CN116752123A - 原子层沉积设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种原子层沉积设备，包括原子层沉积室、载重台以及旋转机构。原子层沉积室包括第一腔室和第二腔室，第一腔室与外界大气连通，第二腔室为真空环境。载重台设置在原子层沉积室内，载重台用于承托晶圆架。旋转机构的动力部设置在第一腔室内，旋转机构的转轴伸出至第一腔室外且与载重台连接，用于带动载重台转动。即本申请既能够保证ALD沉积工艺中的真空环境，同时还能使得载重台在旋转机构的带动下转动，极大的提升了所沉积薄膜的组分和厚度的均匀性。

Description

原子层沉积设备

技术领域

本申请涉及半导体生产设备技术领域，特别是涉及原子层沉积设备。

背景技术

原子层沉积(Atomic layer deposition，ALD)是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积方法。经过近几十年的发展，原子层沉积技术已成为当前最先进的薄膜沉积技术之一，在先进半导体芯片制造领域有着不可被替代的地位。原子层沉积技术最大的优势在于可以实现将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面，当前驱体到达沉积基体表面，它们会化学吸附在基体表面，可以精确的控制薄膜的厚度和组分。在生产半导体时，基体一般为晶圆。

相关技术中，在装载或卸载晶圆的过程中，原子沉积腔室需要维持在真空状态，从而能够有效保护反应腔的工艺环境，极大的降低大气中杂质颗粒物对ALD沉积工艺的影响。

由于需要在真空环境中进行原子层沉积，晶圆在沉积的过程中一般处于静止状态，而静止状态下容易导致沉积的薄膜组分和厚度不均匀。

发明内容

基于此，有必要针对原子层沉积时，所沉积的薄膜组分和厚度不均匀问题，提供一种原子层沉积设备。

一种原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括：

原子层沉积室，包括第一腔室和第二腔室，所述第一腔室与外界大气连通，所述第二腔室为真空环境；

载重台，设置在所述原子层沉积室内，所述载重台用于承托晶圆架；以及

旋转机构，所述旋转机构的动力部设置在所述第一腔室内，所述旋转机构的转轴伸出至所述第一腔室外且与所述载重台连接，用于带动所述载重台转动。

在其中一个实施例中，所述原子层沉积室还包括第三腔室，所述第三腔室为反应腔室，所述第一腔室位于所述第二腔室内，所述第三腔室与所述第二腔室连通，所述原子层沉积设备还包括升降机构，所述升降机构的动力部设置在所述原子层沉积室外，所述升降机构的升降端与所述第一腔室的外壁连接，所述升降机构升降时能够通过所述载重台带动晶圆架移动至所述第三腔室内。

在其中一个实施例中，所述第三腔室位于所述载重台的正上方，所述升降机构用于带动所述载重台运动至所述第三腔室内。

在其中一个实施例中，所述第三腔室具有腔盖，所述腔盖套设在所述转轴上，且位于所述第一腔室与所述载重台之间，所述转轴可相对于所述腔盖转动；

所述第三腔室的开口部朝向所述腔盖，所述升降机构用于带动所述腔盖合盖于所述开口部。

在其中一个实施例中，所述原子层沉积设备还包括弹性件，所述原子层沉积设备还包括弹性件，所述弹性件设置在所述腔盖与所述第一腔室之间。

在其中一个实施例中，所述转轴与所述腔盖密封连接，所述原子层沉积设备还包括第一密封件，所述第一密封件套设在所述转轴外侧，且所述第一密封件的一端与所述腔盖密封连接，另一端与所述第一腔室的外壁密封连接。

在其中一个实施例中，所述升降机构包括导向杆和第二密封件，所述导向杆为空心杆，所述导向杆的一端与所述第一腔室密封连通，另一端与伸出至所述第二腔室外且与所述升降机构的升降端连接，同时所述导向杆与外界大气连通，所述第二密封件用于实现所述导向杆与所述第二腔室之间的密封。

在其中一个实施例中，所述第二密封件为波纹管，所述波纹管套设在所述导向杆外，所述第二密封件的一端与所述升降机构的升降端密封连接，另一端与所述第二腔室密封连接。

在其中一个实施例中，所述第一腔室包括上盖和与上盖密封连接的侧壁，所述侧壁远离所述上盖的一端与所述第二腔室的底壁固定连接，所述第二腔室的底壁上开设有与外界大气连通的通孔，所述第一腔室通过所述通孔与外界大气连通，所述侧壁为伸缩结构。

在其中一个实施例中，所述原子层沉积设备包括载料腔室、输送机构以及真空插板阀，所述载料腔室与所述第二腔室密封连通，所述输送机构设置在所述载料腔室内，并能够运动至所述第二腔室内，所述真空插板阀设置在所述载料腔室与所述第二腔室之间，用于隔绝所述载料腔室与所述第二腔室。

上述原子层沉积设备，原子层沉积室具有第二腔室和第一腔室，旋转机构的动力部设置在第一腔室中，便于使得旋转机构的动力部在大气环境中保持正常运转，旋转机构的转轴伸出至第一腔室外的一端与载重台连接，用于使得载重台位于真空环境中，便于通过载重台承托晶圆架，以使得晶圆架中的晶圆在真空环境，从而避免空气中的杂质颗粒物污染晶圆。即本申请既能够保证ALD沉积工艺中的真空环境，同时还能使得载重台在旋转机构的带动下转动，极大的提升了所沉积薄膜的组分和厚度的均匀性。

附图说明

图1为一实施例中原子层沉积设备的结构示意图。

图2为图1的原子层沉积设备的升降机构的外部结构示意图。

图3为图1的原子层沉积设备的升降机构的内部结构示意图。

图4为图1的原子层沉积设备的输送机构的结构示意图。

图5为图4中输送机构的仰视图。

图6为图1的原子层沉积设备的旋转机构的结构示意图。

图7为另一实施例中原子层沉积设备的结构示意图。

图8图7的原子层沉积设备的升降机构的结构示意图。

图9为又一实施例中原子层沉积设备的结构示意图。

附图标记：100、原子层沉积室；110、第一腔室；111、腔盖；112、弹性件；113、第一密封件；114、底壁；115、侧壁；116、上壁；120、第二腔室；130、第三腔室；

200、载重台；

300、旋转机构；310、旋转电机；320、旋转减速器；330、减速器安装座；340、旋转联轴器；350、转轴；360、磁流体；390、晶圆架；

400、升降机构；401、升降电机；402、升降减速器；403、主动齿轮；404、中间齿轮；405、从动齿轮；406、丝杆；407、螺母座；408、滑动组件；410、安装板；420、导向杆；430、第二密封件；450、拖链；491、抱紧板；492、直线轴承；493、丝杆；494、固定板；495、升降联轴器；496、升降电机；497、轴承座；498、活接头；

500、输送机构；510、载料电机；520、载料减速器；530、载料联轴器；540、传动轴；550、传输板；560、支撑架；570、轴承随动器组件；580、载料齿轮；590、齿条；

600、载料腔室；

700、真空插板阀。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

在本申请的描述中，需要理解的是，若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等，这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，若有出现这些术语“第一”、“第二”，这些术语仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，若有出现术语“多个”，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等，这些术语应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述，其含义可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在，本申请所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

由于一般的动力装置（电机、气缸）无法在真空条件下工作，或者即使可以实现在真空条件下工作但成本极其高昂。因此在原子层沉积的过程中难以实现使得反应腔在处于真空状态的同时还能使得载重台旋转。故而，在真空环境中进行原子层沉积时，晶圆一般处于静止状态，而静止状态下容易导致沉积的薄膜组分和厚度不均匀。

参阅图1，本申请一实施例提供的原子层沉积设备，包括原子层沉积室100、载重台200以及旋转机构300。原子层沉积室100包括第一腔室110和第二腔室120，第一腔室110与外界大气连通，第二腔室120为真空环境。载重台200设置在原子层沉积室100内，载重台200用于承托晶圆架390。旋转机构300的动力部设置在第一腔室110内，旋转机构300的转轴350伸出至第一腔室110外且与载重台200连接，用于带动载重台200转动。

在本实施例中，原子层沉积室100具有第二腔室120和第一腔室110，旋转机构300的动力部设置在第一腔室110中，便于使得旋转机构300的动力部在大气环境中保持正常运转，旋转机构300的转轴350伸出至第一腔室110外的一端与载重台200连接，用于使得载重台200位于真空环境中，便于通过载重台200承托晶圆架390，以使得晶圆架390中的晶圆在真空环境，从而避免空气中的杂质颗粒物污染晶圆。即本申请既能够保证ALD沉积工艺中的真空环境，同时还能使得载重台200在旋转机构300的带动下转动，极大的提升了所沉积薄膜的组分和厚度的均匀性。

进一步的，结合图2，原子层沉积室100还包括第三腔室130，第三腔室130为反应腔室，第一腔室110位于第二腔室120内，第三腔室130与第二腔室120连通，原子层沉积设备还包括升降机构400，升降机构400的动力部设置在原子层沉积室外，升降机构400的升降端与第一腔室110的外壁连接，升降机构400升降时能够通过载重台200带动晶圆架390移动至第三腔室130内。

在本实施例中，第三腔室130可以是反应室，第二腔室120为过渡腔室。在实际使用时，首先使得第二腔室120和第三腔室130处于真空状态；然后使得晶圆架390位于载重台200上；再通过升降机构400带动第一腔室110上下移动，以使得位于第一腔室110内的旋转机构300以及位于第一腔室110外的载重台200也上下移动。当载重台200以及载重台200上的晶圆架390位于第三腔室130内时，同时第三腔室130内的气压达到工艺气压，并且温度达到工艺温度后，启动旋转机构300带动晶圆架390在第三腔室130内旋转，同时第三腔室130内开始薄膜沉积工艺。

具体的，第三腔室130位于载重台200的正上方，升降机构400上升时，用于带动载重台200运动至第三腔室130内。从而使得位于载重台200上的晶圆架390能够在第三腔室130内进行薄膜沉积。

在另外一个实施例中，第二腔室还可以直接为反应腔室，此时，第二腔室与第一腔室相邻，旋转机构的动力部设置在第一腔室内，旋转机构的转轴伸入至第二腔室内且与载重台连接，在进行原子层沉积时，可通过旋转机构带动晶圆架在反应腔室内旋转。

在一些实施例中，结合图1，第三腔室130具有腔盖111，腔盖111套设在转轴350上，且位于第一腔室110与载重台200之间，转轴350可相对于腔盖111转动。第三腔室130的开口部朝向腔盖111，升降机构400用于带动腔盖111合盖于开口部。

在实际使用时，当升降机构400带动腔盖111合盖与第三腔室130的开口部上时，腔盖111与第三腔室130的腔壁密封连接，此时第三腔室130处于密封状态。同时载重台200以及其上晶圆架390位于第三腔室130内。可调节第三腔室130内的气压以使其达到工艺气压，调节第三腔室130内的温度以使得温度达到工艺温度后，启动旋转机构300带动晶圆架390在第三腔室130内旋转，以便开始薄膜沉积工艺。

进一步的，结合图1和图6，原子层沉积设备还包括弹性件112，弹性件112设置在腔盖111与第一腔室110之间。弹性件112用于实现腔盖111与第三腔室130的腔壁的柔性接触，减缓腔盖111与第三腔室130的腔壁的直接碰撞并实现更好的密封效果。

再进一步的，结合图1和图6，转轴350与腔盖111密封连接，原子层沉积设备还包括第一密封件113，第一密封件113套设在转轴350外侧，且第一密封件113的一端与腔盖111密封连接，另一端与第一腔室110的外壁密封连接。

具体的，结合图6，旋转机构300包括旋转电机310、旋转减速器320、减速器安装座330、旋转联轴器340、转轴350以及磁流体360。当需要通过旋转机构300带动载重台200以及其上晶圆架390转动时，启动旋转机构300，旋转电机310、旋转减速器320和旋转联轴器340将动力传递给转轴350，转轴350带动载重台200上的晶圆架390转动。磁流体360用于实现转轴350与腔盖111之间的密封。

其中，第一密封件113可以是波纹管。一方面通过波纹管的密封和磁流体360的密封能够实现对第一腔室110的密封，另一方面波纹管还能进一步实现腔盖111与第三腔室130的腔壁的柔性接触。

在一些实施例中，结合图1、图2以及图3，升降机构400包括导向杆420和第二密封件430，导向杆420为空心杆，导向杆420的一端与第一腔室110密封连通，另一端与伸出至第二腔室120外且与升降机构400的升降端连接，同时导向杆420与外界大气连通，第二密封件430用于实现导向杆420与第二腔室120之间的密封。

导向杆420伸出至第二腔室120外与升降机构400的升降端连接，升降机构400的升降端处于外界大气中，因此，通过导向杆420能够实现第一腔室110与外界大气的连通。升降机构400通过导向杆420带动第一腔室110上下运动，因此，导向杆420相对于第二腔室120上下运动，第二密封件430既需要保证导向杆420的上下运动，同时还用于实现导向杆420与第二腔室120之间的密封，便于使得第二腔室120保持真空状态。

在其中一个实施例中，第二密封件430为波纹管，波纹管套设在导向杆420外，第二密封件430的一端与升降机构400的升降端密封连接，另一端与第二腔室120密封连接。

一方面，当升降机构400的升降端带动导向杆420上下运动时，波纹管能够在升降端的带动下同时伸展或者收缩；另一方面，由于波纹管的可伸缩性，从而能够同时与升降机构400的升降端以及第二腔室120密封连接，便于对第二腔室120密封，以维持第二腔室120的真空状态。

在另外一个实施例中，第二密封件可以是油封或者磁流体密封。第二密封件设置在导向杆与第二腔室120的连接位置。

相对于第一腔室110通过导向杆420与外界大气连通的实施例，在另外一些实施例中，结合图7，还可以是，第一腔室110包括上盖116和与上盖116密封连接的侧壁115，侧壁115远离上盖116的一端与第二腔室120的底壁114固定连接，第二腔室120的底壁114上开设有与外界大气连通的通孔，第一腔室110通过通孔与外界大气连通，侧壁115为伸缩结构。

第一腔室110的侧壁115与第二腔室120的底壁114固定连接，因此可以直接在底壁114上开设孔，以使得第一腔室110与外界大气连通。此外，侧壁115可以是波纹管。旋转机构300的转轴350、旋转联轴器340以及磁流体360穿过上盖116与腔盖111连接。侧壁115为伸缩结构，用于保证上盖116、旋转机构300以及载重台200能够相对于底壁114上下移动。

在一些实施例中，结合图1，原子层沉积设备包括载料腔室600、输送机构500以及真空插板阀700，载料腔室600与第二腔室120密封连通，输送机构500设置在载料腔室600内，并能够运动至第二腔室120内，真空插板阀700设置在载料腔室600与第二腔室120之间，用于隔绝载料腔室600与第二腔室120。

具体的，结合图4和图5，输送机构500包括载料电机510、载料减速器520、载料联轴器530、传动轴540、传输板550、支撑架560、轴承随动器组件570、载料齿轮580以及齿条590。传输板550安装在支撑架560上，支撑架560固定在载料腔室600内。载料齿轮580安装在传动轴540上，齿条590安装在传输板550的底部，载料齿轮580和齿条590相啮合。轴承随动器组件570安装在支撑架560上，且与传输板550相接触。在实际使用时，启动输送机构500，载料电机510、载料减速器520以及载料联轴器530将动力传递给传动轴540，安装在传动轴540上的载料齿轮580转动，以通过齿条590带动传输板550在第三腔室130与第二腔室120之间移动。其中传输板550靠近第二腔室120的一端为叉型结构。

在实际使用时，原子层沉积设备初始状态为：过渡腔室和反应腔室相通，并且均维持在真空状态，真空插板阀700处于关闭状态。第一腔室110通过空心的导向杆420或者通孔与外界大气连通，并保持大气压强。载料腔室600中处于大气压强。

工艺开始前，晶圆架390放置在输送机构500的传输板550的一端，且位于载料腔室600内，将待镀晶圆全部放置在晶圆架390后，关闭载料腔室600，载料腔室600内部抽真空，待载料腔室600的真空度与过渡腔室的真空度达到平衡时，真空插板阀700开启，晶圆架390通过输送机构500输送到过渡腔室内。启动升降机构400，第一腔室110内的旋转机构300、腔盖111以及载重台200向上移动，载重台200将晶圆架390顶起，使其脱离输送机构500。传输板550退回载料腔室600中，并关闭真空插板阀700。升降机构400提升过程中腔盖111与反应腔室形成密封。待反应腔室内部的气压达到工艺气压，并且温度达到工艺温度后，启动旋转机构300带动晶圆架390在反应腔室内旋转，同时反应腔室内开始薄膜沉积工艺。

在其中一些实施例中，结合图2和图3，升降机构400包括升降电机,401、升降减速器402、主动齿轮403、中间齿轮404、从动齿轮405、丝杆406、滑轨组件408、螺母座407、拖链450、安装板410。主动齿轮403、中间齿轮404相互啮合，中间齿轮404和从动齿轮405相互啮合，从动齿轮405安装在丝杆406底部，丝杆406两端安装有轴承，螺母座407与丝杆406螺纹连接。安装板410安装在螺母座407和滑轨组件408上。拖链450安装在安装板410上。导向杆420和第二密封件430的一端与安装板410连接。在实际使用时，启动升降机构400，升降电机401转动，带动升降减速器402以及与升降减速器402相连接的主动齿轮403转动，同时中间齿轮404与从动齿轮405同步转动，与从动齿轮405连接的丝杆493转动，同时螺母座407带动安装板410向上或向下运动，安装在安装板410上的导向杆420运动，实现第一腔室110、旋转机构300、载重台200以及晶圆架390的升降。

在另外一些实施例中，结合图8，升降机构400包括至少两个导向杆420、抱紧板491、直线轴承492、第二密封件430、丝杆493、固定板494、升降联轴器495、升降电机496、轴承座497以及活接头498。丝杆493的一端与过渡腔室的腔壁转动连接，第二密封件430套设在丝杆493外，第二密封件430的一端与过渡腔体的腔壁密封连接，另一端与固定板494密封连接，第二密封件430用于防止丝杆493与过渡腔室的腔壁之间发生漏气。导向杆420一端与固定板494连接，另一端穿过过渡腔体的腔壁并通过活接头498与第一腔室110的上盖连接。任意至少两个导向杆420之间设置有抱紧板491，抱紧板491用于使得至少两个导向杆420同步运动，其中导向杆420的数量可以是两个或者四个。当导向杆420的数量为四个时，旋转机构300设置在四个导向杆420的中间。直线轴承492安装在过渡腔体上，导向杆420穿过直线轴承492。丝杆493的两端安装有轴承座497，升降联轴器495和升降电机496安装在固定板494上。在实际使用时，启动升降机构400，升降电机496带动丝杆493转动，丝杆493通过螺母座带动导向杆420上下运动，实现旋转机构300和载重台200的升降。

需要说明的是，参阅图1，升降机构400可以根据实际需要选择性的设置在过渡腔室的上方；参阅图9，升降机构400也可以设置在过渡腔室的下方。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括：

原子层沉积室(100)，包括第一腔室(110)和第二腔室(120)，所述第一腔室(110)与外界大气连通，所述第二腔室(120)为真空环境；

载重台(200)，设置在所述原子层沉积室(100)内，所述载重台(200)用于承托晶圆架(390)；以及

旋转机构(300)，所述旋转机构(300)的动力部设置在所述第一腔室(110)内，所述旋转机构(300)的转轴(350)伸出至所述第一腔室(110)外且与所述载重台(200)连接，用于带动所述载重台(200)转动。

2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积室(100)还包括第三腔室(130)，所述第三腔室(130)为反应腔室，所述第一腔室(110)位于所述第二腔室(120)内，所述第三腔室(130)与所述第二腔室(120)连通，所述原子层沉积设备还包括升降机构(400)，所述升降机构(400)的动力部设置在所述原子层沉积室(100)外，所述升降机构(400)的升降端与所述第一腔室(110)的外壁连接，所述升降机构(400)升降时能够通过所述载重台(200)带动晶圆架(390)移动至所述第三腔室(130)内。

3.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述第三腔室(130)位于所述载重台(200)的正上方，所述升降机构(400)用于带动所述载重台(200)运动至所述第三腔室(130)内。

4.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述第三腔室(130)具有腔盖(111)，所述腔盖(111)套设在所述转轴(350)上，且位于所述第一腔室(110)与所述载重台(200)之间，所述转轴(350)可相对于所述腔盖(111)转动；

所述第三腔室(130)的开口部朝向所述腔盖(111)，所述升降机构(400)用于带动所述腔盖(111)合盖于所述开口部。

5.根据权利要求4所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括弹性件(112)，所述弹性件(112)设置在所述腔盖(111)与所述第一腔室(110)之间。

6.根据权利要求4所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述转轴(350)与所述腔盖(111)密封连接，所述原子层沉积设备还包括第一密封件(113)，所述第一密封件(113)套设在所述转轴(350)外侧，且所述第一密封件(113)的一端与所述腔盖(111)密封连接，另一端与所述第一腔室(110)的外壁密封连接。

7.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述升降机构(400)包括导向杆(420)和第二密封件(430)，所述导向杆(420)为空心杆，所述导向杆(420)的一端与所述第一腔室(110)密封连通，另一端与伸出至所述第二腔室(120)外且与所述升降机构(400)的升降端连接，同时所述导向杆(420)与外界大气连通，所述第二密封件(430)用于实现所述导向杆(420)与所述第二腔室(120)之间的密封。

8.根据权利要求7所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述第二密封件(430)为波纹管，所述波纹管套设在所述导向杆(420)外，所述第二密封件(430)的一端与所述升降机构(400)的升降端密封连接，另一端与所述第二腔室(120)密封连接。

9.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述第一腔室(110)包括上盖(116)和与上盖(116)密封连接的侧壁(115)，所述侧壁(115)远离所述上盖(116)的一端与所述第二腔室(120)的底壁(114)固定连接，所述第二腔室(120)的底壁(114)上开设有与外界大气连通的通孔，所述第一腔室(110)通过所述通孔与外界大气连通，所述侧壁(115)为伸缩结构。

10.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括载料腔室(600)、输送机构(500)以及真空插板阀(700)，所述载料腔室(600)与所述第二腔室(120)密封连通，所述输送机构(500)设置在所述载料腔室(600)内，并能够运动至所述第二腔室(120)内，所述真空插板阀(700)设置在所述载料腔室(600)与所述第二腔室(120)之间，用于隔绝所述载料腔室(600)与所述第二腔室(120)。