CN116657100B - 一种立式真空蒸镀机 - Google Patents
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- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 154
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 61
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 30
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- B08B1/12—
-
- B08B1/143—
-
- B08B1/30—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
- B08B9/087—Cleaning containers, e.g. tanks by methods involving the use of tools, e.g. brushes, scrapers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
Abstract
本发明提供一种立式真空蒸镀机，属于真空蒸镀技术领域，包括真空室、蒸镀端和顶盖，顶盖设置在蒸镀端上，顶盖与真空室上端相卡接，所述真空室内底壁中心设置有基片架，真空室内设置有挡片，蒸镀端设于换向单元上端，换向单元下端设置有内清单元，内清单元与蒸镀端相对设置且二者均位于真空室的正上方，换向单元设置在升降单元上。本发明通过侧清理件、上清理件相配合的连贯清理作业，达到清洁真空室内壁、基片架表面附着的残余蒸镀料的目的，避免残余蒸镀料在后续基片真空蒸镀期间于真空环境下蒸发，而直接影响基片表面镀膜层的纯度和结合力，保证基片架、真空室内壁在下一次真空蒸镀作业前保持洁净状态。
Description
技术领域
本发明涉及真空蒸镀技术领域，具体为一种立式真空蒸镀机。
背景技术
真空蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。将基片放入真空室内，以电阻、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量的粒子。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，此过程反复进行，最终形成连续薄膜。
被反射的气态粒子蒸镀料会附着在真空室内壁以及放置基片的基片架表面，这部分残余蒸镀料易在后续基片的真空蒸镀期间于真空室中蒸发，而这会直接影响后续基片表面膜层的纯度和结合力。此外，因基片架安装在真空室内底壁中心，其将真空室内底壁部分遮挡，被反射的气态粒子蒸镀料不仅可能会附着在真空室内侧壁、基片架上端表面，还会附着于基片架下端、真空室内底壁，但基片架下端、真空室内底壁的清洁作业相比真空室内侧壁、基片架上端表面的清洁作业的操作难度大，整体清洁作业的不便开展，易使得最终清洁的效果较低。
发明内容
本发明提供的立式真空蒸镀机，以解决相关技术中气态蒸镀料残余多处且清洁作业开展度较低、清洁效果低的问题。
本发明提供了一种立式真空蒸镀机，包括真空室、蒸镀端和顶盖，顶盖设置在蒸镀端上，顶盖与真空室上端相卡接，所述真空室内底壁中心设置有基片架，真空室内设置有挡片，挡片竖直截面为中心带通孔的凸形，基片架上端与通孔上端固定连接，挡片将基片架上端侧壁与真空室内壁之间的区域封闭，以对基片架下端进行保护隔离，蒸镀端设于换向单元上端，换向单元下端设置有内清单元，内清单元与蒸镀端相对设置且二者均位于真空室的正上方，换向单元设置在升降单元上。
所述内清单元包括用于清洁真空室内壁的侧清理件、用于清洁基片架的上清理件，所述侧清理件包括两个L形板，L形板竖直段之间连接有圆环框，圆环框外环面设置有清理棉；通过升降单元使内清单元下移；所述上清理件包括上置电机，上置电机输出轴端安装有连接件，连接件远离上置电机输出轴的一端转动安装有水平辊，水平辊的外环面安装有清理块，水平辊的一侧设置有安装板，安装板与连接件下端固定连接，安装板上设置有与挡片外表面相贴合的L形的清理海绵。
在一种可能实施的方式中，所述圆环框外环面开设有凹槽，凹槽内套设有外环扣，圆环框的内环面上下滑动连接有内环扣，清理棉一端与内环扣连接、另一端卡固于外环扣与圆环框外环面之间，内环扣与圆环框内环面之间插接有L形的限位块，限位块用于限制内环扣上下滑动。
在一种可能实施的方式中，所述换向单元包括换向轴，上置电机和L形板安装于同一个抱环上，抱环套装在换向轴上，蒸镀端远离顶盖的一端套装在换向轴上，换向轴与换向电机输出轴相连。
在一种可能实施的方式中，所述升降单元包括两个移动端，换向电机安装在两个移动端之间，换向轴与移动端转动连接，移动端远离换向电机的一端与置地轨道杆连接。
在一种可能实施的方式中，所述连接件由衔接板、弹簧伸缩杆、U形板组成，衔接板、弹簧伸缩杆、U形板从上往下依次连接，衔接板和上置电机输出轴连接，水平辊转动安装在U形板的竖直段之间。
在一种可能实施的方式中，所述清理块沿水平辊外环面周向均匀排布，所述水平辊两端均螺纹连接有环帽，两环帽相对的面为粗糙面，粗糙面环帽与连接件侧端接触；所述清理块由清洁毛刷和块状的清洁棉组成，且清洁棉和清洁毛刷交错排布。
本发明的有益效果：1、根据本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机，通过侧清理件、上清理件相配合的连贯清理作业，达到清洁真空室内壁、基片架表面附着的残余蒸镀料的目的，避免残余蒸镀料在后续基片真空蒸镀期间于真空环境下蒸发，而直接影响基片表面镀膜层的纯度和结合力，保证基片架、真空室内壁在下一次真空蒸镀作业前保持洁净状态。
2、根据本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机，先利用挡片将基片架上端侧壁与真空室内壁之间的区域封闭，以对基片架下端进行保护隔离，以此避免真空蒸镀基片期间，蒸镀料溅至基片架下端及真空室底壁而不易开展清理作业，其为侧清理件和上清理件的清理作业打下开展基础，利于提高二者的清洁效果。
3、根据本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机，侧清理件中的清理棉、上清理件中的清理块和清理海绵在工作一段时间后均可进行更换，清理棉分为多个清理区域，清理块设置有多个，通过更换清理棉的清理区域、更换清理块和清理海绵来避免三者表面积累残余蒸镀料而使自身的清洁效果降低。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的立体结构示意图。
图2是本发明图1的俯视结构示意图。
图3是本发明图2中A-A向剖视图。
图4是本发明图2中B-B向剖视图。
图5是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的升降单元、侧清理件和上清理件的结构示意图。
图6是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的挡片、基片架的结构示意图。
图7是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的换向单元、内清单元的结构示意图。
图8是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的上清理件、安装板和清理海绵的结构示意图。
图9是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的侧清理件、基片架、真空室的剖视结构示意图。
图10是本发明实施例提供的一种立式真空蒸镀机的上清理件和侧清理件的局部结构剖视示意图。
图11是本发明图10中X区域的放大图。
图中：1、真空室；2、蒸镀端；3、顶盖；4、基片架；5、换向单元；6、内清单元；7、升降单元；8、挡片；51、换向轴；52、换向电机；61、侧清理件；62、上清理件；611、L形板；612、圆环框；613、清理棉；614、凹槽；615、外环扣；616、内环扣；617、限位块；621、上置电机；622、连接件；623、水平辊；624、清理块；625、安装板；626、清理海绵；627、环帽；631、衔接板；632、弹簧伸缩杆；633、U形板；71、移动端；72、置地轨道杆。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于下面所描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施方式的限制。
请参阅图1、图2、图3和图6，一种立式真空蒸镀机，包括真空室1、蒸镀端2和顶盖3，顶盖3设置在蒸镀端2上，顶盖3与真空室1上端相卡接，所述真空室1内底壁中心设置有基片架4，真空室1内设置有挡片8，挡片8竖直截面为中心带通孔的凸形，基片架4上端与通孔上端固定连接，挡片8将基片架4上端侧壁与真空室1内壁之间的区域封闭，以对基片架4下端进行保护隔离，以此避免真空蒸镀基片期间，蒸镀料溅至基片架4下端及真空室1底壁而不易开展清理作业，蒸镀端2设于换向单元5上端，换向单元5下端设置有内清单元6，内清单元6与蒸镀端2相对设置且二者均位于真空室1的正上方，换向单元5设置在升降单元7上。
请参阅图3、图4和图5，所述换向单元5包括换向轴51，上置电机621和L形板611安装于同一个抱环上，抱环套装在换向轴51上，蒸镀端2远离顶盖3的一端套装在换向轴51上，换向轴51与换向电机52输出轴相连；所述升降单元7包括两个移动端71，换向电机52安装在两个移动端71之间，换向轴51与移动端71转动连接，移动端71远离换向电机52的一端与置地轨道杆72连接。
请参阅图7-图11，所述内清单元6包括用于清洁真空室1内壁的侧清理件61、用于清洁基片架4的上清理件62，所述侧清理件61包括两个L形板611，L形板611竖直段之间连接有圆环框612，圆环框612外环面设置有清理棉613；通过升降单元7使内清单元6下移；所述上清理件62包括上置电机621，上置电机621输出轴端安装有连接件622，连接件622远离上置电机621输出轴的一端转动安装有水平辊623，水平辊623的外环面周向均匀安装有清理块624，水平辊623两端均螺纹连接有环帽627，环帽627与连接件622侧端接触；水平辊623的一侧设置有安装板625，安装板625与连接件622下端固定连接，安装板625上设置有与挡片8外表面相贴合的L形的清理海绵626。
每次利用蒸镀机对基片进行真空蒸镀处理并取走后，通过移动端71带动换向单元5和蒸镀端2上移，至顶盖3与真空室1分离，然后通过换向电机52带动换向轴51转动，换向轴51带动内清单元6和蒸镀端2同步转动，至内清单元6在下、顶盖3和蒸镀端2整体在上，内清单元6距离真空室1更近。随后通过移动端71带动换向电机52沿轨道杆向下移动，换向轴51带动内清单元6随换向电机52同步移动，至清理棉613与挡片8接触，此时的清理海绵626也与挡片8表面贴合，清理块624与基片架4上端面接触，在此过程中，清理棉613对真空室1内壁进行清理，紧接着通过上置电机621带动连接件622转动，连接件622带动水平辊623和安装板625同步转动，水平辊623和安装板625均以基片架4中心为圆心转动，清理块624和清理海绵626同步进行清理作业，前者针对基片架4上端面实施清理，后者对挡片8表面实施清理。利用清理棉613、清理海绵626、清理块624相配合的连贯清理作业，达到清洁真空室1内壁、基片架4和挡片8表面附着的残余蒸镀料的目的，避免残余蒸镀料在后续基片真空蒸镀期间于真空环境下蒸发，而直接影响基片表面镀膜层的纯度和结合力，保证基片架4、真空室1内壁及挡片8表面在下一次真空蒸镀作业前保持洁净状态。
请参阅图9、图10和图11，所述圆环框612外环面开设有凹槽614，凹槽614内套设有外环扣615，圆环框612的内环面上下滑动连接有内环扣616，清理棉613一端与内环扣616连接、另一端卡固于外环扣615与圆环框612外环面之间，内环扣616与圆环框612内环面之间插接有L形的限位块617，如图11所示，限位块617用于限制内环扣616上下滑动。如图9所示，圆环框612外环面处的清理棉613的长度小于圆环框612内环面处清理棉613的长度，内环扣616下方的且位于圆环框612外环面处的清理棉613为实施清理作业的清理区域。
清理棉613、清理块624和清理海绵626在工作一段时间后均可进行更换，避免三者表面积累残余蒸镀料而使清洁效果降低。通过先拆卸限位块617、后分离外环扣615和清理棉613，然后向上拉动圆环框612外环面处的清理棉613，内环扣616在清理棉613的拉动下沿圆环框612内环面向下移动，至清理棉613未使用的清理区域替换先前使用的清理区域，随后重新安装外环扣615和限位块617，以此达到更换清理棉613清理区域的目的；通过卸下环帽627，然后转动水平辊623使未使用的清理块624朝下，来替换先前使用过的清理块624，随后再安装环帽627以固定水平辊623，以此实现清理块624的更换；清理海绵626与安装板625通过魔术贴连接，直接取下使用过的清理海绵626，更换新的清理海绵626即可。
请参阅图8，所述清理块624由清洁毛刷和块状的清洁棉组成，且清洁棉和清洁毛刷交错排布，基片架4上端设置有用于固定基片的夹固结构，夹固结构为现有技术。因夹固结构的存在，基片架4上端呈凹凸状，因此设置清洁毛刷和块状的清理棉613相配合对基片架4上端实施清理。
请参阅图7和图8，所述连接件622由衔接板631、弹簧伸缩杆632、U形板633组成，衔接板631、弹簧伸缩杆632、U形板633从上往下依次连接，衔接板631和上置电机621输出轴连接，水平辊623转动安装在U形板633的竖直段之间，利用弹簧伸缩杆632使水平辊623和清理块624整体自适应贴合在基片架4上端面，使清理毛刷和块状的清洁棉可紧密接触基片架4上端面和夹固结构表面，实施完整清洁。
在本发明实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，或滑动连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例，并非依此限制本发明的保护范围，故：凡依据本发明的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种立式真空蒸镀机，包括真空室(1)、蒸镀端(2)和顶盖(3)，顶盖(3)设置在蒸镀端(2)上，顶盖(3)与真空室(1)上端相卡接，所述真空室(1)内底壁中心设置有基片架(4)，其特征在于：蒸镀端(2)设于换向单元(5)上端，换向单元(5)下端设置有内清单元(6)，换向单元(5)设置在升降单元(7)上；
所述内清单元(6)包括用于清洁真空室(1)内壁的侧清理件(61)、用于清洁基片架(4)的上清理件(62)，所述侧清理件(61)包括两个L形板(611)，L形板(611)竖直段之间连接有圆环框(612)，圆环框(612)外环面设置有清理棉(613)；通过升降单元(7)使内清单元(6)下移；所述上清理件(62)包括上置电机(621)，上置电机(621)输出轴端安装有连接件(622)，连接件(622)远离上置电机(621)输出轴的一端转动安装有水平辊(623)，水平辊(623)的外环面安装有清理块(624)；
位于真空室(1)内的挡片(8)，其竖直截面为中心带通孔的凸形，基片架(4)上端与通孔上端固定连接，挡片(8)将基片架(4)上端侧壁与真空室(1)内壁之间的区域封闭，水平辊(623)的一侧设置有安装板(625)，安装板(625)与连接件(622)下端固定连接，安装板(625)上设置有与挡片(8)外表面相贴合的L形的清理海绵(626)；
通过升降单元(7)使内清单元(6)下移至真空室(1)内，期间，利用侧清理件(61)清理真空室(1)内壁，待清理海绵(626)贴合挡片(8)后，上清理件(62)与清理海绵(626)同步工作，上清理件(62)对基片架(4)进行清理，清理海绵(626)对挡片(8)进行清理；
所述换向单元(5)包括换向轴(51)，上置电机(621)和L形板(611)安装于同一个抱环上，抱环套装在换向轴(51)上，蒸镀端(2)远离顶盖(3)的一端套装在换向轴(51)上，换向轴(51)与换向电机(52)输出轴相连；
所述升降单元(7)包括两个移动端(71)，换向电机(52)安装在两个移动端(71)之间，换向轴(51)与移动端(71)转动连接，移动端(71)远离换向电机(52)的一端与置地轨道杆(72)连接。
2.根据权利要求1所述的一种立式真空蒸镀机，其特征在于：所述圆环框(612)外环面开设有凹槽(614)，凹槽(614)内套设有外环扣(615)，圆环框(612)的内环面上下滑动连接有内环扣(616)，清理棉(613)一端与内环扣(616)连接、另一端卡固于外环扣(615)与圆环框(612)外环面之间，内环扣(616)与圆环框(612)内环面之间插接有L形的限位块(617)，限位块(617)用于限制内环扣(616)上下滑动。
3.根据权利要求1所述的一种立式真空蒸镀机，其特征在于：所述连接件(622)由衔接板(631)、弹簧伸缩杆(632)、U形板(633)组成，衔接板(631)、弹簧伸缩杆(632)、U形板(633)从上往下依次连接，衔接板(631)和上置电机(621)输出轴连接，水平辊(623)转动安装在U形板(633)的竖直段之间。
4.根据权利要求1所述的一种立式真空蒸镀机，其特征在于：所述清理块(624)沿水平辊(623)外环面周向均匀排布，所述水平辊(623)两端均螺纹连接有环帽(627)，环帽(627)与连接件(622)侧端接触。
5.根据权利要求1所述的一种立式真空蒸镀机，其特征在于：所述清理块(624)由清洁毛刷和块状的清洁棉组成，且清洁棉和清洁毛刷交错排布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310690685.6A CN116657100B (zh) | 2023-06-12 | 2023-06-12 | 一种立式真空蒸镀机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310690685.6A CN116657100B (zh) | 2023-06-12 | 2023-06-12 | 一种立式真空蒸镀机 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116657100A CN116657100A (zh) | 2023-08-29 |
| CN116657100B true CN116657100B (zh) | 2024-01-23 |
Family
ID=87716914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310690685.6A Active CN116657100B (zh) | 2023-06-12 | 2023-06-12 | 一种立式真空蒸镀机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116657100B (zh) |
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| CN216026912U (zh) * | 2021-08-05 | 2022-03-15 | 成都金典真空设备有限责任公司 | 一种真空镀膜机清洁装置 |
| CN217499386U (zh) * | 2022-05-17 | 2022-09-27 | 江苏雷晟新材料科技有限公司 | 一种钕铁硼真空镀膜机 |
| CN115505894A (zh) * | 2022-09-29 | 2022-12-23 | 李享 | 一种稳定高效的真空镀膜机 |
| CN218580047U (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-07 | 武汉纽泰斯生物科技有限公司 | 一种离子溅射仪喷涂控制装置 |
| CN218981337U (zh) * | 2023-01-03 | 2023-05-09 | 进彩新材料(上海)有限公司 | 一种便于清理的涂料拉缸 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100446318B1 (ko) * | 2001-11-29 | 2004-09-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | 챔버 세정기를 구비한 증착장치 및 그를 이용한 챔버 세정방법 |
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- 2023-06-12 CN CN202310690685.6A patent/CN116657100B/zh active Active
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| JP2020054949A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | Ｆｔｂ研究所株式会社 | 真空配管トラップ装置、真空配管トラップシステム及び配管清掃方法 |
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| CN218580047U (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-07 | 武汉纽泰斯生物科技有限公司 | 一种离子溅射仪喷涂控制装置 |
| CN218981337U (zh) * | 2023-01-03 | 2023-05-09 | 进彩新材料(上海)有限公司 | 一种便于清理的涂料拉缸 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN116657100A (zh) | 2023-08-29 |
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