CN116794872A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置，显示面板包括采光区和非采光区，所述显示面板对应所述采光区的下方设置有感光元件，透光结构设置在所述衬底基板上，且对应所述采光区设置，透光结构包括光热透明结构和热膨胀透明薄膜层，所述光热透明结构至少设置有两个，且间隔设置，所述热膨胀透明薄膜层与所述光热透明结构沿出光方向层叠设置；所述光热透明结构用于接收所述摄像头发出的光线并发热，所述热膨胀透明薄膜层用于吸收热量并向所述空腔的位置膨胀，且向远离所述光热透明结构的方向凸出形成凸面。通过上述方案提高感光元件区域的透光率，提升感光元件的光线收集数量以及光线强度。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
全面屏手机凭借超高的屏占比和出色的用户体验成为时下最热门的技术之一。屏下感光元件技术是实现手机等显示装置全面屏的关键技术，例如屏下指纹识别、屏下摄像头等，其主要是通过将感光元件隐藏在显示屏幕的下方，使得显示面板的边框更窄，屏占比更高，更加美观。其中以屏下摄像头为例，还要求屏下摄像头上方在不拍照时仍然能显示画面。其中，既要显示效果好，又要成像效果好，成为屏下摄像头的共同追求。
但是对于目前来说，特别是对于液晶显示面板而言，采光区域的透光性难以满足感光元件的需求，以至于感光元件感光质量较差的问题难以解决。
发明内容
本申请的目的是提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，提高感光元件区域的透光率，提升感光元件的光线收集数量以及光线强度。
本申请公开了一种显示面板，包括采光区和非采光区，所述显示面板对应所述采光区的下方设置有感光元件，所述显示面板包括：衬底基板、透光结构和透明导电层；所述透光结构设置在所述衬底基板上，且对应所述采光区设置，包括光热透明结构和热膨胀透明薄膜层，所述光热透明结构至少设置有两个，且间隔设置，所述热膨胀透明薄膜层与所述光热透明结构沿出光方向层叠设置；所述透明导电层部分设置在所述透光结构上，部分设置在所述衬底基板上，所述透明导电层靠近所述衬底基板的一侧对应所述采光区设置有凹槽；其中，所述光热透明结构和所述热膨胀透明薄膜层设置在所述凹槽内，所述凹槽内设置有空腔，所述空腔设置于所述热膨胀透明薄膜层远离所述光热透明结构的一侧；所述光热透明结构用于接收所述感光元件发出的光线并发热，所述热膨胀透明薄膜层用于吸收热量并向所述空腔的位置膨胀，且向远离所述光热透明结构的方向凸出形成凸面。
可选的，所述光热透明结构设置有多个，且多个所述光热透明结构阵列设置，相邻所述光热透明结构的间距为2-10um；所述热膨胀透明薄膜层在接收所述光热透明结构发出的热量后，对应多个所述光热透明结构形成连续的凸面。
可选的，所述光热透明结构的宽度为5-10um，所述光热透明结构的厚度为所述透明导电层的厚度的三分之一，所述热膨胀透明薄膜层的厚度为所述透明导电层的厚度的五分之一至三分之一之间。
可选的，所述光热透明结构由纳米金棒、碳纳米材料、铜基纳米晶、钯纳米片中的一种或多种形成；所述热膨胀透明薄膜层由MgO、Mg2SiO4、Al2O3、ZrO2、MgSiO3、ThO2、BeO、MgAl2O4、BeAl2O4中的一种或多种形成。
可选的，所述衬底基板为彩膜基板，所述彩膜基板的第一面设置有彩色滤光层，所述透光结构和所述透明导电层设置在所述彩膜基板的第二面，所述出光方向由所述彩膜基板的第一面向所述彩膜基板的第二面的延伸方向。
可选的，所述光热透明结构设置在所述热膨胀透明薄膜层靠近所述衬底基板的一侧，或所述光热透明结构设置在所述热膨胀透明薄膜层远离所述衬底基板的一侧；当所述光热透明结构接收所述感光元件发出的光线时，所述热膨胀透明薄膜层吸收热量，以所述光热透明结构为圆心，向远离所述光热透明结构的方向膨胀。
可选的，所述显示面板还包括热收缩透明薄膜层，所述热收缩透明薄膜层填充于所述空腔；所述热收缩透明薄膜层用于吸收热量，以所述光热透明结构为圆心，向远离所述光热透明结构的方向收缩，并形成半圆形凹槽；所述热膨胀透明薄膜层用于吸收热量，以所述光热透明结构为圆心，向远离所述光热透明结构的方向膨胀，并填充所述半圆形凹槽。
可选的，在所述衬底基板的出光面的投影上，所述热膨胀透明薄膜为环形，所述感光元件为圆形，所述感光元件的边缘在所述环形内，且距离环形的内环500um至3000um，距离所述环形的外环500um至3000um。
本申请还公开了一种显示面板的制作方法，包括步骤：
在衬底基板的出光面形成第一厚度的透明导电层，并对应采光区设置凹槽；
在所述凹槽内形成层叠设置的热膨胀透明薄膜层和光热透明结构；
对热膨胀透明薄膜层的两面同时加热使得所述热膨胀透明薄膜层沿出光方向膨胀；
在所述热膨胀透明薄膜层上形成第二厚度的透明导电层；
停止热膨胀透明薄膜层靠近光热透明结构的一面的加热后，再停止热膨胀透明薄膜层另一面的加热，所述热膨胀透明薄膜层向所述光热透明结构收缩并恢复形变，形成空腔；
形成显示面板。
本申请还公开了一种显示装置，包括显示面板、感光元件和背光模组，所述感光元件设置在所述显示面板和所述背光模组之间，所述显示面板如上述的显示面板。
本申请通过在采光区设置光热透明结构和热膨胀透明薄膜层，且光热透明结构间隔设置，在感光元件发出光线时，光热透明结构受到额外的光线照射而发热，热膨胀透明薄膜层由于吸热而发生膨胀变形。而且由于热膨胀透明薄膜层越靠近光热透明结构的位置形变量大，远离光热透明结构的位置形变量小，进而使得热膨胀透明薄膜层以每一个光热透明结构为圆心，向空腔处膨胀形成凸面，类似凸透镜一样。在采光区设置较多的凸透镜，可以用来汇聚光线，进而达到增加透光率，以保证屏下感光元件的成像质量。且在感光元件不工作的情况下，光热透明结构不发热，使得热膨胀透明薄膜层恢复原状，不再是凸透镜的形状，使得在感光元件不工作的情况下，原有的显示效果不受影响。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
图1是本申请第一实施例显示面板的热膨胀透明薄膜层未膨胀的示意图；
图2是本申请第一实施例显示面板的热膨胀透明薄膜层膨胀的示意图；
图3是本申请第一实施例第二种显示面板的示意图；
图4是本申请的第二实施例的显示面板的示意图；
图5是本申请的第三实施例的显示面板的示意图；
图6是本申请的第四实施例的显示面板的示意图；
图7是本申请第五实施例的显示面板的示意图；
图8是本申请显示面板的制作方法的步骤示意图；
图9是本申请显示面板的制作方法的示意图；
图10是本申请显示装置的示意图。
其中，100、显示面板；101、非采光区；102、采光区；110、衬底基板；111、阵列基板；112、液晶层；113、封框胶；114、彩膜基板；115、彩色滤光层；116、黑矩阵；R、红色色阻；G、绿色色阻；B、蓝色色阻；120、偏光片；121、上偏光片；122、下偏光片；130、透明导电层；131、凹槽；132、空腔；140、光热透明结构；150、热膨胀透明薄膜层；160、热收缩透明薄膜层；170、感光元件；200、显示装置；210、背光模组。
具体实施方式
需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。另外，“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本申请的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
下面参考附图和可选的实施例对本申请作详细说明。
图1是本申请第一实施例显示面板的热膨胀透明薄膜层未膨胀的示意图，图2是本申请第一实施例显示面板的热膨胀透明薄膜层膨胀的示意图，参见图1-2所示，本申请公开了一种显示面板100，所述显示面板100包括采光区102和非采光区101，所述显示面板100对应所述采光区102的下方设置有感光元件170。
所述显示面板100包括：衬底基板110、透光结构和透明导电层130；所述透光结构设置在所述衬底基板110上，且对应所述采光区102设置，所述透光结构包括光热透明结构140和热膨胀透明薄膜层150，所述光热透明结构140至少设置有两个，且间隔设置，所述热膨胀透明薄膜层150与所述光热透明结构140沿出光方向层叠设置；所述透明导电层130部分设置在所述透光结构上，部分设置在所述衬底基板上，所述透明导电层130靠近所述衬底基板的一侧对应所述采光区设置有凹槽131；其中，所述光热透明结构140和所述热膨胀透明薄膜层150设置在所述凹槽131内，所述凹槽131内设置有空腔132，所述空腔132设置于所述热膨胀透明薄膜层150远离所述光热透明结构140的一侧；所述光热透明结构140用于接收所述感光元件170发出的光线并发热，所述热膨胀透明薄膜层150用于吸收热量并向所述空腔132的位置膨胀，且向远离所述光热透明结构的方向凸出形成凸面。
本申请通过在采光区102设置光热透明结构140和热膨胀透明薄膜层150，且光热透明结构140间隔设置，在感光元件170发光光线时，光热透明结构140受到额外的光线照射而发热，热膨胀透明薄膜层150由于吸热而发生膨胀变形。而且由于热膨胀透明薄膜层150越靠近光热透明结构140的位置形变量大，远离光热透明结构140的位置形变量小，进而使得热膨胀透明薄膜层150以每一个光热透明结构140为圆心，向空腔处膨胀形成凸面，类似凸透镜一样。在采光区102设置较多的凸透镜，可以用来汇聚光线，进而达到增加透光率，以保证屏下感光元件170的成像质量。且在感光元件170不工作的情况下，光热透明结构140不发热，使得热膨胀透明薄膜层150恢复原状，不再是凸透镜的形状，使得在感光元件170不工作的情况下，原有的显示效果不受影响。
其中，衬底基板110为彩膜基板，所述彩膜基板的第一面设置有彩色滤光层，所述透光结构和所述透明导电层设置在所述彩膜基板的第二面，所述出光方向由所述彩膜基板的第一面向所述彩膜基板的第二面的延伸方向，所述偏光片120设置在所述衬底基板110的第二面的一侧，所述透明导电层130设置在所述衬底基板110和所述偏光片之间。
一般来说，当感光元件以摄像头为例进行说明，摄像头会发出红外光，且摄像头不工作时，不发出红外光线。本申请利用摄像头发出的红外光线来激发光热透明结构140中的晶格，使得光子能量与晶格相互作用，振动加剧，从而发热。可以理解的是，对于光热结构来说，一般需要较强的光线照射，本申请由于已经有背光以及外部光线的存在，实际上不需要摄像头发出较强的光线，通过实验可调整摄像头发出的光线来配合光热透明结构140的发热量以及热膨胀透明薄膜层150的膨胀量。可以理解的是，本申请的感光元件包括摄像头，该摄像头可用于成像识别或指纹识别等。
具体地，所述光热透明结构140由纳米金棒、碳纳米材料、铜基纳米晶、钯纳米片中的一种或多种形成。其中，金纳米棒是一种尺度从几纳米到上百纳米的棒状金纳米颗粒，对近红外波段具有强烈的吸收作用，可实现从50％到100％连续可调的光热转换效率。纳米碳材料是指分散相尺度至少有一维小于100nm的碳材料。纳米碳材料主要包括三种类型：碳纳米管，碳纳米纤维，纳米碳球。
所述热膨胀透明薄膜层150由氧化镁、镁橄榄石(Mg2SiO4)、氧化铝、稳定氧化锆(ZrO2)、顽辉石(MgSiO3)、二氧化钍、氧化铍(BeO)、尖晶石(MgAl2O4)、金绿宝石(BeAl2O4)中的一种或多种形成。该类型材料在受到高温或温度上升时会发生膨胀，且形变量与热量相关，距离热源更近形变量越大，距离热源越远则形变量越小，且温度上升结束后会恢复形变。可以理解的是，本申请所控制的温度上升在衬底基板110的承载范围内，不会对显示面板100造成影响。
具体地，所述热膨胀透明薄膜层150在所述摄像头停止发出光线，所述光热透明结构140停止放热时，恢复初始状态。
图3是本申请第一实施例第二种显示面板的示意图，参见图3所示，显示面板100包括衬底基板110和设置在衬底基板110两侧的偏光片，偏光片包括上偏光片121和下偏光片122。衬底基板110包括阵列基板111和彩膜基板114，以及设置在阵列基板111和彩膜基板114之间的液晶层112，液晶层112通过设置在阵列基板111和彩膜基板114之间的封框胶113来密封。彩膜基板114的正面一般设置有彩色滤光层115，彩色滤光层115包括红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B，红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B之间通过黑矩阵116隔开。可以理解的是，上文所提及的偏光片为上偏光片121。
其中，透明导电层130设置在彩膜基板114的背面，即衬底基板110靠近上偏光片的一侧，一般以IPS显示面板100来说，在衬底基板110中的彩膜基板114的背面会设置有透明导电层130，用来将释放静电，起到静电防护的作用。而且透明导电层130一般具有良好的导热性能，因此即使光热透明结构140产生高温的情况，对透明导电层130影响较小，而且透明导电层130能够将多余未被吸收的热量导出。对于非IPS显示面板100来说，仅需要在彩膜基板114的背面沉积一层透明导电层130。可以理解的是，这里所指的透明导电层130一般又称为氧化铟锡层，而对于透明导电层使用的其它材料等，同样属于本申请的保护范围。
具体地，所述凹槽131内的光热透明结构140和热膨胀透明薄膜层150的透光率与透明导电层130一致，进而在摄像头不工作时，凹槽131区域和非凹槽131区域的透光率保持一致，不影响显示效果。
为了使得热膨胀透明薄膜层150更好的形成凸面，具体地，所述光热透明结构140设置有多个，且多个所述光热透明结构140阵列设置，相邻所述光热透明结构140的间距为2-10um。本实施例中，将光热透明结构140在凹槽131区域内阵列设置，间距可在2um-10um之间(包含端点值)，进而实现在凹槽131区域内，形成热量以每一处光热透明结构140的位置为最大值，相邻光热透明结构140之间的位置为最小值，逐渐变化的热量分布。在该热量分布的情况下，热膨胀透明薄膜层150形成多个凸面，该多个凸面根据上述热量分布形成。具体控制光热透明结构140的间距、发热量即可控制形成的凸面大小、厚度等。
具体地，在所述衬底基板110的投影上，所述采光区102的面积大于所述摄像头的面积，且所述凹槽131的面积大于所述摄像头的面积。可以理解的是，所形成的凸面的焦点需要在摄像头之外，这样该采光区102的面积设置的比摄像头大，且采光区102接收到的光线通过多个小凸透镜汇聚光线的作用，实现更大、更多光线的收集。
其中，采光区102的边缘可超过摄像头的边缘的500um-3000um左右，实现更大面积的采光。
具体地，所述热膨胀透明薄膜层150在接收所述光热透明结构140发出的热量后，对应多个所述光热透明结构140形成连续的凸面。本实施例通过调整光热透明结构140的间距，实现在凹槽131内形成连续的凸面。
在一实施例中，可根据黑矩阵116、红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B的排布，使得每一个凸面对准红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B设置，而相邻凸面之间的交界位置对应黑矩阵116设置。本实施例中，使得在摄像头工作时，尽可能减少光线进入的损失，防止光线打到黑矩阵116导致成像效果差。
在另一实施例中，一个红色色阻R内可设置有多个凸面，本实施例设置的凸面一方面是为了聚集光线，另一方面，考虑到液晶显示面板100内部的部件，例如黑矩阵116、遮光层等设置，可通过凸透镜聚光的原理，来避免直射的光线被黑矩阵116、遮光层吸收，进而达到提高摄像头区域的光线透过率。
具体地，所述光热透明结构140的宽度为5-10um，所述光热透明结构140的厚度为所述透明导电层130的厚度的三分之一，所述热膨胀透明薄膜层150的厚度为所述透明导电层130的厚度的五分之一至三分之一之间。
本实施例中，此处透明导电层130的厚度指的是非凹槽131区域的透明导电层130的厚度，对于透明导电层130来说，该凹槽131可以为通槽或者不为通槽，凹槽131主要设置有热膨胀透明薄膜层150和空腔。将光热透明结构140设置为透明导电层130厚度的三分之一，热膨胀透明薄膜层150的厚度设置在三分之一至五分之一之间，空腔的厚度可为三分之一至五分之一。
在一实施例中，所述光热透明结构140为正方体，该光热透明结构140可被透明导电层130或热膨胀透明薄膜层150包裹设置。
在另一实施例中，所述光热透明结构140为半球型，在衬底基板110的投影上为圆形，所述光热透明结构140的截面图为半圆。
参见图3所示，所述光热透明结构140设置在所述热膨胀透明薄膜层150靠近所述偏光片的一侧；当所述光热透明结构140接收所述摄像头发出的光线时，所述热膨胀透明薄膜层150吸收热量，以所述光热透明结构140为圆心，向远离所述光热透明结构140的方向膨胀。即本实施例中，热膨胀透明薄膜层150向下膨胀。
本实施例中，光热透明结构140设置在远离衬底基板110的一侧，其可以避免光热透明结构140产生的热量进入液晶层112，对液晶造成干扰。另一方面，热膨胀透明薄膜层150发生膨胀，即使膨胀形变量较大，首先与衬底基板110的玻璃相贴，不会造成膜层破裂，而且受玻璃的阻力，热膨胀透明薄膜层150由每一光热透明结构140的中心向四周膨胀，基本不影响聚光效果。
图4是本申请的第二实施例的显示面板的示意图，参见图4所示，在另一实施例中，所述光热透明结构140设置在所述热膨胀透明薄膜层150靠近所述衬底基板110的一侧，当所述光热透明结构140接收所述摄像头发出的光线时，所述热膨胀透明薄膜层150吸收热量，以所述光热透明结构140为圆心，向远离所述光热透明结构140的方向膨胀。即本实施例中的热膨胀透明薄膜层150向上膨胀。
图5是本申请的第三实施例的显示面板的示意图，参见图5所示，所述显示面板100还包括热收缩透明薄膜层160，所述热收缩透明薄膜层160填充于所述空腔；所述热收缩透明薄膜层160用于吸收热量，以所述光热透明结构140为圆心，向远离所述光热透明结构140的方向收缩，并形成半圆形凹槽；所述热膨胀透明薄膜层150用于吸收热量，以所述光热透明结构140为圆心，向远离所述光热透明结构140的方向膨胀，并填充所述半圆形凹槽。
在上述方案的基础上，在膨胀材料层之下制作一层热收缩透明薄膜层160，热膨胀透明薄膜层150和热收缩透明薄膜层160厚度相当，均为上述方案中热膨胀透明薄膜层150厚度的二分之一，以此替代空腔形成新的透光结构。
本实施例中热收缩透明薄膜层160主要成分为聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙烯和聚酯等的一种或多种，其在高温下体积缩小，降温后恢复形变。
当摄像头开始工作发出强光时，光热透明结构140受到显示面板100外额外的光照而产生高温光热透明结构140之下的热膨胀透明薄膜层150由于高温而发生膨胀变形,热收缩透明薄膜层160体积收缩；由于靠近光热透明结构140的热膨胀透明薄膜层150膨胀形变量大，远离光热透明结构140的热膨胀透明薄膜层150膨胀形变量小，最终膨胀后的热膨胀透明薄膜层150呈现多个连续向下凸起的形状，形成凸透镜聚光；相应的，靠近光热透明结构140的热收缩薄膜材料收缩量大，远离光热透明结构140的热收缩薄膜材料收缩量小，进一步促成凸透镜结构的形成，从而达到增加透光率的目的，以保证屏下摄像头的成像质量，且避免了方案一中热膨胀透明薄膜层150由于膨胀形变后致使玻璃基板或上偏光片相应发生形变的风险。当摄像头停止工作时，因无额外强光照射，光热透明结构140恢复温度，相应的热膨胀透明薄膜层150和热收缩透明薄膜层160恢复形变。
图6是本申请的第四实施例的显示面板的示意图，参见图6所示，在所述衬底基板110的出光面的投影上，所述热膨胀透明薄膜为环形，所述摄像头为圆形，所述摄像头的边缘在所述环形内，且距离环形的内环500um至3000um，距离环形的外环500um至3000um。
本实施例中，将热膨胀透明薄膜层150制作在摄像头边缘位置对应的采光区102，热膨胀透明薄膜层150左右边缘距摄像头边缘500um-3000um，本方案既达到摄像头工作时增加透光率的目的，保证屏下摄像头的成像质量，又避免摄像头成像时显示面板100出现显示异常等问题，确保了显示面板100的显示效果。
图7是本申请的第五实施例的显示面板的示意图，参见图7所示，衬底基板110为阵列基板111；在一实施例中，阵列基板的第一面设置有TFT薄膜层，所述透光结构和所述透明导电层设置在所述阵列基板的的第二面，所述出光方向由所述阵列基板的第二面向所述阵列基板的第一面的延伸方向，所述偏光片120设置在所述阵列基板的第二面的一侧，所述透明导电层130设置在所述阵列基板和所述偏光片之间。可以理解的是，上述适用于彩膜基板的实施例同样也适用于阵列基板中，在此不再赘述。
图8是本申请显示面板的制作方法的步骤示意图，图9是本申请显示面板的制作方法的示意图。
参见图8-9所示，本申请还公开了一种显示面板的制作方法，包括步骤：
S100：在衬底基板的出光面形成第一厚度的透明导电层，并对应采光区设置凹槽。
S200：在所述凹槽内形成层叠设置的热膨胀透明薄膜层和光热透明结构。其中，第一厚度的透明导电层大于热膨胀透明薄膜层，此时的热膨胀透明薄膜层还是未发生形变的热膨胀透明薄膜层。在本步骤中，若先形成热膨胀透明薄膜层，则光热透明结构可在S300之后形成。若先形成光热透明结构，再形成热膨胀透明薄膜层，即形成光热透明结构靠近衬底基板的设置。
S300：对热膨胀透明薄膜层的两面同时加热使得所述热膨胀透明薄膜层沿出光方向膨胀。其中，热膨胀透明薄膜层发生膨胀后的厚度与第一厚度的透明导电层厚度一致。当然，该热膨胀透明薄膜层发生膨胀后的厚度也可以较大，大于第一厚度的透明导电层厚度。
S400：在所述热膨胀透明薄膜层上形成第二厚度的透明导电层。
S500：停止热膨胀透明薄膜层靠近光热透明结构的一面的加热后，再停止热膨胀透明薄膜层另一面的加热，所述热膨胀透明薄膜层向所述光热透明结构收缩并恢复形变，并形成空腔。
S600：形成显示面板。
本申请主要改进在于形成光热透明结构和热膨胀透明薄膜层，具体如衬底基板的形成、偏光片的贴附在本申请中不再提及。
在S200的步骤中，主要存在先形成光热透明结构还是先形成热膨胀透明薄膜层的区别，对于制程来说，例如图8一般，先形成热膨胀透明薄膜层，可避免光热结构造成的影响。
本实施例中，主要通过在彩膜基板的两侧进行加热，来使得热膨胀透明薄膜层发生膨胀，然后先撤去远离彩膜基板背离热膨胀透明薄膜层的加热，待热膨胀透明薄膜层逐渐向上回复形变的情况下，再撤去另一侧的加热，进而形成空腔。
图10是本申请显示装置的示意图，参见图10所示，本申请还公开了一种显示装置，显示装置200包括显示面板100、感光元件170和背光模组210，所述感光元件170设置在所述显示面板100和所述背光模组210之间，所述显示面板如上述任意一实施例中的显示面板。
本申请通过在采光区设置光热透明结构和热膨胀透明薄膜层，且光热透明结构间隔设置，在摄像头发光光线时，光热透明结构受到额外的光线照射而发热，热膨胀透明薄膜层由于吸热而发生膨胀变形。而且由于热膨胀透明薄膜层越靠近光热透明结构的位置形变量大，远离光热透明结构的位置形变量小，进而使得热膨胀透明薄膜层以每一个光热透明结构为圆心，向空腔处膨胀形成凸面，类似凸透镜一样。在采光区设置较多的凸透镜，可以用来汇聚光线，进而达到增加透光率，以保证屏下感光元件170的成像质量。且在感光元件170不工作的情况下，光热透明结构不发热，使得热膨胀透明薄膜层恢复原状，不再是凸透镜的形状，使得在感光元件170不工作的情况下，原有的显示效果不受影响。
需要说明的是，本申请的发明构思可以形成非常多的实施例，但是申请文件的篇幅有限，无法一一列出，因而，在不相冲突的前提下，以上描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例，各实施例或技术特征组合之后，将会增强原有的技术效果。
以上内容是结合具体的可选实施方式对本申请所作的进一步详细说明，不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本申请的保护范围。
Claims (10)
1.一种显示面板，包括采光区和非采光区，所述显示面板对应所述采光区的下方设置有感光元件，其特征在于，所述显示面板包括：
衬底基板；
透光结构，设置在所述衬底基板上，且对应所述采光区设置，包括光热透明结构和热膨胀透明薄膜层，所述光热透明结构至少设置有两个，且间隔设置，所述热膨胀透明薄膜层与所述光热透明结构沿出光方向层叠设置；
透明导电层，部分设置在所述透光结构上，部分设置在所述衬底基板上，所述透明导电层靠近所述衬底基板的一侧对应所述采光区设置有凹槽；
其中，所述光热透明结构和所述热膨胀透明薄膜层设置在所述凹槽内，所述凹槽内设置有空腔，所述空腔设置于所述热膨胀透明薄膜层远离所述光热透明结构的一侧；
所述光热透明结构用于接收所述感光元件发出的光线并发热，所述热膨胀透明薄膜层用于吸收热量并向所述空腔的位置膨胀，且向远离所述光热透明结构的方向凸出形成凸面。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光热透明结构设置有多个，且多个所述光热透明结构阵列设置，相邻所述光热透明结构的间距为2-10um；
所述热膨胀透明薄膜层在接收所述光热透明结构发出的热量后，对应多个所述光热透明结构形成连续的凸面。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光热透明结构的宽度为5-10um，所述光热透明结构的厚度为所述透明导电层的厚度的三分之一，所述热膨胀透明薄膜层的厚度为所述透明导电层的厚度的五分之一至三分之一之间。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光热透明结构由纳米金棒、碳纳米材料、铜基纳米晶、钯纳米片中的一种或多种形成；
所述热膨胀透明薄膜层由MgO、Mg2SiO4、Al2O3、ZrO2、MgSiO3、ThO2、BeO、MgAl2O4、BeAl2O4中的一种或多种形成。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板为彩膜基板，所述彩膜基板的第一面设置有彩色滤光层，所述透光结构和所述透明导电层设置在所述彩膜基板的第二面，所述出光方向由所述彩膜基板的第一面向所述彩膜基板的第二面的延伸方向。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光热透明结构设置在所述热膨胀透明薄膜层靠近所述衬底基板的一侧，或所述光热透明结构设置在所述热膨胀透明薄膜层远离所述衬底基板的一侧；
当所述光热透明结构接收所述感光元件发出的光线时，所述热膨胀透明薄膜层吸收热量，以所述光热透明结构为圆心，向远离所述光热透明结构的方向膨胀。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括热收缩透明薄膜层，所述热收缩透明薄膜层填充于所述空腔；
所述热收缩透明薄膜层用于吸收热量，以所述光热透明结构为圆心，向远离所述光热透明结构的方向收缩，并形成半圆形凹槽；
所述热膨胀透明薄膜层用于吸收热量，以所述光热透明结构为圆心，向远离所述光热透明结构的方向膨胀，并填充所述半圆形凹槽。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述衬底基板的出光面的投影上，所述热膨胀透明薄膜为环形，所述感光元件为圆形，所述感光元件的边缘在所述环形内，且距离所述环形的内环500um至3000um，距离所述环形的外环500um至3000um。
9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括步骤：
在衬底基板的出光面形成第一厚度的透明导电层，并对应采光区设置凹槽；
在所述凹槽内形成层叠设置的热膨胀透明薄膜层和光热透明结构；
对热膨胀透明薄膜层的两面同时加热使得所述热膨胀透明薄膜层沿出光方向膨胀；
在所述热膨胀透明薄膜层上形成第二厚度的透明导电层；
停止热膨胀透明薄膜层靠近光热透明结构的一面的加热后，再停止热膨胀透明薄膜层的另一面的加热，所述热膨胀透明薄膜层向所述光热透明结构收缩并恢复形变，形成空腔；
形成显示面板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板、感光元件和背光模组，所述感光元件设置在所述显示面板和所述背光模组之间，所述显示面板如权利要求1-8任意一项所述的显示面板。
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