-517051号公报的图5、图6、图7、图8中所记载的内嵌型)、所谓的外嵌型(例如，日本特开2013-168125号公报的图19中所记载的外嵌型、以及日本特开2012-89102号公报的图1及图5中所记载的外嵌型)、OGS(One Glass Solution：单片玻璃触控技术)型、TOL(Touch-on-Lens：覆盖层触摸)型(例如，日本特开2013-54727号公报的图2中所记载的TOL型)、各种外挂型(所谓的GG、G1·G2、GFF、GF2、GF1及G1F等)以及其他结构(例如，日本特开2013-164871号公报的图6中所记载的结构)。作为触摸面板，例如，可以举出日本特开2017-120435号公报的0229段中所记载的触摸面板。

实施例

以下举出实施例对本发明的实施方式进行更具体的说明。只要不脱离本发明的实施方式的宗旨，则能够适当变更以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理工序等。因此，本发明的实施方式的范围并不限于以下所示的具体例。另外，除非另有说明，则“份”、“％”为质量基准。并且，在以下实施例中，树脂的重均分子量为通过基于凝胶渗透色谱(GPC)的聚苯乙烯换算求出的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。

<临时支承体1>

通过以下的方法制作了临时支承体1。

(含粒子层形成组合物1)

以下述所示的配方混合各成分而得到了含粒子层形成组合物1。制备含粒子层形成组合物1之后，利用6μm过滤器(F20，MAHLE JapanLtd.制造)进行过滤，接着，使用2×6Radial Flow Super Phobic(Polypore Co.，Ltd.制造)进行了膜脱气。

·丙烯酸聚合物(AS-563A，Daicel Fine Chem Ltd.制造，固体成分27.5质量％)167份

·非离子类表面活性剂(NAROACTY CL95，Sanyo Chemical Industries，Ltd.制造，固体成分100质量％)0.7份

·阴离子类表面活性剂(RAPISOL A-90，NOF CORPORATION制造，用水稀释为固体成分1质量％)114.4份

·巴西棕榈蜡分散物(Cellosol 524，CHUKYO YUSHI CO.，LTD.制造，固体成分30质量％)7份

·碳二亚胺化合物(CARBODILITE V-02-L2，Nisshinbo Chemical Inc.制造，用水稀释为固体成分10质量％)20.9质量份

·消光剂(SNOWTEX XL，Nissan Chemical Corporation制造，固体成分40质量％，平均粒径50nm)：2.8份

·水：690.2份

(挤出成型)

将日本专利第5575671号公报中所记载的以柠檬酸螯合有机钛络合物为聚合催化剂的聚对苯二甲酸乙二酯的颗粒干燥至含水率50ppm以下之后，投入到直径30mm的单轴混炼挤出机的料斗中，在280℃条件下熔融并进行了挤出。使该熔融体(熔体)通过过滤器(孔径2μm)之后，从模中挤出至25℃的冷却辊上，得到了未拉伸膜。另外，使用静电施加法，使所挤出的熔体与冷却辊密合。

(拉伸及涂布)

利用以下方法对固化的未拉伸膜实施逐次双轴拉伸而得到了包括厚度16μm的聚酯膜和厚度40nm的含粒子层的临时支承体。

(a)纵向拉伸

使未拉伸膜在圆周速度不同的2对夹持辊之间通过而沿纵向(输送方向)进行了拉伸。另外，将预热温度设为75℃、拉伸温度设为90℃、拉伸倍率设为3.4倍、拉伸速度设为1300％/秒而进行了实施。

(b)涂布

用棒涂机在经纵向拉伸的膜的单面以制膜后成为40nm的厚度的方式涂布了含粒子层形成组合物1。

(c)横向拉伸

使用拉幅机在下述条件下对进行了上述纵向拉伸和涂布的膜进行了横向拉伸。

预热温度：110℃

拉伸温度：120℃

拉伸倍率：4.2倍

拉伸速度：50％/秒

(热定型及热松弛)

在下述条件下对结束纵向拉伸及横向拉伸之后的双轴拉伸膜进行了热定型。

热定型温度：227℃

热定型时间：6秒

在热定型之后，缩小拉幅机的宽度，在下述条件下进行了热松弛。

热松弛温度：190℃

热松弛率：4％

(卷取)

在热定型及热松弛之后，修整两端，在端部以宽度10mm进行挤出加工(滚花)之后，以张力40kg/m进行了卷取。另外，宽度为1.5m，卷长为6300m。将所得到的膜卷设为临时支承体1。临时支承体1的雾度为0.2。另外，使用雾度计(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.，LTD.制造，NDH2000)，作为总光雾度而测量了雾度。并且，基于在150℃、30分钟加热的热收缩率在MD(输送方向，Machine Direction)侧为1.0％，在TD(在膜的面上与输送方向正交的方向，Transverse Direction)侧为0.2％。并且，由剖面TEM照片测量含粒子层的膜厚，其为40nm。使用Hitachi High-Technologies Corporation制造的HT-7700型透射式电子显微镜(TEM)，利用上述方法测量了含粒子层中所包含的粒子的平均粒径，其结果为50nm。

<水溶性树脂组合物>

将以下的成分进行混合，得到了用作水溶性树脂层的材料1的水溶性树脂组合物。

·离子交换水：38.12份

·甲醇(Mitsubishi Gas Chemical Company，Inc.制造)：57.17份

·KURARAY POVAL 4-88LA(聚乙烯醇，Kuraray Co.，Ltd.制造)：3.22份

·聚乙烯吡咯烷酮K-30(NIPPON SHOKUBAICO.，LTD.制造)：1.49份

·MEGAFACE F-444(氟类表面活性剂，DIC Corporat ion制造)：0.0035份

<感光性树脂组合物>

准备了包含甲基乙基酮(SANKYO CHEMICAL Co.，Ltd.制造，60份)以及丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制造，40份)的混合溶剂。将表1中所记载的各成分和混合溶剂进行混合，分别制备了表1中以材料1～4以及5A～5E表示的感光性树脂组合物。另外，混合溶剂的添加量调整成感光性组合物的固体成分浓度成为13质量％。

[表1]

<热塑性树脂组合物>

将表2中所记载的成分进行混合，得到了用作热塑性树脂的材料的热塑性树脂组合物。

[表2]

表2中所记载的简称的含义如下所示。

·A-2：甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/丙烯酸共聚合物(75质量％/10质量％/15质量％、重均分子量：30,000、Tg：75℃、酸值：186mgKOH/g)

·B-1：下述所示的结构的化合物(通过酸而显色的色素)

[化学式4]

·C-1：下述所示的结构的化合物(光产酸剂，日本特开2013-47765号公报的0227段中记载的化合物，根据0227段中记载的方法进行了合成。)

[化学式5]

·D-3：NK Ester A-DCP(三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯，Shin-Nakamura ChemicalCo.，Ltd.)

·D-4：8UX-015A(多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物、TAISEI FINE CHEMICALCO，.LTD.)

·D-5：ARONIX TO-2349(具有羧基的多官能丙烯酸酯化合物、Toagosei Company，Limited)

·E-1：Megafac F552(DIC Corporation)

·F-1：吩噻嗪(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)

·F-2：CBT-1(JOHOKU CHEMICAL CO.，LTD)

·MEK：甲基乙基酮

·PGME：丙二醇单甲醚

·PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯

<转印膜>

按照表3的记载，在临时支承体上依次形成了根据需要的热塑性树脂、根据需要的水溶性树脂层以及感光层。通过涂布以及干燥热塑性树脂组合物来形成了热塑性树脂。通过涂布以及干燥水溶性树脂组合物来形成了水溶性树脂层。通过涂布以及干燥感光性树脂组合物来形成了感光层。按照表3的记载，在感光层上设置保护膜而得到了转印膜。

<铜基板>

通过溅射在聚对苯二甲酸乙二酯膜上形成具有200nm的厚度的铜层来得到了铜基板。所得到的铜基板用于以下的评价。

<储能模量>

使用粘弹性测量装置(TA Instruments.制造Rheometer DHR-2)、20mmφ的平行板以及帕耳帖板(Gap：约0.5mm)，在温度20℃～125℃、升温速度5℃/分钟、频率1Hz以及应变0.5％的条件下测量了热塑性树脂层以及感光层的储能模量。具体而言，在测量之前以80℃～95℃的条件下在帕耳帖板上使试样熔融，以降温速度5℃/分冷却至20℃之后，以Gap规定模式进行了测量。对储能模量采用在25℃下的值。将测量结果示于表3。

<粗糙度Ra>

通过以下方法，测量了朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra以及朝向临时支承体的转印层的表面的粗糙度Ra。从转印膜剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜贴附于铜基板上。使用三维光学轮廓仪(New View7300，Zygo公司)得到了对象面的表面轮廓。作为测量以及分析软件，使用了“MetroPro ver8.3.2”的“Microscope Application(显微镜应用)”。通过上述软件显示“Surface Map”画面，在“Surface Map”画面中得到了直方图数据。从所得到的直方图数据，计算出对象面的算术平均粗糙度Ra。将测量结果示于表3。

<保护膜的剥离强度>

通过以下方法，测量了保护膜的剥离强度。将胶带(NITTO DENKO CORPORATION制造PRINTACK)粘贴在转印膜的保护膜的表面之后，将其剪切成70mm×10mm的大小来制作了试样。将试样的临时支承体固定在试样台上。使用拉伸压缩试验机(IMADA-SSCorporation.制造SV-55)，将胶带沿180度的方向以5.5mm/秒进行拉伸而从试样剥离保护膜，并且测量了保护膜的剥离强度。将测量结果示于表3。

<临时支承体的剥离强度>

通过以下方法，测量了临时支承体的剥离强度。从转印膜剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜贴附于铜基板上。将胶带(NITTO制造PRINTACK)粘贴在临时支承体的表面之后，将其剪切成70mm×10mm来制作了试样。将试样的铜基板固定在试样台上。使用拉伸压缩试验机(IMADA-SSCorporation.制造SV-55)，将胶带沿180度的方向以5.5mm/秒进行拉伸而从试样剥离临时支承体，并且测量了临时支承体的剥离强度。将测量结果示于表3。

<分辨性>

从转印膜剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜贴附于铜基板上。从所得到的层叠体剥离临时支承体，使配置在铜基板上的转印层和具有线与空间图案的光掩模接触，使用超高压汞灯对转印层进行了曝光。使用28℃的1.0质量％碳酸钠水溶液对经曝光的转印层实施了40秒钟的喷淋显影。在5/5～8/8的范围内变更光掩模的线与空间(即，L/S)实施上述的一连串的顺序，并且按照以下基准评价了分辨性。将评价结果示于表3中。

A：在L/S＝5/5～L/S＝6/6的条件下，能够在树脂图案之间无残渣地进行分辨。

B：在L/S＝7/7～L/S＝8/8的条件下，能够在图案之间无残渣地进行分辨。

C：在L/S＝8/8的条件下无法进行分辨。

<层压性>

从转印膜剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜贴附于铜基板上。使用光学显微镜观察了所得到的层叠体。计数宽度1mm以及长度1mm的区域中存在于转印膜与铜基板之间的气泡。根据所观察到的气泡的数量，按照以下基准，评价了层压性。将评价结果示于表3中。

A：0个

B：1个以上且小于10个

C：10个以上

<剥离不良>

从转印膜剥离保护膜，目视确认保护膜的表面中有无转印层的付着物。接着，在层压辊温度100℃、线压0.6MPa以及线速度(层压速度)4.0m/分的条件下将转印膜贴附于铜基板。从所得到的层叠体剥离临时支承体，目视确认了临时支承体的表面有无转印层的付着物。求出在俯视时，在保护膜的表面的宽度100mm以及长度100mm的区域中所观察到的转印层的付着物的面积，并且求出了在临时支承体的表面的宽度100mm以及长度100mm的区域中所观察到的转印层的付着物的面积。求出转印层的付着物的面积占观察对象的区域面积(即，20，000mm²)的比例，按照以下基准评价了剥离不良。将评价结果示于表3中。

A：0％

B：超过0％且小于0.1％

C：0.1％以上

表3中所记载的“16KS40”是指，Toray Industries，Inc.制造的Lumirror 16KS40。

表3中所记载的“16FB40”是指，Toray Industries，Inc.制造的Lumirror 16FB40。

表3中所记载的“FG201”是指，Oji F-Tex Co.，Ltd.制造的ALPHAN FG-201。

表3中所记载的“M/B”是指，聚合性化合物与碱溶性树脂的质量比。

表3中所记载的“10^5”是指10⁵。

表3中所记载的“10^6”是指10⁶。

表3中所记载的“10^7”是指10⁷。

表3中所记载的“10^8”是指10⁸。

在表3中“临时支承体”栏中所记载的“表面的粗糙度Ra”是指，朝向转印层的临时支承体的表面的粗糙度Ra。

在表3中“转印层”栏中所记载的“表面的粗糙度Ra”是指，朝向临时支承体的转印层的表面的粗糙度Ra。

在表3所示的实施例中，在25℃下的转印层的保护膜侧的储能模量在1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa的范围内。表3表示实施例的分辨性更优异于比较例的分辨性。

(符号说明)

10-临时支承体，20-中间层，30-感光层，40-保护膜，100-转印膜，GR-遮光部(非图像部)，EX-曝光部(图像部)，DL-对准用框。

关于在2021年2月26日申请的日本专利申请第2021-030223号的公开，通过参考而将其整体编入到本说明书中。

在本说明书中记载的所有文献、专利申请及技术标准与具体且分别记载各文献、专利申请及技术标准通过参考而被编入的情况相同程度地，通过参考而编入到本说明书中。

Claims (14)

1.一种转印膜，其依次包含临时支承体、转印层以及保护膜，

在25℃下的所述转印层的所述保护膜侧的储能模量为1.0×10⁶Pa～3.0×10⁸Pa。

2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，

在25℃下的所述转印层的所述临时支承体侧的储能模量为1.0×10⁶Pa以上。

3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其中，

朝向所述临时支承体的所述转印层的表面的粗糙度Ra为0.1nm～15nm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜，其中，

朝向所述转印层的所述临时支承体的表面的粗糙度Ra为0.1nm～15nm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其中，

所述转印层为感光层。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其中，

所述转印层包括中间层以及感光层。

7.根据权利要求6所述的转印膜，其中，

所述中间层包含碱溶性树脂以及聚合性化合物，所述中间层中的所述聚合性化合物的质量相对于所述碱溶性树脂的质量之比为0.5以上。

8.根据权利要求6或7所述的转印膜，其中，

所述中间层的厚度为10μm以下。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的转印膜，其中，

所述中间层包含热塑性树脂层以及水溶性树脂层。

10.根据权利要求5至9中任一项所述的转印膜，其中，

所述感光层包含碱溶性树脂以及聚合性化合物，所述感光层中的所述聚合性化合物的质量相对于所述碱溶性树脂的质量之比为0.6以上。

11.根据权利要求5至10中任一项所述的转印膜，其中，

所述感光层的厚度为10μm以下。

12.一种导体图案的制造方法，其依次包括：

剥离权利要求1至11中任一项所述的转印膜的保护膜的工序；

将所述转印膜与包含金属层的基板进行贴合，在所述基板的所述金属层上依次配置所述转印层以及所述临时支承体的工序；

对所述转印层进行曝光的工序；

对所述转印层进行显影来形成抗蚀图案的工序；

对未覆盖所述抗蚀图案的所述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序；以及

剥离所述抗蚀图案的工序。

13.一种导体图案的制造方法，其依次包括：

剥离权利要求1至11中任一项所述的转印膜的保护膜的工序；

将所述转印膜与包含金属层的基板进行贴合，在所述基板的所述金属层上依次配置所述转印层以及所述临时支承体的工序；

剥离所述临时支承体的工序；

对所述转印层进行曝光的工序；

对所述转印层进行显影来形成抗蚀图案的工序；

对未覆盖所述抗蚀图案的所述金属层进行蚀刻或者镀敷的工序；以及

剥离所述抗蚀图案的工序。

14.根据权利要求13所述的导体图案的制造方法，其中，

剥离所述临时支承体时的所述临时支承体的剥离强度为0.3mN/mm～2.0mN/mm。