CN116640347A - 耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备方法,该保护膜包括依次层叠设置的基材、柔性硬化层和低反射涂层;所述柔性硬化层通过在所述基材层上涂布柔性硬化涂液后经固化得到。本发明提供了一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备工艺,本发明中通过主要原料配比的优化、工艺的优化调整以及原料与工艺的配合,能实现产品综合性能的较好平衡,产品的耐弯折性能、断裂伸长率及钢丝绒耐磨等性能均能达到较优的水平;耐磨次数能达到1000g/2000次,弯折次数能达到30w次,可以满足客户对耐弯折和耐磨性能的提升要求,具有广阔的应用前景。
Description
技术领域
本发明涉及保护膜领域,特别涉及一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备方法。
背景技术
目前折叠手机风靡,各个手机品牌都在大力推广可折叠屏幕手机,消费者对屏幕的清晰度也有需求,折叠屏目前主要以UTG玻璃和CPI膜为主,由于折叠屏价格高昂易被破坏,所以折叠屏需要使用耐弯折高耐磨低反射保护膜材料进行保护。但现有的平面保护膜在耐弯折性能、光学性能等方面存在不足,反射率高、弯折后有裂纹和脱离屏幕等情况发生,难以满足现在的需求。
所以现在需要一种更可靠的方案。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备方法。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种耐弯折高耐磨低反射保护膜,包括依次层叠设置的基材、柔性硬化层和低反射涂层;
所述柔性硬化层通过在所述基材层上涂布柔性硬化涂液后经固化得到,所述柔性硬化涂液包括按以下组分:丙烯酸预聚物30-50份、聚氨酯丙烯酸酯10-50份、无机纳米粒子10-20份、光引发剂3-8份、有机溶剂30-50份。
优选的是,其中,丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:(0.5-1):(0.3-0.5)。
优选的是,所述无机纳米粒子为纳米二氧化铝或二氧化硅。
优选的是,所述光引发剂为184、1173、TPO中的任意一种或多种,所述有机溶剂为MIBK(甲基异丁基酮)、PGME(丙二醇甲醚)、MEK(丁酮)中的任意一种或多种。
优选的是,所述柔性硬化涂液通过以下方法制备得到:
将丙烯酸预聚物与聚氨酯丙烯酸酯搅拌混合10-40min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入无机纳米粒子,搅拌10-40min,再加入光引发剂、有机溶剂,搅拌10-40min,得到所述柔性硬化涂液。
优选的是,所述低反射涂层通过在所述柔性硬化层上涂布聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水后经固化得到。
优选的是,所述基材的材质为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PC(聚碳酸酯)或COP(环烯烃聚合物),厚度为50~250um。
本发明还提供一种如上所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜的制备方法,包括以下步骤:
S1、制备柔性硬化涂液:将30-50重量份的丙烯酸预聚物与10-50重量份的聚氨酯丙烯酸酯混合,在250-1000r/min下搅拌10-40min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入5-20重量份的无机纳米粒子,在300-1200r/min下搅拌10-40min,再加入3-8重量份光引发剂、30-50重量份有机溶剂,搅拌10-40min,得到所述柔性硬化涂液;
S2、将所述柔性硬化涂液采用微凹辊涂布于基材表面,烘烤,然后UV能量50-250mj下固化,形成柔性硬化涂层;
S3、将聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水采用微凹辊涂布于所述柔性硬化涂层表面,烘烤,然后在N2保护、UV能量350-1400mj下固化,形成低反射涂层,制得所述耐弯折高耐磨低反射保护膜。
优选的是,其中,步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:(6-8)。
优选的是,所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜的制备方法包括以下步骤:
S1、制备柔性硬化涂液:将30-50重量份的丙烯酸预聚物与10-50重量份的聚氨酯丙烯酸酯混合,在500r/min下搅拌20min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入5-20重量份的无机纳米粒子,在600r/min下搅拌20min,再加入3-8重量份光引发剂、30-50重量份有机溶剂,搅拌20min,得到所述柔性硬化涂液;
S2、将所述柔性硬化涂液采用100目微凹辊涂布于PET基材表面,涂布厚度控制为3-10um,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后UV能量50-250mj下固化,形成柔性硬化涂层;
S3、将聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水采用200目微凹辊涂布于所述柔性硬化涂层表面,涂布厚度控制为80-120nm,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后在N2保护、UV能量350-1400mj下固化,形成低反射涂层,制得所述耐弯折高耐磨低反射保护膜;
其中,步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:7。
本发明的有益效果是:
本发明提供了一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备工艺,本发明中通过主要原料配比的优化、工艺的优化调整以及原料与工艺的配合,能实现产品综合性能的较好平衡,产品的耐弯折性能、断裂伸长率及钢丝绒耐磨等性能均能达到较优的水平;耐磨次数能达到1000g/2000次,弯折次数能达到30w次,可以满足客户对耐弯折和耐磨性能的提升要求,具有广阔的应用前景。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
应当理解,本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不排除一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
下列实施例中所使用的试验方法如无特殊说明,均为常规方法。下列实施例中所用的材料试剂等,如无特殊说明,均可从商业途径得到。下列实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或者制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
本发明提供一种耐弯折高耐磨低反射保护膜,包括依次层叠设置的基材、柔性硬化层和低反射涂层;
柔性硬化层通过在基材层上涂布柔性硬化涂液后经固化得到,低反射涂层通过在柔性硬化层上涂布聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水后经固化得到。柔性硬化涂液包括按以下组分:丙烯酸预聚物30-50份、聚氨酯丙烯酸酯10-50份、无机纳米粒子10-20份、光引发剂3-8份、有机溶剂30-50份。
在优选的实施例中,丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:(0.5-1):(0.3-0.5)。本发明通过大量实验发现,满足该比例下,得到的保护膜产品可以实现断裂伸长率达到5%,同时实现耐磨2000次,弯折30w次。不满足该配比要求,断裂伸长率过高,耐磨下降到1000次。
在优选的实施例中,无机纳米粒子为纳米二氧化铝或二氧化硅。
在优选的实施例中,光引发剂为184、1173、TPO中的任意一种或多种。
在优选的实施例中,有机溶剂为为MIBK(甲基异丁基酮)、PGME(丙二醇甲醚)、MEK(丁酮)中的任意一种或多种。
在优选的实施例中,柔性硬化涂液通过以下方法制备得到:
将丙烯酸预聚物与聚氨酯丙烯酸酯搅拌混合10-40min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入无机纳米粒子,搅拌10-40min,再加入光引发剂、有机溶剂,搅拌10-40min,得到柔性硬化涂液。
在优选的实施例中,基材的材质为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PC(聚碳酸酯)或COP(环烯烃聚合物),厚度为50~250um。
本发明还提供一种如上的耐弯折高耐磨低反射保护膜的制备方法,包括以下步骤:
S1、制备柔性硬化涂液:将30-50重量份的丙烯酸预聚物与10-50重量份的聚氨酯丙烯酸酯混合,在500r/min下搅拌20min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入5-20重量份的无机纳米粒子,在600r/min下搅拌20min,再加入3-8重量份光引发剂、30-50重量份有机溶剂,搅拌20min,得到柔性硬化涂液;
S2、将柔性硬化涂液采用100目微凹辊涂布于PET基材表面,涂布厚度控制为3-10um,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后UV能量50-250mj下固化,形成柔性硬化涂层;该步骤的UV固化中,可采用N2保护也可不采用,采用N2保护会提高柔性硬化涂层表面固化效果,而与低反射涂层间结合力降低,导致钢丝绒耐磨分层;
S3、将聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水采用200目微凹辊涂布于柔性硬化涂层表面,涂布厚度控制为80-120nm,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后在N2保护、UV能量350-1400mj下固化,形成低反射涂层,制得耐弯折高耐磨低反射保护膜;此步骤的UV固化中,必须采用N2保护,否则会导致固化不完全,水滴角过低,耐磨下降;
其中,步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:(6-8),该比例<1:6时,低反射涂层固化不完全,耐磨降低,当该比例>1:8时,低反射涂层会过固化,导致断裂伸长率降低。在更优选的实施例中,该比例为1:7。
以上为本发明的总体构思,以下在其基础上提供详细的实施例和对比例,以对本发明做进一步说明。
实施例1
一种耐弯折高耐磨低反射保护膜,其中制备方法包括以下步骤:
S1、制备柔性硬化涂液:
将30重量份的丙烯酸预聚物(沙多玛公司牌号SN9010NS)与15重量份的聚氨酯丙烯酸酯(沙多玛公司牌号CN 88885NS)混合,在500r/min下搅拌20min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入9重量份的无机纳米粒子(二氧化硅,日产化学牌号MIBK-ST-L),在600r/min下搅拌20min,再加入4重量份光引发剂(光引发剂184,IGM)、50重量份有机溶剂MIBK,搅拌20min,得到柔性硬化涂液;
S2、将柔性硬化涂液采用100目微凹辊涂布于50um的PET基材(三菱公司,型号为T960E50C)表面,涂布厚度控制为7um,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后UV能量50-250mj下固化,形成柔性硬化涂层;
S3、将聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水(日本共荣社牌号LINC-273R)采用200目微凹辊涂布于柔性硬化涂层表面,涂布厚度控制为100nm,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后在N2保护、UV能量350-1400mj下固化,形成低反射涂层,制得耐弯折高耐磨低反射保护膜;
其中,步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:7,具体的,步骤S2和S3中,UV能量依次为175mj、1225mj。
以下实施例和对比例与实施例1大部分相同,以下主要列出不同之处。
实施例2
与实施例1的不同之处仅在于:无机纳米粒子为12重量份(丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:0.5:0.4)。
实施例3
与实施例1的不同之处仅在于:无机纳米粒子为15重量份(丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:0.5:0.5)。
实施例4
与实施例1的不同之处仅在于:聚氨酯丙烯酸酯为30重量份(丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:1:0.3)。
实施例5
与实施例1的不同之处仅在于:聚氨酯丙烯酸酯为30重量份,无机纳米粒子为12重量份(丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:1:0.4)。
实施例6
与实施例1的不同之处仅在于:组分2质量为30份,组分3质量为15重量份(丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:1:0.5)。
实施例7
与实施例1的不同之处仅在于:步骤S2和步骤S3中的UV能量比是1:6。
实施例8
与实施例1的不同之处仅在于:步骤S2和步骤S3中的UV能量比是1:8。
对比例1
与实施例1的不同之处仅在于:步骤S2的UV固化中增加N2保护。
对比例2
与实施例1的不同之处仅在于:聚氨酯丙烯酸酯为10重量份。
对比例3
与实施例1的不同之处仅在于:聚氨酯丙烯酸酯为50重量份。
对比例4
与实施例1的不同之处仅在于:无机纳米粒子为3重量份。
对比例5
与实施例1的不同之处仅在于:无机纳米粒子为20重量份。
对比例6
与实施例1的不同之处仅在于:步骤S2和步骤S3中的UV能量比是1:5。
对比例7
与实施例1的不同之处仅在于:步骤S2和步骤S3中的UV能量比是1:10将实施例1-8、对比例1-7制备的保护膜进行以下性能检测:
(1)断裂伸长率:使用断裂伸长率测试仪,选择样品尺寸为100mm*10mm的样品,该样条边缘无锯齿状;设备标距(夹具之间的间距):50m;拉伸速度:5mm/min;沿样品长边方向拉伸,直至涂层产生裂纹,记录临界裂纹出现时的拉伸应变率;
(2)耐弯折性能-内弯R1.5mm:弯折方向朝着涂层面弯折,涂层在内圈,弯折半径是1.5mm;
(3)静态水接触角:采用静态水接触角测试仪,膜面随机测试5个点,取平均值。
(4)钢丝绒耐摩擦:用专用的钢丝绒(钢丝绒型号:#0000,Bon StarSTEEL WOOL),施加1kg的负载,测试压头面积2*2cm,以40cycle/min的速度,40mm的行程,在样本表面来回摩擦2000次后检视外观摩擦情况,表面无明显划伤则OK;
(5)铅笔硬度:参照ASTM D 3363使用三菱试验铅笔芯,500g压力,铅笔芯与待测表面的夹角为45°,在待测位置划5笔,每笔长40mm。测试后观察无划伤(每笔开始部分短划伤不计),一般5笔过3笔判OK。
测试结果如下表1所示。
表1
内弯折/次 | 水滴角/° | 耐磨擦/次 | 断裂伸长率/% | 铅笔硬度 | |
实施例1 | 30W | 115.2 | 2200 | 5.1 | 2H |
实施例2 | 28W | 114.8 | 2000 | 5 | 2H |
实施例3 | 25W | 115.5 | 2000 | 5 | 2H |
实施例4 | 32W | 115.2 | 2000 | 5.5 | H |
实施例5 | 30W | 115.2 | 2000 | 5.3 | H |
实施例6 | 27W | 115.4 | 2000 | 5.1 | H |
实施例7 | 30W | 115.2 | 2000 | 5.3 | 2H |
实施例8 | 27W | 114.5 | 2000 | 5 | 2H |
对比例1 | 30W | 114.4 | 1000 | 5 | 2H |
对比例2 | 30W | 114.9 | 1500 | 4.0 | 2H |
对比例3 | 35W | 115.2 | 1500 | 5.8 | 2H |
对比例4 | 30W | 115.2 | 2000 | 5.3 | H |
对比例5 | 20W | 115.3 | 2000 | 3.8 | 3H |
对比例6 | 30W | 112.5 | 1000 | 5.3 | 2H |
对比例7 | 23W | 115.5 | 2000 | 4.5 | 2H |
从以上检测结果可以看出,实施例1-8制备的保护膜产品综合性能优异,通过与对比例1-7进行对比,可以充分说明本发明中,在保证如下工艺条件时,产品的耐弯折性能、断裂伸长率及钢丝绒耐磨等性能均能达到较优的水平,能实现产品综合性能的较好平衡:丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比控制为1:(0.5-1):(0.3-0.5),步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:(6-8),步骤S2的UV固化中不开N2保护、步骤S3的UV固化中开N2保护。
尽管本发明的实施方案已公开如上,但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本发明的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本发明并不限于特定的细节。
Claims (10)
1.一种耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,包括依次层叠设置的基材、柔性硬化层和低反射涂层;
所述柔性硬化层通过在所述基材层上涂布柔性硬化涂液后经固化得到,所述柔性硬化涂液包括按以下组分:丙烯酸预聚物30-50份、聚氨酯丙烯酸酯10-50份、无机纳米粒子10-20份、光引发剂3-8份、有机溶剂30-50份。
2.根据权利要求1所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,其中,丙烯酸预聚物:聚氨酯丙烯酸酯:无机纳米粒子的质量比=1:(0.5-1):(0.3-0.5)。
3.根据权利要求1所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,所述无机纳米粒子为纳米二氧化铝或二氧化硅。
4.根据权利要求1所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,所述光引发剂为184、1173、TPO中的任意一种或多种,所述有机溶剂为MIBK、PGME、MEK中的任意一种或多种。
5.根据权利要求1所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,所述柔性硬化涂液通过以下方法制备得到:
将丙烯酸预聚物与聚氨酯丙烯酸酯搅拌混合10-40min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入无机纳米粒子,搅拌10-40min,再加入光引发剂、有机溶剂,搅拌10-40min,得到所述柔性硬化涂液。
6.根据权利要求1所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,所述低反射涂层通过在所述柔性硬化层上涂布聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水后经固化得到。
7.根据权利要求1所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜,其特征在于,所述基材的材质为PET、PC或COP,厚度为50~250um。
8.一种如权利要求1-7中任意一项所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、制备柔性硬化涂液:将30-50重量份的丙烯酸预聚物与10-50重量份的聚氨酯丙烯酸酯混合,在250-1000r/min下搅拌10-40min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入5-20重量份的无机纳米粒子,在300-1200r/min下搅拌10-40min,再加入3-8重量份光引发剂、30-50重量份有机溶剂,搅拌10-40min,得到所述柔性硬化涂液;
S2、将所述柔性硬化涂液采用微凹辊涂布于基材表面,烘烤,然后UV能量50-250mj下固化,形成柔性硬化涂层;
S3、将聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水采用微凹辊涂布于所述柔性硬化涂层表面,烘烤,然后在N2保护、UV能量350-1400mj下固化,形成低反射涂层,制得所述耐弯折高耐磨低反射保护膜。
9.根据权利要求8所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜的制备方法,其特征在于,其中,步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:(6-8)。
10.根据权利要求9所述的耐弯折高耐磨低反射保护膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、制备柔性硬化涂液:将30-50重量份的丙烯酸预聚物与10-50重量份的聚氨酯丙烯酸酯混合,在500r/min下搅拌20min,然后于持续搅拌下向所得混合物中加入5-20重量份的无机纳米粒子,在600r/min下搅拌20min,再加入3-8重量份光引发剂、30-50重量份有机溶剂,搅拌20min,得到所述柔性硬化涂液;
S2、将所述柔性硬化涂液采用100目微凹辊涂布于PET基材表面,涂布厚度控制为3-10um,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后UV能量50-200mj下固化,形成柔性硬化涂层;
S3、将聚氨酯丙烯酸预聚物质纳米分散胶水采用200目微凹辊涂布于所述柔性硬化涂层表面,涂布厚度控制为80-120nm,50-100℃梯度温度下烘烤3min,然后在N2保护、UV能量350-1400mj下固化,形成低反射涂层,制得所述耐弯折高耐磨低反射保护膜;
其中,步骤S2和步骤S3中UV固化过程采用的UV能量比为1:7。
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