CN116839357A - 氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法，属于陶瓷烧结设备技术领域。装置包括炉体、滑道、多个底托滚子、多个耐热载体、供气机构和导热机构。方法步骤排气预热、装料、推进、连续生产和取料等步骤。本发明能够使得炉膛内形成还原气体环境，并可调节炉膛内的压力，以适合多种烧结工艺的使用；同时炉膛内可以形成不同的温度区；并通过密封的进料段和出料段方便在进料和取料时不影响炉膛内的气体环境和压力；且耐热载体在滑槽内顺畅滑动，并经过不同的温度区，连续实现预热氮化、烧结和散热的步骤，实现连续生产，提高生产效率；能量可以循环利用，便于节能，且整个炉体可以长期保持在稳定的温度，有利于保证整个烧结装置的使用寿命。

Description

氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法

技术领域

本发明属于陶瓷烧结设备技术领域，更具体地说，是涉及一种氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法。

背景技术

氮化硅陶瓷，是一种新型的无机材料陶瓷，具有高强度、低密度、耐高温等性质。氮化硅陶瓷材料的主要通过烧结工艺制备，目前采用的烧结工艺主要有反应烧结、热压烧结、无压烧结和气压烧结等。不过目前所有的烧结工艺基本都需要隔氧，并先在0～1500℃的温度范围内氮化，再在10～2000℃的温度范围内烧结后成形。

氮化硅陶瓷基片是一种用于电子电路的基本耗材，目前的烧结工艺还是批量生产，即将一批氮化硅陶瓷基片的坯体先在窑炉中氮化，之后升温烧结，再在炉内降温至合适温度后，取出并更换另一批坯体。这一过程耗时比较长，导致生产效率比较低，且窑炉需要频繁温度变化，不利于保持窑炉的寿命，另外还会导致大量能量耗散无法利用，不利于节能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法，以解决现有技术中存在的氮化硅陶瓷基片批量生产效率低且不利于保持窑炉的寿命和节能的技术问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：提供一种氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，包括炉体、滑道、多个底托滚子、多个耐热载体、供气机构和导热机构，炉体内部的炉膛从前至后依次设有进料段、预热段、烧结段、散热段和出料段，进料段和出料段的前后均设有密封门，预热段、烧结段、散热段之间均设有遮挡门，烧结段内设有加热器；滑道设在炉体内，且依次穿过进料段、预热段、烧结段、散热段和出料段，滑道上设有滑槽；多个底托滚子沿滑槽的长度方向布设在滑槽底部；多个耐热载体依次设置在滑槽内，且位于底托滚子上，且用于盛托物料；推料机构设在进料段，用以将位于进料段的耐热载体推动至预热段；取料机构设在出料段，用以将即将进入出料段的耐热载体拉入出料段；供气机构设有多个供气端口，多个供气端口分别与进料段、散热段和出料段连接；导热机构两端分别与预热段和散热段连接，以将散热段传导至预热段。

进一步地，滑槽为T形截面结构，耐热载体下部也为T形截面结构，滑槽与耐热载体下部的台阶面之间设有多个侧滚子。

进一步地，导热机构包括热管，热管设在炉膛的顶部或侧壁内部，且两端分别位于预热段和散热段。

进一步地，氮化硅陶瓷基片连续烧结装置还包括供粉机构，滑槽底部设有多道润滑导槽，每条润滑导槽均从散热段延伸至预热段，供粉机构与润滑导槽连接，以向润滑导槽内供给润滑粉体。

进一步地，供粉机构包括出粉管路、风机、料管、进粉管路、推料活塞和动力器，料管用于盛装润滑粉体，出粉管路一端与润滑导槽位于预热段的一侧连通，另一端与料管连接，风机设在出粉管路上，进粉管路一端与润滑导槽位于散热段的一侧连接，另一端与料管中部连接，推料活塞滑动设置于料管远离出粉管路的一侧，动力器与推料活塞连接，以带动推料活塞在料管内滑动。

进一步地，耐热载体上部与滑槽侧壁和相邻的耐热载体贴合的部位设有多道间隔设置的凹槽。

进一步地，耐热载体上设有若干坩埚定位结构，坩埚定位结构上设有坩埚，坩埚用于盛放物料。

进一步地，预热段和散热段内也设有遮挡门，预热段和散热段通过遮挡门分为多个腔室；密封门和遮挡门均为闸板门；底托滚子为长圆柱形辊子或梭形辊子，耐热载体的底面和滑槽的底部形状与底托滚子配合，侧滚子为短圆柱形滚子或球形滚珠，耐热载体为工字型截面结构，耐热载体的上表面与滑道的上表面平齐。

为实现上述目的，本发明又采用的技术方案是：提供一种氮化硅陶瓷基片连续烧结方法，采用上述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，包括以下步骤：

A、排气预热，先对炉膛排气，并通过供气机构向炉膛通入还原气体至额定气压，之后对炉膛预热；

B、装料，保持进料段后的密封门关闭，打开进料段前的密封门，向进料段装入底托滚子，使底托滚子排满滑槽底部，并将装载物料的耐热载体放在底托滚子上，之后关闭进料段前的密封门，并对进料段 排气并通过供气机构向进料段 通气至额定气压；

C、推进，打开进料段后的密封门，利用推料机构将进料段内的耐热载体推至预热段，再关闭进料段后的密封门；

D、连续生产，重复步骤B和C，利用后放入的耐热载体不断顶推先放入的耐热载体，使先放入的耐热载体经过预热段进行预热并氮化，再经过烧结段进行烧结，最后经过散热段散热，直至先放入的耐热载体运行至出料段前的密封门处，其中，在耐热载体运行至遮挡门处后打开遮挡门，而在耐热载体经过遮挡门后关闭遮挡门；

E、取料，在耐热载体运行至接近出料段前的密封门时，打开出料段前的密封门，利用后放入的耐热载体的推力和取料机构使耐热载体完全进入出料段内，之后关闭出料段前的密封门，并打开出料段后的密封门，将装载物料的耐热载体和底托滚子取出，之后关闭出料段后的密封门，对出料段后排气并通过供气机构向进料段 通气至额定气压。

进一步地，在装料时，先将进料段的供气端口开大，再打开进料段前的密封门，并在关闭进料段前的密封门后再调小或关闭进料段的供气端口；在取料时，先将出料段的供气端口开大，再打开出料段后的密封门，并在关闭出料段后的密封门后再调小或关闭出料段的供气端口；在排气时，均通过抽真空的方式对炉膛、进料段和出料段排气。

本发明提供的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法的有益效果在于：与现有技术相比，本发明通过设置密封门和供气机构，能够使得炉膛内形成氮气氛围或其他合适的还原气体环境，并利用供气机构调节炉膛内整体及进料段和出料段部分的压力，以适合多种烧结工艺的使用；同时通过将炉体设为进料段、预热段、烧结段、散热段和出料段，并利用遮挡门对热辐射的遮挡，可以形成不同的温度区；并通过密封门将进料段和出料段隔成独立的腔室，方便在进料和取料时不影响炉膛内的气体环境和压力；再通过滑道、底托滚子、耐热载体和推料机构的配合，能够使得耐热载体在滑槽内顺畅滑动，并经过不同的温度区，连续实现预热氮化、烧结和散热的步骤，实现连续生产，提高生产效率；同时，通过导热机构将散热区的余热传导至预热段，能便于能量的循环利用，便于节能，另外，整个炉体可以长期保持在稳定的温度，温度不会频繁变化，有利于保证整个烧结装置的使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置的轴向剖视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置的侧向剖视结构示意图。

其中，图中各附图标记如下：

10、炉体；11、进料段；12、预热段；13、烧结段；14、散热段；

15、出料段；16、密封门；17、遮挡门；18、加热器；

20、滑道；21、滑槽；22、润滑导槽；

31、底托滚子；32、侧滚子；

40、耐热载体；41、坩埚；

50、推料机构；

60、取料机构；

71、供气端口；

80、导热机构；

91、出粉管路；92、风机；93、料管；

94、进粉管路；95、推料活塞；96、动力器。

具体实施方式

为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部实施例，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要进一步说明的是，本发明的附图和实施方式主要对本发明的构思进行描述说明，在该构思的基础上，一些连接关系、位置关系、动力机构、供电系统、液压系统及控制系统等的具体形式和设置可能并未没有描述完全，但是在本领域技术人员理解本发明的构思的前提下，本领域技术人员可以采用熟知的方式对上述的具体形式和设置予以实现。

当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。

方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，“若干”的含义是一个或一个以上，除非另有明确具体的限定。

现对本发明提供的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置及方法进行说明。

如图1和图2所示，本发明第一实施方式提供了一种氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，包括炉体10、滑道20、多个底托滚子31、多个耐热载体40、供气机构和导热机构80，炉体10内部的炉膛从前至后依次设有进料段11、预热段12、烧结段13、散热段14和出料段15，进料段11和出料段15的前后均设有密封门16，预热段12、烧结段13、散热段14之间均设有遮挡门17，烧结段13内设有加热器18；滑道20设在炉体10内，且依次穿过进料段11、预热段12、烧结段13、散热段14和出料段15，滑道20上设有滑槽21；多个底托滚子31沿滑槽21的长度方向布设在滑槽21底部；多个耐热载体40依次设置在滑槽21内，且位于底托滚子31上，且用于盛托物料；推料机构50设在进料段11，用以将位于进料段11的耐热载体40推动至预热段12；取料机构60设在出料段15，用以将即将进入出料段15的耐热载体40拉入出料段15；供气机构设有多个供气端口71，多个供气端口71分别与进料段11、散热段14和出料段15连接；导热机构80两端分别与预热段12和散热段14连接，以将散热段14传导至预热段12。

本实施例提供的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，与现有技术相比，通过设置密封门16和供气机构，能够使得炉膛内形成氮气氛围或其他合适的还原气体环境，并利用供气机构调节炉膛内整体及进料段11和出料段15部分的压力，以适合多种烧结工艺的使用；同时通过将炉体10设为进料段11、预热段12、烧结段13、散热段14和出料段15，并利用遮挡门17对热辐射的遮挡，可以形成不同的温度区；并通过密封门16将进料段11和出料段15隔成独立的腔室，方便在进料和取料时不影响炉膛内的气体环境和压力；再通过滑道20、底托滚子31、耐热载体40和推料机构50的配合，能够使得耐热载体40在滑槽21内顺畅滑动，并经过不同的温度区，连续实现预热氮化、烧结和散热的步骤，实现连续生产，提高生产效率；同时，通过导热机构80将散热区的余热传导至预热段12，能便于能量的循环利用，便于节能，另外，整个炉体10可以长期保持在稳定的温度，温度不会频繁变化，有利于保证整个烧结装置的使用寿命。

如图1和图2所示，本发明在第一实施方式基础上又提供的一种具体实施方式如下：

滑槽21为T形截面结构，耐热载体40下部也为T形截面结构，滑槽21与耐热载体40下部的台阶面之间设有多个侧滚子32。这样能够对耐热载体40起到一定的限位作用，避免耐热载体40在推力作用下向上供气，同时通过侧滚子32降低摩擦。

进一步地，导热机构80包括热管，热管设在炉膛的顶部或侧壁内部，且两端分别位于预热段12和散热段14。

进一步地，氮化硅陶瓷基片连续烧结装置还包括供粉机构，滑槽21底部设有多道润滑导槽22，每条润滑导槽22均从散热段14延伸至预热段12，供粉机构与润滑导槽22连接，以向润滑导槽22内供给润滑粉体。供粉机构向润滑导槽22内输送润滑粉体，一方面使得润滑粉体可以粘在底托滚子31上和耐热载体40底部，形成粉体隔层，降低底托滚子31与滑槽21底部及侧壁的粘连和摩擦，提升底托滚子31与耐热载体40之间的滚动配合，并降低底托滚子31之间的碰撞损伤，另一方面润滑粉体可以从散热段14经烧结段13输送至预热段12，能够携带一定的热量，便于将散热段14和烧结段13传递至耐热载体40底部的热量传递至预热段12利用，也能避免耐热载体40底部温度过高，导致底托滚子31与耐热载体40发生粘连。润滑粉体可以是微硅粉、氮化硅细粉、石墨粉等呈圆球形的或自身具有润滑性的细微颗粒粉末。优选地，润滑导槽22均从散热段14中部延伸至预热段12中部，即耐热载体40完全覆盖润滑导槽22，以提升封闭性润滑导槽22的封闭性，降低润滑粉体向上逸散的可能。

进一步地，供粉机构包括出粉管路91、风机92、料管93、进粉管路94、推料活塞95和动力器96，料管93用于盛装润滑粉体，出粉管路91一端与润滑导槽22位于预热段12的一侧连通，另一端与料管93连接，风机92设在出粉管路91上，进粉管路94一端与润滑导槽22位于散热段14的一侧连接，另一端与料管93中部连接，推料活塞95滑动设置于料管93远离出粉管路91的一侧，动力器96与推料活塞95连接，以带动推料活塞95在料管93内滑动。

风机92采用适用于携带润滑粉末的气体使用，在使用时，通过风机92的动力可以对润滑导槽22位于预热段12的一侧产生吸引力，带动带有润滑粉末的气体在润滑导槽22、出粉管路91、料管93和进粉管路94之间循环，同时由于润滑粉末跨越进粉管路94进入料管93远离出粉管路91的一侧后，会沉积在料管93内，因此可以通过控制推料活塞95在料管93内的位置，来控制气体携带的润滑粉末的量，同时可以不断向气体中补充润滑粉末。进一步地，为提升气体携带润滑粉末的效果，出粉管路91和进粉管路94与料管93均偏心连接，以在料管93内形成螺旋风。

采用这种结构通过抽吸的方式能够极大地降低润滑粉体向上逸散的可能，而且料管93及其中的润滑粉末对气体能起到一定的消能作用，能够避免气体进入润滑导槽22内的流速过快而向外喷出逸散，同时由于气体和润滑粉末是在润滑导槽22、出粉管路91、料管93和进粉管路94之间内循环，因此携带的热量不会耗散，而润滑导槽22与炉膛并不是完全封闭的，存在气体流动的空隙，若管路中的气量不足或过多，可以进行一定程度上的气体交换，以保持气压的稳定。

进一步地，耐热载体40上部与滑槽21侧壁和相邻的耐热载体40贴合的部位设有多道间隔设置的凹槽，以便于滑槽21侧壁和相邻的耐热载体40之间形成迷宫密封结构，降低下方粉体和上方气体通过的可能，从而降低热量交换，以便于热量和粉体的充分利用。

进一步地，耐热载体40上设有若干坩埚定位结构，坩埚定位结构上设有坩埚41，坩埚41用于盛放物料。

进一步地，预热段12和散热段14内也设有遮挡门17，预热段12和散热段14通过遮挡门17分为多个腔室。

密封门16和遮挡门17均为闸板门，以便于开合和遮挡，为了便于密封，滑道20与炉体10之间密封连接，密封门16进入滑槽21并延伸至滑槽21底部，滑槽21侧壁上设有与密封门16配合的槽，以便密封门16向下运动时能够完全封闭滑槽21，而为了避免侧滚子32落入槽内，可以采用直径大于或远大于槽的宽度的侧滚子32，使得侧滚子32能够顺利跨越槽。

具体地，密封门16边缘可以设置耐高温的柔性垫层，以便封闭密封门16边缘的空隙，炉膛两端的密封门16的柔性垫层可以采用橡胶、硅胶等高分子材料；而位于炉膛内的密封门16的柔性垫层可以采用蛭石、云母或石墨等材料，以抵抗较高的温度。

底托滚子31为长圆柱形辊子或梭形辊子，耐热载体40的底面和滑槽21的底部形状与底托滚子31配合，侧滚子32为短圆柱形滚子或球形滚珠，耐热载体40为工字型截面结构，耐热载体40的上表面与滑道20的上表面平齐，以降低热辐射的向下传递。底托滚子31和侧滚子32的形状可以根据具体地材料等因素进行选择，优选采用梭形辊子和球形滚珠，以便于调节对中度。

本发明第二实施方式提供了一种氮化硅陶瓷基片连续烧结方法，采用上述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，包括以下步骤：

A、排气预热，先对炉膛排气，并通过供气机构向炉膛通入氮气或其他合适的还原气体至额定气压，之后对炉膛预热；

B、装料，保持进料段11后的密封门16关闭，打开进料段11前的密封门16，向进料段11装入底托滚子31，使底托滚子31排满滑槽21底部，并将装载氮化硅陶瓷基片等物料的耐热载体40放在底托滚子31上，之后关闭进料段11前的密封门16，并对进料段11 排气并通过供气机构向进料段11 通气至额定气压；

C、推进，打开进料段11后的密封门16，利用推料机构50将进料段11内的耐热载体40推至预热段12，再关闭进料段11后的密封门16；

D、连续生产，重复步骤B和C，利用后放入的耐热载体40不断顶推先放入的耐热载体40，使先放入的耐热载体40经过预热段12进行预热并氮化，再经过烧结段13进行烧结，最后经过散热段14散热，直至先放入的耐热载体40运行至出料段15前的密封门16处，其中，在耐热载体40运行至遮挡门17处后打开遮挡门17，而在耐热载体40经过遮挡门17后关闭遮挡门17；

E、取料，在耐热载体40运行至接近出料段15前的密封门16时，打开出料段15前的密封门16，利用后放入的耐热载体40的推力和取料机构60使耐热载体40完全进入出料段15内，之后关闭出料段15前的密封门16，并打开出料段15后的密封门16，将装载氮化硅陶瓷基片等物料的耐热载体40和底托滚子31取出，之后关闭出料段15后的密封门16，对出料段15后排气并通过供气机构向进料段11 通气至额定气压。

进一步地，在装料时，先将进料段11的供气端口71开大，再打开进料段11前的密封门16，并在关闭进料段11前的密封门16后再调小或关闭进料段11的供气端口71；在取料时，先将出料段15的供气端口71开大，再打开出料段15后的密封门16，并在关闭出料段15后的密封门16后再调小或关闭出料段15的供气端口71，这样可以通过供气端口71注入的气体逸出，减少或避免外部空气进入，减少排气次数；在排气时，均通过抽真空的方式对炉膛、进料段11和出料段15排气。

以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

Claims (10)

1.一种氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于，包括：

炉体（10），内部的炉膛从前至后依次设有进料段（11）、预热段（12）、烧结段（13）、散热段（14）和出料段（15），所述进料段（11）和所述出料段（15）的前后均设有密封门（16），预热段（12）、烧结段（13）、散热段（14）之间均设有遮挡门（17），所述烧结段（13）内设有加热器（18）；

滑道（20），设在所述炉体（10）内，且依次穿过进料段（11）、预热段（12）、烧结段（13）、散热段（14）和出料段（15），所述滑道（20）上设有滑槽（21）；

多个底托滚子（31），沿所述滑槽（21）的长度方向布设在所述滑槽（21）底部；

多个耐热载体（40），依次设置在所述滑槽（21）内，且位于所述底托滚子（31）上，且用于盛托物料；

推料机构（50），设在所述进料段（11），用以将位于所述进料段（11）的耐热载体（40）推动至预热段（12）；

取料机构（60），设在所述出料段（15），用以将即将进入所述出料段（15）的耐热载体（40）拉入出料段（15）；

供气机构，设有多个供气端口（71），多个所述供气端口（71）分别与所述进料段（11）、所述散热段（14）和所述出料段（15）连接；

导热机构（80），两端分别与所述预热段（12）和所述散热段（14）连接，以将所述散热段（14）传导至所述预热段（12）。

2.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述滑槽（21）为T形截面结构，所述耐热载体（40）下部也为T形截面结构，所述滑槽（21）与所述耐热载体（40）下部的台阶面之间设有多个侧滚子（32）。

3.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述导热机构（80）包括热管，所述热管设在所述炉膛的顶部或侧壁内部，且两端分别位于所述预热段（12）和所述散热段（14）。

4.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述氮化硅陶瓷基片连续烧结装置还包括供粉机构，所述滑槽（21）底部设有多道润滑导槽（22），每条所述润滑导槽（22）均从所述散热段（14）延伸至所述预热段（12），所述供粉机构与所述润滑导槽（22）连接，以向所述润滑导槽（22）内供给润滑粉体。

5.如权利要求4所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述供粉机构包括出粉管路（91）、风机（92）、料管（93）、进粉管路（94）、推料活塞（95）和动力器（96），所述料管（93）用于盛装润滑粉体，所述出粉管路（91）一端与所述润滑导槽（22）位于所述预热段（12）的一侧连通，另一端与所述料管（93）连接，所述风机（92）设在所述出粉管路（91）上，所述进粉管路（94）一端与所述润滑导槽（22）位于所述散热段（14）的一侧连接，另一端与所述料管（93）中部连接，所述推料活塞（95）滑动设置于料管（93）远离所述出粉管路（91）的一侧，所述动力器（96）与所述推料活塞（95）连接，以带动所述推料活塞（95）在所述料管（93）内滑动。

6.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述耐热载体（40）上部与所述滑槽（21）侧壁和相邻的耐热载体（40）贴合的部位设有多道间隔设置的凹槽。

7.如权利要求1所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述耐热载体（40）上设有若干坩埚定位结构，所述坩埚定位结构上设有坩埚（41），所述坩埚（41）用于盛放物料。

8.如权利要求2所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于：所述预热段（12）和所述散热段（14）内也设有所述遮挡门（17），所述预热段（12）和所述散热段（14）通过所述遮挡门（17）分为多个腔室；所述密封门（16）和所述遮挡门（17）均为闸板门；所述底托滚子（31）为长圆柱形辊子或梭形辊子，所述耐热载体（40）的底面和所述滑槽（21）的底部形状与所述底托滚子（31）配合，所述侧滚子（32）为短圆柱形滚子或球形滚珠，所述耐热载体（40）为工字型截面结构，所述耐热载体（40）的上表面与所述滑道（20）的上表面平齐。

9.一种氮化硅陶瓷基片连续烧结方法，采用如权利要求1-8任一项所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结装置，其特征在于，包括以下步骤：

A、排气预热，先对炉膛排气，并通过供气机构向炉膛通入还原气体至额定气压，之后对炉膛预热；

B、装料，保持进料段（11）后的密封门（16）关闭，打开进料段（11）前的密封门（16），向进料段（11）装入底托滚子（31），使底托滚子（31）排满滑槽（21）底部，并将装载物料的耐热载体（40）放在底托滚子（31）上，之后关闭进料段（11）前的密封门（16），并对进料段（11） 排气并通过供气机构向进料段（11） 通气至额定气压；

C、推进，打开进料段（11）后的密封门（16），利用推料机构（50）将进料段（11）内的耐热载体（40）推至预热段（12），再关闭进料段（11）后的密封门（16）；

D、连续生产，重复步骤B和C，利用后放入的耐热载体（40）不断顶推先放入的耐热载体（40），使先放入的耐热载体（40）经过预热段（12）进行预热并氮化，再经过烧结段（13）进行烧结，最后经过散热段（14）散热，直至先放入的耐热载体（40）运行至出料段（15）前的密封门（16）处，其中，在耐热载体（40）运行至遮挡门（17）处后打开所述遮挡门（17），而在耐热载体（40）经过所述遮挡门（17）后关闭所述遮挡门（17）；

E、取料，在耐热载体（40）运行至接近出料段（15）前的密封门（16）时，打开出料段（15）前的密封门（16），利用后放入的耐热载体（40）的推力和取料机构（60）使所述耐热载体（40）完全进入出料段（15）内，之后关闭出料段（15）前的密封门（16），并打开出料段（15）后的密封门（16），将装载物料的耐热载体（40）和底托滚子（31）取出，之后关闭出料段（15）后的密封门（16），对出料段（15）后排气并通过供气机构向进料段（11） 通气至额定气压。

10.如权利要求9所述的氮化硅陶瓷基片连续烧结方法，其特征在于：在装料时，先将进料段（11）的供气端口（71）开大，再打开进料段（11）前的密封门（16），并在关闭进料段（11）前的密封门（16）后再调小或关闭进料段（11）的供气端口（71）；在取料时，先将出料段（15）的供气端口（71）开大，再打开出料段（15）后的密封门（16），并在关闭出料段（15）后的密封门（16）后再调小或关闭出料段（15）的供气端口（71）；在排气时，均通过抽真空的方式对炉膛、进料段（11）和出料段（15）排气。