CN116880133A - 一种柔性印版曝光温控结构 - Google Patents
一种柔性印版曝光温控结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116880133A CN116880133A CN202310843669.6A CN202310843669A CN116880133A CN 116880133 A CN116880133 A CN 116880133A CN 202310843669 A CN202310843669 A CN 202310843669A CN 116880133 A CN116880133 A CN 116880133A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- assembly
- printing plate
- temperature
- shell
- controller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 12
- 230000011664 signaling Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 61
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008832 photodamage Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本申请涉及印刷技术领域,尤其是涉及一种柔性印版曝光温控结构,包括相对密闭的外壳和控制器以及安装于外壳内的支撑架、光源组件、吸取印版的吸取组件和检测温度的温度组件;光源组件与外壳连接;温度组件与外壳滑移连接;吸取组件与支撑架转动连接,吸取组件位于光源组件与温度组件之间;外壳内安装有驱动组件;吸取组件具有负压部;支撑架上安装有均流件,均流件具有平衡气流的效果;控制器用于接收温度信号以及控制光源组件、驱动组件和均流件的工作状态,光源组件、温度组件、均流件和驱动组件分别与控制器电连接。采用上述方案,能够改善现有柔性印版曝光设备曝光印版时,印版受热不均匀,导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的问题。
Description
技术领域
本申请涉及印刷技术领域,尤其是涉及一种柔性印版曝光温控结构。
背景技术
柔性印版曝光设备主要用于将设计好的图案或文字转移到柔性印版上;它通常由一个曝光机构和一个光源组成;曝光机构负责将设计好的图案或文字放置在印版上以及驱动印版转动,并确保其对准正确;光源则提供所需的紫外线或其他光源,将图案或文字曝光到印版上,使其固化。
现有的柔性印版曝光设备在曝光过程中,存在印版曝光不均匀以及图案或文字不清晰的情况;而导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的原因是,曝光时印版受热不均匀所致。
发明内容
为了改善现有柔性印版曝光设备曝光印版时,印版受热不均匀,导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的问题,本申请提供一种柔性印版曝光温控结构。
第一方面,本申请提供一种柔性印版曝光温控结构,采用如下的技术方案:
一种柔性印版曝光温控结构,包括相对密闭的外壳和控制器以及安装于外壳内的支撑架、曝光印版的光源组件、吸取印版的吸取组件和检测温度的温度组件;
所述光源组件与外壳连接,且正对吸取组件设置;
所述温度组件与外壳滑移连接;
所述吸取组件与支撑架转动连接,所述吸取组件位于光源组件与温度组件之间;
所述外壳内安装有驱动组件,所述驱动组件用于驱动吸取组件相对于支撑架转动以及驱动温度组件相对于外壳滑移;
所述吸取组件具有负压部,所述负压部具有吸取印版以及降温的效果;
所述支撑架上安装有均流件,所述均流件具有平衡气流的效果;
所述控制器用于接收温度信号以及控制光源组件、驱动组件和均流件的工作状态,所述光源组件、温度组件、均流件和驱动组件分别与控制器电连接。
通过采用上述技术方案,需要曝光印版时,将印版置于吸取组件的负压部上,印版在负压的作用下附着于吸取组件上,控制器控制驱动组件驱动吸取组件转动、温度组件滑移,以及控制光源组件工作;印版在吸取组件的作用下相对于支撑架转动,带动印版转动,使其能够均匀受到光源组件的曝光;温度组件通过滑移检测印版所处壳内的多个点位的温度,再根据多个点位的温度获取均值温度,能够提高温度检测的准确性;控制器根据获取的均值温度的温度信号,控制均流件的气流强度,从而均衡光源组件所产生的热量,使得印版能够均匀受热;同时,控制器根据温度信号,控制吸取组件的负压部的负压大小,能够控制抽走印版的热量的强度,使得印版的温度保持在一定的范围,减少印版曝光过度的问题;采用上述方案,能够改善现有柔性印版曝光设备曝光印版时,印版受热不均匀,导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的问题。
可选的,所述均流件包括均衡风扇,所述均衡风扇安装于支撑架上,且所述均衡风扇位于吸取组件的正下方,所述均衡风扇与所述控制器电连接。
通过采用上述技术方案,控制器根据温度组件反馈的信号,控制均衡风扇的转速,进而控制吹向吸取组件的气流大小,能够平衡印版所处壳内的气流,从而使印版所处壳内的温度较为均衡,提高印版的曝光质量。
可选的,所述均衡风扇具有引流部,所述引流部用于引导气流。
通过采用上述技术方案,引流部能够引导进入均衡风扇的气流,使均衡风扇向吸取组件吹出的气流较为稳定,减少出现气流偏流的问题。
可选的,所述吸取组件包括附着筒和负压件,所述附着筒安装于所述支撑架上,所述附着筒与支撑架转动连接;所述负压件安装于所述外壳内,所述负压件与所述控制器电连接;所述附着筒具有空腔,所述负压件与附着筒的空腔连通;所述负压部位于附着筒的外壁上,所述负压部与空腔连通。
通过采用上述技术方案,负压件通过将附着筒的空腔抽取至真空,从而使得负压部具有吸附力,使得印版能够牢固地附着于附着筒的外壁上;另外,负压件在提供负压的同时,还能够带走印版上的热量,使印版的温度保持在稳定的范围内,且当温度组件检测到印版所处壳内温度较高时,控制器控制负压件在一定范围中增加负压,以加快散去印版上的热量,减少印版曝光过度,造成印版过度硬化的问题。
可选的,所述光源组件包括安装于所述外壳内的支撑块以及间隔安装于支撑块上的多个灯排,多个所述灯排分别与所述控制器电连接,多个所述灯排均朝所述附着筒设置。
通过采用上述技术方案,多个灯排组合后形成一条光源条,能够产生高强度的紫外线,使得附着于附着筒的印版被逐渐曝光。
可选的,所述驱动组件包括安装于所述支撑架的第一电机,所述第一电机位于所述附着筒的正下方;所述第一电机与附着筒之间通过同步件传递动力。
通过采用上述技术方案,第一电机通过同步件带动附着筒转动,从而实现印版相对于外壳转动,使得印版能够均匀地曝光。
可选的,所述驱动组件还包括安装于机壳内的第二电机,所述第二电机与所述附着筒并列设置,所述第二电机与所述温度组件之间通过滑移件传递动力。
通过采用上述技术方案,第二电机通过滑移件带动温度组件滑移,从而实现温度组件相对于外壳滑移,使温度组件能够检测印版所处壳内的多个点位的温度。
可选的,所述机壳内安装有冷却组件,所述冷却组件与所述控制器电连接;所述冷却组件包括冷却主体,所述冷却主体具有制冷部和冷却部,所述制冷部位于所述冷却主体内,所述冷却部位于所述支撑块内;所述制冷部具有向冷却部供应冷却介质的效果,所述冷却部具有发散灯排所产生的热量的效果。
通过采用上述技术方案,冷却主体联合制冷部和冷却部,能够灯排所产生的热量带走,使灯排的工作温度保持稳定,减少灯排因高温故障的情况发生。
可选的,所述同步件包括第一同步轮、第二同步轮和同步带,所述第一同步轮与所述第一电机的输出主轴固定连接,所述第二同步轮与所述附着筒的一端固定连接,所述同步带绕接于第一同步带和第二同步带。
通过采用上述技术方案,第一电机驱动第一同步轮转动,第一同步轮通过同步带带动第二同步轮转动,第二同步轮带动附着筒转动,从而实现印版的转动,使得印版能够均匀受热。
第二方面,本申请提供一种柔性印版曝光设备,采用如下的技术方案:
一种柔性印版曝光设备,包括机床主体、控制面板和遮光板以及第一方面所述的柔性印版曝光温控结构,所述控制面板嵌设于机床主体上,所述控制面板与所述控制器电连接,所述遮光板与机床主体滑移连接;所述机床主体上开设有放料口,所述遮光板盖合于放料口,所述放料口正对所述附着筒设置。
控制面板用于操作人员调节均衡风扇转速、开关灯排、调整冷却组件的降温强度以及调整设备运行状态,能够提高调节设备的便捷度;遮光板一方面能够在设备运行时,遮挡灯排发出的强光,减少强光对视觉、皮肤造成损伤的问题,起到防护的作用,另一方面能够减少附着筒所处壳内空间的热量散发,使得印版能够均匀受热,提高印版的曝光质量;另外,结合所述的柔性印版曝光温控结构,能够均衡印版所在的壳内的温度,能够改善现有柔性印版曝光设备曝光印版时,印版受热不均匀,导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的问题。
综上所述,本申请具有以下有益效果:
1、通过设置光源组件、温度组件、吸取组件、负压部、均流件以及控制器,通过获取多个点位的温度并获得均值温度,能够提高温度检测的准确性;控制器根据获取的均值温度的温度信号,控制均流件的气流强度,从而均衡光源组件所产生的热量,使得印版能够均匀受热;同时,控制器根据温度信号,控制吸取组件的负压部的负压大小,能够控制抽走印版的热量的强度,使得印版的温度保持在一定的范围,减少印版曝光过度的问题;采用上述方案,能够改善现有柔性印版曝光设备曝光印版时,印版受热不均匀,导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的问题。
2、通过设置负压部、负压件和附着筒,负压件通过将附着筒的空腔抽取至真空,从而将印版牢固地吸附于附着筒的外壁上;另外,负压件在提供负压的同时,还能够带走印版上的热量,使印版的温度保持在稳定的范围内,且当温度组件检测到印版所处壳内温度较高时,控制器控制负压件在一定范围中增加负压,以加快散去印版上的热量,减少印版曝光过度,造成印版过度硬化的问题。
3、冷却组件就有的制冷部和冷却部,能够灯排所产生的热量带走,使灯排的工作温度保持稳定,减少灯排因高温故障的情况发生。
附图说明
图1是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构的整体结构示意图;
图2是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构的部分结构示意图;
图3是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构的另一视角的结构示意图;
图4是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构中另一视角的结构示意图;
图5是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构中附着筒和驱动组件的结构示意图;
图6是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构中均衡件的结构示意图;
图7是本申请实施例公开的柔性印版曝光温控结构中光源组件的结构示意图;
图8是本申请实施例公开的柔性印版曝光设备的整体结构示意图。
附图标记说明:
1、外壳;11、控制器;2、支撑架;3、吸取组件;31、附着筒;31A、空腔;32、负压件;32A、真空泵;33、负压部;33A、弧型凹槽;4、均衡件;41、均衡风扇;42、引流部;42A、引流口;5、光源组件;51、支撑块;52、灯排;6、第一电机;61、同步件;61A、第一同步轮;61B、同步带;61C、第二同步轮;7、第二电机;71、滑移件;71A、螺杆;71B、滑块;71C、滑道;8、温度探头;9、冷却主体;91、制冷部;91A、水冷箱;91B、水冷风扇;92、冷却部;92A、内空腔;10、机床主体;10A、控制面板;10B、遮光板;10C、放料口。
具体实施方式
以下结合附图1-8对本申请作进一步详细说明。
第一方面,本申请实施例公开一种柔性印版曝光温控结构,参见图1和图2,包括相对密闭的外壳1、控制器11、支撑架2、光源组件5、温度组件、吸取组件3和驱动组件,光源组件5安装于外壳1内;温度组件安装于外壳1内,且与外壳1滑移连接;支撑架2固定安装于外壳1内,吸取组件3安装于支撑架2上,吸取组件3与支撑架2转动连接,吸取组件3位于光源组件5与温度组件之间;吸取组件3具有负压部33,所述负压部33具有吸取印版以及降温的效果;驱动组件用于驱动吸取组件3转动以及驱动温度组件滑移;支撑架2上安装有均流件,均流件位于吸取组件3的正下方。
参见图2和图3,吸取组件3包括附着筒31和负压件32,附着筒31安装于支撑架2上,附着筒31的中心轴与支撑架2转动连接;负压件32固定安装于外壳1内;附着筒31开设有空腔31A,该空腔31A沿附着筒31的轴向方向开设,负压件32与空腔31A连通;负压部33位于附着筒31上,负压部33与空腔31A连通。
参见图3和图4,负压件32包括真空泵32A,真空泵32A固定安装于外壳1内,真空泵32A的进风口与空腔31A连通,真空泵32A与控制器11电连接;控制器11控制真空泵32A工作时,空腔31A内的空间子啊真空泵32A的作用下产生负压,负压通过负压部33传递至印版上,从而使得印版牢固地吸附在曝光底板上,同时能够带走印版上的部分热量。
参见图4和图5,负压部33包括若干弧型凹槽33A和若干通孔,若干弧型凹槽33A均绕附着筒31的外侧壁开设,开设的弧型凹槽33A的长度设置为附着筒31周长的十分之六;每个弧型凹槽33A的槽内均开设有若干通孔,若干通孔均与空腔31A连通;由于部分印版绕接附着筒31的周长为附着筒31周长的十分之七或十分之六,若开设的弧形凹槽的周长大于附着筒31的周长的十分之六,则印版绕接附着筒31的周长为附着筒31的周长的十分之六的印版较难被吸附,或者说该印版的其中一端未完全覆盖附着筒31轴周向方向上的通孔,未被覆盖的通孔处的负压与均衡件4所带来的气流相互碰撞后,印版的其中一端会发生摆动,进而影响印版的曝光质量;通过将开设的弧型凹槽33A的长度设置为附着筒31周长的十分之六,能够克服上述印版附着于附着筒31发生摆动的问题。
参见图5和图6,均衡件4包括均衡风扇41,均衡风扇41固定安装于外壳1上,均衡风扇41位于附着筒31的正下方,且均衡风扇41正对附着筒31设置,均衡风扇41与控制器11电连接;均衡风扇41具有引流部42,引流部42位于均衡风扇41的进风口处,引流部42为均衡风扇41本体上开设有的若干引流口42A,若干引流口42A间隔分布于均衡本体上;引流口42A能够引导进入均衡风扇41的气流,使均衡风扇41向附着筒31吹出的气流较为稳定,减少出现气流偏流的问题。
参见图5和图7,光源组件5包括安装于外壳1内的支撑块51以及间隔安装于支撑块51上的多个灯排52,多个灯排52分别与控制器11电连接,多个灯排52均朝附着筒31设置;灯排52通过发射强光,能够附着筒31所处壳内空间的温度升至预设的曝光温度,驱动组件通过驱动附着筒31转动,使附着筒31带动被吸附的印版转动,从而实现印版的曝光。
参见图4和图5,驱动组件包括第一电机6,第一电机6安装于支撑架2上,且位于附着筒31的正下方,第一电机6与控制器11电连接;第一电机6与附着筒31之间通过同步件61传递动力;同步件61包括第一同步轮61A、同步带61B和第二同步轮61C,第一同步轮61A与第一电机6的输出主轴固定连接,第二同步轮61C与附着筒31的一端固定连接,同步带61B依次绕接于第一同步轮61A与第二同步轮61C;第一电机6驱动第一同步轮61A转动,第一同步轮61A通过同步带61B带动第二同步轮61C转动,第二同步轮61C带动附着筒31转动,从而带动印版转动。
参见图4和图5,在本实施例中,驱动组件还包括第二电机7,第二电机7固定安装于外壳1内,且位于附着筒31的一侧,第二电机7与控制器11电连接;第二电机7与温度组件之间通过滑移件71传递动力;滑移件71包括螺杆71A、滑块71B和滑道71C,螺杆71A与第二电机7的输出主轴固定连接,滑块71B安装于滑道71C上并与滑道71C滑移连接,螺杆71A的一端穿设于滑块71B,温度组件安装于滑块71B上;第二电机7驱动螺杆71A转动,螺杆71A带动滑块71B在导轨上滑移,滑块71B带动温度组件滑移,获取印版所在壳内空间多个点位的温度;在其他实施例中,滑移件71包括齿轮条、齿轮、滑移块和导轨,滑移块安装于导轨上,且滑移块与导轨滑移连接,齿轮与第二电机7的输出主轴电连接;齿轮条固定安装于外壳1内,且齿轮条位于导轨的一侧,齿轮与齿轮条啮合;第二电机7驱动齿轮转动,齿轮通过齿条驱动滑移块沿导轨滑移,进而带动温度组件滑移,获取印版所在壳内空间多个点位的温度。
参见图4和图5,温度组件包括温度探头8,温度探头8固定安装于滑块71B上或滑移块上,温度探头8朝附着筒31设置,温度探头8与控制器11电连接;第二电机7通过驱动滑块71B或滑移块相对于外壳1滑移,进而带动温度探头8滑移,使得温度探头8获取印版所处壳内的多个点位的温度,并根据获取的多个点位的温度获得均值温度,便于控制器11根据温度信号,精准控制均衡风扇41、真空泵32A的转速大小,能够提高控制印版所处壳内空间的温度的准确度;本实施例中,温度探头8采用热敏电阻,热敏电阻具有较小的相应时间和较高的灵敏度,能够提高控制印版所处壳内空间的准确度;在其他的实施例中,温度探头8可采用热电偶和热电阻。
参见图3,机壳内安装有冷却组件,冷却组件包括冷却主体9,冷却主体9固定安装于机壳内,且冷却主体9位于支撑架2的一侧,冷却主体9具有制冷部91和冷却部92,制冷部91位于冷却主体9内,冷却部92支撑块51内;制冷部91具有向冷却部92供应冷却介质的效果,冷却部92具有发散灯排52所产生的热量的效果;本实施例中,冷却部92为半开闭的内空腔92A31A,内空腔92A31A沿支撑块51纵向方向上开设,内空腔92A31A与制冷部91之间通过水冷管连通;制冷部91具有水冷箱91A、水冷泵和水冷风扇91B,水冷箱91A和水冷泵均安装于冷却主体9内,水冷风扇91B安装于冷却主体9的侧壁上;水冷泵和水冷风扇91B分别与控制器11电连接。
参见图3,本实施例中,控制器11为MCU控制器11,MCU控制器11用于接收温度探头8的温度信号,并根据获取的多个点位的温度信号获取温度均值;以及控制第一电机6、第二电机7、均衡风扇41、真空泵32A、水冷泵和水冷风扇91B的运行状态与转速;以及控制灯排52的供电电压,以从发热源方面控制印版所处壳内空间的温度。
本申请的一种柔性印版曝光温控结构的工作原理如下:
需要曝光印版时,控制器11控制真空泵32A开始运转,附着筒31的负压部33具有负压后,将印版的一端置于附着筒31的外壁上,印版在负压的作用下附着于附着筒31的外壁上。
控制器11控制第一电机6开始运转,直至印版完全附着与附着筒31,印版开始在附着筒31的带动下在壳内转动;控制器11控制均衡风扇41、第二电机7、水冷泵和水冷风扇91B开始运转以及开启灯排52;温度探头8在第二电机7的带动下,获取不同点位的温度信号,控制器11根据不同点位的温度信号获得均值温度的温度信号,实时控制供应至灯排52的供应电压的大小,以及均衡风扇41、真空泵32A的转速大小,从而均衡印版所处壳内空间的温度,减少印版因受热不均匀,导致图案或文字不清晰的问题。
直至印版达到曝光时间,控制器11关闭灯排52,先将印版的一端取下,直至完全取下印版;放置下一张印版,控制器11开启灯排52,重复上述曝光过程。
第二方面,本申请实施例公开了一种柔性印版曝光设备,参见图1至8,包括机床主体10、控制面板10A和遮光板10B以及第一方面的柔性印版曝光温控结构,控制面板10A嵌设于机床主体10上,控制面板10A与控制器11电连接,遮光板10B与机床主体10滑移连接;机床主体10上开设有放料口10C,遮光板10B盖合于放料口10C,放料口10C正对附着筒31设置。
本申请的一种柔性印版曝光设备的工作原理如下:
需要曝光印版时,在控制面板10A上按下开启真空板的按键,真空泵32A开始运转,附着筒31的负压部33具有负压后,移开遮光板10B,从放料口10C放置印版,将印版的一端置于附着筒31的外壁上,印版在负压的作用下附着于附着筒31的外壁上,盖合遮光板10B。
在控制面板10A上按下开始曝光的按键,控制器11控制第一电机6开始运转,直至印版完全附着与附着筒31,印版开始在附着筒31的带动下在壳内转动;控制器11控制均衡风扇41、第二电机7、水冷泵和水冷风扇91B开始运转以及开启灯排52;温度探头8在第二电机7的带动下,获取不同点位的温度信号,控制器11根据不同点位的温度信号获得均值温度的温度信号,实时控制供应至灯排52的供应电压的大小,以及均衡风扇41、真空泵32A的转速大小,从而均衡印版所处壳内空间的温度,减少印版因受热不均匀,导致图案或文字不清晰的问题。
直至印版达到曝光时间,控制器11关闭灯排52,移开遮光板10B,先将印版的一端取下,直至完全取下印版;放置下一张印版,盖合遮光板10B,在控制面板10A上按下开始曝光的按键,控制器11开启灯排52,重复上述曝光过程。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种柔性印版曝光温控结构,其特征在于:包括相对密闭的外壳(1)和控制器(11)以及安装于外壳(1)内的支撑架(2)、曝光印版的光源组件(5)、吸取印版的吸取组件(3)和检测温度的温度组件;
所述光源组件(5)与外壳(1)连接,且正对吸取组件(3)设置;
所述温度组件与外壳(1)滑移连接;
所述吸取组件(3)与支撑架(2)转动连接,所述吸取组件(3)位于光源组件(5)与温度组件之间;
所述外壳(1)内安装有驱动组件,所述驱动组件用于驱动吸取组件(3)相对于支撑架(2)转动以及驱动温度组件相对于外壳(1)滑移;
所述吸取组件(3)具有负压部(33),所述负压部(33)具有吸取印版以及降温的效果;所述支撑架(2)上安装有均流件,所述均流件具有平衡气流的效果;
所述控制器(11)用于接收温度信号以及控制光源组件(5)、驱动组件和均流件的工作状态,所述光源组件(5)、温度组件、均流件和驱动组件分别与控制器(11)电连接。
2.根据权利要求1所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述均流件包括均衡风扇(41),所述均衡风扇(41)安装于支撑架(2)上,且所述均衡风扇(41)位于吸取组件(3)的正下方,所述均衡风扇(41)与所述控制器(11)电连接。
3.根据权利要求2所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述均衡风扇(41)具有引流部(42),所述引流部(42)用于引导气流。
4.根据权利要求1所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述吸取组件(3)包括附着筒(31)和负压件(32),所述附着筒(31)安装于所述支撑架(2)上,所述附着筒(31)与支撑架(2)转动连接;所述负压件(32)安装于所述外壳(1)内,所述负压件(32)与所述控制器(11)电连接;所述附着筒(31)具有空腔(31A),所述负压件(32)与附着筒(31)的空腔(31A)连通;所述负压部(33)位于附着筒(31)的外壁上,所述负压部(33)与空腔(31A)连通。
5.根据权利要求4所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述光源组件(5)包括安装于所述外壳(1)内的支撑块(51)以及间隔安装于支撑块(51)上的多个灯排(52),多个所述灯排(52)分别与所述控制器(11)电连接,多个所述灯排(52)均朝所述附着筒(31)设置。
6.根据权利要求4所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述所述驱动组件包括安装于所述支撑架(2)的第一电机(6),所述第一电机(6)位于所述附着筒(31)的正下方;所述第一电机(6)与附着筒(31)之间通过同步件(61)传递动力。
7.根据权利要求6所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述驱动组件还包括安装于机壳内的第二电机(7),所述第二电机(7)与所述附着筒(31)并列设置,所述第二电机(7)与所述温度组件之间通过滑移件(71)传递动力。
8.根据权利要求5所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述机壳内安装有冷却组件,所述冷却组件与所述控制器(11)电连接;所述冷却组件包括冷却主体(9),所述冷却主体(9)具有制冷部(91)和冷却部(92),所述制冷部(91)位于所述冷却主体(9)内,所述冷却部(92)位于所述支撑块(51)内;所述制冷部(91)具有向冷却部(92)供应冷却介质的效果,所述冷却部(92)具有发散灯排(52)所产生的热量的效果。
9.根据权利要求6所述的柔性印版曝光温控结构,其特征在于:所述同步件(61)包括第一同步轮(61A)、第二同步轮(61C)和同步带(61B),所述第一同步轮(61A)与所述第一电机(6)的输出主轴固定连接,所述第二同步轮(61C)与所述附着筒(31)的一端固定连接,所述同步带(61B)绕接于第一同步带(61B)和第二同步带(61B)。
10.一种柔性印版曝光设备,其特征在于:包括机床主体(10)、控制面板(10A)和遮光板(10B)以及上述权利要求1-9任一所述的柔性印版曝光温控结构,所述控制面板(10A)嵌设于机床主体(10)上,所述控制面板(10A)与所述控制器(11)电连接,所述遮光板(10B)与机床主体(10)滑移连接;所述机床主体(10)上开设有放料口(10C),所述遮光板(10B)盖合于放料口(10C),所述放料口(10C)正对所述附着筒(31)设置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310843669.6A CN116880133A (zh) | 2023-07-11 | 2023-07-11 | 一种柔性印版曝光温控结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310843669.6A CN116880133A (zh) | 2023-07-11 | 2023-07-11 | 一种柔性印版曝光温控结构 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116880133A true CN116880133A (zh) | 2023-10-13 |
Family
ID=88270964
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310843669.6A Pending CN116880133A (zh) | 2023-07-11 | 2023-07-11 | 一种柔性印版曝光温控结构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116880133A (zh) |
-
2023
- 2023-07-11 CN CN202310843669.6A patent/CN116880133A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07253485A (ja) | 電子機器 | |
CN116880133A (zh) | 一种柔性印版曝光温控结构 | |
CN111845045A (zh) | 一种具有散热组件的印刷机的控制方法 | |
CN117330931A (zh) | 一种用于芯片老化测试的高温老化测试系统 | |
KR100188411B1 (ko) | 차량용 워터펌프의 내구성 테스트장치 | |
CN116880132B (zh) | 一种柔性印版均匀曝光设备 | |
CN115093952A (zh) | 一种pcr检测仪及其检测方法 | |
CN211031696U (zh) | 一种uv印刷机的烘干机构 | |
CN220198843U (zh) | 一种绿色环保印刷设备 | |
CN116880132A (zh) | 一种柔性印版均匀曝光设备 | |
CN214757223U (zh) | 一种用于控制系统柜内部传感器自动循环散热装置 | |
CN219142980U (zh) | 一种多功能老化试验机 | |
CN212930818U (zh) | 一种薄膜检测用电热鼓风干燥箱 | |
CN220603672U (zh) | 一种电动汽车多路低压线束检测装置 | |
CN220817684U (zh) | 一种激光灯散热装置 | |
CN217803923U (zh) | 一种印刷机固定防护装置 | |
CN220820072U (zh) | 一种电力设施配电设备的调试装置 | |
CN213991480U (zh) | 一种自主散热的气电量仪 | |
CN219042328U (zh) | 一种可避免过热的激光干涉仪 | |
CN218928380U (zh) | 一种聚氨酯胶辊高温烘箱 | |
CN211880248U (zh) | 一种晾衣电机总成 | |
CN219935151U (zh) | 一种电气控制柜的电气设备温度监测装置 | |
CN220669743U (zh) | 一种水空调中压控制安装结构 | |
CN218928357U (zh) | 一种节能型熟化室 | |
CN218235159U (zh) | 一种隧道智能换向通风装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |