CN116695204B - 一种ic框架镀锡加工方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种IC框架镀锡加工方法,涉及电镀技术领域,包括如下步骤:步骤S1、热处理,步骤S2、脱脂处理,步骤S3、电镀,步骤S4、后处理。电镀采用的电镀液是以去离子水为溶剂,包括:锡盐、苯甲酸、水溶性壳聚糖、双(羟甲基)咪唑烷基脲、1‑苄基吡啶‑3‑羧酸盐、茶多酚、3,3'‑二磺酸基‑4,4'‑二氟苯基砜二钠盐、抗氧化剂、光亮剂、表面活性剂、络合剂、稳定剂。该IC框架镀锡加工方法工艺简单,操作方便,镀锡效率高、效果好,形成的镀层与IC引线框架结合力强,抗氧化性、焊接性和焊接可靠性优异。

Description

一种IC框架镀锡加工方法
技术领域
本发明涉及电镀技术领域,尤其涉及一种IC框架镀锡加工方法。
背景技术
近年来,随着电子工业的迅速发展和社会的不断进步,电子器件都向着小型化集成化方向发展,带动人们对集成电路的关注度越来越高。集成电路(IC)引线框架作为集成电路的关键部件之一,其在集成电路中起到支撑芯片,作为导电介质连接IC内外部电路,传送电信号,并与气密封接材料一起,向外散发芯片工作时产生的热量的作用,是半导体和集成电路产品赖以生存的结构材料。
为了改善IC引线框架的可焊性,镀锡工序成为IC引线框架加工制作过程中必不可少的环节。然而,传统IC框架镀锡加工方法或多或少存在工艺复杂,成本较高,镀锡效率和效果有待进一步改善,会产生不同程度的起皮,影响产品品质,环保性能不佳等技术缺陷。
为了解决上述问题,中国发明专利文献CN113862733B公开了一种滚镀中性镀锡工艺,所述滚镀中性镀锡工艺中包括如下步骤:使用含有添加剂的中性镀锡液进行通电电镀;所述添加剂包括芳香族氨基酸,所述芳香族氨基酸包括酪氨酸、苯丙氨酸或色氨酸中任意一种或至少两种的组合。该发明提供的镀锡工艺连片少、渗镀情况少、锡层硬度高。然而,该镀锡工艺形成的镀层抗氧化性、焊接性和焊接可靠性有待进一步提高,与基材结合力有待进一步改善。
因此,开发一种工艺简单,操作方便,镀锡效率高、效果好,形成的镀层与IC引线框架结合力强,抗氧化性、焊接性和焊接可靠性优异的IC框架镀锡加工方法符合市场需求,具有广泛的市场价值和应用前景,对促进IC框架镀锡加工技术领域的发展具有非常重要的意义。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种工艺简单,操作方便,镀锡效率高、效果好,形成的镀层与IC引线框架结合力强,抗氧化性、焊接性和焊接可靠性优异的IC框架镀锡加工方法。
为达到以上目的,本发明提供一种IC框架镀锡加工方法,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐15-30g/L、苯甲酸20-55g/L、水溶性壳聚糖0.05-0.25g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲1-5g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐1-3g/L、茶多酚0.5-1.2g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.05-0.1g/L、抗氧化剂1-3g/L、光亮剂1-3g/L、表面活性剂3-5g/L、络合剂4-8g/L、稳定剂4-6g/L;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
优选的,步骤S1中所述热处理的温度为330-410℃,保温时间为1-3h。
优选的,步骤S1中所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氮气、氦气、氖气、氩气中的任意一种。
优选的,步骤S3中所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为10~30℃,电流密度为3~5A/dm2,电镀时间为20~40min。
优选的,所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:(1-3):2混合形成的混合物。
优选的,所述水溶性壳聚糖的CAS号为9012-76-4,由山东穗泰生物科技有限公司提供。
优选的,所述抗氧化剂为间苯二酚、甲酚、萘酚、抗坏血酸中的至少一种。
优选的,所述光亮剂为苯亚甲基丙酮、2-羟基-1萘甲醛、磺基水杨酸中的至少一种。
优选的,所述表面活性剂为烷基糖苷APG1214、BNO12或TX-10中至少一种;所述络合剂为乙二胺四乙酸、三乙醇胺、酒石酸钠中的至少一种;所述稳定剂为柠檬酸、山梨酸钠、草酸中的至少一种。
优选的,步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸10-20g/L、ANIM SN-92抗高温锡保护剂80-90g/L、木质素磺酸5-10g/L。
优选的,步骤S4中所述钝化温度为25-35℃,时间为10-20s。
由于上述技术方案的运用,本发明具有以下有益效果:
(1)本发明公开的IC框架镀锡加工方法,对设备依赖性低,工艺简单,操作方便,镀锡效率高、效果好,环保性好,形成的镀层与IC引线框架结合力强,抗氧化性、焊接性和焊接可靠性优异。
(2)本发明公开的IC框架镀锡加工方法,所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐15-30g/L、苯甲酸20-55g/L、水溶性壳聚糖0.05-0.25g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲1-5g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐1-3g/L、茶多酚0.5-1.2g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.05-0.1g/L、抗氧化剂1-3g/L、光亮剂1-3g/L、表面活性剂3-5g/L、络合剂4-8g/L、稳定剂4-6g/L;通过各组分之间的相互配合,共同作用,使得制成的电镀液稳定好,在电镀时能有效阻挡杂质金属离子在阴极表面沉积,进而改善镀锡层表面质量,另外还能提高镀锡层的抗氧化性、焊接性和焊接可靠性,使得镀锡层与IC框架结合力强。
(3)本发明公开的IC框架镀锡加工方法,在镀前依次进行了热处理、脱脂处理步骤,能活化待镀IC框架,使得电镀锡效果更佳,形成的镀锡层与IC框架结合力更强。
(4)本发明公开的IC框架镀锡加工方法,添加的钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸10-20g/L、ANIM SN-92抗高温锡保护剂80-90g/L、木质素磺酸5-10g/L。通过各组分之间的相互配合作用,能实现较好的钝化效果,其中不含有重铬酸盐成分,环保性能更佳。
具体实施方式
以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。
实施例1
一种IC框架镀锡加工方法,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐15g/L、苯甲酸20g/L、水溶性壳聚糖0.05g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲1g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐1g/L、茶多酚0.5g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.05g/L、抗氧化剂1g/L、光亮剂1g/L、表面活性剂3g/L、络合剂4g/L、稳定剂4g/L;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
步骤S1中所述热处理的温度为330℃,保温时间为1h;所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氮气。
步骤S3中所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为10℃,电流密度为3A/dm2,电镀时间为20min。
所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:1:2混合形成的混合物;所述水溶性壳聚糖的CAS号为9012-76-4,由山东穗泰生物科技有限公司提供;所述抗氧化剂为间苯二酚;所述光亮剂为苯亚甲基丙酮;所述表面活性剂为烷基糖苷APG1214;所述络合剂为乙二胺四乙酸;所述稳定剂为柠檬酸。
步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸10g/L、ANIMSN-92抗高温锡保护剂80g/L、木质素磺酸5g/L;所述钝化温度为25℃,时间为10s。
实施例2
一种IC框架镀锡加工方法,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐20g/L、苯甲酸30g/L、水溶性壳聚糖0.1g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲2g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐1.5g/L、茶多酚0.8g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.07g/L、抗氧化剂1.5g/L、光亮剂1.5g/L、表面活性剂3.5g/L、络合剂5g/L、稳定剂4.5g/L;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
步骤S1中所述热处理的温度为350℃,保温时间为1.5h;所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氦气。
步骤S3中所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为15℃,电流密度为3.5A/dm2,电镀时间为25min;所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:1.5:2混合形成的混合物。
所述水溶性壳聚糖的CAS号为9012-76-4,由山东穗泰生物科技有限公司提供;所述抗氧化剂为甲酚;所述光亮剂为2-羟基-1萘甲醛;所述表面活性剂为BNO12;所述络合剂为三乙醇胺;所述稳定剂为山梨酸钠。
步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸13g/L、ANIMSN-92抗高温锡保护剂83g/L、木质素磺酸7g/L;所述钝化温度为28℃,时间为12s。
实施例3
一种IC框架镀锡加工方法,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐22g/L、苯甲酸43g/L、水溶性壳聚糖0.15g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲3.5g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐2g/L、茶多酚0.9g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.07g/L、抗氧化剂2g/L、光亮剂2g/L、表面活性剂4g/L、络合剂6g/L、稳定剂5g/L;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
步骤S1中所述热处理的温度为380℃,保温时间为2h;所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氖气。
步骤S3中所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为20℃,电流密度为4A/dm2,电镀时间为30min。
所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:2:2混合形成的混合物;所述水溶性壳聚糖的CAS号为9012-76-4,由山东穗泰生物科技有限公司提供;所述抗氧化剂为萘酚;所述光亮剂为磺基水杨酸;所述表面活性剂为TX-10;所述络合剂为酒石酸钠;所述稳定剂为草酸。
步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸15g/L、ANIMSN-92抗高温锡保护剂85g/L、木质素磺酸8g/L;所述钝化温度为30℃,时间为15s。
实施例4
一种IC框架镀锡加工方法,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐28g/L、苯甲酸52g/L、水溶性壳聚糖0.2g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲4g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐2.5g/L、茶多酚1.1g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.09g/L、抗氧化剂2.5g/L、光亮剂2.5g/L、表面活性剂4.5g/L、络合剂7.5g/L、稳定剂5.5g/L;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
步骤S1中所述热处理的温度为400℃,保温时间为2.5h;所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氩气。
步骤S3中所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为25℃,电流密度为4.5A/dm2,电镀时间为35min。
所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:2.5:2混合形成的混合物;所述水溶性壳聚糖的CAS号为9012-76-4,由山东穗泰生物科技有限公司提供;所述抗氧化剂为间苯二酚、甲酚、萘酚、抗坏血酸按质量比1:1:2:3混合形成的混合物;所述光亮剂为苯亚甲基丙酮、2-羟基-1萘甲醛、磺基水杨酸按质量比1:2:3混合形成的混合物;所述表面活性剂为烷基糖苷APG1214、BNO12或TX-10按质量比1:2:3混合形成的混合物;所述络合剂为乙二胺四乙酸、三乙醇胺、酒石酸钠按质量比1:3:2混合形成的混合物;所述稳定剂为柠檬酸、山梨酸钠、草酸按质量比1:3:5混合形成的混合物。
步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸18g/L、ANIMSN-92抗高温锡保护剂88g/L、木质素磺酸9g/L;所述钝化温度为33℃,时间为18s。
实施例5
一种IC框架镀锡加工方法,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐30g/L、苯甲酸55g/L、水溶性壳聚糖0.25g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲5g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐3g/L、茶多酚1.2g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.1g/L、抗氧化剂3g/L、光亮剂3g/L、表面活性剂5g/L、络合剂8g/L、稳定剂6g/L;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
步骤S1中所述热处理的温度为410℃,保温时间为3h;所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氩气。
步骤S3中所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为30℃,电流密度为5A/dm2,电镀时间为40min。
所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:3:2混合形成的混合物;所述水溶性壳聚糖的CAS号为9012-76-4,由山东穗泰生物科技有限公司提供;所述抗氧化剂为间苯二酚、甲酚、萘酚、抗坏血酸按质量比1:2:1:1混合形成的混合物;所述光亮剂为磺基水杨酸;所述表面活性剂为烷基糖苷APG1214;所述络合剂为酒石酸钠;所述稳定剂为草酸。
步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸20g/L、ANIMSN-92抗高温锡保护剂90g/L、木质素磺酸10g/L;所述钝化温度为35℃,时间为20s。
对比例1
一种IC框架镀锡加工方法,其与实施例1基本相同,不同的是没有添加水溶性壳聚糖和双(羟甲基)咪唑烷基脲。
对比例2
一种IC框架镀锡加工方法,其与实施例1基本相同,不同的是没有添加1-苄基吡啶-3-羧酸盐和3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐。
为了进一步说明本发明各实施例IC框架镀锡加工方法的有益技术效果,对实施例1-5及对比例1-2中涉及的IC框架镀锡加工方法形成的镀锡层进行相关性能测试,测试结果见表1,测试方法参见中国发明专利CN112853413B。其中,对于可焊性,若焊接牢固,焊点光滑,焊接处镀层无起泡脱落现象,证明镀锡层可焊性OK,否则NG。
表1
从表1可见,本发明实施例公开的IC框架镀锡加工方法形成的镀锡层,与对比例相比,具有更加优异的外观质量和可焊性,且杂质金属离子含量更低,与IC框架结合力强;水溶性壳聚糖、双(羟甲基)咪唑烷基脲、1-苄基吡啶-3-羧酸盐和3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐的加入对改善上述性能有益。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明的范围内。本发明要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。

Claims (8)

1.一种IC框架镀锡加工方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、热处理:将待镀IC引线框架工件进行镀前热处理;
步骤S2、脱脂处理:将热处理后的待镀IC引线框架工件依次进行抛光、脱脂除油、水洗、烘干处理;
步骤S3、电镀:将脱脂处理后的待镀IC引线框架工件置于电镀槽内的电镀液中进行电镀;所述电镀液是以去离子水为溶剂,包括如下浓度的各组分:锡盐15-30g/L、苯甲酸20-55g/L、水溶性壳聚糖0.05-0.25g/L、双(羟甲基)咪唑烷基脲1-5g/L、1-苄基吡啶-3-羧酸盐1-3g/L、茶多酚0.5-1.2g/L、3,3'-二磺酸基-4,4'-二氟苯基砜二钠盐0.05-0.1g/L、抗氧化剂1-3g/L、光亮剂1-3g/L、表面活性剂3-5g/L、络合剂4-8g/L、稳定剂4-6g/L;所述电镀是以待镀IC引线框架工件作为阴极,采用纯锡棒作为阳极,接通电流,控制电镀温度为10~30℃,电流密度为3~5A/dm2,电镀时间为20~40min;
步骤S4、后处理:清理干净工件表面的锡液,再置于钝化液中进行钝化。
2.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,步骤S1中所述热处理的温度为330-410℃,保温时间为1-3h。
3.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,步骤S1中所述热处理过程中,采用惰性气体气氛保护;所述惰性气体为氮气、氦气、氖气、氩气中的任意一种。
4.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,所述锡盐为甲基磺酸锡、氯化亚锡、硫酸亚锡按质量比1:(1-3):2混合形成的混合物。
5.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,所述抗氧化剂为间苯二酚、甲酚、萘酚、抗坏血酸中的至少一种;所述光亮剂为苯亚甲基丙酮、2-羟基-1萘甲醛、磺基水杨酸中的至少一种。
6.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,所述表面活性剂为烷基糖苷APG1214、BNO12或TX-10中至少一种;所述络合剂为乙二胺四乙酸、三乙醇胺、酒石酸钠中的至少一种;所述稳定剂为柠檬酸、山梨酸钠、草酸中的至少一种。
7.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,步骤S4中所述钝化液以水为溶剂,包括如下浓度的各组分:单宁酸10-20g/L、ANIM SN-92抗高温锡保护剂80-90g/L、木质素磺酸5-10g/L。
8.根据权利要求1所述IC框架镀锡加工方法,其特征在于,步骤S4中所述钝化温度为25-35℃,时间为10-20s。
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3734839A (en) * 1971-09-30 1973-05-22 Du Pont Alkaline cyanide zinc electroplating
JP2000169998A (ja) * 1998-12-03 2000-06-20 Ibiden Co Ltd 電気めっき前処理液、電気めっき方法および多層プリント配線板の製造方法
CN1544705A (zh) * 2003-11-25 2004-11-10 左正勋 碱性无氰锌酸盐镀锌光亮剂及其组合物光亮剂
JP2007039739A (ja) * 2005-08-03 2007-02-15 Fujifilm Holdings Corp 電解メッキ処理方法及び装置
CN103757672A (zh) * 2014-01-20 2014-04-30 广州市海科顺表面处理有限公司 一种锌锡合金电镀方法
CN105780075A (zh) * 2014-12-24 2016-07-20 党庆风 一种碱性镀锌光亮剂
CN108103540A (zh) * 2018-01-24 2018-06-01 永星化工(上海)有限公司 锡合金电镀液
CN110306213A (zh) * 2019-07-08 2019-10-08 广州三孚新材料科技股份有限公司 一种太阳能电池用镀锡液及其制备方法
CN112795959A (zh) * 2020-12-30 2021-05-14 蔡国隆 一种降低镀层杂质含量的镀锡电镀液及其制备方法
CN112853413A (zh) * 2020-12-30 2021-05-28 蔡国隆 一种铝合金镀锡电镀工艺
CN116463693A (zh) * 2023-04-15 2023-07-21 崇辉半导体(江门)有限公司 一种提升半导体引线框架镀层稳定性的处理方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107937941B (zh) * 2017-12-07 2019-06-11 江门市高信科技有限公司 一种钾盐体系专用的无氰镀锌光亮剂的制备方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3734839A (en) * 1971-09-30 1973-05-22 Du Pont Alkaline cyanide zinc electroplating
JP2000169998A (ja) * 1998-12-03 2000-06-20 Ibiden Co Ltd 電気めっき前処理液、電気めっき方法および多層プリント配線板の製造方法
CN1544705A (zh) * 2003-11-25 2004-11-10 左正勋 碱性无氰锌酸盐镀锌光亮剂及其组合物光亮剂
JP2007039739A (ja) * 2005-08-03 2007-02-15 Fujifilm Holdings Corp 電解メッキ処理方法及び装置
CN103757672A (zh) * 2014-01-20 2014-04-30 广州市海科顺表面处理有限公司 一种锌锡合金电镀方法
CN105780075A (zh) * 2014-12-24 2016-07-20 党庆风 一种碱性镀锌光亮剂
CN108103540A (zh) * 2018-01-24 2018-06-01 永星化工(上海)有限公司 锡合金电镀液
CN110306213A (zh) * 2019-07-08 2019-10-08 广州三孚新材料科技股份有限公司 一种太阳能电池用镀锡液及其制备方法
CN112795959A (zh) * 2020-12-30 2021-05-14 蔡国隆 一种降低镀层杂质含量的镀锡电镀液及其制备方法
CN112853413A (zh) * 2020-12-30 2021-05-28 蔡国隆 一种铝合金镀锡电镀工艺
CN116463693A (zh) * 2023-04-15 2023-07-21 崇辉半导体(江门)有限公司 一种提升半导体引线框架镀层稳定性的处理方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
光亮剂对印制电路板低温硫酸盐化学镀锡的影响;黄草明;;材料保护(第12期);第59-62页 *
光亮酸性镀锡工艺综述;封勇;机电元件;第25卷(第2期);第32-36页 *
碱性锌酸盐镀锌液中辅助光亮剂苄基吡啶鎓-3- 羧酸盐的紫外吸收分光光度法测定;郑莹 等;材料保护;第50卷(第9期);第93-95页 *

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