CN116479412A - 卷绕式处理设备及处理方法 - Google Patents
卷绕式处理设备及处理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116479412A CN116479412A CN202310453614.4A CN202310453614A CN116479412A CN 116479412 A CN116479412 A CN 116479412A CN 202310453614 A CN202310453614 A CN 202310453614A CN 116479412 A CN116479412 A CN 116479412A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- roll
- coating
- processing apparatus
- flexible substrate
- guides
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004804 winding Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 107
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 9
- 239000007888 film coating Substances 0.000 claims description 8
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 12
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 abstract description 2
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
- C23C16/45565—Shower nozzles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
本发明提供了一种卷绕式处理设备，包括放卷装置、镀膜装置和收卷装置。所述镀膜装置包括镀膜导向部和下喷淋部，所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方，配置为朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体，使得所述下喷淋部向所述第二表面提供工艺气体的过程中即使产生颗粒，绝大部分颗粒也会因重力作用落下而不会聚集在所述第二表面，从而防止颗粒污染；所述下喷淋部配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置，有利于确保镀膜均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及半导体加工技术领域，尤其涉及卷绕式处理设备及处理方法。
背景技术
柔性材料在处理时，由于其能够卷绕，因此可以采用卷对卷的方式进行连续式处理，处理具体包括沉积、刻蚀、表面改性等过程。
镀膜是在目标物的表面镀上非常薄的薄膜层。卷绕式镀膜指的是通过收卷、放卷的方式进行镀膜的方式，在半导体领域镀膜的方式包括原子层沉积、化学沉积、物理沉积等等。现有的卷绕式镀膜制作阻隔膜或其他功能性薄膜的过程，通常通过卧式镀膜设备进行，在镀膜过程成需要设置导向装置对柔性材料的走向进行引导。
但现有的镀膜装置，随着镀膜时间的增长，镀膜过程中设备内的积粉会掉落在膜的待镀膜表面，会影响膜的外观和质量。因此，需要设计一种膜表面不受影响的卷绕式处理设备。
发明内容
本发明的目的在于提供一种卷绕式处理设备及利用所述卷绕式处理设备所实现的处理方法，以防止颗粒污染柔性基材的待镀膜表面并有利于镀膜均匀性。
为实现上述目的，本发明提供的所述卷绕式处理设备，包括：
放卷装置，配置为引导柔性基材卷进行放卷并进入镀膜装置内；
所述镀膜装置，包括镀膜导向部和下喷淋部；
所述镀膜导向部配置为与放卷后的所述柔性基材的第一表面滑动接触以引导放卷后的所述柔性基材朝向收卷装置运动；
所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方，配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置，并朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体，所述第二表面与所述第一表面相对设置；
所述收卷装置，配置为引导由自所述镀膜导向部导出的所述柔性基材实现收卷。
本发明所述卷绕式处理设备有益效果在于：所述镀膜装置包括镀膜导向部和下喷淋部，所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方，配置为朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体，使得所述下喷淋部向所述第二表面提供工艺气体的过程中即使产生颗粒，绝大部分颗粒也会因重力作用落下而不会聚集在所述第二表面，从而防止颗粒污染；所述下喷淋部配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置，有利于确保镀膜均匀性。
优选的，所述下喷淋部包括若干下喷淋板，相邻所述下喷淋板相互倾斜设置，各所述下喷淋板配置为平行于所述第二表面设置。
进一步优选的，相邻所述下喷淋板中，一个所述下喷淋板相对于另一个所述下喷淋板倾斜5-40度设置。
进一步优选的，相邻所述下喷淋板中，一个所述下喷淋板相对于另一个所述下喷淋板倾斜15-30度设置。
进一步优选的，各所述下喷淋板配置为与所述第二表面之间的距离一致。
进一步优选的，所述卷绕式处理设备还包括分别设置于相邻所述下喷淋板之间的若干下气帘装置，以在相邻所述下喷淋板之间形成隔离气幕。
优选的，所述镀膜导向部包括若干镀膜导向装置以引导放卷后的所述柔性基材朝向所述收卷装置运动，以及与放卷后的所述柔性基材的第一表面滑动接触以施加张力，相邻所述镀膜导向装置之间的直线距离为0.5-1.4米。
优选的，所述卷绕式处理设备还包括与若干所述喷淋板对应设置的若干气托装置，各所述气托装置配置为向所述第一表面供气。
进一步优选的，所述气托装置与对应的所述喷淋板相互平行设置。
进一步优选的，所述若干气托装置分别设置于各所述镀膜导向装置两侧。
进一步优选的，所述卷绕式处理设备还包括与所述若干下喷淋板对应设置的若干上喷淋板，各所述上喷淋板配置为朝向所述第一表面提供所述工艺气体。
进一步优选的，所述上喷淋板与对应的所述下喷淋板相互平行设置。
进一步优选的，各所述上喷淋板配置为与所述第一表面之间的距离一致。
进一步优选的，所述卷绕式处理设备还包括若干上气帘装置，所述上气帘装置设置于相邻所述镀膜导向装置与所述上喷淋板之间，或设置于各所述镀膜导向装置上方，以在相邻所述上喷淋板之间形成隔离气幕。
进一步优选的，所述卷绕式处理设备还包括滑移部，各所述下喷淋板滑动设置于所述滑移部。
优选的，所述收卷装置包括收卷机以及设置于所述收卷机和所述镀膜装置之间的冷却装置。
优选的，所述收卷装置设置于所述镀膜装置顶部，所述镀膜导向部配置为使所述柔性基材朝向所述镀膜装置底部弯曲。
优选的，所述放卷装置包括若干放卷导向装置以引导放卷后的所述柔性基材朝向所述镀膜装置运动，相邻所述放卷导向装置之间的直线距离为0.5-1.4米。
优选的，所述收卷装置包括若干收卷导向装置以引导自所述镀膜装置引出的所述柔性基材实现收卷，相邻所述收卷导向装置之间的直线距离为0.5-1.4米。
附图说明
图1为本发明实施例的第一种卷绕式处理设备的结构示意图；
图2为本发明实施例的第二种卷绕式处理设备的结构示意图；
图3为图2所示卷绕式处理设备的正视图；
图4为本发明实施例的第三种卷绕式处理设备的结构示意图；
图5为图4所示卷绕式处理设备的正视图；
图6为本发明实施例的第四种卷绕式处理设备的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。除非另外定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
本发明的实施例提供了一种卷绕式处理设备以防止颗粒污染柔性基材的待镀膜表面，并确保镀膜均匀性。
参照图1，本发明实施例提供的第一种卷绕式处理设备包括放卷装置1、镀膜装置2和收卷装置3。所述放卷装置配置为引导柔性基材卷(图中未标示)进行放卷并进入镀膜装置2内；所述镀膜装置2包括相对设置的包含若干镀膜导向装置21的镀膜导向部(图中未标示)和包含若干下喷淋板22的下喷淋部(图中未标示)。若干所述镀膜导向装置21靠近所述镀膜装置2的顶面设置，若干所述下喷淋板22设置于若干所述镀膜导向装置21下方，以靠近所述镀膜装置2的底面设置。
一些实施例中，参照图1，所述放卷装置1包括放卷机11和顺次朝向所述镀膜装置2设置的若干放卷导向装置12。柔性基材卷(图中未标示)经所述放卷机11放卷后顺次绕设于各所述放卷导向装置12后进入所述镀膜装置2和所述收卷装置3。在所述收卷装置3内的收卷机32和所述放卷机11的协同作用下，配合所述放卷装置1内设置的各所述放卷导向装置12、所述镀膜装置2内设置的各所述镀膜导向装置21和所述收卷装置3内设置的各收卷导向装置31实现放卷、镀膜和收卷。
一些实施例中，所述放卷导向装置12为导向辊，其具体设置方式和工作方式为本领域技术人员的常规技术手段。
一些实施例中，参照图1，相邻所述放卷导向装置12之间的直线距离为0.5-1.4米，并配置为各所述放卷导向装置12与柔性基材4相接触以使相邻所述放卷导向装置12对位于相邻所述放卷导向装置12之间的所述柔性基材4施加了张力，以控制所述柔性基材4在相邻所述放卷导向装置12之间的跨度合适而防止出现严重波浪纹现象。此处所述相邻放卷导向装置12之间的直线距离为相邻所述放卷导向装置12中各所述放卷导向装置12中心轴线之间的距离。各所述放卷导向装置12的中心轴线沿所述柔性基材4的宽度方向延伸。
一些实施例中，相邻所述放卷导向装置12之间的直线距离为0.5-1.4米，且配置为分别对所述柔性基材4施加相同的作用力。
一些实施例中，所述下喷淋部配置为向所述柔性基材4的第二表面42提供工艺气体。所述下喷淋部设置在所述镀膜导向部201下方，并朝向所述第二表面42设置，使得当所述下喷淋部朝向所述第二表面42提供工艺气体的过程中，即使产生颗粒也会因重力作用落下而不会聚集在所述第二表面42，从而防止颗粒污染。参照图1，相邻所述下喷淋板22相互倾斜设置。各所述下喷淋板22的喷淋出口(图中未标示)配置为朝向所述第二表面42设置，以提供工艺气体。将各所述下喷淋板22设置在所述柔性基材4的下方，在各所述下喷淋板22向所述第二表面42提供工艺气体的过程中，即使产生颗粒，绝大部分颗粒也会因重力作用落下而不会聚集在所述第二表面42，从而防止颗粒污染。
一些实施例中，所述下喷淋板22的数目大于2，相邻所述下喷淋板22相互倾斜设置，使得各所述下喷淋板22沿U型走向顺次排列，且该U型走向的底部靠近所述卷绕式处理设备的底部。一些具体的实施例中，各所述下喷淋板22沿半圆形走向顺次排列。
一些实施例中，所述下喷淋部配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置。参照图1，各所述下喷淋板22平行于所对应的所述第二表面42设置。更具体的，各所述下喷淋板22朝向对应的所述第二表面42的喷淋面平行于对应的所述第二表面42。
一些实施例中，参照图1，图1所示的卷绕式处理设备还包括设置于相邻所述下喷淋板22之间的下气帘装置23，以在相邻所述下喷淋板22之间形成隔离气幕以防止相邻所述下喷淋板22提供的气体实现对流或汇合，确保所述下喷淋板22向所述第二表面42的对应区域的镀膜均匀性。进一步的，所述下气帘装置23与若干所述下喷淋板22设置于所述柔性基材4的同一侧，避免对所述柔性基材4的镀膜表面即所述第二表面42产生污染。
一些实施例中，所述下气帘装置23与对应的所述镀膜导向装置21相互平行设置。
一些实施例中，所述下气帘装置23配置为提供不参与反应的气体的同时进行抽气，以在相邻所述下喷淋板22之间形成气幕，以避免相邻所述下喷淋板22各自提供的工艺气体产生交互而影响镀膜质量，同时也能够带走可能产生的颗粒，从而辅助解决积粉问题。
一些实施例中，各所述下气帘装置23顺次排列的走向与各所述下喷淋板22顺次排列的走向一致。一些具体的实施例中，各所述下气帘装置23沿半圆形走向顺次排列。
一些实施例中，参照图1，所述镀膜导向装置21与所述下气帘装置23对应设置，所述镀膜导向装置21配置为与放卷后的所述柔性基材4的第一表面41滑动接触以引导放卷后的所述柔性基材4朝向所述收卷装置3运动。具体的，所述镀膜导向装置21与非镀膜表面即所述第一表面41滑动接触，能够确保作为镀膜表面的所述第二表面不接触所述镀膜导向装置21，从而避免对镀膜表面造成污染，进一步的，由于所述镀膜导向装置21与所述下气帘装置23对应设置并分别对应位于所述柔性基材4的两侧，所述下气帘装置23供气的过程中不会使膜材产生波浪纹。
一些实施例中，各所述镀膜导向装置21顺次排列的走向与各所述下气帘装置23顺次排列的走向一致。一些具体的实施例中，各所述镀膜导向装置21沿半圆形走向顺次排列。
一些实施例中，所述镀膜导向装置21为导向辊，其具体设置方式和工作方式为本领域技术人员的常规技术手段。
一些实施例中，相邻所述镀膜导向装置21之间的直线距离为0.5-1.4米，并配置为各所述镀膜导向装置21与所述柔性基材4相接触以使相邻所述镀膜导向装置21对位于相邻所述镀膜导向装置21之间的柔性基材4施加了张力，以控制所述柔性基材4在相邻所述镀膜导向装置21之间的跨度合适而防止出现严重波浪纹现象。此处所述相邻所述镀膜导向装置21之间的直线距离为相邻所述镀膜导向装置21中各所述镀膜导向装置21中心轴线之间的距离。各所述镀膜导向装置21的中心轴线沿所述柔性基材4的宽度方向延伸。
一些实施例中，相邻所述镀膜导向装置21之间的直线距离为0.5-1.4米，且配置为分别对所述柔性基材4施加相同的作用力。
一些实施例中，参照图1，所述收卷装置3配置为引导由所述镀膜装置2引出的所述柔性基材4实现收卷。具体的，所述收卷装置3包括若干收卷导向装置31和收卷机32。若干所述收卷导向装置31顺次朝向所述收卷机32设置，自所述弧形镀膜通道25引出的所述柔性基材4依次绕设于各所述收卷导向装置31后再通过所述收卷机32实现收卷。
一些实施例中，所述收卷导向装置31为导向辊，其具体设置方式和工作方式为本领域技术人员的常规技术手段。
一些实施例中，相邻所述收卷导向装置31之间的直线距离为0.5-1.4米，并配置为各所述收卷导向装置31与所述柔性基材4相接触以使相邻所述收卷导向装置31对位于相邻所述收卷导向装置31之间的柔性基材施加了张力，以控制柔性基材在相邻所述收卷导向装置之间的跨度合适而防止出现严重波浪纹现象。此处所述相邻收卷导向装置31之间的直线距离为相邻收卷导向装置31中各所述收卷导向装置31中心轴之间的距离。各所述收卷导向装置31的中心轴线沿所述柔性基材4的宽度方向延伸。
一些实施例中，相邻所述收卷导向装置31之间的直线距离为0.5-1.4米，且配置为对所述柔性基材4施加相同的作用力。
一些实施例中，参照图1，图1所示的卷绕式处理设备还包括设置于所述镀膜导向装置21两侧，并与各所述下喷淋板22对应设置的气托装置24。各所述气托装置24配置为向所述柔性基材4的第一表面41供气。具体的，各所述气托装置24与所述镀膜导向装置21设置于所述柔性基材4的同一侧，通过向所述第一表面41供气，一方面不影响作为镀膜表面的所述第二表面42，另一方面由于各所述下喷淋板22提供工艺气体的过程中对所述柔性基材4施加了向上的作用力，为了避免该向上的作用力对所述柔性基材4造成形变影响，通过控制各所述气托装置24向所述柔性基材4提供能够抵消该向上的作用力的向下作用力，从而保证所述柔性基材4的形状稳定以及镀膜质量。
一些实施例中，参照图1，所述气托装置24与对应的所述下喷淋板22相互平行设置。所述气托装置24距离所述第一表面41的距离以及作用于所述第一表面41的作用区域可根据工艺需求进行灵活调整。
一些实施例中，各所述气托装置24顺次排列的走向与各所述下喷淋板22顺次排列的走向一致。一些具体的实施例中，各所述气托装置24沿半圆形走向顺次排列。
一些实施例中，所述气托装置24为供气装置，配置为提供不参与反应的气体，以不影响在所述第二表面42的镀膜质量为必要。
一些实施例中，相邻所述镀膜导向装置21之间设置有与各所述下喷淋板22一一对应设置的若干上喷淋板，各所述上喷淋板配置为朝向所述第一表面41提供所述工艺气体，从而实现双面镀膜。具体的，所述上喷淋板的设置位置与图1所示的所述气托装置24所设置的位置相同。
一些实施例中，各所述上喷淋板配置为对所述第一表面41执行化学气相沉积反应或原子层沉积工艺。
一些实施例中，各所述下喷淋板22配置为对所述第二表面42执行原子层沉积工艺或化学气相沉积反应。
一些实施例中，所述上喷淋板与对应的所述下喷淋板22相互平行设置。
一些实施例中，所述卷绕式处理设备还包括若干上气帘装置以在相邻所述上喷淋板之间形成隔离气幕，以确保所述第一表面41的镀膜均匀性。具体的，所述上气帘装置和所述下气帘装置23结构相同。
一些实施例中，所述上气帘装置设置于相邻的所述镀膜导向装置21与所述上喷淋板之间。
一些实施例中，所述上气帘装置设置于各所述镀膜导向装置21上方。
一些实施例中，参照图1和图2，图2所示卷绕式处理设备和图1所示卷绕式处理设备的区别包括：图2所示卷绕式处理设备的所述下喷淋板22、所述下气帘装置23、所述镀膜导向装置21和所述气托装置24的数目均多于图1所示卷绕式处理设备。各所述下气帘装置23分别设置于相邻所述下喷淋板22之间。各所述镀膜导向装置21分别设置于相邻所述气托装置24之间。
一些实施例中，相邻所述下喷淋板22中，一个所述下喷淋板22相对于另一个所述下喷淋板22倾斜5-40度设置。具体的，参照图3，以相邻的第一下喷淋板221和第二下喷淋板222为例，所述第二下喷淋板222的底面延伸面与所述第一下喷淋板221底面延伸面所形成的夹角a1为5-30度。
一些实施例中，相邻所述下喷淋板22中，一个所述下喷淋板22相对于另一个所述下喷淋板22倾斜15-30度设置。具体的，参照图3，所述第二下喷淋板222的底面延伸面与所述第一下喷淋板221底面延伸面所形成的夹角a1为15-30度，
一些实施例中，参照图1和图3，设置在所述放卷装置1的第一放卷导向装置121、第二放卷导向装置122和第三放卷导向装置123；所述柔性基材4进入所述镀膜装置2后，各所述镀膜导向装置21，例如图3所示的第一镀膜导向装置211和第二镀膜导向装置212配置为滑动接触非镀膜表面的所述第一表面41，以及进行收卷过程中设置在所述收卷装置3中的第一收卷导向装置311和第二收卷导向装置312配置为滑动接触非镀膜表面的所述第一表面41，能够确保所述第二表面42成膜质量的良好和稳定。
一些实施例中，参照图1和图4，图4所示的卷绕式处理设备中的收卷装置还设置有位于所述收卷机32和所述镀膜装置2之间的冷却装置5，所述冷却装置5配置为通过与所述柔性基材4的相互接触起到降温作用，并解决了镀膜后因所述柔性基材4表面温度高，如直接卷绕发生的热胀冷缩问题，辅助解决了波浪纹的问题。具体的，所述冷却装置5设置在所述第一收卷导向装置311和所述第二收卷导向装置312之间，完成镀膜的所述柔性基材4的所述第一表面41滑动接触所述第一收卷导向装置311后再滑动接触所述冷却装置5，然后滑动接触所述第二收卷导向装置312后由所述收卷机32收卷。
一些实施例中，所述冷却装置5为冷却辊。
一些实施例中，参照图1和图5，所述收卷装置3设置于所述镀膜装置2顶部以节省设备空间。
一些实施例中，包含若干所述镀膜导向装置21的所述镀膜导向部配置为如图5所示朝向所述镀膜装置2底部弯曲。
一些实施例中，参照图6，图6所示的卷绕式处理设备还包括滑移部6，各所述下喷淋板22滑动设置于所述滑移部6。
一些实施例中，各所述喷淋板22底部设置滑槽，所述滑移部6顶面设置与各所述滑槽适配的滑轨，可根据工艺需求灵活调整各所述下喷淋板22的位置。向所述镀膜装置2内安装下喷淋板22时，仅需要按照安装要求将各所述下喷淋板22滑动设置于所述滑移部6，再将所述滑移部6送入所述镀膜装置2内即可。当需要调整所述下喷淋板22或进行保养时，将所述滑移部6移出所述镀膜装置2即可，方便了安装保养。
虽然在上文中详细说明了本发明的实施方式，但是对于本领域的技术人员来说显而易见的是，能够对这些实施方式进行各种修改和变化。但是，应理解，这种修改和变化都属于权利要求书中所述的本发明的范围和精神之内。而且，在此说明的本发明可有其它的实施方式，并且可通过多种方式实施或实现。
Claims (19)
1.一种卷绕式处理设备，其特征在于，包括：
放卷装置，配置为引导柔性基材卷进行放卷并进入镀膜装置内；
所述镀膜装置，包括镀膜导向部和下喷淋部；
所述镀膜导向部配置为与放卷后的所述柔性基材的第一表面滑动接触以引导放卷后的所述柔性基材朝向收卷装置运动；
所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方，配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置，并朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体，所述第二表面与所述第一表面相对设置；
所述收卷装置，配置为引导由所述镀膜导向部导出的所述柔性基材实现收卷。
2.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述下喷淋部包括若干下喷淋板，相邻所述下喷淋板相互倾斜设置，各所述下喷淋板配置为平行于所述第二表面设置。
3.根据权利要求2所述的卷绕式处理设备，其特征在于，相邻所述下喷淋板中，一个所述下喷淋板相对于另一个所述下喷淋板倾斜5-40度设置。
4.根据权利要求2所述的卷绕式处理设备，其特征在于，各所述下喷淋板配置为与所述第二表面之间的距离一致。
5.根据权利要求2所述的卷绕式处理设备，其特征在于，还包括分别设置于相邻所述下喷淋板之间的若干下气帘装置，以在相邻所述下喷淋板之间形成隔离气幕。
6.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述镀膜导向部包括若干镀膜导向装置以引导放卷后的所述柔性基材朝向所述收卷装置运动，以及与放卷后的所述柔性基材的第一表面滑动接触并施加张力，相邻所述镀膜导向装置之间的直线距离为0.5-1.4米。
7.根据权利要求2所述的卷绕式处理设备，其特征在于，还包括与若干所述喷淋板对应设置的若干气托装置，各所述气托装置配置为向所述第一表面供气。
8.根据权利要求7所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述气托装置与对应的所述喷淋板相互平行设置。
9.根据权利要求7所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述镀膜导向部包括若干镀膜导向装置，所述若干气托装置分别设置于各所述镀膜导向装置两侧。
10.根据权利要求2所述的卷绕式处理设备，其特征在于，还包括与所述若干下喷淋板对应设置的若干上喷淋板，各所述上喷淋板配置为朝向所述第一表面提供所述工艺气体。
11.根据权利要求10所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述上喷淋板与对应的所述下喷淋板相互平行设置。
12.根据权利要求11所述的卷绕式处理设备，其特征在于，各所述上喷淋板配置为与所述第一表面之间的距离一致。
13.根据权利要求10所述的卷绕式处理设备，其特征在于，还包括若干上气帘装置，所述镀膜导向部包括若干镀膜导向装置，所述上气帘装置设置于相邻所述镀膜导向装置与所述上喷淋板之间，或设置于各所述镀膜导向装置上方，以在相邻所述上喷淋板之间形成隔离气幕。
14.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，还包括滑移部，所述下喷淋部包括若干下喷淋板，各所述下喷淋板滑动设置于所述滑移部。
15.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述收卷装置包括收卷机以及设置于所述收卷机和所述镀膜装置之间的冷却装置。
16.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述收卷装置设置于所述镀膜装置顶部，所述镀膜导向部配置为使所述柔性基材朝向所述镀膜装置底部弯曲。
17.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述放卷装置包括若干放卷导向装置以引导放卷后的所述柔性基材朝向所述镀膜装置运动，相邻所述放卷导向装置之间的直线距离为0.5-1.4米。
18.根据权利要求1所述的卷绕式处理设备，其特征在于，所述收卷装置包括若干收卷导向装置以引导自所述镀膜装置引出的所述柔性基材实现收卷，相邻所述收卷导向装置之间的直线距离为0.5-1.4米。
19.一种处理方法，其特征在于，使用如权利要求1-18任一项所述的卷绕式处理设备实现。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310453614.4A CN116479412B (zh) | 2023-04-24 | 卷绕式处理设备及处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310453614.4A CN116479412B (zh) | 2023-04-24 | 卷绕式处理设备及处理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116479412A true CN116479412A (zh) | 2023-07-25 |
| CN116479412B CN116479412B (zh) | 2024-10-29 |
Family
ID=
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019077206A1 (en) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | Beneq Oy | APPARATUS |
| CN110983285A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 |
| CN111519161A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-08-11 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种真空镀膜工艺腔及具有其的真空悬浮镀膜机 |
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019077206A1 (en) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | Beneq Oy | APPARATUS |
| CN111519161A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-08-11 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种真空镀膜工艺腔及具有其的真空悬浮镀膜机 |
| CN110983285A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109477203A (zh) | 用于涂布柔性基板的沉积设备和涂布柔性基板的方法 | |
| CN106995911B (zh) | 蒸发源、沉积设备以及用于蒸发有机材料的方法 | |
| CN101208767B (zh) | 用于单道次涂覆基体两面的组件 | |
| JP2020523480A (ja) | フレキシブル基板をコーティングするための堆積装置、及びフレキシブル基板をコーティングする方法 | |
| US20070169695A1 (en) | Process and device for coating strips | |
| US9333525B2 (en) | Substrate spreading device for vacuum processing apparatus, vacuum processing apparatus with substrate spreading device and method for operating same | |
| US20110274838A1 (en) | System and process for the continuous vacuum coating of a material in web form | |
| KR20180110123A (ko) | 진공 프로세싱 시스템 및 이를 위한 방법들 | |
| US11552283B2 (en) | Method of coating a flexible substrate in a R2R deposition system, and vapor deposition system | |
| CN116479412B (zh) | 卷绕式处理设备及处理方法 | |
| CN101433888B (zh) | 淋涂式单张金属板材辊涂机构 | |
| CN116479412A (zh) | 卷绕式处理设备及处理方法 | |
| US20110139067A1 (en) | Arrangement for coating tape-shaped film substrates | |
| JP6435325B2 (ja) | ガス供給を備えた蒸発装置 | |
| WO2010090504A4 (en) | Apparatus for vacuum coating | |
| EP1804306B1 (en) | Plant for the production in continuous of a superconducting tape | |
| US20150203314A1 (en) | Continuous reel-to-reel arrangement | |
| KR101887193B1 (ko) | 롤투롤 원자층 증착장치 | |
| KR20160116990A (ko) | 롤투롤 스퍼터링 시스템 | |
| CN112135920A (zh) | 用于沉积蒸发的源材料的蒸发源、屏蔽蒸发的源材料的方法和用于蒸发源的屏蔽装置 | |
| US3608518A (en) | Stationary mask for continuous vapor deposition | |
| KR102143428B1 (ko) | 양면 원자층 증착장치 | |
| TWI657532B (zh) | 基板固持件 | |
| CN219490132U (zh) | 一种薄膜蒸镀器 | |
| CN221740432U (zh) | 卷绕式镀膜系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: No. 27 Changjiang South Road, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province, China Applicant after: Jiangsu micro nano technology Co.,Ltd. Address before: 214028 Factory Building No. 9-6 Xinshuo Road, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province Applicant before: Jiangsu micro nano technology Co.,Ltd. |
|
| GR01 | Patent grant |