CN116447876A - 一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构 - Google Patents

一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构 Download PDF

Info

Publication number
CN116447876A
CN116447876A CN202310374769.9A CN202310374769A CN116447876A CN 116447876 A CN116447876 A CN 116447876A CN 202310374769 A CN202310374769 A CN 202310374769A CN 116447876 A CN116447876 A CN 116447876A
Authority
CN
China
Prior art keywords
furnace body
furnace
inner cavity
target
fixedly connected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202310374769.9A
Other languages
English (en)
Inventor
高建成
程天赐
张莉兰
徐涛
钟小华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leading Film Materials Anhui Co ltd
Original Assignee
Leading Film Materials Anhui Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leading Film Materials Anhui Co ltd filed Critical Leading Film Materials Anhui Co ltd
Priority to CN202310374769.9A priority Critical patent/CN116447876A/zh
Publication of CN116447876A publication Critical patent/CN116447876A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B21/00—Open or uncovered sintering apparatus; Other heat-treatment apparatus of like construction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D11/00—Arrangement of elements for electric heating in or on furnaces
    • F27D11/02—Ohmic resistance heating
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D19/00—Arrangements of controlling devices
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D9/00—Cooling of furnaces or of charges therein
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F27D2003/0085—Movement of the container or support of the charge in the furnace or in the charging facilities
    • F27D2003/0086—Up or down
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F27D2003/0085—Movement of the container or support of the charge in the furnace or in the charging facilities
    • F27D2003/0087—Rotation about a vertical axis
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D9/00—Cooling of furnaces or of charges therein
    • F27D2009/0002—Cooling of furnaces
    • F27D2009/001—Cooling of furnaces the cooling medium being a fluid other than a gas
    • F27D2009/0013—Cooling of furnaces the cooling medium being a fluid other than a gas the fluid being water
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D19/00—Arrangements of controlling devices
    • F27D2019/0003—Monitoring the temperature or a characteristic of the charge and using it as a controlling value
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D19/00—Arrangements of controlling devices
    • F27D2019/0028—Regulation
    • F27D2019/0034—Regulation through control of a heating quantity such as fuel, oxidant or intensity of current
    • F27D2019/0037—Quantity of electric current
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

本发明公开了一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，包括支架和架设在支架上的炉体，所述炉体的炉壁四周均设置有硅钼棒发热丝，本发明涉及烧结炉技术领域。该保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，靶材不断旋转四周进行均匀受热，此时进气口内通入保护气体，气流吹动位于进气口正前方的扰流板，扰流板带动驱动轴在支撑架内转动，两个扰流板相对转动形成中间向下的气流，带动炉体内腔的气体不断运动，使得炉内气氛从下到上，均匀分布，靶材在内部旋转，内腔温度通过陶瓷基板圈的包围设置均匀的对靶材进行加热，使靶材在烧结过程中的晶粒、孔隙、致密度均达到最佳状态，大大提高了ITO靶材的烧结质量。

Description

一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构
技术领域
本发明涉及烧结炉技术领域，具体为一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构。
背景技术
中国专利CN207365687U公开了一种ITO靶材烧结炉，能够使炉膛内的温度快速地上升或下降，进而实现快速并精确地调节升降温速率的目的，使ITO靶材在烧结过程中的晶粒、孔隙、致密度均达到最佳状态，大大提高了ITO靶材的烧结质量，但是在进行加热时，炉体内腔容易受热不均匀，导致靶材各个面受热温度不一，无法保证成品质量，靶材不能得到均匀的受热。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，解决了上述提出的问题。
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，包括支架和架设在支架上的炉体，所述炉体的炉壁四周均设置有硅钼棒发热丝，所述炉体的顶部设置有与硅钼棒发热丝连接的热电偶，所述炉体的内腔且位于硅钼棒发热丝下方的内表面设置有进气口，所述炉体的内腔固定连接有支撑架，所述支撑架的内腔转动连接有驱动轴，所述驱动轴设置有位于进气口一侧的扰流板，所述支架内腔滑动连接有通过电机升降的提升架，所述提升架的表面固定连接有承接台，所述承接台的表面转动连接有放置靶材的旋转台；
所述炉体的内腔设置有用于驱动旋转台旋转的驱动机构；
所述炉体的内腔固定连接有陶瓷基板圈，所述陶瓷基板圈的表面开设有多个均匀设置的进气孔，所述硅钼棒发热丝设置在陶瓷基板圈的四周。
作为本发明进一步的方案：所述驱动机构包括在炉体内开设的凹槽，所述凹槽的内腔滑动连接有转动电机，所述凹槽的一侧固定连接有电推杆，所述电推杆活塞杆的一端与转动电机的一侧固定连接，所述转动电机的输出轴端固定连接有主动齿轮，所述旋转台的表面开设有与主动齿轮的表面啮合的从动齿。
作为本发明进一步的方案：所述凹槽的内腔固定连接有隔热垫，所述隔热垫的内腔设置有套设在转动电机输出轴的表面并与其转动连接的套圈。
作为本发明进一步的方案：所述凹槽位于电推杆下方的内腔贯穿有水冷管道用于对转动电机和电推杆进行散热。
作为本发明进一步的方案：所述炉体的底部开设有与承接台的表面适配的空槽，所述承接台的表面固定连接有与空槽的内腔过盈配合的密封圈，所述炉体的底部铰接有密封门。
作为本发明进一步的方案：所述炉体的内腔设置有密封层。
作为本发明进一步的方案：所述扰流板设置有多个，且在炉体的两侧对称分布，所述进气口进气时气流带动扰流板转动将炉体内腔的气氛扰动。
作为本发明进一步的方案：所述电推杆伸出到极限时，所述主动齿轮与旋转台表面的从动齿啮合。
在使用时，将靶材放置在承接台上方的旋转台内，然后通过电机驱动带动承接台升起内嵌进炉体的内腔，此时旋转台伸入炉体的内腔，此时启动电推杆带动转动电机运动，带动主动齿轮转动，主动齿轮抵接在旋转台从动齿的表面，转动电机转动带动主动齿轮转动带动旋转台转动，带动靶材转动，此时通过热电偶对硅钼棒发热丝进行供电进行加热，此时靶材不断旋转四周进行均匀受热，此时进气口内通入保护气体，气流吹动位于进气口正前方的扰流板，扰流板带动驱动轴在支撑架内转动，两个扰流板相对转动形成中间向下的气流，带动炉体内腔的气体不断运动，使得内腔温度均匀的对靶材进行加热。
本发明与现有技术相比具备以下有益效果：
1、本发明，靶材不断旋转四周进行均匀受热，此时进气口内通入保护气体，气流吹动位于进气口正前方的扰流板，扰流板带动驱动轴在支撑架内转动，两个扰流板相对转动形成中间向下的气流，带动炉体内腔的气体不断运动，使得炉内气氛从下到上，均匀分布，靶材在内部旋转，内腔温度通过陶瓷基板圈的包围设置均匀的对靶材进行加热，使靶材在烧结过程中的晶粒、孔隙、致密度均达到最佳状态，大大提高了ITO靶材的烧结质量。
2、本发明，转动电机转动带动主动齿轮转动带动旋转台转动，带动靶材转动，并且通过隔热垫对凹槽进行防护，防止热气对转动电机和电推杆造成损坏，水冷管道用于对转动电机和电推杆进行散热，延长转动电机和电推杆的使用寿命，使用寿命更长不易损坏。
附图说明
图1为本发明的结构剖视图；
图2为本发明图1中A处的局部放大图；
图3为本发明承接台升起状态的结构示意图。
图中：1、支架；2、炉体；3、密封层；4、硅钼棒发热丝；5、提升架；6、承接台；7、旋转；8、转动电机；9、主动齿轮；10、隔热垫；11、电推杆；12、支撑架；13、驱动轴；14、扰流板；15、进气口；16、水冷管道；17、热电偶；18、陶瓷基板圈；19、进气孔。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
请参阅图1-3，本发明提供一种技术方案：一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，包括支架1和架设在支架1上的炉体2，炉体2的炉壁四周均设置有硅钼棒发热丝4，炉体2的顶部设置有与硅钼棒发热丝4连接的热电偶17，炉体2的内腔且位于硅钼棒发热丝4下方的内表面设置有进气口15，炉体2的内腔固定连接有支撑架12，支撑架12的内腔转动连接有驱动轴13，驱动轴13设置有位于进气口15一侧的扰流板14，支架1内腔滑动连接有通过电机升降的提升架5，提升架5的表面固定连接有承接台6，承接台6的表面转动连接有放置靶材的旋转台7，通过热电偶17感应温度，精密控温仪表控制，对硅钼棒发热体进行输出调控，硅钼棒发热体外围设有多孔格栅板，使得热量均匀辐散到靶材表面，此时靶材不断旋转四周进行均匀受热，此时进气口15内通入保护气体，气流吹动位于进气口15正前方的扰流板14，扰流板14带动驱动轴13在支撑架12内转动，两个扰流板14相对转动形成中间向下的气流，带动炉体2内腔的气体不断运动，使得内腔温度均匀的对靶材进行加热，能够使炉膛内的温度快速地上升或下降，实现快速并精确地调节升降温速率的目的，使靶材在烧结过程中的晶粒、孔隙、致密度均达到最佳状态，大大提高了ITO靶材的烧结质量；
炉体2的内腔设置有用于驱动旋转台7旋转的驱动机构，在使用时，将靶材放置在承接台6上方的旋转台7内，然后通过电机驱动带动承接台6升起内嵌进炉体2的内腔，此时旋转台7伸入炉体2的内腔，此时通过热电偶17控制硅钼棒发热丝4进行加热，此时靶材不断旋转四周进行均匀受热；
炉体2的内腔固定连接有陶瓷基板圈18，陶瓷基板圈18的表面开设有多个均匀设置的进气孔19，硅钼棒发热丝4设置在陶瓷基板圈18的四周，通过陶瓷基板圈18进行导热，将热量均匀的通过进气孔19输入，受热更加均匀。
驱动机构包括在炉体2内开设的凹槽，凹槽的内腔滑动连接有转动电机8，凹槽的一侧固定连接有电推杆11，电推杆11活塞杆的一端与转动电机8的一侧固定连接，转动电机8的输出轴端固定连接有主动齿轮9，旋转台7的表面开设有与主动齿轮9的表面啮合的从动齿，启动电推杆11带动转动电机8运动，带动主动齿轮9转动，主动齿轮9抵接在旋转台7从动齿的表面，转动电机8转动带动主动齿轮9转动带动旋转台7转动，带动靶材转动。
凹槽的内腔固定连接有隔热垫10，隔热垫10的内腔设置有套设在转动电机8输出轴的表面并与其转动连接的套圈，通过隔热垫10对凹槽进行防护，防止热气对转动电机8和电推杆11造成损坏。
凹槽位于电推杆11下方的内腔贯穿有水冷管道16用于对转动电机8和电推杆11进行散热，延长转动电机8和电推杆11的使用寿命。
炉体2的底部开设有与承接台6的表面适配的空槽，承接台6的表面固定连接有与空槽的内腔过盈配合的密封圈，当承接台6升起将靶材顶入炉体2时，通过密封圈进行密封，炉体2的底部铰接有密封门。
炉体2的内腔设置有密封层3，通过密封层3进行保温。
扰流板14设置有多个，且在炉体2的两侧对称分布，进气口15进气时气流带动扰流板14转动将炉体2内腔的气氛扰动，两个扰流板14相对转动形成中间向下的气流，带动炉体2内腔的气体不断运动，使得内腔温度均匀的对靶材进行加热。
电推杆11伸出到极限时，主动齿轮9与旋转台7表面的从动齿啮合。
在使用时，将靶材放置在承接台6上方的旋转台7内，然后通过电机驱动带动承接台6升起内嵌进炉体2的内腔，此时旋转台7伸入炉体2的内腔，此时启动电推杆11带动转动电机8运动，带动主动齿轮9转动，主动齿轮9抵接在旋转台7从动齿的表面，转动电机8转动带动主动齿轮9转动带动旋转台7转动，带动靶材转动，此时通过热电偶17控制硅钼棒发热丝4发热，此时靶材不断旋转四周进行均匀受热，此时进气口15内通入保护气体，气流吹动位于进气口15正前方的扰流板14，扰流板14带动驱动轴13在支撑架12内转动，两个扰流板14相对转动形成中间向下的气流，带动炉体2内腔的气体不断运动，使得内腔温度均匀的对靶材进行加热。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简介修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (8)

1.一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，包括支架(1)和架设在支架(1)上的炉体(2)，其特征在于：所述炉体(2)的炉壁四周均设置有硅钼棒发热丝(4)，所述炉体(2)的顶部设置有与硅钼棒发热丝(4)连接的热电偶(17)，所述炉体(2)的内腔且位于硅钼棒发热丝(4)下方的内表面设置有进气口(15)，所述炉体(2)的内腔固定连接有支撑架(12)，所述支撑架(12)的内腔转动连接有驱动轴(13)，所述驱动轴(13)设置有位于进气口(15)一侧的扰流板(14)，所述支架(1)内腔滑动连接有通过电机升降的提升架(5)，所述提升架(5)的表面固定连接有承接台(6)，所述承接台(6)的表面转动连接有放置靶材的旋转台(7)；
所述炉体(2)的内腔设置有用于驱动旋转台(7)旋转的驱动机构,从下侧吹风；
所述炉体(2)的内腔固定连接有陶瓷基板圈(18)，所述陶瓷基板圈(18)的表面开设有多个均匀设置的进气孔(19)，所述硅钼棒发热丝(4)设置在陶瓷基板圈(18)的四周。
2.根据权利要求1所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述驱动机构包括在炉体(2)内开设的凹槽，所述凹槽的内腔滑动连接有转动电机(8)，所述凹槽的一侧固定连接有电推杆(11)，所述电推杆(11)活塞杆的一端与转动电机(8)的一侧固定连接，所述转动电机(8)的输出轴端固定连接有主动齿轮(9)，所述旋转台(7)的表面开设有与主动齿轮(9)的表面啮合的从动齿。
3.根据权利要求2所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述凹槽的内腔固定连接有隔热垫(10)，所述隔热垫(10)的内腔设置有套设在转动电机(8)输出轴的表面并与其转动连接的套圈。
4.根据权利要求2所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述凹槽位于电推杆(11)下方的内腔贯穿有水冷管道(16)用于对转动电机(8)和电推杆(11)进行散热。
5.根据权利要求1所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述炉体(2)的底部开设有与承接台(6)的表面适配的空槽，所述承接台(6)的表面固定连接有与空槽的内腔过盈配合的密封圈，所述炉体(2)的底部铰接有密封门。
6.根据权利要求1所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述炉体(2)的内腔设置有密封层(3)。
7.根据权利要求1所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述扰流板(14)设置有多个，且在炉体(2)的两侧对称分布，所述进气口(15)进气时气流带动扰流板(14)转动将炉体(2)内腔的气氛扰动。
8.根据权利要求4所述的一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构，其特征在于：所述电推杆(11)伸出到极限时，所述主动齿轮(9)与旋转台(7)表面的从动齿啮合。
CN202310374769.9A 2023-04-10 2023-04-10 一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构 Pending CN116447876A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310374769.9A CN116447876A (zh) 2023-04-10 2023-04-10 一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310374769.9A CN116447876A (zh) 2023-04-10 2023-04-10 一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116447876A true CN116447876A (zh) 2023-07-18

Family

ID=87127059

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202310374769.9A Pending CN116447876A (zh) 2023-04-10 2023-04-10 一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN116447876A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117570718A (zh) * 2024-01-15 2024-02-20 宝鸡市弘森钛制品有限责任公司 一种电炉的进料设备及具有其的电炉

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117570718A (zh) * 2024-01-15 2024-02-20 宝鸡市弘森钛制品有限责任公司 一种电炉的进料设备及具有其的电炉
CN117570718B (zh) * 2024-01-15 2024-04-02 宝鸡市弘森钛制品有限责任公司 一种电炉的进料设备及具有其的电炉

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3190165B2 (ja) 縦型熱処理装置及び熱処理方法
CN116447876A (zh) 一种保证均匀进气和温度均匀的烧结炉腔体结构
CN102798286A (zh) 高温烧结电阻炉
CN1017921B (zh) 加热炉
CN115143745A (zh) 一种用于陶瓷制品加工用的快速烘干装置及其烘干方法
CN113048783A (zh) 一种钐钴真空烧结炉及其应用方法
JP3948038B2 (ja) 炉芯管式熱処理炉
KR20090112407A (ko) 승하강장치를 구비한 수직형 진공로
CN220959568U (zh) 一种具有加热均匀结构的气氛炉
CN217715908U (zh) 一种五氧化二铌生产用晶体烧料炉
CN109059537B (zh) 一种炉底可活动型的立式烧结炉
CN220132274U (zh) 一种提升铸件性能的热处理机构
CN219810251U (zh) 一种适用于试验样品焙烧的小型回转窑
CN220892824U (zh) 一种高铝砖烘干炉
CN216688243U (zh) 一种钢材热处理加工用烘箱
JPH08322857A (ja) 歯科用電気炉
CN217597866U (zh) 一种方便受热均匀的聚四氟乙烯烧结炉
JPH1183338A (ja) 熱間等方圧加圧装置
CN212566849U (zh) 下抬升旋转烧结炉
CN217536098U (zh) 一种螺母退火装置
CN220284161U (zh) 一种材料热处理装置
CN217889784U (zh) 远端式热风控压并可使辐射热均匀分布的真空回焊炉
CN117308572B (zh) 一种碳化硅内衬专用真空烧结炉
CN214484691U (zh) 一种带冷却功能的饰瓷烤瓷炉
CN217585308U (zh) 一种氮气保护的高温焙烧炉装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination