CN116669496A - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及显示装置，显示面板包括显示区和非显示区，显示区围绕至少部分非显示区；非显示区包括元件设置区和挡墙设置区，挡墙设置区围绕至少部分元件设置区，挡墙设置区设置有挡墙；显示面板还包括：衬底，挡墙设置于衬底一侧；发光层，位于挡墙远离衬底的一侧且包括位于挡墙设置区的第一发光分部；第一遮光结构，位于挡墙设置区且位于第一发光分部靠近衬底的一侧；沿显示面板的厚度方向，第一发光分部与第一遮光结构至少部分交叠。本发明提供的技术方案，通过第一遮光结构对激光进行遮挡，解决激光剥离过程中，造成有机发光层发生气化使得膜层剥离的问题，提高显示面板结构的稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
现有显示面板中，通常在屏内开口(AA hole，AAH)与显示区之间存在挡墙设置区，挡墙设置区设置有挡墙，用于阻隔有机封装层进入AAH。
然而，在激光剥离(Laser Lift Off，LLO)制程时，即采用激光剥离技术剥离刚性基板的过程中，激光容易造成挡墙设置区的有机发光层发生气化，使得膜层剥离，影响显示面板结构的稳定性。
发明内容
本发明提供一种显示面板及显示装置，以解决激光剥离过程中，造成有机发光层发生气化使得膜层剥离的问题，提高显示面板结构的稳定性。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板包括显示区和非显示区，所述显示区围绕至少部分所述非显示区；
所述非显示区包括元件设置区和挡墙设置区，所述挡墙设置区围绕至少部分所述元件设置区，所述挡墙设置区设置有挡墙；
所述显示面板还包括：
衬底，所述挡墙设置于所述衬底一侧；
发光层，位于所述挡墙远离所述衬底的一侧且包括位于所述挡墙设置区的第一发光分部；
第一遮光结构，位于所述挡墙设置区且位于所述第一发光分部靠近所述衬底的一侧；沿所述显示面板的厚度方向，所述第一发光分部与所述第一遮光结构至少部分交叠。
第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板包括显示区和非显示区，所述显示区围绕至少部分所述非显示区；
所述非显示区包括元件设置区和阻隔结构设置区，所述阻隔结构设置区围绕至少部分所述元件设置区，所述阻隔结构设置区设置有阻隔结构；
所述显示面板还包括：
衬底，所述阻隔结构设置于所述衬底一侧；
发光层，位于所述阻隔结构远离所述衬底的一侧且包括位于所述阻隔结构设置区的第二发光分部，至少部分所述第二发光分部在所述阻隔结构处断开；
第二遮光结构，位于所述阻隔结构设置区且位于所述第二发光分部靠近所述衬底的一侧；沿所述显示面板的厚度方向，所述第二发光分部与所述第二遮光结构至少部分交叠。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括如第一方面或第二方面所述的显示面板。
本发明提供的方案，通过在挡墙设置区设置第一遮光结构，第一遮光结构位于第一发光分部靠近衬底的一侧，且与第一发光分部至少部分交叠，通过第一遮光结构遮挡激光光线，可以避免在采用激光剥离刚性衬底的过程中激光光线对发光层的第一发光分部进行照射导致第一发光分部发生气化使得显示面板的部分膜层剥离，从而提高显示面板结构的稳定性。
应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图虽然是本发明的一些具体的实施例，对于本领域的技术人员来说，可以根据本发明的各种实施例所揭示和提示的器件结构，驱动方法和制造方法的基本概念，拓展和延伸到其它的结构和附图，毋庸置疑这些都应该是在本发明的权利要求范围之内。
图1为现有技术中的一种显示面板的剖面结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图3为图2沿剖线A-A’的一种剖面结构示意图；
图4为图2沿剖线A-A’的另一种剖面结构示意图；
图5为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图6为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图7为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图8为本发明实施例提供另一种显示面板的俯视结构示意图；
图9为图8沿剖线B-B’的一种剖面结构示意图；
图10为图8沿剖线B-B’的另一种剖面结构示意图；
图11为本发明实施例提供一种显示面板的局部俯视结构示意图；
图12为本发明实施例提供的一种子像素的电路结构示意图；
图13为图11沿剖线C-C’的一种剖面结构示意图；
图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的局部俯视结构示意图；
图15为图14沿剖线D-D’的一种剖面结构示意图；
图16为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图17为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图18为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图19为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图20为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图21为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图22为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图23为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图；
图24为图8沿剖线B-B’的又一种剖面结构示意图；
图25为图8沿剖线B-B’的又一种剖面结构示意图；
图26为图2沿剖线A-A’的另一种剖面结构示意图；
图27为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将参照本发明实施例中的附图，通过实施方式清楚、完整地描述本发明的技术方案，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例所揭示和提示的基本概念，本领域的技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如背景技术描述，图1为现有技术中的一种显示面板的剖面结构示意图，如图1所示，显示面板100’包括显示区AA’和非显示NA’，其中，非显示区NA’包括挡墙设置区，可以理解的是，挡墙设置区设置有挡墙20’，用于阻隔有机封装层(图1中未示出)，即避免有机封装层进入其他区域(例如AAH)。当显示面板100’的衬底10’为柔性衬底时，该衬底10’一般形成于在刚性衬底110’上，在将其它功能层120’形成于衬底10’上之后，一般采用激光剥离技术剥离去除刚性衬底110’。然而，由于非显示区NA’的透光率较高，即挡墙设置区的透光率较高，使得激光穿透衬底10’，造成挡墙设置区的发光层30’发生气化，进而造成膜层剥离，影响显示面板结构的稳定性。
基于上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板包括显示区和非显示区，显示区围绕至少部分非显示区；非显示区包括元件设置区和挡墙设置区，挡墙设置区围绕至少部分元件设置区，挡墙设置区设置有挡墙；显示面板还包括衬底，挡墙设置于衬底一侧；发光层位于挡墙远离衬底的一侧且包括位于挡墙设置区的第一发光分部；第一遮光结构位于挡墙设置区且位于第一发光分部靠近衬底的一侧；沿显示面板的厚度方向，第一发光分部与第一遮光结构至少部分交叠。
采用上述技术方案，通过在挡墙设置区设置第一遮光结构，第一遮光结构位于第一发光分部靠近衬底的一侧，且与第一发光分部至少部分交叠，通过第一遮光结构遮挡激光光线，可以避免在采用激光剥离刚性衬底的过程中激光光线对发光层的第一发光分部进行照射，导致第一发光分部发生气化使得显示面板的部分膜层剥离，以而提高显示面板结构的稳定性。
以上是本申请的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，图3为图2沿剖线A-A’的一种剖面结构示意图，结合参考图2和图3所示，显示面板100包括显示区AA和非显示区NA，显示区AA围绕至少部分非显示区NA；非显示区NA包括元件设置区01和挡墙设置区02，挡墙设置区02围绕至少部分元件设置区01，挡墙设置区02设置有挡墙20；显示面板100还包括：衬底10，挡墙20设置于衬底10一侧；发光层30，位于挡墙20远离衬底10的一侧且包括位于挡墙设置区02的第一发光分部31；第一遮光结构40，位于挡墙设置区02且位于第一发光分部31靠近衬底10的一侧；沿显示面板的厚度方向Z，第一发光分部31与第一遮光结构40至少部分交叠。
参考图2，图2示出了显示区AA围绕非显示区NA设置，位于非显示区NA中的挡墙设置区02位于元件设置区01和显示区AA之间，且挡墙设置区02围绕元件设置区01设置，可以理解的是，图2仅为示例性的示出，但不限于此。
参考图3，衬底10可以是多层结构，例如，衬底10包括叠层设置的有机层和无机缓冲层，其中，有机层的材料包括但不限于聚酰亚胺，使得有机层具有耐高温和良好的绝缘性，无机缓冲层的材料包括但不限于氧化硅或氮化硅，无机缓冲层能够阻隔形成于衬底10上的其它膜层因高温制程使得有机层逸出的杂质离子，以防有机层中逸出的杂质离子对形成于衬底10上的其它膜层的性能造成影响。进一步的，设置衬底10可以包括两层有机层，可以再在采用激光剥离去除刚性衬底时至少保证远离刚性衬底一侧的有机层不受损伤仍可以保持完整性，从而确保整个显示面板的结构完整性以及性能稳定性。
结合参考图2和图3，可以理解的，元件设置区01可以用于设置元件等，例如可以为光学传感器或者距离传感器，用于实现显示模组的其他附加功能，例如成像功能或者距离感测功能。进一步的，元件设置区01可以贯穿显示面板10中的至少部分膜层，形成通孔结构或者盲孔结构。本发明实施例对元件设置区01中设置的元件类型以及开孔类型均不做具体限定，仅以开孔为通孔为例进行说明。进一步的，元件设置区01与显示区AA之间还设置有挡墙设置区02，挡墙设置区02内设置有挡墙20，挡墙可以是一个或多个，挡墙20用于拦截封装层中的有机层向着元件设置区01延伸。由于有机层具有较好的吸收水和氧气的能力，通过挡墙设置区02中的至少一组挡墙20可以避免有机层延伸至元件设置区01，不会导致水汽或者氧气沿着有机层延伸至显示区AA，从而保证显示面板100的封装效果。图3仅示例性的示出挡墙设置区02设置两道挡墙20，以更加保险和稳定的避免封装层中有机层的外延，保证显示面板100的封装效果。
其中，挡墙20可以是由多层有机膜层堆叠而成，图3仅为示例性的示出，但不限于此。
继续参考图3，发光层30包括公共发光功能层，公共发光功能层可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层以及电子注入层等膜层，图3中为了附图清晰，仅示出了空穴传输层301和电子传输层302。可以理解的是，公共发光功能层是整面蒸镀形成的，如此，非显示区NA也会蒸镀形成公共发光功能层，其中，公共发光功能层包括位于挡墙设置区02的第一发光分部31。
由于挡墙设置区02内至少非挡墙20结构处的透光率较高，使得激光穿透衬底10，容易造成第一发光分部31发生气化而使得膜层剥离，影响显示面板结构的稳定性，如此，在挡墙设置区02且位于第一发光分部31靠近衬底10的一侧设置第一遮光结构40，第一遮光结构40的大小和形状可根据实际需求进行设置，沿显示面板的厚度方向Z，使得第一发光分部31与第一遮光结构40至少部分交叠，以避免激光对第一发光分部31进行照射造成第一发光分部31发生气化，从而提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，第一遮光结构40可以采用金属材质，可以是一整层结构，也可以是图案化的结构，只需保证第一遮光结构40能够对第一发光分部31进行遮光即可。进一步的，第一遮光结构40可以是一层或者多层结构，可采用显示面板中已有的金属膜层进行复用或者与已有的金属膜层位于同层，以减小显示面板的膜层设置数量，利于轻薄化设计，可根据实际需求进行设置。
此外，图3仅示例性的示出了显示面板100的部分膜层结构，不限于此，具体膜层结构可根据实际需求进行设置。
综上，本实施例通过在挡墙设置区设置第一遮光结构，第一遮光结构位于第一发光分部靠近衬底的一侧，且与第一发光分部至少部分交叠，通过第一遮光结构遮挡激光光线，可以避免在采用激光剥离刚性衬底的过程中激光光线对发光层的第一发光分部进行照射，导致第一发光分部发生气化使得显示面板的部分膜层剥离，以而提高显示面板结构的稳定性。
可选的，继续参考图3，显示面板还包括位于发光层30远离衬底10一侧的封装结构50；封装结构50包括位于两层无机封装层51之间的有机封装层52，有机封装层52截止于挡墙20的设置位置。
其中，两层无机封装层51的材料可以相同或不同，例如，两层无机层的材料均为氮化硅。
具体的，无机封装层51可以采用化学气相沉积技术制备，有机封装层52可以采用喷墨打印技术制备，为了能够有效限制封装结构50的有机封装层52的流动范围，在挡墙设置区02设置挡墙20，以限定有机封装层52的边界，避免有机封装层52向元件设置区01一侧延伸，能够更好的阻隔水氧，避免水汽或者氧气沿着有机封装层52进入显示区AA，从而影响显示面板的显示效果。
可选的，图4为图2沿剖线A-A’的另一种剖面结构示意图，结合参考图2和图4，显示区AA包括多个子像素P，子像素P包括相互连接的发光元件101和像素电路102；发光元件101包括阳极1011，像素电路102包括晶体管T，晶体管T包括有源层1021、栅极1022和源漏电极1023；显示面板还包括位于衬底10所在膜层与像素电路1022所在膜层之间的屏蔽保护结构60；第一遮光结构40与阳极1011、有源层1021、栅极1022、源漏电极1023以及屏蔽保护结构60中的至少一层同层设置。
继续参考图4，发光元件101包括叠层设置的阳极1011、发光层30和阴极1012，发光层30包括位于显示区AA内的多个发光复合层303，可以理解的是，发光复合层303位于像素定义层的像素开口内，如此，当向阳极1011和阴极1012上施加电信号后，在阳极1011和阴极1012的电场作用下，空穴和电子分别通过空穴传输层301和电子传输层302传输至发光复合层303，空穴和电子在发光复合层303中复合以实现发光。可以理解的是，发光层30的具体膜层结果包括但不限于图3所示，可根据实际需求进行设置。
其中，发光元件101可以发出红光、绿光、蓝光或者其他颜色，根据发光元件101发光颜色的不同，其发光复合层303的材料也会不同，本发明实施例对此不做具体限定，可根据实际需求进行设置。
继续参考图4，像素电路102中的晶体管T，图4仅示例性的示出了像素电路102中一个晶体管T的结构，晶体管T包括有源层1021、栅极1022和源漏电极1023，其中，有源层1021的可以包括氧化物半导体或硅，栅极1022和源漏电极1023的具体材料本领域技术人员也可根据实际情况设置，此处不作限定。示例性的，有源层1021的材料可以选用铟镓锌氧化物等，栅极1022的材料可以采用钼等，漏电极1023的材料可以采用钼/铝/钼、钛/铝/钛等。由于晶体管T中的有源层1021受到光照射后会产生光生载流子，导致晶体管的漏电流增加，从而影响显示面板的显示画面质量，进一步的，可通过在衬底10所在膜层与像素电路1022所在膜层之间设置屏蔽保护结构60，以避免激光透光衬底照射到有源层1021，减少晶体管T的漏流，提高显示面板的显示效果。
需要说明的是，晶体管T可以为顶栅结构，也可以为底栅结构，此处不做具体限定，可根据实际情况设置。
此外，显示面板还可以包括缓冲层121、层间绝缘层122、栅极绝缘层123、平坦化层124和像素定义层125等，但不限于此。
进一步的，第一遮光结构40可以与阳极1011、有源层1021、栅极1022、源漏电极1023以及屏蔽保护结构60中的至少一层同层设置，一方面可以简化制备工艺，另一方面，可以减少显示面板膜层的设置数量，利于显示面板的轻薄化设计。
其中，阳极101的材料可以是单层导电薄膜，该单层导电薄膜的材料可以包括氧化铟锡(ITO)材料、氧化铟锌(IZO)材料、碳纳米管材料、石墨烯材料、金与银中之一或组合。或者，阳极也可以为复合导电薄膜，该复合导电薄膜可以为层叠设置的ITO、Ag以及ITO，层叠设置的ITO、Al以及ITO，层叠设置的Al与TiN或者层叠设置的Al与MoOx等，在此不作限定。示例性的，阳极101为层叠设置的ITO、Ag以及ITO，第一遮光结构40可以与其中的Ag所在膜层进行同层设置。
可选的，继续参考图4，第一遮光结构40至少与阳极1011、有源层1021、栅极1022、源漏电极1023以及屏蔽保护结构60中膜层厚度最小的结构同层设置。
可以理解的是，图4仅示例性的各膜层的结构，图中各膜层厚度不代表实际厚度的带下，其实际的各膜层厚度大小可根据实际需求进行设置，此处不做具体限定。
具体的，第一遮光结构40可以与阳极1011、有源层1021、栅极1022、源漏电极1023以及屏蔽保护结构60中膜层厚度最小的结构同层设置，如此第一遮光结构40对挡墙设置区02垫起的高度最小，保证挡墙设置区02的结构稳定性良好，不会因为第一遮光结构40的设置造成挡墙设置区02内不同膜层之间的错位，保证挡墙设置区02内结构稳定性良好，显示面板的整体稳定性良好。
可选的，图5为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，结合参考图2和图5所示，显示区AA包括多个子像素P，子像素P包括相互连接的像素电路102和发光元件101；像素电路102包括第一晶体管Ta和第二晶体管Tb；第一晶体管Ta包括第一有源层1021a，第一有源层1021a包括硅；第二晶体管Tb包括第二有源层1021b，第二有源层1021b包括氧化物。
与图4示出的剖面结构不同的是，子像素P的像素电路102包括第一晶体管Ta和第二晶体管Tb，第一晶体管Ta包括第一有源层1021a，第一栅极1022a和第一源漏电极1023a，第二晶体管Tb包括第二有源层1021b，第二栅极1022b和第二源漏电极1023b，其中，第一有源层1021a包括硅，例如可以为低温多晶硅晶体管(Low Temperature Poly-Silicon，LTPS)，如此第一晶体管Ta可以形成LTPS类型的晶体管，该晶体管具有开关速度高、载流子迁移率高和功率小等优点。，第二有源层1021b包括氧化物，氧化物包括但不限于铟镓锌氧化物(Indium Gallium Zinc Oxide，IGZO)等，如此第二晶体管Tb可以形成IGZO类型的晶体管，该晶体管具有生产成本低、功耗低以及漏电流小等优势。如此，本发明实施例提供的像素电路102可以结合上述两种类型的晶体管，即将LTPS类型的晶体管与IGZO类型的晶体管相结合，即形成低温多晶氧化物(Low Temperature Polycrystalline Oxide，LTPO)类型的像素电路，如此保证像素电路102兼具高开关速度高、高载流子迁移率、低成本、低功耗以及小漏电的性能，进而保证像素电路102以及显示面板的工作性能。
继续参考图5，第一源漏电极1023a和第二源漏电极1023b可以位于同一层，如此，它们可通过同一道工艺制备形成，有利于简化工艺，并且有利于实现显示面板的薄型化。
需要说明的是，为了便于方案的理解和说明，在没有特殊说明的情况下，以下实施例提供的显示面板的剖面结构图中，均示例性的示出像素电路中的一个晶体管结构。
可选的，图6为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，结合参考图2和图6所示，非显示区NA还包括阻隔结构设置区03，阻隔结构设置区03设置有阻隔结构70，发光层30位于阻隔结构70远离衬底10的一侧且发光层30包括位于阻隔结构设置区03的第二发光分部32，至少部分第二发光分部32在阻隔结构70处断开；显示面板100还包括第二遮光结构80，第二遮光结构80位于阻隔结构设置区03且位于第二发光分部32靠近衬底10的一侧；沿显示面板的厚度方向Z，第二发光分部32与第二遮光结构80至少部分交叠。
其中，阻隔结构设置区03可以是位于显示区AA和挡墙设置区02之间，可以是位于挡墙设置区02和元件设置区01之间，图6仅示例性的示出阻隔结构设置区03位于显示区AA和挡墙设置区02之间，但不限于此。
阻隔结构70可以是一个或多个，本发明实施例对此不做具体限定，图6仅为示例性的示出，但不限于此。可以理解的是，阻隔结构70可以由多个膜层结构堆叠而成，例如包括绝缘层或者金属层等，此处也不做具体限定，可根据实际需求进行设置。
继续参考图6，发光层30还包括位于阻隔结构设置区03的第二发光分部32，第二发光分部32位于阻隔结构70远离衬底10的一侧，可以理解的，第二发光分部32包括公共发光功能层，至少部分第二发光分部32在阻隔结构70处断开，以避免水汽或者氧气沿着第二发光分部32进入显示区AA，避免影响显示区AA的显示效果。
进一步的，显示面板还包括位于阻隔结构设置区03的第二遮光结构80，且第二遮光结构80位于第二发光分部32靠近衬底10的一侧，第二遮光结构80的大小和形状可根据实际需求进行设置，沿显示面板的厚度方向Z，第二发光分部32与第二遮光结构80至少部分交叠，用于对阻隔结构设置区03进行遮光，以避免激光对第二发光分部32进行照射，而使得第二发光分部32发生气化导致显示面板的膜层出现剥离，提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，第二遮光结构80可以采用金属材质，可以是一整层结构，也可以是图案化的结构，只需保证第二遮光结构80能够对第二发光分部32进行激光遮挡即可。进一步的，第二遮光结构80可以是一层或者多层结构，可采用显示面板中已有的金属膜层进行复用或者与已有的金属膜层位于同层，以减小显示面板的膜层设置数量，利于轻薄化设计，可根据实际需求进行设置。
此外，第一遮光结构40与第二遮光结构80可以位于不同膜层设置，也可以位于同一膜层进行设置，可根据实际需求进行设置，图6仅为示例性的示出，但不限于此。在没有特殊说明的情况下，以下实施例对此也不做具体限定。
可选的，继续参考图6，阻隔结构70包括金属阻隔结构71；第二遮光结构80包括多个独立设置的第二遮光分部81，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光分部32与相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙交叠。
其中，金属阻隔结构71可以包括至少一层金属膜层，使得阻隔结构70自身能够起到遮光的作用，示例性的，图6示出了金属阻隔结构71可以与阳极1011同层设置，但不限于此。
具体的，第二遮光结构80包括多个独立设置的第二遮光分部81，根据阻隔结构70的数量不同，金属阻隔结构71的具体数量也会不同，对于相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙仍能具有较高的透光率，如此，沿显示面板的厚度方向Z，使得多个独立设置的第二遮光分部81分别与相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙交叠，可减少整个阻隔结构设置区03的透光率，避免激光对阻隔结构设置区03的第二发光分部32进行照射，进而避免第二发光分部32发生气化，从而提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，多个独立设置的第二遮光分部81可以位于同一层设置，也可以为不同的膜层进行设置，可根据实际需求进行设置，图6仅为示例性的示出。
可选的，继续参考图6，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光分部81的厚度h1小于阻隔结构70的厚度h2。
具体的，第二遮光分部81与相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙交叠，若第二遮光分部81的厚度h1较大，将使得阻隔结构70远离衬底10一侧的表面与非阻隔结构设置处远离衬底10一侧的表面之间高度差减小，无法保证发光层30在阻隔结构70设置处和非阻隔结构设置处完全断开，而导致水汽和氧气沿着发光层30进入显示区AA，影响显示区AA的显示效果。如此，设置第二遮光分部81的厚度h1小于阻隔结构70的厚度h2，便于阻隔结构70设置处的第二发光分部32与非阻隔结构设置处的第二发光分部32之间存在段差，以使第二发光分部32在此位置断开，保证显示区AA的发光层30不被水氧侵蚀，提高显示效果。
可选的，图7为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图7所示，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光结构80覆盖阻隔结构70以及相邻两个阻隔结构70之间的间隙。
其中，第二遮光结构80可以是一整层遮光结构，也可以是多层遮光膜层交叠形成的第二遮光结构80，图7仅为示例性的示出，但不限于此。
具体的，第二遮光结构80同时覆盖阻隔结构70以及相邻两个阻隔结构70之间的间隙，可以保证阻隔结构70设置处和非阻隔结构设置处的第二发光分部32始终保持一定的段差，进而使得第二发光分部32在此位置是断开的，以保证显示区AA的发光层30不被水氧侵蚀，提高显示效果。
可选的，图8为本发明实施例提供另一种显示面板的俯视结构示意图，图9为图8沿剖线B-B’的一种剖面结构示意图，结合参考图8和图9所示，阻隔结构设置区03包括第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032，第一阻隔结构设置区031位于挡墙设置区02与显示区AA之间，第二阻隔结构设置区0312位于挡墙设置区02与元件设置区01之间；至少第一阻隔结构设置区031设置第二遮光结构80。
参考图9，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032内均设置有阻隔结构70，使得位于第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032的第二发光分部32与显示区AA中的发光层30能够有效的断开，保证显示区AA中的发光层30不被水氧侵蚀，从而提高显示品质。
其中，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032内的阻隔结构70的数量可根据实际需求进行设置，此处不做具体限定。此外，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032内的阻隔结构70的具体形成膜层结构可以相同或不同，此处不做具体限定。
进一步的，由于第一阻隔结构设置区031更靠近显示区AA，如此，至少在第一阻隔结构设置区031设置第二遮光结构80，使得第二遮光结构80与位于第一阻隔结构设置区031的第二发光分部32交叠，可在激光剥离刚性衬底时，至少对位于第一阻隔结构设置区031的第二发光分部32进行遮光，避免激光照射到第二发光分部32导致第二发光分部32发生气化，从而导致显示面板的膜层出现剥离，并且避免公共有机发光层的气化以及剥离现象延伸至显示区AA，避免影响位于显示区AA内的公共有机发光层的正常性能，在提高显示面板的结构稳定性的基础上保证显示区AA中发光层30的结构以及功能正常，保证显示区AA可以正常显示。
可选的，图10为图8沿剖线B-B’的另一种剖面结构示意图，如图10所示，第二阻隔结构设置区0312设置有第二遮光结构80。
具体的，第二阻隔结构设置区0312设置的第二遮光结构80可以为一整层结构，也可以为多个独立的结构，可根据实际需求进行设置。示例性的，位于第二阻隔结构设置区0312的阻隔结构70包括金属阻隔结构，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光结构80与非金属阻隔结构之外的区域交叠，以第二发光分部32进行遮光。如此，通过在第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区0312均设置有第二遮光结构80，可以增加第二遮光结构80对第二发光分部32的遮光效果，进一步避免第二发光分部32被气化，提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区0312中的第二遮光结构80的形状可以相同或不同，此处不做具体限定，此外，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区0312中的第二遮光结构80可以位于同一膜层，也可以位于不同的膜层，此处也不做具体限定，图10仅为示例性的示出，但不限于此，可根据实际需求进行设置。
可选的，继续参考图10，第一阻隔结构设置区031的面积为S1，设置于第一阻隔结构设置区031的第二遮光结构80的覆盖面积为S2，第二阻隔结构设置区的面积为S3，设置于第二阻隔结构设置区032的第二遮光结构的覆盖面积为S4；其中，(S2/S1)>(S4/S3)。
具体的，第一阻隔结构设置区031的面积为S1，设置于第一阻隔结构设置区031的第二遮光结构80的覆盖面积为S2，则第二遮光结构80的覆盖面积占第一阻隔结构设置区031的面积的占比为S2/S1，S2/S1的值越大，说明第二遮光结构80对第一阻隔结构设置区031的遮光效果就越好。同理，第二阻隔结构设置区的面积为S3，设置于第二阻隔结构设置区032的第二遮光结构80的覆盖面积为S4，则第二遮光结构80的覆盖面积占第二阻隔结构设置区032的面积的占比为S4/S3，S4/S3的值越大，说明第二遮光结构80对第二阻隔结构设置区032的遮光效果就越好。进一步的，由于第一阻隔结构设置区031更加靠近显示区AA，设置(S2/S1)>(S4/S3)，即第二遮光结构80的覆盖面积占第一阻隔结构设置区031的面积的占比S2/S1大于第二遮光结构80的覆盖面积占第二阻隔结构设置区032的面积的占比为S4/S3，可以降低靠近显示区AA的发光层30发生气化而导致膜层剥离的风险，提高显示面板结构稳定性，尤其是保证显示区AA的结构稳定性。
可选的，图11为本发明实施例提供一种显示面板的局部俯视结构示意图，如图11所示，显示区AA还包括多个子像素P；显示面板100还包括信号走线103，信号走线103与子像素P电连接，且信号走线103包括围绕部分元件设置区01的走线分部；走线分部复用为第一遮光结构40，和/或，走线分部复用为第二遮光结构80。
其中，显示区AA中子像素P的排布方式可根据实际需求进行设置，例如不同颜色的子像素之间的排布方式为钻石像素(Diamond Pixel))排列，或者不同颜色的子像素之间也可为标准RGB排列、三角像素(Delta Pixel)排列、珍珠像素(Pearl Pixel)排列或二合一像素(2in1 Pixel))排列等，此处不做具体限定。图11示例性的示出了显示区AA中的部分子像素P，但不限于此，元件设置区01与显示区AA之间还包括挡墙设置区02和阻隔结构设置区03，其中，阻隔结构设置区03可以包括第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032，挡墙设置区02内设置有至少一个挡墙20，挡墙20可以是围绕元件设置区01设置，同时，阻隔结构设置区03内设置有至少一个阻隔结构70，阻隔结构70也可以是围绕元件设置区01设置。
继续参考图11，与子像素P电连接的信号走线103，可以是用于传输控制像素电路中各晶体管导通或关断的选通信号的信号走线，也可以是用于传输电压信号(例如初始化信号、数据电压信号或者电源信号)的信号走线等，本发明实施例对此不做具体限定，可根据实际需求进行设置。
进一步的，位于元件设置区01两侧的子像素P与同一信号走线103电连接时，信号走线103中的部分走线可围绕部分元件设置区01设置，以避免影响元件设置区01内的元件的放置和工作。围绕部分元件设置区01的走线分部可以复用为第一遮光结构40，和/或，第二遮光结构80，在保证显示信号正常传输的前提下以简化线路布局，减少非显示区的布设空间，提升显示面板的显示区域占比，提升显示面板的显示效果；同时简化第一遮光结构40和/或第二遮光结构80的膜层设计以及制备工艺，实现薄型化显示面板的同时简化面板工艺。
示例性的，以子像素P的像素电路结构为典型的7T1C(即7个晶体管和1个存储电容)电路为例，图12为本发明实施例提供的一种子像素的电路结构示意图，如图12所示，子像素P包括像素电路102和发光元件101，其中像素电路102包括第一发光控制晶体管T1、数据写入晶体管T2、驱动晶体管T3、阈值补偿晶体管T4、第一复位晶体管T5、第二发光控制晶体管T6、第二复位晶体管T7和存储电容Cst。其中，第一复位晶体管T5用于在显示阶段之前为驱动晶体管T3的栅极提供复位电压；第二复位晶体管T7用于在显示阶段之前，为发光元件101的阳极提供初复位电压。发光控制信号Emit控制第一发光控制晶体管T1和第二发光控制晶体管T6导通或截止；第一扫描信号Scan1控制存第一复位晶体管T5的导通或截止；第二扫描信号Scan2控制第二复位晶体管T7、数据写入晶体管T2和阈值补偿晶体管T4的导通或截止。
继续参考图11和图12，与子像素P电连接的信号走线103可以是控制像素电路102中各个晶体导通或截止的选通信号线，例如，用于传输第一扫描信号Scan1的第一扫描线，用于传输第二扫描信号Scan2的第二扫描线，用于传输发光控制信号Emit的发光控制信号线。信号走线103还可以是用于传输复位电压信号Vref的初始化信号线，用于传输数据信号Vdata的数据信号线或者用于传输电源信号(PVDD或PVEE)的电源信号线等。本发明实施例对此不做具体限定，可根据实际情况进行设置。
可选的，图13为图11沿剖线C-C’的一种剖面结构示意图，结合参考图11、图12和图13所示，信号走线103包括选通信号线和初始化信号线；选通信号线或者初始化信号线复用为第一遮光结构40。
示例性的，参考图12，选通信号线可以是指传输第一扫描信号Scan1的第一扫描线，用于传输第二扫描信号Scan2的第二扫描线，用于传输发光控制信号Emit的发光控制信号线。初始化信号线可以是指传输复位电压信号Vref的初始化信号线。
继续参考图13，第二像素电路102的晶体管T包括有源层1021、栅极1022和源漏电极1023，该晶体管T可以是像素电路102中的任意一个晶体管，此处不做具体限定。显示面板至少包括第一金属层M1、第二金属层M2和第三金属层M3，其中，第一金属层M1可以包括晶体管T的栅极1022和存储电容Cst的下极板，第二金属层M2包括像素电路102的存储电容Cst的上极板，第三金属层M3可以包括晶体管T的源漏电极1023。
具体的，第一金属层M1和第二金属层M2可以采用的材料为钼，第一金属层M1和第二金属层M2还可以包括选通信号线和/或初始化信号线，由于选通信号线和初始化信号线相比于数据信号线和电源信号线厚度较小，如此，可将选通信号线或初始化信号线围绕部分元件显示区01的走线分部设置在挡墙设置区02，以复用为第一遮光结构40，在简化线路布局、减少非显示区的布设空间，简化第一遮光结构40和/或第二遮光结构80的膜层设计以及制备工艺的同时，还可以进一步保证挡墙设置区02的整体平坦度，避免第一遮光结构40的增设造成挡墙设置区02内不同膜层之间的错位，保证挡墙设置区02内结构稳定性良好。
需要说明的是，本实施例中第二遮光结构80可以根据实际需求进行任意设置，图13仅为示例性的示出，但不限于此。
可选的，图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的局部俯视结构示意图，图15为图14沿剖线D-D’的一种剖面结构示意图，结合参考图12、图14和图15所示，信号走线103包括选通信号线、数据信号线、初始化信号线和电源信号线；选通信号线、数据信号线、初始化信号线和电源信号线均复用为第二遮光结构80；沿显示面板的厚度方向Z，选通信号线或者初始化信号线与相邻两个阻隔结构70之间的间隙交叠，数据信号线或者电源信号线与阻隔结构70交叠。
示例性的，参考图12，选通信号线可以是指传输第一扫描信号Scan1的第一扫描线，用于传输第二扫描信号Scan2的第二扫描线，用于传输发光控制信号Emit的发光控制信号线。初始化信号线可以是指传输复位电压信号Vref的初始化信号线。数据信号线可以是指传输数据信号Vdata的数据信号线，电源信号线可以是指传输电源信号(PVDD或PVEE)的电源信号线。选通信号线、数据信号线、初始化信号线和电源信号线均复用为第二遮光结构80，以简化线路布局、减少非显示区的布设空间，同时简化第二遮光结构80的膜层设计以及制备工艺。
继续参考图15，显示面板还包括其他金属层，例如第四金属层M4，其中，第四金属层M4可以作为发光元件101的阳极与晶体管的源漏电极之间的中间连接层，避免阳极与源漏电极之间的深打孔，保证阳极与源漏电极之间的连接稳定性。第一金属层M1和第二金属层M2还可以包括选通信号线和/或初始化信号线，第三金属层M3和第四金属层M4还可以包括数据信号线和/或电源信号线，由于选通信号线和初始化信号线相比于数据信号线和电源信号线厚度较小，如此，可设置选通信号线或初始化信号线围绕部分元件显示区01的走线分部与相邻两个阻隔结构70之间的间隙交叠，而数据信号线或者电源信号线围绕部分元件显示区01的走线分部与阻隔结构70交叠，该阻隔结构70可以是位于第一阻隔结构设置区031的阻隔结构70，也可以是位于第二阻隔结构设置区032的阻隔结构70，此处不做具体限定，如此，可在保证信号走线103能够对位于阻隔结构设置区03内的第二发光分部32进行遮光的同时，还可以保证阻隔结构设置阻隔结构设置处于非阻隔结构设置处之间的保持一定的高度段差，使得第二发光分部32在此位置处断开，避免水氧沿发光层30进入显示区AA，保证显示区AA的显示效果。
可选的，继续参考图6、图7、图9或图10，挡墙设置区02的面积为S5，第一遮光结构40的覆盖面积为S6，阻隔结构设置区03的面积为S7，阻隔结构70的覆盖面积以及第二遮光结构80的覆盖面积之和为S8；其中，|(S6/S5)-(S8/S7)|/{[(S6/S5)+(S8/S7)]/2}≤20％。
具体的，挡墙设置区02的面积为S5，设置于挡墙设置区01的第一遮光结构40的覆盖面积为S6，则第一遮光结构40的覆盖面积占挡墙设置区01的面积的占比为S6/S5，S6/S5的值越大，说明第一遮光结构40对挡墙设置区01的遮光效果就越好。由于阻隔结构70可能包括金属阻隔结构，使得阻隔结构70自身具有遮光作用，此时，阻隔结构设置区03的面积为S7，阻隔结构70的覆盖面积以及第二遮光结构80的覆盖面积之和为S8，则S8/S7的值越大，说明阻隔结构70和第二遮光结构80对阻隔结构设置区03的遮光效果就越好。
进一步的，当|(S6/S5)-(S8/S7)|/{[(S6/S5)+(S8/S7)]/2}≤20％时，即第一遮光结构40对挡墙设置区01的覆盖面积的比例与阻隔结构70和第二遮光结构80对阻隔结构设置区03的覆盖面积的比例的差值，占两者平均值的比例小于20％时，可保证显示面板的挡墙设置区01和阻隔结构设置区03的整体平坦性，且遮光效果比较一致，此时，挡墙设置区01和阻隔结构设置区03遮光结构对光的反射作用比较均匀，利于提升显示面板的显示效果。
可选的，图16为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图16所示，第一遮光结构40包括第一整体遮光结构41，第二遮光结构80包括第二整体遮光结构82。
具体的，第一整体遮光结构41和第二整体遮光结构82可以均为一整个膜层结构，如此，可使得第一遮光结构40和第二遮光结构80设置方式更加简单，利于简化制备工艺，同时，可避免多个独立的遮光结构形成类似光栅的结构，将会引起光线干涉或者衍射的问题，提高显示面板的显示品质。
需要说明的是，第一整体遮光结构41和第二整体遮光结构82可以为位于不同的膜层，也可以位于同一膜层，图16仅为示例性的示出，但不限于此。
可选的，图17为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图17所示，第一遮光结构40包括至少一层第一遮光层401，第二遮光结构80包括至少一层第二遮光层801；存在第一遮光层401与第二遮光层801同层设置。
具体的，第一遮光层401和第二遮光层501位于同一层，可以是由同一工艺同时制备而成，具有相同的材料，如此可以减少显示面板的膜层的设置数量，利于显示面板的轻薄化设计。
需要注意的是，第一遮光结构40和第二遮光结构80可以均包括多个独立的结构，也是一个整体的结构，图17仅为示例性的示出。并且，当第一遮光结构40和第二遮光结构80中均包括多层遮光结构时，存在第一遮光结构40中的其中一层遮光结构与第二遮光结构80中的其中一层遮光结构同层设置；也可以是第一遮光结构40与第二遮光结构80存在相同的膜层设置方式，即第一遮光结构40中的任意一层遮光结构与第二遮光结构80中的一层遮光结构同层设置，且第二遮光结构80中的任意一层遮光结构与第一遮光结构80中的一层遮光结构同层设置。
在上述任一实施例的基础上，可选的，图18为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图18所示，第一遮光结构40包括叠层设置的第三遮光层402和第四遮光层403，第三遮光层402包括多个第一遮光图案4021，第四遮光层403包括多个第二遮光图案4031；第一遮光图案4021在衬底10所在平面的正投影与第二遮光图案4031在衬底10所在平面的正投影交错设置，且第三遮光层402在衬底10所在平面的正投影和第四遮光层403在衬底10所在平面的正投影覆盖第一发光分部31在衬底10所在平面的正投影。
其中，第三遮光层402和第四遮光层403可以是相邻设置的叠层结构，也可以是非相邻设置的叠层结构，也就是第三遮光层402和第四遮光层403之间间隔设置有金属层和/或绝缘层，本发明实施例对此不做具体限定，可根据实际需求进行设置，图18仅为示例性的示出，但不限于此。
具体的，第三遮光层402包括多个第一遮光图案4021以及位于相邻第一遮光图案4021之间的第一间隙4022，第四遮光层403包括多个第二遮光图案4031以及位于相邻第二遮光图案4031之间的第二间隙4032，第一遮光图案4021在衬底10所在平面的正投影与第二间隙4032在衬底10所在平面的正投影交叠，且第一遮光图案4021在衬底10所在平面的正投影的面积大于第二间隙4032在衬底10所在平面的正投影的面积，以及第二遮光图案4031在衬底10所在平面的正投影与第一间隙4022在衬底10所在平面的正投影交叠，且第二遮光图案4031在衬底10所在平面的正投影的面积大于第一间隙4022在衬底10所在平面的正投影的面积，如此，使得第三遮光层402和第四遮光层403在衬底10所在平面的正投影完全覆盖第一发光分部31在衬底10所在平面的正投影，以保证第一遮光结构40可以完全对第一发光分部31进行遮光，避免激光照射到第一发光分部31使得第一发光分部发生气化，从而导致显示面板的膜层剥离，如此，提高显示面板的结构的稳定性。
进一步可选的，阻隔结构设置区03中可以设置第二遮光结构，第二遮光结构可以叠层设置的第五遮光层和第六遮光层(图18中未示出)，第五遮光层包括多个第三遮光图案，第六遮光层包括多个第四遮光图案，第三遮光图案在衬底所在平面的正投影与第四遮光图案在衬底所在平面的正投影交错设置，且第五遮光层在衬底所在平面的正投影和第六遮光层在衬底所在平面的正投影覆盖第二发光分部在衬底所在平面的正投影。可以理解的，第二遮光结构的第五遮光层和第六遮光层也可以是相邻设置的膜层或者间隔设置的膜层，第二遮光结构与第一遮光结构的设置方式类似，此处不再详细赘述。
可选的，图19为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图19所示，挡墙20包括非透光挡墙21；沿显示面板的厚度方向Z，第一遮光结构40与相邻两个非透光挡墙21之间的间隙交叠。
具体的，挡墙20可以由多层有机膜层堆叠而成，其中，显示面板中的部分绝缘层可以采用黑色材料或者其他可遮光的材料形成。例如，像素定义层或者平坦化层、钝化层可以为黑色材料或者其他可遮光的材料形成。图19中仅示例性的示出了部分膜层采用可遮光的材料形成，例如，像素定义层为黑色的像素定义层(BPDL)，使得非透光挡墙21中可以是部分膜层为黑色的，部分膜层是可透光的，但不限于此，可根据实际情况进行适应性设置。如此，可以使得非透光挡墙21自身能够对激光进行遮挡，简化第一遮光结构40和/或第二遮光结构80的膜层设计以及制备工艺。
需要说明的是，为了保证整个显示面板的正常工作，其他需要透光的区域中的黑色材料或者其他可遮光的材料形成的膜层则需要去除，例如黑色的像素定义层需要在透光区处进行镂空去除处理，此处不再详细说明，可根据实际情况进行设置。
进一步可选的，图20为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图20所示，沿显示面板的厚度方向Z，第一遮光结构40与非透光挡墙21以及相邻两个非透光挡墙21之间的间隙交叠，以进一步降低整个挡墙设置区02的透光率，提升遮光效果，避免激光光线照射到第一发光分部31使得第一发光分部31发生气化，从而导致显示面板的膜层剥离，如此提高显示面板的结构的稳定性。同时保证挡墙设置区02的整体平坦度，避免第一遮光结构40的增设造成挡墙设置区02内不同膜层之间的错位，保证挡墙设置区02内结构稳定性良好。可选的，在上述任一实施例的基础上，第一遮光结构40与固定电位端子电连接。
具体的，第一遮光结构40的材料可以是金属，其易与其他金属膜层之间形成耦合电容，如此，可使第一遮光结构40与固定电位端子电连接，避免因电位悬空耦合上其他电位信号，对显示造成干扰，提高面板的显示效果。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，可继续参考图2，图21为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，结合参考图2和图21所示，显示面板100包括显示区AA和非显示区NA，显示区AA围绕至少部分非显示区NA；非显示区NA包括元件设置区01和阻隔结构设置区03，阻隔结构设置区03围绕至少部分元件设置区01，阻隔结构设置区03设置有阻隔结构70；显示面板100还包括：衬底10，阻隔结构70设置于衬底10一侧；发光层30，位于阻隔结构70远离衬底10的一侧且包括位于阻隔结构设置区03的第二发光分部32，至少部分第二发光分部32在阻隔结构70处断开；第二遮光结构80，位于阻隔结构设置区03且位于第二发光分部32靠近衬底10的一侧；沿显示面板的厚度方向Z，第二发光分部32与第二遮光结构80至少部分交叠。
其中，阻隔结构设置区03位于显示区AA和元件设置区01，此外，在显示区AA和元件设置区01之间还可以包括挡墙设置区01，阻隔结构设置区03和挡墙设置区02的具体位置关系可根据实际情况进行设置，图2和图21仅为示例性的示出但不限于此。
阻隔结构设置区03中的阻隔结构70可以是一个或多个，可以使得第二发光分部32在阻隔结构70处断开，以避免水汽或者氧气沿着第二发光分部32进入显示区AA，从而影响显示区AA的显示效果。可以理解的是，阻隔结构70可以由多个膜层结构堆叠而成，例如包括绝缘层或者金属层等，此处不做具体限定，可根据实际需求进行设置。
继续参考图21，发光层30还包括位于阻隔结构设置区03的第二发光分部32，第二发光分部32位于阻隔结构70远离衬底10的一侧，可以理解的，第二发光分部32包括公共发光功能层，至少部分第二发光分部32在阻隔结构70处断开，以避免水汽或者氧气沿着第二发光分部32进入显示区AA，避免影响显示区AA的显示效果。
进一步的，显示面板还包括位于阻隔结构设置区03的第二遮光结构80，且第二遮光结构80位于第二发光分部32靠近衬底10的一侧，第二遮光结构80的大小和形状可根据实际需求进行设置，沿显示面板的厚度方向Z，第二发光分部32与第二遮光结构80至少部分交叠，用于对阻隔结构设置区03进行遮光，以避免激光对第二发光分部32进行照射，而使得第二发光分部32发生气化导致显示面板的膜层出现剥离，提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，第二遮光结构80可以采用金属材质，可以是一整层结构，也可以是图案化的结构，只需保证第二遮光结构80能够对第二发光分部32进行激光遮挡即可。进一步的，第二遮光结构80可以是一层或者多层结构，可采用显示面板中已有的金属膜层进行复用或者与已有的金属膜层位于同层，以减小显示面板的膜层设置数量，利于轻薄化设计，可根据实际需求进行设置。本实施例中，通过在阻隔结构设置区设置第二遮光结构，第二遮光结构位于第二发光分部靠近衬底的一侧，且与第二发光分部至少部分交叠，通过第二遮光结构遮挡激光光线，可以避免在采用激光剥离刚性衬底的过程中激光光线对发光层的第二发光分部进行照射，导致第二发光分部发生气化使得显示面板的部分膜层剥离，以而提高显示面板结构的稳定性。
可选的，图22为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图22所示，阻隔结构70包括金属阻隔结构71；第二遮光结构80包括多个独立设置的第二遮光分部81，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光分部32与相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙交叠。
其中，金属阻隔结构71可以包括至少一层金属膜层，使得阻隔结构70自身能够起到遮光的作用，示例性的，图22示出了金属阻隔结构71可以与阳极1011同层设置，但不限于此。
具体的，第二遮光结构80包括多个独立设置的第二遮光分部81，根据阻隔结构70的数量不同，金属阻隔结构71的具体数量也会不同，对于相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙仍能具有较高的透光率，如此，沿显示面板的厚度方向Z，使得多个独立设置的第二遮光分部81分别与相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙交叠，可减少整个阻隔结构设置区03的透光率，避免激光对阻隔结构设置区03的第二发光分部32进行照射，进而避免第二发光分部32发生气化，从而提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，多个独立设置的第二遮光分部81可以位于同一层设置，也可以为不同的膜层进行设置，可根据实际需求进行设置，图22仅为示例性的示出。
可选的，继续图22，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光分部81的厚度h1小于阻隔结构70的厚度h2。
具体的，第二遮光分部81与相邻两个金属阻隔结构71之间的间隙交叠，若第二遮光分部81的厚度h1较大，将使得阻隔结构70远离衬底10一侧的表面与非阻隔结构设置处远离衬底10一侧的表面之间高度差减小，无法保证发光层30在阻隔结构70设置处和非阻隔结构设置处完全断开，而导致水汽和氧气沿着发光层30进入显示区AA，影响显示区AA的显示效果。如此，设置第二遮光分部81的厚度h1小于阻隔结构70的厚度h2，便于阻隔结构70设置处的第二发光分部32与非阻隔结构设置处的第二发光分部32之间存在段差，以使第二发光分部32在此位置断开，保证显示区AA的发光层30不被水氧侵蚀，提高显示效果。
可选的，图23为图2沿剖线A-A’的又一种剖面结构示意图，如图23所示，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光结构80覆盖阻隔结构70以及相邻两个阻隔结构70之间的间隙。
其中，第二遮光结构80可以是一整层遮光结构，也可以是多层遮光膜层交叠形成的第二遮光结构80，图23仅为示例性的示出，但不限于此。
具体的，第二遮光结构80同时覆盖阻隔结构70以及相邻两个阻隔结构70之间的间隙，可以保证阻隔结构70设置处和非阻隔结构设置处的第二发光分部32始终保持一定的段差，进而使得第二发光分部32在此位置是断开的，以保证显示区AA的发光层30不被水氧侵蚀，提高显示效果。
可选的，继续参考图8，图24为图8沿剖线B-B’的又一种剖面结构示意图，结合参考图8和图24所示，阻隔结构设置区03包括第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032，第一阻隔结构设置区031位于挡墙设置区02与显示区AA之间，第二阻隔结构设置区0312位于挡墙设置区02与元件设置区01之间；至少第一阻隔结构设置区031设置第二遮光结构80。
参考图24，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032内均设置有阻隔结构70，使得位于第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032的第二发光分部32与显示区AA中的发光层30能够有效的断开，保证显示区AA中的发光层30不被水氧侵蚀，从而提高显示品质。
其中，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032内的阻隔结构70的数量可根据实际需求进行设置，此处不做具体限定。此外，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区032内的阻隔结构70的具体形成膜层结构可以相同或不同，此处不做具体限定。
进一步的，由于第一阻隔结构设置区031更靠近显示区AA，如此，至少在第一阻隔结构设置区031设置第二遮光结构80，使得第二遮光结构80与位于第一阻隔结构设置区031的第二发光分部32交叠，可在激光剥离刚性衬底时，至少对位于第一阻隔结构设置区031的第二发光分部32进行遮光，避免激光照射到第二发光分部32导致第二发光分部32发生气化，从而导致显示面板的膜层出现剥离，并且避免公共有机发光层的气化以及剥离现象延伸至显示区AA，避免影响位于显示区AA内的公共有机发光层的正常性能，在提高显示面板的结构稳定性的基础上保证显示区AA中发光层30的结构以及功能正常，保证显示区AA可以正常显示。
可选的，图25为图8沿剖线B-B’的又一种剖面结构示意图，如图25所示，第二阻隔结构设置区0312设置有第二遮光结构80。
具体的，第二阻隔结构设置区0312设置的第二遮光结构80可以为一整层结构，也可以为多个独立的结构，可根据实际需求进行设置。示例性的，位于第二阻隔结构设置区0312的阻隔结构70包括金属阻隔结构，沿显示面板的厚度方向Z，第二遮光结构80与非金属阻隔结构之外的区域交叠，以第二发光分部32进行遮光。如此，通过在第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区0312均设置有第二遮光结构80，可以增加第二遮光结构80对第二发光分部32的遮光效果，进一步避免第二发光分部32被气化，提高显示面板的结构稳定性。
需要说明的是，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区0312中的第二遮光结构80的形状可以相同或不同，此处不做具体限定，此外，第一阻隔结构设置区031和第二阻隔结构设置区0312中的第二遮光结构80可以位于同一膜层，也可以位于不同的膜层，此处也不做具体限定，图25仅为示例性的示出，但不限于此，可根据实际需求进行设置。
可选的，继续参考图25，第一阻隔结构设置区031的面积为S1，设置于第一阻隔结构设置区031的第二遮光结构80的覆盖面积为S2，第二阻隔结构设置区的面积为S3，设置于第二阻隔结构设置区032的第二遮光结构的覆盖面积为S4；其中，(S2/S1)>(S4/S3)。
具体的，第一阻隔结构设置区031的面积为S1，设置于第一阻隔结构设置区031的第二遮光结构80的覆盖面积为S2，则第二遮光结构80的覆盖面积占第一阻隔结构设置区031的面积的占比为S2/S1，S2/S1的值越大，说明第二遮光结构80对第一阻隔结构设置区031的遮光效果就越好。同理，第二阻隔结构设置区的面积为S3，设置于第二阻隔结构设置区032的第二遮光结构80的覆盖面积为S4，则第二遮光结构80的覆盖面积占第二阻隔结构设置区032的面积的占比为S4/S3，S4/S3的值越大，说明第二遮光结构80对第二阻隔结构设置区032的遮光效果就越好。进一步的，由于第一阻隔结构设置区031更加靠近显示区AA，设置(S2/S1)>(S4/S3)，即第二遮光结构80的覆盖面积占第一阻隔结构设置区031的面积的占比S2/S1大于第二遮光结构80的覆盖面积占第二阻隔结构设置区032的面积的占比为S4/S3，可以降低靠近显示区AA的发光层30发生气化而导致膜层剥离的风险，提高显示面板结构稳定性，尤其是保证显示区AA的结构稳定性。
在上述任一实施例的基础上，可选的，图26为图2沿剖线A-A’的另一种剖面结构示意图，结合参考图2和图26，第一遮光结构40包括叠层设置的第三遮光层402和第四遮光层403，第三遮光层402包括多个第一遮光图案4021，第四遮光层403包括多个第二遮光图案4031；第一遮光图案4021在衬底10所在平面的正投影与第二遮光图案4031在衬底10所在平面的正投影交错设置，且第三遮光层402在衬底10所在平面的正投影和第四遮光层403在衬底10所在平面的正投影覆盖第一发光分部31在衬底10所在平面的正投影。
第二遮光结构80包括叠层设置的第五遮光层802和第六遮光层803，第五遮光层802包括多个第三遮光图案8021，第六遮光层803包括多个第四遮光图案8031，第三遮光图案8021在衬底10所在平面的正投影与第四遮光图案8031在衬底10所在平面的正投影交错设置，且第五遮光层802在衬底10所在平面的正投影和第六遮光层803在衬底10所在平面的正投影覆盖第二发光分部32在衬底10所在平面的正投影。
其中，第五遮光层802和第六遮光层803可以是相邻设置的叠层结构，也可以是非相邻设置的叠层结构，也就是第五遮光层802和第六遮光层803之间间隔设置有金属层和/或绝缘层，本发明实施例对此不做具体限定，可根据实际需求进行设置，图26仅为示例性的示出，但不限于此。
具体的，第五遮光层802包括多个第三遮光图案8021以及位于相邻第三遮光图案8021之间的第三间隙8022，第六遮光层803包括多个第四遮光图案8031以及位于相邻第四遮光图案8031之间的第四间隙8032，第三遮光图案8021在衬底10所在平面的正投影与第四间隙8032在衬底10所在平面的正投影交叠，且第三遮光图案8021在衬底10所在平面的正投影的面积大于第四间隙8032在衬底10所在平面的正投影的面积，以及第四遮光图案8031在衬底10所在平面的正投影与第三间隙8022在衬底10所在平面的正投影交叠，且第四遮光图案8031在衬底10所在平面的正投影的面积大于第三间隙8022在衬底10所在平面的正投影的面积，如此，使得第五遮光层802和第六遮光层803在衬底10所在平面的正投影完全覆盖第二发光分部32在衬底10所在平面的正投影，以保证第二遮光结构80可以完全对第二发光分部32进行遮光，避免激光照射到第二发光分部32使得第二发光分部发生气化，从而导致显示面板的膜层剥离，如此，提高显示面板的结构的稳定性。
需要说明的是，在上述任一实施例的基础上，显示面板的挡墙设置区还可以设置第一遮光结构，以进一步提升遮光效果，第一遮光结构与第二遮光结构可以位于不同膜层设置，也可以位于同一膜层进行设置，可根据实际需求进行设置。
此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，图27为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，如图27所示，该显示装置200包括本发明任一实施例提供的显示面板100，本发明实施例提供的显示装置200可以手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。
可选的，显示装置200包括感光元件210，沿显示面板的厚度方向，感光元件210与显示面板100的元件设置区01交叠。
其中，感光元件210可以是摄像头或者光学指纹识别结构等，此处不做具体限定，可根据实际需求进行设置。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (24)
1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区和非显示区，所述显示区围绕至少部分所述非显示区；
所述非显示区包括元件设置区和挡墙设置区，所述挡墙设置区围绕至少部分所述元件设置区，所述挡墙设置区设置有挡墙；
所述显示面板还包括：
衬底，所述挡墙设置于所述衬底一侧；
发光层，位于所述挡墙远离所述衬底的一侧且包括位于所述挡墙设置区的第一发光分部；
第一遮光结构，位于所述挡墙设置区且位于所述第一发光分部靠近所述衬底的一侧；沿所述显示面板的厚度方向，所述第一发光分部与所述第一遮光结构至少部分交叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括阻隔结构设置区，所述阻隔结构设置区设置有阻隔结构，所述发光层位于所述阻隔结构远离所述衬底的一侧且所述发光层包括位于所述阻隔结构设置区的第二发光分部，至少部分所述第二发光分部在所述阻隔结构处断开；
所述显示面板还包括第二遮光结构，所述第二遮光结构位于所述阻隔结构设置区且位于所述第二发光分部靠近所述衬底的一侧；沿所述显示面板的厚度方向，所述第二发光分部与所述第二遮光结构至少部分交叠。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔结构包括金属阻隔结构；
所述第二遮光结构包括多个独立设置的第二遮光分部，沿所述显示面板的厚度方向，所述第二遮光分部与相邻两个所述金属阻隔结构之间的间隙交叠。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，沿所述显示面板的厚度方向，所述第二遮光分部的厚度小于所述阻隔结构的厚度。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，沿所述显示面板的厚度方向，所述第二遮光结构覆盖所述阻隔结构以及相邻两个所述阻隔结构之间的间隙。
6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔结构设置区包括第一阻隔结构设置区和第二阻隔结构设置区，所述第一阻隔结构设置区位于所述挡墙设置区与所述显示区之间，所述第二阻隔结构设置区位于所述挡墙设置区与所述元件设置区之间；
至少所述第一阻隔结构设置区设置所述第二遮光结构。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二阻隔结构设置区设置有所述第二遮光结构。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一阻隔结构设置区的面积为S1，设置于所述第一阻隔结构设置区的所述第二遮光结构的覆盖面积为S2，所述第二阻隔结构设置区的面积为S3，设置于所述第二阻隔结构设置区的所述第二遮光结构的覆盖面积为S4；
其中，(S2/S1)>(S4/S3)。
9.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示区还包括多个子像素；
所述显示面板还包括信号走线，所述信号走线与所述子像素电连接，且所述信号走线包括围绕部分所述元件设置区的走线分部；
所述走线分部复用为所述第一遮光结构，和/或，所述走线分部复用为所述第二遮光结构。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述信号走线包括选通信号线和初始化信号线；
所述选通信号线或者所述初始化信号线复用为所述第一遮光结构。
11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述信号走线包括选通信号线、数据信号线、初始化信号线和电源信号线；
所述选通信号线、所述数据信号线、所述初始化信号线和所述电源信号线均复用为所述第二遮光结构；
沿所述显示面板的厚度方向，所述选通信号线或者所述初始化信号线与相邻两个所述阻隔结构之间的间隙交叠，所述数据信号线或者所述电源信号线与所述阻隔结构交叠。
12.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述挡墙设置区的面积为S5，所述第一遮光结构的覆盖面积为S6，所述阻隔结构设置区的面积为S7，所述阻隔结构的覆盖面积以及所述第二遮光结构的覆盖面积之和为S8；
其中，|(S6/S5)-(S8/S7)|/{[(S6/S5)+(S8/S7)]/2}≤20％。
13.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光结构包括第一整体遮光结构，所述第二遮光结构包括第二整体遮光结构。
14.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光结构包括至少一层第一遮光层，所述第二遮光结构包括至少一层第二遮光层；
存在所述第一遮光层与所述第二遮光层同层设置。
15.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示区包括多个子像素，所述子像素包括相互连接的发光元件和像素电路；
所述发光元件包括阳极，所述像素电路包括晶体管，所述晶体管包括有源层、栅极和源漏电极；
所述显示面板还包括位于所述衬底所在膜层与所述像素电路所在膜层之间的屏蔽保护结构；
所述第一遮光结构与所述阳极、所述有源层、所述栅极、所述源漏电极以及所述屏蔽保护结构中的至少一层同层设置。
16.根据权利要求15所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光结构至少与所述阳极、所述有源层、所述栅极、所述源漏电极以及所述屏蔽保护结构中膜层厚度最小的结构同层设置。
17.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光结构包括叠层设置的第三遮光层和第四遮光层，所述第三遮光层包括多个第一遮光图案，所述第四遮光层包括多个第二遮光图案；
所述第一遮光图案在所述衬底所在平面的正投影与所述第二遮光图案在所述衬底所在平面的正投影交错设置，且所述第三遮光层在所述衬底所在平面的正投影和所述第四遮光层在所述衬底所在平面的正投影覆盖所述第一发光分部在所述衬底所在平面的正投影。
18.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述挡墙包括非透光挡墙；
沿所述显示面板的厚度方向，所述第一遮光结构与相邻两个所述非透光挡墙之间的间隙交叠。
19.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光结构与固定电位端子电连接。
20.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示区包括多个子像素，所述子像素包括相互连接的像素电路和发光元件；
所述像素电路包括第一晶体管和第二晶体管；
所述第一晶体管包括第一有源层，所述第一有源层包括硅；
所述第二晶体管包括第二有源层，所述第二有源层包括氧化物。
21.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述发光层远离所述衬底一侧的封装结构；
所述封装结构包括位于两层无机封装层之间的有机封装层，所述有机封装层截止于所述挡墙的设置位置。
22.一种显示面板，其特征在于，包括显示区和非显示区，所述显示区围绕至少部分所述非显示区；
所述非显示区包括元件设置区和阻隔结构设置区，所述阻隔结构设置区围绕至少部分所述元件设置区，所述阻隔结构设置区设置有阻隔结构；
所述显示面板还包括：
衬底，所述阻隔结构设置于所述衬底一侧；
发光层，位于所述阻隔结构远离所述衬底的一侧且包括位于所述阻隔结构设置区的第二发光分部，至少部分所述第二发光分部在所述阻隔结构处断开；
第二遮光结构，位于所述阻隔结构设置区且位于所述第二发光分部靠近所述衬底的一侧；沿所述显示面板的厚度方向，所述第二发光分部与所述第二遮光结构至少部分交叠。
23.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-22任一项所述的显示面板。
24.根据权利要求23所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置包括感光元件，沿所述显示面板的厚度方向，所述感光元件与所述显示面板的元件设置区交叠。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| CN202310799411.0A CN116669496A (zh) | 2023-06-30 | 2023-06-30 | 一种显示面板及显示装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310799411.0A CN116669496A (zh) | 2023-06-30 | 2023-06-30 | 一种显示面板及显示装置 |
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| CN116669496A true CN116669496A (zh) | 2023-08-29 |
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|---|---|---|---|
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- 2023-11-06 US US18/387,240 patent/US20240074244A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| US20240074244A1 (en) | 2024-02-29 |
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