CN116390599A - 显示装置和显示面板 - Google Patents

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金官洙
金玟知
高永俊
宋旼根
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Abstract

本公开的实施方式涉及一种显示装置和显示面板，更具体地，本公开提供了一种显示装置，该显示装置包括：显示面板，该显示面板包括发光区域和用于将光传送到设置在所述显示面板下方的传感器的透射区域。所述透射区域可以包括：透射层，其用于传送光并具有非平面顶表面；以及阴极图案化材料，其形成为覆盖所述透射层的所述非平面顶表面。

Description

显示装置和显示面板
技术领域
本公开的实施方式涉及一种减少产品缺陷并提高可靠性的显示装置和显示面板。
背景技术
随着技术的发展，显示装置除了提供图像显示功能之外，还可以提供拍摄功能和各种检测功能。为此，显示装置应当包括诸如相机和检测传感器之类的光学电子装置(也称为光接收装置或传感器)。
由于光学电子装置需要从显示装置的前侧接收光，因此应该将其设置在光接收有利的地方。因此，在现有技术中，必须安装相机(相机镜头)和检测传感器以暴露在显示装置的前面。为此，显示面板的边框被加宽，或者在显示面板的显示区域中形成凹口或形成物理孔，并且相机或检测传感器被设置在该凹口或物理孔中。
因此，由于在显示装置中设置了通过接收来自前面的光来执行预定功能的诸如相机和检测传感器之类的光学电子装置，因此边框可能在显示装置的前部增加或者可能存在对显示装置的前部设计的限制。
因此，在显示技术领域中，正在研究用于提供诸如相机和检测传感器之类的光学电子装置而不减小显示面板的显示区域的面积的技术。
例如，已经提出了一种技术，其中诸如相机和检测传感器之类的光学电子装置设置在显示面板的显示区域下面，但是子像素仅设置在与光学电子装置交叠的光学区域的一部分发光区域中，并且子像素不设置在剩余的透射区域中。
发明内容
然而，在光学区域内的透射区域中形成在堤部上方的阴极图案化材料容易从上覆盖层分离，从而可能导致显示装置中的缺陷。
因此，本公开的发明人发明了一种显示装置和显示面板，其能够减少在光学区域内的透射区域上方形成的阴极图案化材料和覆盖层之间的联接失败。
本公开的实施方式可以提供一种显示装置和显示面板，其能够增强阴极图案化材料和覆盖层之间的接合，并且能够通过在光学区域内的透射区域中形成的堤部上方形成具有特定形状的雕刻图案来减少缺陷。
根据本公开的实施方式的显示装置可以包括显示面板，在该显示面板中，在显示区域中形成光学区域和正常区域，所述光学区域被划分为透射区域和发光区域，所述正常区域包括在所述光学区域外部的多个发光区域；选通驱动电路，其被配置为向所述显示面板提供选通信号；数据驱动电路，其被配置为将图像数据转换为数据电压并将其提供给所述显示面板；以及显示控制器，其被配置为控制所述选通驱动电路和所述数据驱动电路；其中，所述透射区域包括：堤部，该堤部划分所述发光区域并包括形成在上表面上的堤部图案；阴极图案化材料，其被形成为覆盖所述堤部的至少一部分；以及覆盖层，其形成在所述阴极图案化材料上。
根据本公开的实施方式的显示面板可以包括：光学区域，该光学区域被划分为透射区域和发光区域；以及正常区域，该正常区域在显示区域中包括位于所述光学区域外部的多个发光区域；其中，所述透射区域可以包括：堤部，该堤部划分所述发光区域并且包括形成在上表面上的堤部图案；阴极图案化材料，其被形成为覆盖所述堤部的至少一部分；以及在所述阴极图案化材料上形成的覆盖层。
根据本公开的实施方式的显示面板可以包括发光区域和用于将光传送到设置在显示面板下方的传感器的透射区域。所述透射区域可以包括用于传送光并具有非平面顶表面的透射层和形成为覆盖所述透射层的非平面顶表面的阴极图案化材料。
根据本公开的实施方式，可以提供一种显示装置和显示面板，其能够减少在光学区域内的透射区域上方形成的阴极图案化材料和覆盖层之间的联接失败。
根据本公开的实施方式，可以提供一种显示装置和显示面板，其能够增强阴极图案化材料和覆盖层之间的接合，并且能够通过在光学区域内的透射区域中形成的堤部上方形成具有特定形状的雕刻图案来减少缺陷。
附图说明
包括附图以提供对本公开的进一步理解并且附图被包含在本公开中并构成本公开的一部分，例示了本公开的方面，并且与说明书一起用于解释本公开的原理。在附图中：
图1A、图1B和图1C是示出根据本公开的实施方式的显示装置100的平面图；
图2示出了根据本公开的实施方式的显示装置100的系统配置；
图3示出了根据本公开的实施方式的显示面板110中的子像素SP的等效电路；
图4示出了根据本公开的实施方式的包括在显示面板110的显示区域DA中的三5个区域NA、OA1和OA2中的子像素SP的布置；
图5A示出了根据本公开的实施方式的显示面板110的第一光学区域OA1和正常区域NA中的每一个中的信号线的布置；
图5B示出了根据本公开的实施方式的显示面板110的第二光学区域OA2和正常区域NA中的每一个中的信号线的布置；
0图6是根据本公开的实施方式的显示面板110的光学区域OA的截面图；
图7A和图7B示出了根据本公开的实施方式的显示面板110的光学区域OA中的与发光元件ED相对应的区域的放大视图；
图8至图10示出了根据本公开的实施方式的显示装置中的光学区域的透射区域
中形成的堤部图案和阴极图案化材料的结构的平面视图；以及5图11A和图11B示出了在根据本公开的实施方式的显示装置中将未形成堤部图案的情况和在光学区域的透射区域中形成堤部图案的情况进行比较的横截面照片。
具体实施方式
在以下对本公开的示例或实施方式的描述中，将参照附图，其中通过说明的方式0示出了可以实现的特定示例或实施方式，并且其中即使在彼此不同的附图中示出相同或相似的组件时，也可以使用相同的附图标记和符号来表示相同或相似的组件。此外，在以下对本公开的示例或实施方式的描述中，当确定该描述可能使得本公开的一些实施方式中的主题相当不清楚时，将省略对在本文并入的公知功能和组件的详细描述。
除非术语与术语“仅”一起使用，否则本文使用的术语诸如“包括”、“具有”、“包含”、“构5成”、“组成”和“形成”通常旨在允许添加其它组件。如本文所使用的，除非上下文另有明确指示，否则单数形式旨在包括复数形式。
本文中可使用例如“第一”、“第二”、“A”、“B”、“(A)”或“(B)”等术语来描述本公开的元件。这些术语中的每一个并不用于定义元件的本质、顺序、序列或数量等，而是仅用于将对应的元件与其它元件区分开。
当提到第一元件与第二元件“连接或联接”、“接触或交叠”等时，应当理解，不仅第一元件可以与第二元件“直接连接或联接”或“直接接触或交叠”，而且第三元件也可以“插置”在第一元件和第二元件之间，或者第一元件和第二元件可以经由第四元件彼此“连接或联接”、“接触或交叠”等。这里，第二元件可以包括在彼此“连接或联接”、“接触或交叠”等的两个或更多个元件中的至少一个中。
当使用时间相对术语(例如，“之后”、“在...之后”、“接下来”、“之前”等)来描述元件或配置的过程或操作、或者操作、处理、制造方法中的流程或步骤时，除非同时使用术语“直接”或“立即”，否则这些术语可用于描述非连续或非顺序过程或操作。
另外，当提及任何尺寸、相对尺寸等时，即使未指定相关描述，也应认为元件或特征的数值或对应信息(例如，水平、范围等)包括可由各种因素(例如，工艺因素、内部或外部影响、噪声等)引起的公差或误差范围。此外，术语“可以”完全包括术语“可能”的所有含义。
以下，将参照附图详细描述本公开的各种实施方式。
图1A、图1B和图1C是示出根据本公开的实施方式的显示装置100的平面图。
参照图1A、图1B和图1C，根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括用于显示图像的显示面板110和一个或更多个光学电子装置11、12。
显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。
可以在显示区域DA中设置多个子像素，并且可以在显示区域DA中设置用于驱动多个子像素的多种类型的信号线。
非显示区域NDA可以指显示区域DA之外的区域。可以在非显示区域NDA中设置多种类型的信号线，并且连接多种类型的驱动电路可以与多种类型的信号线连接。非显示区域NDA可以弯曲成从显示面板的前面不可见，或者可以由外壳(未示出)覆盖。非显示区域NDA也可以称为边框或边框区域。
参照图1A、图1B和图1C，在根据本公开的实施方式的显示装置100中，一个或更多个光学电子装置11、12可以位于显示面板110的下方或下部处(与显示面板110的观看表面相反的一侧)。
光可以进入显示面板110的前表面(观看表面)，穿过显示面板110，到达一个或更多个光学电子装置11、12，一个或更多个光学电子装置11、12位于显示面板110下方或下部处(与观看表面相反的一侧)。
一个或更多个光学电子装置11、12可以接收或检测透过显示面板110的光，并基于接收的光执行预定功能。例如，一个或更多个光学电子装置11、12可以包括诸如相机(图像传感器)等的图像捕获装置和诸如接近传感器、照度传感器等的传感器中的一个或更多个。
参照图1A、图1B和图1C，在根据本公开的实施方式的显示面板110中，显示区域DA可以包括一个或更多个光学区域OA1、OA2以及正常区域NA。
参照图1A、图1B和图1C，一个或更多个光学区域OA1、OA2可以是与一个或更多个光学电子装置11、12交叠的一个或更多个区域。
根据图1A的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1和正常区域NA。在该示例中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠。
根据图1B的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和正常区域NA。在图1B的示例中，正常区域NA可以位于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。在该情况中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠，第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。
根据图1C的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和正常区域NA。在图1C的示例中，正常区域NA可以不位于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。也就是说，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以彼此接触。在该情况中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠，第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。
需要在一个或更多个光学区域OA1、OA2中实现图像显示结构和光透射结构两者。也就是说，由于一个或更多个光学区域OA1、OA2是显示区域DA的一部分，所以需要将用于显示图像的子像素设置在一个或更多个光学区域OA1、OA2中。此外，为了使光能够透射一个或更多个光学电子装置11、12，需要在一个或更多个光学区域OA1、OA2中形成光透射结构。
根据上述实施方式，尽管需要一个或更多个光学电子装置11、12来接收或检测光，但是一个或更多个光学电子装置11、12可以位于显示面板110的背面上(显示面板110下方或下部上，即，与观看表面相对的一侧)。
也就是说，一个或更多个光学电子装置11、12不暴露在显示面板110的前表面(观看表面)中。因此，当用户观看显示装置100的前面时，光学电子装置11、12位于用户看不到的位置。
在一个实施方式中，第一光学电子装置11可以是图像传感器，并且第二光学电子装置12可以是诸如接近传感器、照度传感器等的传感器。例如，传感器可以是能够检测红外光的红外传感器。
在另一实施方式中，第一光学电子装置11可以是传感器，第二光学电子装置12可以是相机。
在下文中，为了便于描述，将对第一光学电子装置11是相机，并且第二光学电子装置12是诸如接近传感器、照度传感器、红外传感器等的传感器的实施方式进行讨论。这里，相机可以是相机镜头、图像传感器或包括相机镜头和图像传感器中的至少一个的单元。
在第一光学电子装置11是相机的情况下，该相机可以位于显示面板110的后侧(在显示面板110的下方或下部)，并且可以是能够在显示面板110的前方向上捕获对象的面向前方的相机。因此，用户可以在观看显示面板110的观看表面的同时通过相机捕获在观看表面上不可见的图像。
尽管在图1A至图1C中的每一个中包括在显示区域DA中的正常区域NA和一个或更多个光学区域OA1、OA2是可以显示图像的区域，正常区域NA是不需要实现光透射结构的区域，然而，一个或更多个光学区域OA1、OA2是需要实现光透射结构的区域。
因此，一个或更多个光学区域OA1、OA2可以具有大于或等于预定水平的透射率(即，相对高的透射率)，并且正常区域NA可以不具有光透射率或者具有小于预定水平的透射率(即，相对低的透射率)。
例如，一个或更多个光学区域OA1、OA2可以具有与正常区域NA的分辨率、子像素排列结构、每单位区域的子像素数量、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构等不同的分辨率、子像素排列结构、每单位区域的子像素数量、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构等。
在一个实施方式中，一个或更多个光学区域OA1、OA2中的每单位面积的子像素的数量可以小于正常区域NA中的每单位面积的子像素的数量。即，一个或更多个光学区域OA1、OA2的分辨率可以低于正常区域NA的分辨率。这里，每单位面积的子像素的数量可以具有与分辨率、像素密度或像素的集成程度相同的含义。例如，每单位面积的子像素数量的单位可以是每英寸像素(PPI)，其表示1英寸内的像素数量。
在一个实施方式中，第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素的数量可以小于正常区域NA中的每单位面积的子像素的数量。在一个实施方式中，第二光学区域OA2中的每单位面积的子像素的数量可以大于或等于第一光学区域OA1中每单位面积的子像素的数量，并且小于正常区域NA中的每单位面积的子像素的数量。
第一光学区域OA1可以具有诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等的各种形状。第二光学区域OA2可以具有诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等的各种形状。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以具有相同的形状或不同的形状。
参照图1C，在第一光学区域OA1和第二光学区域OA2彼此接触的情况下，包括第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的整个光学区域也可以具有诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等的各种形状。
在下文中，为了便于描述，将基于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个具有圆形形状的一个实施方式进行讨论。
当根据本公开的实施方式的显示装置100具有其中诸如相机等的第一光学电子装置11位于显示面板110的下方或下部而不暴露于外部的结构时，根据本公开的实施方式的这种显示装置100可以被称为应用了屏下显示相机(under-display camera,UDC)技术的显示器。
根据该配置，在根据本公开的实施方式的显示装置100的情况下，由于不需要在显示面板110中形成用于暴露相机的切口或相机孔，因此保持了显示区域DA。
换句话说，由于不需要在显示面板110中形成用于相机暴露的凹口或相机孔，因此可以减小边框区域的尺寸，并且可以去除或减小设计中的显著缺点，从而增加设计中的自由度。
尽管根据本公开的实施方式，一个或更多个光学电子装置11、12位于显示装置100中的显示面板110的暴露表面下方(例如，在显示面板110的下方或下部上)，但是一个或更多个光学电子装置11、12可以被配置为接收或检测光。
此外，在根据本公开的实施方式的显示装置100中，尽管一个或更多个光学电子装置11、12位于显示面板110的背面上(显示面板110的下方或下部)以被隐藏并且被定位成与显示区域DA交叠，但是需要在与区域DA中的一个或更多个光学电子装置11、12交叠的一个或更多个光学区域OA1、OA1中正常地执行图像显示。
图2示出了根据本公开的实施方式的显示装置100的系统配置。
参照图2，显示装置100可以包括作为用于显示图像的组件的显示驱动电路和显示面板110。
显示驱动电路被配置为驱动显示面板110，并且可以包括数据驱动电路130、选通驱动电路120、显示控制器140等。
显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。非显示区域NDA可以是显示区域DA之外的区域，并且也可以被称为边框区域。非显示区域NDA的全部或一部分可以是从显示装置100的前表面可见的区域，或者是从显示装置100的前表面弯曲且不可见的区域。
显示面板110可以包括基板SUB和设置在基板SUB上的多个子像素SP。显示面板110还可以包括各种类型的信号线以驱动多个子像素SP。
根据本公开的实施方式的显示装置100可以是液晶显示装置等，或者从显示面板110自身发光的自发光显示装置。当根据本公开的实施方式的显示装置100是自发光显示装置时，多个子像素SP中的每一个可以包括发光元件。
在一个实施方式中，根据本公开的实施方式的显示装置100可以是使用有机发光二极管(OLED)来实现发光元件的有机发光显示装置。对于另一实施方式，根据本公开的实施方式的显示装置100可以是使用基于无机材料的发光二极管来实现发光元件的无机发光显示装置。在又一实施方式中，根据本公开的实施方式的显示装置100可以是使用作为自发光半导体晶体的量子点来实现发光元件的量子点显示装置。
多个子像素SP中的每一个的结构可以根据显示装置100的类型而变化。例如，当显示装置100是包括自发光子像素SP的自发光显示装置时，每个子像素SP可以包括自发光发光元件、一个或更多个晶体管以及一个或更多个电容器。
例如，各种类型的信号线可以包括用于承载数据信号(也称为数据电压或图像信号)的多条数据线DL、用于承载选通信号(也称为扫描信号)的多条选通线GL等。
多条数据线DL和多条选通线GL可以彼此交叉。多条数据线DL中的每一条可以设置为在第一方向上延伸。多条选通线GL中的每一条可以设置为在第二方向上延伸。
这里，第一方向可以是列方向，并且第二方向可以是行方向。另选地，第一方向可以是行方向，并且第二方向可以是列方向。
数据驱动电路130是用于驱动多条数据线DL的电路，并且可以向多条数据线DL提供数据信号。选通驱动电路120是用于驱动多条选通线GL的电路，并且可以向多条选通线GL提供选通信号。
显示控制器140被配置为控制数据驱动电路130和选通驱动电路120，并且可以控制多条数据线DL的驱动定时和多条选通线GL的驱动定时。
显示控制器140可以向数据驱动电路130提供数据驱动控制信号DCS以控制数据驱动电路130，并且向选通驱动电路120提供选通驱动控制信号GCS以控制选通驱动电路120。
显示控制器140可以从主机系统200接收输入图像数据，并基于输入图像数据将图像数据Data提供给数据驱动电路130。
数据驱动电路130可以根据显示控制器140的驱动定时控制向多条数据线DL提供数据信号。
数据驱动电路130可以从显示控制器140接收数字图像数据Data，将接收到的图像数据Data转换为模拟数据信号，并将得到的模拟数据信号提供给多条数据线DL。
选通驱动电路120可以根据显示控制器140的定时控制向多条选通线GL提供选通信号。选通驱动电路120可以与各种选通驱动控制信号GCS一起接收与导通电平电压相对应的第一选通电压和与截止电平电压相对应的第二选通电压，生成选通信号，并将生成的选通信号提供给多条选通线GL。
在一些实施方式中，数据驱动电路130可以以带式自动接合(TAB)类型连接到显示面板110，或者以玻璃上芯片(COG)类型或面板上芯片(COP)类型连接到显示面板110的诸如接合焊盘之类的导电焊盘，或者以薄膜上芯片(COF)类型连接到显示面板110。
选通驱动电路120可以以带式自动接合(TAB)类型连接到显示面板110，或者以玻璃上芯片(COG)类型或面板上芯片(COP)类型连接到显示面板110的诸如接合焊盘之类的导电焊盘，或者以薄膜上芯片(COF)类型连接到显示面板110。
选通驱动电路120可以以面板内栅极(GIP)类型设置在显示面板110的非显示区域NDA中。选通驱动电路120可以设置在基板上或上方，或者连接到基板。也就是说，在GIP类型的情况下，选通驱动电路120可以设置在基板SUB的非显示区域NDA中。在玻璃上芯片(COG)类型、薄膜上芯片(COF)类型等的情况下，选通驱动电路120可以连接到基板。
数据驱动电路130和选通驱动电路120中的至少一个可以设置在显示面板110的显示区域DA中。例如，数据驱动电路130和选通驱动电路120中的至少一个可以被设置为不与子像素SP交叠，或者被设置为与一个或更多个子像素SP或全部子像素SP交叠。
数据驱动电路130也可以位于但不限于显示面板110的一部分(例如，上部或下部)中。在一些实施方式中，根据驱动方案、面板设计方案等，数据驱动电路130可以位于但不限于显示面板110的两个部分(例如，上部和下部)或显示面板110的四个部分(例如，上部、下部、左部和右部)中的至少两个部分中。
选通驱动电路120也可以位于但不限于显示面板110的一部分(例如，左部或右部)中。在一些实施方式中，根据驱动方案、面板设计方案等，选通驱动电路120可以位于但不限于显示面板110的两个部分(例如，左部和右部)或显示面板110的四个部分(例如，上部、下部、左部和右部)中的至少两个部分中。
显示控制器140可以在与数据驱动电路130分离的组件中实现，或者可以与数据驱动电路130集成并因此在集成电路中实现。
显示控制器140可以包括在典型显示技术中使用的定时控制器，或者可以是能够额外执行除了典型定时控制器的功能之外的其它控制功能的控制器或控制装置。在一些实施方式中，显示控制器140可以是与定时控制器不同的控制器或控制装置，或者包括在控制器或控制装置中的电路或组件。显示控制器140可以用诸如集成电路(IC)、现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)、处理器等的各种电路或电子组件来实现。
显示控制器140可以安装在印刷电路板、柔性印刷电路等上，并且通过印刷电路板、柔性印刷电路等电连接到选通驱动电路120和数据驱动电路130。
显示控制器140可以经由一个或更多个预定接口向数据驱动电路130发送信号以及从数据驱动电路130接收信号。在一些实施方式中，这样的接口可以包括低压差分信令(LVDS)接口、EPI(嵌入式点对点接口)、SPI(串行外围接口)等。
为了进一步提供触摸感测功能以及图像显示功能，根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括至少一个触摸传感器和触摸电路，该触摸电路能够通过感测触摸传感器来检测触摸事件是否由诸如手指、笔等的触摸对象发生，或者能够检测对应的触摸位置。
触摸电路可以包括能够通过驱动和感测触摸传感器来生成和提供触摸感测数据的触摸驱动电路160、能够检测触摸事件的发生或使用触摸感测数据检测触摸位置的触摸控制器170等。
触摸传感器可以包括多个触摸电极。触摸传感器还可以包括多条触摸线，其用于将多个触摸电极电连接到触摸驱动电路160。
触摸传感器可以在显示面板110外部以触摸面板设置，或者以触摸面板的形式设置，或者设置在显示面板110内部。当触摸传感器在显示面板110外部以触摸面板或以触摸面板的形式设置时，这种触摸传感器被称为附加类型。当在显示面板110中实现附加类型的触摸传感器时，触摸面板和显示面板110可以在组装过程期间单独制造和组合。附加类型的触摸面板可以包括触摸面板基板和触摸面板基板上的多个触摸电极。
当触摸传感器设置在显示面板110内部时，在制造显示面板110的过程期间，触摸传感器可以与和显示驱动相关的信号线和电极一起设置在基板SUB上方。
触摸驱动电路160可以向多个触摸电极中的至少一个提供触摸驱动信号，并且感测多个触摸电极中的至少一个以生成触摸感测数据。
触摸电路可以使用自电容感测方法或互电容感测方法来执行触摸感测。
当触摸电路在自电容感测方法中执行触摸感测时，触摸感测电路可以基于每个触摸电极与触摸对象(例如，手指、笔等)之间的电容来执行触摸感测。
根据自电容感测方法，多个触摸电极中的每一个可以充当驱动触摸电极和感测触摸电极两者。触摸驱动电路160可以驱动多个触摸电极的全部或一部分，并感测多个触摸电极的全部或一部分。
当触摸电路以互电容感测方法执行触摸感测时，触摸电路可以基于触摸电极之间的电容执行触摸感测。
根据互电容感测方法，多个触摸电极被划分为驱动触摸电极和感测触摸电极。触摸驱动电路160可以驱动驱动触摸电极并感测感测触摸电极。
包括在触摸电路中的触摸驱动电路160和触摸控制器170可以在单独的装置中或在单个装置中实现。此外，触摸驱动电路160和数据驱动电路130可以在单独的装置中或在单个装置中实现。
显示装置100还可以包括用于向显示驱动电路和/或触摸电路提供各种类型的电力的电源电路。
根据本公开的实施方式的显示装置100可以是诸如智能电话、平板电脑、诸如智能手表等的可穿戴装置之类的移动终端，或者监视器、电视(TV)等。这种装置可以是各种类型、尺寸和形状。根据本公开的实施方式的显示装置100不限于此，并且包括用于显示信息或图像的各种类型、尺寸和形状的显示器。
如上所述，显示面板110的显示区域DA可以包括正常区域NA和一个或更多个光学区域OA1、OA2。
正常区域NA和一个或更多个光学区域OA1、OA2是可以显示图像的区域。然而，正常区域NA是不需要实现光透射结构的区域，并且一个或更多个光学区域OA1、OA2是需要实现光透射结构的区域。
如以上相对于图1A至图1C的示例所讨论的，虽然显示面板110的显示区域DA除了正常区域NA之外还可以包括一个或更多个光学区域OA1、OA2，但是为了便于描述，在以下讨论中，假定显示区域DA包括第一光学区域OA1和第二光学区域OA2以及正常区域NA。
图3示出了根据本公开的实施方式的显示面板110中的子像素SP的等效电路。
参照图3，在根据本公开的实施方式的显示面板110中，设置在包括在显示区域DA中的正常区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每个子像素SP可以包括发光元件ED、用于驱动发光元件ED的驱动晶体管DRT、用于将数据电压Vdata传输到驱动晶体管DRT的第一节点N1的扫描晶体管SCT、用于在一帧期间将电压维持在近似恒定电平的存储电容器Cst，等等。
驱动晶体管DRT可以包括施加有数据电压Vdata的第一节点N1、电连接到发光元件ED的第二节点N2以及通过驱动电压线DVL施加有驱动电压ELVDD的第三节点N3。在驱动晶体管DRT中，第一节点N1可以是栅极节点，第二节点N2可以是源极节点或漏极节点，并且第三节点N3可以是漏极节点或源极节点。
发光元件ED可以包括阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE。阳极电极AE可以是设置在每个子像素SP中的像素电极，并且可以电连接到每个子像素SP的驱动晶体管DRT的第二节点N2。阴极电极CE可以是公共设置在多个子像素SP中的公共电极，并且诸如低电平电压的基极电压ELVSS可以施加到阴极电极CE。
例如，阳极电极AE可以是像素电极，并且阴极电极CE可以是公共电极。在另一示例中，阳极电极AE可以是公共电极，并且阴极电极CE可以是像素电极。为了便于描述，在下面的讨论中，除非另有明确说明，否则假设阳极电极AE是像素电极，并且阴极电极CE是公共电极。
发光元件ED可以是例如有机发光二极管(OLED)、无机发光二极管、量子点发光元件等。当有机发光二极管用作发光元件ED时，其发光层EL可以包括包含有机材料的有机发光层。
扫描晶体管SCT可以通过扫描信号SCAN导通和截止，扫描信号SCAN通过选通线GL施加到扫描晶体管SCT的栅极，并且扫描晶体管SCT电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1和数据线DL之间。
存储电容器Cst可以电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1和第二节点N2之间。
如图3所示，每个子像素SP可以包括两个晶体管(2T：DRT和SCT)和一个电容器(1C：Cst)(称为“2T1C结构”)，并且在一些情况下，还可以包括一个或更多个晶体管，或还包括一个或更多个电容器。
存储电容器Cst可以是有意设计成位于驱动晶体管DRT外部的外部电容器，而不是内部电容器，诸如寄生电容器(例如，Cgs、Cgd)，其可以存在于驱动晶体管DRT的第一节点N1和第二节点N2之间。
驱动晶体管DRT和扫描晶体管SCT中的每一个可以是n型晶体管或p型晶体管。
由于每个子像素SP中的电路元件(具体地，发光元件ED)容易受到外部湿气或氧气的影响，所以可以在显示面板110中设置封装层ENCAP，以防止外部湿气或氧气渗透到电路元件(具体地，发光元件ED)中。封装层ENCAP可以设置为覆盖发光元件ED。
图4示出了根据本公开的实施方式的包括在显示面板110的显示区域DA中的三个区域NA、OA1和OA2中的子像素SP的布置。
参照图4，多个子像素SP可以设置在包括在显示区域DA中的正常区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个中。
多个子像素SP可以包括例如用于发出红光的红色子像素(红色SP)、用于发出绿光的绿色子像素(绿色SP)和用于发出蓝光的蓝色子像素(蓝色SP)。
因此，正常区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个可以包括一个或更多个红色子像素(红色SP)的一个或更多个发光区域EA、一个或更多个绿色子像素(绿色SP)的一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个蓝色子像素(蓝色SP)的一个或更多个发光区域EA。
正常区域NA可以不包括光透射结构，但是可以包括发光区域EA。
然而，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2需要包括发光区域EA和光透射结构两者。
因此，第一光学区域OA1可以包括发光区域EA和第一透射区域TA1，并且第二光学区域OA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2。
发光区域EA和透射区域TA1、TA2可以根据是否允许光的透射而不同。也就是说，发光区域EA可以不允许入射到发光区域EA的光透射到显示区域DA中，透射区域TA1、TA2可以是允许入射到透射区域TA1、TA2的光透射到显示区域DA中。
发光区域EA和透射区域TA1、TA2也可以根据是否包括特定金属层CE而不同。例如，阴极电极CE可以设置在发光区域EA中，并且阴极电极CE可以不设置在透射区域TA1、TA2中。此外，遮光层可以设置在发光区域EA中，并且遮光层可以不设置在透射区域TA1、TA2中。
由于第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1并且第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2，所以第一光学区域OA1和第二光学区域OA2两者都是光可以通过的区域。
在一个实施方式中，第一光学区域OA1的透射率(透射度)和第二光学区域OA2的透射率(透射度)可以基本相等。
在这种情况下，在一个示例中，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有基本相等的形状或尺寸。在另一示例中，即使在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有不同的形状或尺寸时，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的比率和第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的比率可以基本相等。
在另一实施方式中，第一光学区域OA1的透射率(光透射度)和第二光学区域OA2的透射率(光透射度)可以不同。
在这种情况下，在一个示例中，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有不同的形状或尺寸。在另一示例中，即使在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本上相等的形状或尺寸时，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的比率和第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的比率可以彼此不同。
例如，在与第一光学区域OA1交叠的第一光学电子装置11是相机并且与第二光学区域OA2交叠的第二光学电子装置12是用于检测图像的传感器的情况下，相机可能需要比传感器更多的光量。
因此，在这种情况下，第一光学区域OA1的透射率(光透射度)可以大于第二光学区域OA2的透射率(光透射度)。
此外，在这种情况下，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以具有大于第二光学区域OA2的第二透射区域TA2的尺寸。在另一示例中，即使在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本相等的尺寸时，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的比率可以大于第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的比率。
为了便于描述，基于第一光学区域OA1的透射率(光透射度)大于第二光学区域OA2的透射率(光透射度)的实施方式来进行以下讨论。
此外，如图4中所示的透射区域TA1、TA2可以称为透明区域，并且术语透射率可以称为透明度。
此外，在下面的讨论中，假设第一光学区域OA1和第二光学区域OA2位于显示面板110的显示区域DA的上边缘中，并且如图4所示，除非另有明确规定，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2被设置为彼此水平相邻(例如，在上边缘延伸的方向上设置)。
参照图4，设置有第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的水平显示区域被称为第一水平显示区域HA1，并且没有设置第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的另一水平显示区域被称为第二水平显示区域HA2。
参照图4，第一水平显示区域HA1可以包括正常区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。第二水平显示区域HA2可以仅包括正常区域NA。
图5A示出了根据本公开的实施方式的显示面板110中的第一光学区域OA1和正常区域NA中的每一个中的信号线的布置，并且图5B示出了根据本公开的实施方式的显示面板110中的第二光学区域OA2和正常区域NA中的每一个中的信号线的布置。
参照图5A和图5B，本公开的显示面板110中，图5A和图5B中所示的第一水平显示区域HA1与显示面板110的第一水平显示区域HA1的部分相对应，并且其中的第二水平显示区域HA2与显示面板110的第二水平显示区域HA2的部分相对应。
图5A中的第一光学区域OA1与显示面板110的第一光学区域OA1的一部分相对应，并且图5B中的第二光学区域OA2与显示面板110的第二光学区域OA2的一部分相对应。
参照图5A和图5B，第一水平显示区域HA1可以包括正常区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。第二水平显示区域HA2可以包括正常区域NA。
各种类型的水平线HL1、HL2和各种类型的垂直线VLn、VL1、VL2可以设置在显示面板110中。
在一些实施方式中，术语“水平”和术语“垂直”用于指与显示面板相交的两个方向；然而，应当注意，水平方向和垂直方向可以根据观看方向而改变。水平方向可以指例如一条选通线GL被设置为延伸的方向，并且垂直方向可以指例如一条数据线DL被设置为延伸的方向。因此，术语水平和术语垂直用于表示两个方向。
参照图5A和图5B，设置在显示面板110中的水平线可以包括设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2上的第二水平线HL2。
设置在显示面板110中的水平线可以是选通线GL。也就是说，第一水平线HL1和第二水平线HL2可以是选通线GL。根据一个或更多个子像素SP的结构，选通线GL可以包括各种类型的选通线。
参照图5A和图5B，设置在显示面板110中的垂直线可以包括仅设置在正常区域NA中的典型垂直线VLn、穿过第一光学区域OA1和正常区域NA两者的第一垂直线VL1、穿过第二光学区域OA2和正常区域NA两者的第二垂直线VL2。
设置在显示面板110中的垂直线可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等，并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。也就是说，典型垂直线VLn、第一垂直线VL1和第二垂直线VL2可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等，并且可以进一步包括参考电压线、初始化电压线等。
在一些实施方式中，应当注意，第二水平线HL2中的术语“水平”可仅意指信号从左侧传送到右侧(或从右侧传送到左侧)，并且可以不意指第二水平线HL2仅在笔直水平方向上以直线行进。例如，在图5A和图5B中，尽管第二水平线HL2以直线示出，但是第二水平线HL2中的一条或更多条可以包括与其构造不同的一个或更多个弯曲或折叠部分。同样，一条或更多条第一水平线HL1也可以包括一个或更多个弯曲或折叠部分。
在一些实施方式中，应当注意，典型垂直线VLn中的术语“垂直”可以仅意指信号从上部传送到下部(或从下部传送到上部)，并且可以不意指典型垂直线VLn仅在笔直垂直方向上以直线行进。例如，在图5A和图5B中，尽管典型垂直线VLn以直线示出，但是典型垂直线VLn中的一条或更多条可以包括与其构造不同的一个或更多个弯曲或折叠部分。同样，一条或更多条第一垂直线VL1和一条或更多条第二垂直线VL2也可以包括一个或更多个弯曲或折叠部分。
参照图5A，包括在第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1可以包括发光区域EA和第一透射区域TA1。在第一光学区域OA1中，第一透射区域TA1的各个外部区域可以包括对应发光区域EA。
参照图5A，为了提高第一光学区域OA1的透射率，第一水平线HL1可以通过避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1而穿过第一光学区域OA1。
因此，穿过第一光学区域OA1的每条第一水平线HL1可以包括围绕一个或更多个第一透射区域TA1的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平区域HA2中的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。也就是说，穿过第一光学区域OA1的第一水平线HL1和不穿过第一光学区域OA1的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。
此外，为了提高第一光学区域OA1的透射率，第一垂直线VL1可以通过避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1而穿过第一光学区域OA1。
因此，穿过第一光学区域OA1的每条第一垂直线VL1可以包括围绕一个或更多个第一透射区域TA1的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，穿过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1和设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1的典型垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。
参照图5A，包括在第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以沿对角方向布置。
参照图5A，在第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1中，一个或更多个发光区域EA可以设置在两个水平相邻的第一透射区域TA1之间。在第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1中，一个或更多个发光区域EA可以设置在两个垂直相邻的第一透射区域TA1之间。
参照图5A，设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1(即，穿过第一光学区域OA1的第一水平线HL1)各自可以包括围绕一个或更多个第一透射区域TA1的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
参照图5B，包括在第一水平区域HA1中的第二光学区域OA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2。在第二光学区域OA2中，第二透射区域TA2的各个外部区域可以包括对应发光区域EA。
在一个实施方式中，第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1基本上相同的位置和布置。
在另一实施方式中，如图5B中所示，第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。
例如，参照图5B，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以在水平方向(例如，从左至右方向或从右至左方向)上布置。发光区域EA可以不设置在沿水平方向彼此相邻的两个第二透射区域TA2之间。此外，第二光学区域OA2中的发光区域EA中的一个或更多个可以设置在沿垂直方向(例如，从上至下方向或从下至上方向)彼此相邻的第二透射区域TA2之间。也就是说，一个或更多个发光区域EA可以设置在两行第二透射区域之间。
当穿过第一水平区域HA1中的第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的正常区域NA时，在一个实施方式中，第一水平线HL1可以具有与图5A中的布置基本相同的布置。
在另一实施方式中，如图5B所示，当穿过第一水平区域HA1中的第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的正常区域NA时，第一水平线HL1可以具有与图5A不同的布置。
这是因为图5B中的第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2具有与图5A中的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。
参照图5B，当第一水平线HL1穿过第一水平区域HA1中的第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的正常区域NA时，第一水平线HL1可以在垂直相邻的第二透射区域TA2之间以直线行进而不具有弯曲或弯折部分。
换句话说，一条第一水平线HL1可以在第一光学区域OA1中具有一个或更多个弯曲或弯折部分，但在第二光学区域OA2中可以不具有弯曲或弯折部分。
为了提高第二光学区域OA2的透射率，第二垂直线VL2可以通过避开第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2而穿过第二光学区域OA2。
因此，穿过第二光学区域OA2的每条第二垂直线VL2可以包括围绕一个或更多个第二透射区域TA2的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。在该说明性示例中，第二垂直线VL2的部分可以基于绿色子像素来布线和成形。例如，透射区域TA2的形状可以具有基于绿色子像素的位置的凹入部分。
因此，穿过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2和设置在正常区域NA中而不穿过第二光学区域OA2的典型垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。
如图5A中所示，穿过第一光学区域OA1的每一条或一条或更多条第一水平线HL1可以具有围绕一个或更多个第一透射区域TA1的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的长度可以稍微比仅设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的长度更长。
因此，穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的电阻(称为第一电阻)可以稍微比仅设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的电阻(称为第二电阻)更大。
参照图5A和图5B，根据光透射结构，由于与第一光学电子装置11至少部分交叠的第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1，并且与第二光学电子装置12至少部分交叠的第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2，因此，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以具有比正常区域NA小的每单位面积的子像素数量。
因此，连接到穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条的子像素的数量可以与连接到仅设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条的子像素的数量不同。
连接到穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(称为第一数量)可以小于连接到仅设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(称为第二数量)。
第一数量和第二数量之间的差可以根据第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个的分辨率与正常区域NA的分辨率之间的差而变化。例如，随着第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个的分辨率与正常区域NA的分辨率之间的差增大，第一数量和第二数量之间的差可以增大。
如上所述，由于连接到穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(第一数量)小于连接到仅设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(第二数量)，第一水平线HL1和与第一水平线HL1相邻的一个或更多个其它电极或线交叠的面积可以小于第二水平线HL2和与第二水平线HL2相邻的一个或更多个其它电极或线交叠的面积。
因此，在第一水平线HL1和与第一水平线HL1相邻的一个或更多个其它电极或线之间形成的寄生电容(称为第一电容)可以大大小于在第二水平线HL2和与第二水平线HL2相邻的一个或更多个其它电极或线之间形成的寄生电容(称为第二电容)。
考虑第一电阻和第二电阻(第一电阻≥第二电阻)之间的大小关系以及第一电容和第二电容(第一电容<第二电容)之间的大小关系，穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的阻容(RC)值(称为第一RC值)可以大大小于仅设置在正常区域NA中而不穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的RC值(称为第二RC值)，即，导致第一RC值<第二RC值。
由于第一水平线HL1的第一RC值和第二水平线HL2的第二RC值之间的这种差(称为RC负载差异)，通过第一水平线HL1的信号传输特性可以与通过第二水平线HL2的信号传输特性不同。
图6是根据本公开的实施方式的显示面板110的光学区域OA的截面图。
参照图6，根据本公开的实施方式的显示面板110的光学区域OA可以包括发光区域EA、第一透射区域TA1和第二透射区域TA2。
光学区域OA中的发光区域EA可以具有与正常区域NA中的发光区域EA相同的层叠结构。
基板SUB可以包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2。层间绝缘层IPD可以位于第一基板SUB1和第二基板SUB2之间。由于基板SUB包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2，因此基板SUB可以防止湿气的渗透。第一基板SUB1和第二基板SUB2可以是例如聚酰亚胺(PI)基板。第一基板SUB1可以被称为主PI基板，并且第二基板SUB2可以被称为次PI基板。
用于设置诸如驱动晶体管DRT等的一个或更多个晶体管的各种类型的图案ACT、SD1、GATE，各种类型的绝缘层MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0以及各种类型的金属图案TM、GM、ML1、ML2可以设置在发光区域EA中的基板SUB上方。
多缓冲层MBUF可以设置在第二基板SUB2上，第一有源缓冲层ABUF1可以设置在多缓冲层MBUF上。
第一金属层ML1和第二金属层ML2可以设置在第一有源缓冲层ABUF1上。第一金属层ML1和第二金属层ML2可以是例如用于遮蔽光的遮光层LS。
第二有源缓冲层ABUF2可以设置在第一金属层ML1和第二金属层ML2上。驱动晶体管DRT的有源层ACT可以设置在第二有源缓冲层ABUF2上。
栅极绝缘层GI可以设置为覆盖有源层ACT。
驱动晶体管DRT的栅电极GATE可以设置在栅极绝缘层GI上。在这种情况下，栅极材料层GM可以与驱动晶体管DRT的栅电极GATE一起设置在栅极绝缘层GI上与设置有驱动晶体管DRT的位置不同的位置处。
第一层间绝缘层ILD1可以设置为覆盖栅电极GATE和栅极材料层GM。金属图案TM可以设置在第一层间绝缘层ILD1上。金属图案TM可以位于与形成驱动晶体管DRT的位置不同的位置。第二层间绝缘层ILD2可以设置为覆盖第一层间绝缘层ILD1上的金属图案TM。
两个第一源-漏电极图案SD1可以设置在第二层间绝缘层ILD2上。两个第一源-漏电极图案SD1中的一个可以是驱动晶体管DRT的源极节点，并且另一个可以是驱动晶体管DRT的漏极节点。
两个第一源-漏电极图案SD1可以通过形成在第二层间绝缘层ILD2、第一层间绝缘层ILD1和栅极绝缘层GI中的接触孔分别电连接到有源层ACT的第一侧部和第二侧部。
有源层ACT的与栅电极GATE交叠的部分可以是沟道区域。两个第一源-漏电极图案SD1中的一个可以连接到有源层ACT的沟道区域的第一侧部，并且两个第一源-漏电极图案SD1中的另一个可以连接到有源层ACT的沟道区域的第二侧部。
钝化层PAS0被设置为覆盖两个第一源-漏电极图案SD1。平坦化层PLN可以设置在钝化层PAS0上。平坦化层PLN可以包括第一平坦化层PLN1和第二平坦化层PLN2。
第一平坦化层PLN1可以设置在钝化层PAS0上。
第二源-漏电极图案SD2可以设置在第一平坦化层PLN1上。第二源-漏电极图案SD2可以通过形成在第一平坦化层PLN1中的接触孔连接到两个第一源-漏电极图案SD1中的一个。
第二平坦化层PLN2可以设置为覆盖第二源-漏电极图案SD2。发光元件ED可以设置在第二平坦化层PLN2上。
观看发光元件ED的层叠结构，阳极电极AE可以设置在第二平坦化层PLN2上。阳极电极AE可以通过第二平坦化层PLN2中的接触孔电连接到第二源-漏电极图案SD2。
堤部BANK可以设置为覆盖阳极电极AE的一部分。与子像素SP的发光区域EA相对应的堤部BANK的一部分可以开口。
阳极电极AE的一部分可以通过堤部BANK的开口(开口部分)暴露。发光层EL可以定位在堤部BANK的侧表面上和堤部BANK的开口(开口部分)中。发光层EL的全部或至少一部分可以定位在相邻堤部之间。
在堤部BANK的开口中，发光层EL可以接触阳极电极AE。阴极电极CE可以设置在发光层EL上。
如上所述，发光元件ED可以通过包括阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE来形成。发光层EL可以包括有机层。
覆盖层CPL可以设置在发光元件ED上方以提高光提取并保护发光元件ED。覆盖层CPL可以由具有低分子结构的有机材料构成。
封装层ENCAP可以设置在覆盖层CPL上。封装层ENCAP可以具有单层结构或多层结构。例如，封装层ENCAP可以包括第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2。
第一封装层PAS1和第三封装层PAS2可以是无机层，第二封装层PCL可以是例如有机层。在第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2中，第二封装层PCL可以是最厚的并且用作平坦化层。
第一封装层PAS1可以设置在阴极电极CE上，并且可以设置为最靠近发光元件ED。第一封装层PAS1可以包括能够使用低温沉积来沉积的无机绝缘材料。例如，第一封装层PAS1可以包括但不限于氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)等。由于第一封装层PAS1可以在低温气氛中沉积，因此在沉积工艺期间，第一封装层PAS1可以防止包括易受高温气氛影响的有机材料的发光层EL受到损坏。
第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1小的面积。在这种情况下，第二封装层PCL可以设置为暴露第一封装层PAS1的两端或边缘二者。第二封装层PCL可以用作用于在显示装置100弯曲或弯折时释放对应层之间的应力的缓冲器，并且还用于增强平坦化性能。例如，第二封装层PCL可以包括诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯、碳氧化硅(SiOC)等的有机绝缘材料。第二封装层PCL可以例如使用喷墨方案来设置。
第三封装层PAS2可以设置在基板SUB上方，基板SUB上方设置有第二封装层PCL，以覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。第三封装层PAS2可以最小化或防止外部湿气或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。例如，第三封装层PAS2可以包括诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)等的无机绝缘材料。
接下来，将描述第一透射区域TA1的层叠结构。
阴极电极CE可以设置在发光区域EA中，但是可以不设置在第一透射区域TA1中。也就是说，第一透射区域TA1可以与阴极电极CE的开口相对应。
此外，包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一个的遮光层LS可以设置在发光区域EA中，但是可以不设置在第一透射区域TA1中。也就是说，第一透射区域TA1可以与遮光层LS的开口相对应。
设置在发光区域EA中的基板SUB1、SUB2和各种类型的绝缘层MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)可以相同地、基本上相同地或类似地设置在第一透射区域TA1中。
在这种情况下，形成在第一透射区域TA1中的堤部BANK可以被打开以具有开口。另选地，当堤部BANK由透明材料制成时，其可以形成在与发光区域EA类似的恒定高度。
本公开的显示面板110可以在堤部BANK的表面上形成具有特定尺寸的凹槽和凹陷区域中的至少一个的雕刻图案，以提高堤部BANK与其上层之间的接合力。
另外，可以在堤部BANK的上部上形成能够提高光透射率的阴极图案化材料CPM。阴极图案化材料CPM可以由有机材料构成，并且可以使用精细金属掩模(FMM)沉积以覆盖第一透射区域TA1的至少一部分。
阴极图案化材料CPM可以用于提高透射区域TA的光透射率并高效地使形成在发光区域EA中的阴极电极CE图案化。
也就是说，在使用精细金属掩模(FMM)在透射区域TA中形成阴极图案化材料CPM之后，通过使用开口金属掩模(OMM)在发光区域EA中沉积阴极电极CE，可以在除了阴极图案化材料CPM之外的发光区域EA中高效地形成阴极电极CE。因此，阴极图案化材料CPM和阴极电极CE可以位于同一平面上。
此时，阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL由不同类型的有机材料制成。因此，当阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL长时间暴露于高温或高湿度环境时，阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL之间的表面可能分离或分层。
然而，如果如本公开的显示装置100中那样以具有特定形状的雕刻图案形成堤部BANK的表面，则由于沉积在堤部BANK的表面上的阴极图案化材料CPM在沉积工艺期间流入堤部BANK的图案的内部，所以接触面积可以增大并且接合力可以增大。
覆盖层CPL可以设置在阴极图案化材料CPM上以保护第一透射区域TA1。覆盖层CPL可以由具有低分子结构的有机材料构成。
此时，由于阴极图案化材料CPM的厚度较薄，因此覆盖层CPL和阴极图案化材料CPM之间的界面面积可以通过形成在堤部BANK的表面上的图案而增大，使得接合力也可以增大。
结果，减少了阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL分层的现象，并且可以减少显示装置100的缺陷。
另一方面，设置在发光区域EA中的除了绝缘材料之外的具有电学性质的材料层(例如，金属材料层、半导体层等)可以不设置在第一透射区域TA1中。
例如，与至少一个晶体管和半导体层ACT相关的金属材料层ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2可以不设置在第一透射区域TA1中。
此外，包括在发光元件ED中的阳极电极AE和阴极电极CE可以不设置在第一透射区域TA1中。在这种情况下，应当注意，发光元件ED的发光层EL可以或可以不设置在第一透射区域TA1中。
因此，由于具有电学特性的材料层(例如，金属材料层、半导体层等)未设置在第一透射区域TA1中，可以提高第一透射区域TA1的光透射率。因此，第一光学电子装置11可以接收透过第一透射区域TA1的光并执行对应功能(例如，图像感测)。
由于第一透射区域TA1的全部或一部分与第一光学电子装置11交叠，第一透射区域TA1应当具有使通过第一光学电子装置11接收的入射光能够正常操作的透射率。
为此，在根据本公开的实施方式的显示装置100的显示面板110中，可以向第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1提供透射率提高结构(TIS)。
包括在显示面板110中的多个绝缘层可以包括至少一个基板SUB1、SUB2和至少一个晶体管DRT、SCT之间的缓冲层MBUF、ABUF1、ABUF2，晶体管DRT和发光元件ED之间的平坦化层PLN1、PLN2，发光元件ED上的封装层ENCAP等。
第一透射区域TA1可以具有第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0具有从其相应表面向下延伸的凹陷部分的结构，作为透射率提高结构(TIS)。
在多个绝缘层中，第一平坦化层PLN1可以包括至少一个凹陷(或凹入、沟槽、凹部、突起等)。第一平坦化层PLN1可以是例如有机绝缘层。
在第一平坦化层PLN1具有从其表面向下延伸的凹陷部分的情况下，第二平坦化层PLN2可以基本上用于平坦化。在一个实施方式中，第二平坦化层PLN2还可以具有从其表面向下延伸的凹陷部分。在这种情况下，第二封装层PCL可以基本上用于平坦化。
第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0的凹陷部分可以穿过用于形成晶体管DRT的诸如第一层间绝缘层ILD、第二层间绝缘层ILD2、栅极绝缘层GI等的绝缘层以及位于绝缘层下方的诸如第一有源缓冲层ABUF1、第二有源缓冲层ABUF2、多缓冲层MBUF等的缓冲层，并且延伸至第二基板SUB2的上部。
基板SUB可以包括至少一个凹部或凹陷部分作为透射率提高结构(TIS)。例如，在第一透射区域TA1中，第二基板SUB2的上部可以向下凹进或凹陷，或者第二基板SUB2可以被穿孔。
包括在封装层ENCAP中的第一封装层PAS1和第二封装层PCL还可以具有透射率提高结构(TIS)，其中第一封装层PAS1和第二封装层PCL具有从其相应表面向下延伸的凹陷部分。第二封装层PCL可以是例如有机绝缘层。
接下来，将描述第二透射区域TA2的层叠结构。
阴极电极CE可以设置在发光区域EA中，但是可以不设置在第二透射区域TA2中。也就是说，第二透射区域TA2可以与阴极电极CE的开口相对应。
此外，包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一个的遮光层LS可以设置在发光区域EA中，但是可以不设置在第二透射区域TA2中。也就是说，第二透射区域TA2可以与遮光层LS的开口相对应。
当第二透射区域TA2的透射率和第一透射区域TA1的透射率相同时，第二透射区域TA2的层叠结构可以与第一透射区域TA1的层叠结构相同。
当第二透射区域TA2的透射率和第一透射区域TA1的透射率不同时，第二透射区域TA2的层叠结构可以至少一部分与第一透射区域TA1的层叠结构不同。
例如，当第二透射区域TA2的透射率低于第一透射区域TA1的透射率时，第二透射区域TA2可以不具有透射率提高结构(TIS)。结果，第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0可以不凹进或凹陷。此外，第二透射区域TA2的宽度可以小于第一透射区域TA1的宽度。
设置在发光区域EA中的基板SUB和各种类型的绝缘层MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)可以相同地、基本相同地或类似地设置在第二透射区域TA2中。
在这种情况下，形成在第二透射区域TA2中的堤部BANK可以被打开以具有开口。另选地，当堤部BANK由透明材料制成时，其可以形成在与发光区域EA类似的恒定高度。
本公开的显示面板110可以在堤部BANK的表面上形成具有特定尺寸的凹槽和凹陷区域中的至少一个的雕刻图案，以提高堤部BANK与其上层之间的接合力。
另外，可以在堤部BANK的上部上形成能够提高光透射率的阴极图案化材料CPM。阴极图案化材料CPM可以沉积在与第二透射区域TA2相对应的部分中。
这样，当在堤部BANK的表面上形成具有特定尺寸的图案时，因为阴极图案化材料CPM在沉积工艺期间流入堤部BANK的图案中，所以接触面积和接合力可以增大。
覆盖层CPL可以设置在阴极图案化材料CPM上以保护第二透射区域TA2。覆盖层CPL可以由具有低分子结构的有机材料构成。
此时，由于阴极图案化材料CPM的厚度较薄，因此覆盖层CPL和阴极图案化材料CPM之间的接合力可以通过形成在堤部BANK的表面上的图案而增大。
结果，减少了阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL分层的现象，并且可以减少显示装置100的缺陷。
另一方面，设置在发光区域EA中的除绝缘材料之外的具有电学性质的材料层(例如，金属材料层、半导体层等)可以不设置在第二透射区域TA2中。
例如，与至少一个晶体管和半导体层ACT相关的金属材料层ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2可以不设置在第二透射区域TA2中。
此外，包括在发光元件ED中的阳极电极AE和阴极电极CE可以不设置在第二透射区域TA2中。在这种情况下，应当注意，发光元件ED的发光层EL可以或可以不设置在第二透射区域TA2中。
图7A和图7B示出了根据本公开的实施方式的显示面板110的光学区域OA中的与发光元件ED相对应的区域的放大视图。
参照图7A，根据本公开的实施方式的显示面板110中的光学区域OA可以包括发光区域EA和透射区域TA。
发光区域EA可以包括形成在平坦化层PLN上的阳极电极AE、形成在阳极电极AE上的多个发光层EL以及在与多个发光层EL交叠的同时形成在发光层EL上的阴极电极CE。
阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE形成发光元件ED，并且根据发光层EL是有机发光层还是无机发光层，发光元件ED可以是有机发光元件或无机发光元件。
形成在发光区域EA中的阳极电极AE连接到驱动晶体管以接收电信号。
发光层EL可以包括蓝色发光层EL1、绿色发光层EL2和红色发光层EL4，并且还可以包括白色发光层。每个发光层EL可以在相同行中彼此平行，但是可以沿对角方向设置或者可以以彼此不同的布置来设置。虽然每个发光层EL被示出为具有相同的尺寸，但是发光层EL不限于此。并且，发光层EL可以根据显示装置100的特性以不同的尺寸形成。
尽管发光层EL的形状被示出为四边形，但其不限于此，并且可以具有非矩形多边形或椭圆形形状，或者圆角的至少一部分。在一些情况下，发光层EL的角部可以以预定间隔彼此相邻布置。
此外，可以在与发光区域EA相邻的透射区域TA中设置堤部BANK以限定区域。堤部BANK可以与阳极电极AE的边缘部分交叠。
另外，还可以在发光层EL和阳极电极AE之间设置空穴注入层HIL和将从阳极电极AE移动的空穴传输到发光层EL的空穴传输层HTL，其中通过空穴和电子的复合实现实质性的发光。
另外，还可以在发光层EL和阴极电极CE之间设置电子注入层EIL和用于将从阴极电极CE移动的电子传输到发光层EL的电子传输层ETL。
电子注入层EIL可以不包含有机材料，并且可以由诸如碱性化合物之类的无机化合物或镧金属制成，并且可以在形成阴极电极CE的过程中一起形成。
可以省略空穴注入层HIL和电子注入层EIL，并且在一些情况下，空穴传输层HTL和电子传输层ETL可以分别通过提供不同的功能而形成为多个层。
堤部BANK形成在透射区域TA中，其中发光层EL不形成在光学区域OA中。发光区域EA可以被定义为堤部BANK的开口区域。堤部BANK可以设置为覆盖阳极电极AE的一部分，并且可以由用于透射区域TA的光透射的透明材料形成。
为了提高堤部BANK和在其上形成的层之间的接合力，可以在堤部BANK的表面上形成具有特定尺寸的凹槽和凹陷区域中的至少一个的雕刻图案。
当空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、电子注入层EIL和电子传输层ETL形成为覆盖发光区域EA时，空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、电子注入层EIL和电子传输层ETL可以依次层叠在具有形成在其表面上的图案的堤部BANK的顶部上。
在这种情况下，由于空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、电子注入层EIL和电子传输层ETL较薄，所以它们可以沿着形成在堤部BANK顶部上的图案形成。
另外，可以在堤部BANK上方形成能够提高光透射率的阴极图案化材料CPM。阴极图案化材料CPM可以由有机材料形成，并且可以使用精细金属掩模(FMM)沉积以覆盖第一透射区域TA1的至少一部分。
阴极图案化材料CPM可以用于提高透射区域TA的光透射率，并高效地使形成在发光区域EA中的电子注入层EIL和阴极电极CE图案化。
例如，在使用精细金属掩模(FMM)在透射区域TA中形成阴极图案化材料CPM之后，可以使用开口金属掩模(OMM)高效地形成电子注入层EIL和阴极电极CE。
在这种情况下，阴极图案化材料CPM可以设置在与电子注入层EIL相同的层上。阴极图案化材料CPM的厚度可以与电子注入层EIL的厚度相对应，或者可以与电子注入层EIL和阴极电极CE的组合厚度相对应。
另选地，如图7B所示，可以在发光区域EA和透射区域TA上形成电子注入层EIL，并且可以使用精细金属掩模(FMM)在透射区域TA中形成阴极图案化材料CPM。
然后，可以使用开口金属掩模(OMM)在发光区域EA中高效地形成阴极电极CE。
在这种情况下，阴极图案化材料CPM可以设置在与阴极电极CE相同的层上，并且阴极图案化材料CPM的厚度可以与阴极电极CE的厚度相对应。
此时，由于堤部BANK的表面形成为特定形状的雕刻图案，所以在沉积工艺中，沿着堤部BANK的表面沉积的阴极图案化材料CPM流入堤部BANK的内部图案。因此，可以增大接触面积并且可以增大接合力。
覆盖层CPL可以设置在阴极图案化材料CPM上方以保护第一透射区域TA1。覆盖层CPL可以由具有低分子结构的有机材料形成。
此时，由于阴极图案化材料CPM的厚度较薄，因此覆盖层CPL和阴极图案化材料CPM之间的接合力也通过形成在堤部BANK的表面上的图案而增加。
结果，减少了阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL的分层现象，并且可以减少显示装置100的缺陷。
封装层ENCAP形成在覆盖层CPL上以防止水分从外部渗透并保护下发光元件ED和薄膜晶体管。
在本公开的显示装置100中，形成在光学区域OA的透射区域TA中的堤部BANK的上表面上的图案可以具有各种形状，并且可以以各种方式确定凹形图案的位置。
具体地，堤部BANK的图案可以根据在堤部BANK上方形成的阴极图案化材料CPM的面积和位置以各种方式确定。
图8至图10示出了根据本公开的实施方式的显示装置中的光学区域的透射区域中形成的堤部图案和阴极图案化材料的结构的平面视图。
首先，参照图8，根据本公开的实施方式的显示装置100中与光学电子装置交叠的光学区域OA可以被划分为设置有彩色子像素SP的发光区域EA和形成有堤部BANK的透射区域TA。堤部BANK是用于传输光的透射层TL之一。
具有特定尺寸的凹槽的堤部图案BANK Pattern可以形成在透射区域TA中的堤部BANK的表面上。在这种情况下，随着堤部图案BANK Pattern的深度增加，与阴极图案化材料CPM接触的面积增加，但是优选不暴露下第二平坦化层PLN2。因此，凹槽的高度(h2)小于凹陷区域的高度(h1)。
堤部图案BANK Pattern可以以任意形状布置在堤部BANK所在的整个区域内彼此隔开的位置处。堤部图案BANK Pattern可以以对称结构形成或者可以以不连续结构形成。
此时，堤部图案BANK Pattern的深度可以全部相同，或者一些堤部图案BANKPattern的深度可以不同于其它堤部图案BANK Pattern的深度。
这里，作为示例，示出了以八边形或椭圆形结构形成堤部图案BANK Pattern的情况，但是堤部图案BANK Pattern可以以诸如圆形或正方形的各种图形的形状形成。
然而，为了增加与上阴极图案化材料CPM或覆盖层CPL的接合力，以五边形或更多的多边形结构形成堤部图案BANK Pattern可以是有效的。
由于当堤部图案BANK Pattern形成为圆形形状时边界部分的流动性增加，因此可以减轻阴极图案化材料CPM或覆盖层CPL的接合力。另外，根据实验测量，当堤部图案BANKPattern形成为五边形或更多的多边形结构而不是少于正方形的堤部图案BANK Pattern时，证实减少了阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL之间的分层分离。也就是说，在形成具有五边形或更多的多边形结构的堤部图案BANK Pattern的情况下，可以看出，由于边界部分的流动性降低并且与阴极图案化材料CPM或覆盖层CPL的接触面积增答，所以阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL之间的分层现象减少。
能够提高光透射率的阴极图案化材料CPM可以形成在具有堤部图案BANK Pattern的堤部BANK上方，并且阴极图案化材料CPM可以沉积以覆盖透射区域TA的至少一部分。
例如，阴极图案化材料CPM可以在透射区域TA的中央部分中形成为矩形形状。
因此，形成在堤部BANK的上表面上的堤部图案BANK Pattern中的一些可以与阴极图案化材料CPM接触，并且剩余部分可以不与阴极图案化材料CPM接触。
不与阴极图案化材料CPM接触的堤部图案BANK Pattern可以与覆盖层CPL接触。
此时，优选地，与阴极图案化材料CPM接触的堤部图案BANK Pattern为阴极图案化材料CPM所占用的面积的20％或更多，以便于增大与阴极图案化材料CPM的接合力。
另一方面，当由堤部图案BANK Pattern占用的面积等于由阴极图案化材料CPM占用的面积(100％)时，其可能削弱堤部图案BANK图案和阴极图案化材料CPM之间的接合力。因此，优选地，由堤部图案BANK Pattern占用的面积为由阴极图案化材料CPM占用的面积的90％或更少。参照图9，根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括能够提高在其中形成有多个堤部图案BANK Pattern的堤部BANK上方的光透射率的阴极图案化材料CPM。
在这种情况下，可以沉积阴极图案化材料CPM以覆盖透射区域TA的大部分。例如，当透射区域TA具有四边形结构时，阴极图案化材料CPM可以形成为覆盖透射区域TA的大部分的四边形形状。
因此，形成在堤部BANK的上表面上的多个堤部图案BANK Pattern的全部可以与阴极图案化材料CPM接触。
即使在这种情况下，优选地，与阴极图案化材料CPM接触的堤部图案BANK Pattern具有由阴极图案化材料CPM占用的面积的20％或更大的面积，以便于增大与阴极图案化材料CPM的接合力。
参照图10，根据本公开的实施方式的显示装置100可以提供能够提高在其上形成有一个堤部图案BANK Pattern的堤部BANK上方的光透射率的阴极图案化材料CPM。
在这种情况下，可以沉积阴极图案化材料CPM以覆盖透射区域TA的大部分。例如，当透射区域TA具有四边形结构时，阴极图案化材料CPM可以形成为覆盖透射区域TA的大部分的四边形形状。
因此，形成在堤部BANK的上表面上的一个堤部图案BANK Pattern可以与阴极图案化材料CPM接触。
即使在这种情况下，优选地，与阴极图案化材料CPM接触的堤部图案BANK Pattern具有由阴极图案化材料CPM占用的面积的20％或更大的面积，以便于增大与阴极图案化材料CPM的接合力。
图11A和图11B示出了在根据本公开的实施方式的显示装置中将在光学区域的透射区域中形成堤部图案的情况和未形成堤部图案的情况进行比较的截面照片。
参照图11A和图11B，在光学区域OA的透射区域TA中形成在堤部BANK上方的阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL可以由不同系列的有机材料制成。因此，当长时间暴露于高温或高湿度环境时，阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL之间的表面可能分离或分层(图11A的情况)。
然而，当如本公开的显示装置100中那样以具有特定形状的雕刻图案形成堤部BANK的表面时，由于沉积在堤部BANK的表面上的阴极图案化材料CPM在沉积工艺期间流入堤部BANK的图案的内部，所以其可以具有较宽的接触面积和较大的接合力。
结果，可以减少阴极图案化材料CPM和覆盖层CPL分层的现象，并且可以减少显示装置100的缺陷(图11B的情况)。
以上描述的本公开的实施方式的简要描述如下。
根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括显示面板110，在该显示面板110中，在显示区域DA中形成光学区域OA和正常区域NA，该光学区域OA被划分为透射区域TA和发光区域EA，该正常区域NA包括在光学区域OA外部的多个发光区域EA；选通驱动电路120，其被配置为向显示面板110提供选通信号；数据驱动电路130，其被配置为将图像数据转换为数据电压并将其提供给显示面板110；以及显示控制器140，其被配置为控制选通驱动电路120和数据驱动电路130，其中，透射区域TA包括：堤部BANK，该堤部BANK划分所述发光区域EA并包括形成在上表面上的堤部图案BANK Pattern；阴极图案化材料CPM，其被形成为覆盖堤部BANK的至少一部分；以及覆盖层CPL，其形成在阴极图案化材料CPM上。
堤部BANK可以由透明材料制成。
堤部图案BANK Pattern可以形成为雕刻结构的凹槽。
堤部图案BANK Pattern可以形成为多于五边形的多边形结构。
堤部图案BANK Pattern可以由彼此间隔开的多个图案形成。
多个图案可以以对称结构布置。
多个图案中的至少一部分可以被设置为与阴极图案化材料CPM交叠。
设置为与阴极图案化材料CPM交叠的图案的面积可以占用形成阴极图案化材料CPM的整个面积的20％以上90％以下。
阴极图案化材料CPM可以形成为覆盖全部多个图案。
阴极图案化材料CPM可以是使用精细金属掩模沉积的有机材料。
发光区域EA可以包括阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE，其中，阴极图案化材料CPM可以形成在与阴极电极CE相同的层上。
发光区域EA可以包括阳极电极AE、空穴注入层HIL、空穴传输层HTL、发光层EL、电子传输层ETL、电子注入层EIL和阴极电极CE，其中，阴极图案化材料CPM可以形成在与电子注入层EIL相同的层上。
另外，根据本公开的实施方式的显示面板110可以包括：光学区域OA，该光学区域OA被划分为透射区域TA和发光区域EA；以及正常区域NA，该正常区域NA在显示区域DA中包括位于光学区域OA外部的多个发光区域EA；其中，透射区域TA可以包括：堤部BANK，该堤部BANK划分发光区域EA并且包括形成在上表面上的堤部图案BANK Pattern；阴极图案化材料CPM，其被形成为覆盖堤部BANK的至少一部分；以及覆盖层CPL，其形成在阴极图案化材料CPM上。
以上描述是为了使本领域技术人员能够实现和使用本发明的技术思想而提出的，并且是在特定应用及其要求的上下文中提供的。对所描述的实施方式的各种修改、添加和替换对于本领域技术人员将是显而易见的，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本文定义的一般原理可以应用于其它实施方式和应用。以上描述和附图仅出于说明性目的提供了本发明的技术思想的示例。也就是说，所公开的实施方式旨在例示本发明的技术思想的范围。因此，本发明的范围不限于所示的实施方式，而是符合与权利要求一致的最宽范围。本发明的保护范围应当基于以下权利要求来解释，并且在其等同范围内的所有技术思想应当被解释为包括在本发明的范围内。
本公开的说明性方面包括：
方面1.一种显示装置，包括：显示面板，该显示面板包括发光区域和用于将光传送到设置在所述显示面板下方的传感器的透射区域，其中，所述透射区域包括：用于传送光并具有非平面顶表面的透射层；以及阴极图案化材料，其形成为覆盖所述透射层的所述非平面顶表面。
方面2.根据方面1所述的显示装置，其中，所述透射层包括用于增大所述透射层的表面积的至少一个凹陷区域。
方面3.根据方面1至2中任一项所述的显示装置，其中，所述透射层包括具有第一形状的至少一个第一凹陷区域和具有与所述第一形状不同的第二形状的至少一个第二凹陷区域。
方面4.根据方面1至3中任一项所述的显示装置，其中，所述非平面顶表面包括所述透射层的具有第一高度的一部分和所述透射层的具有比所述第一高度小的第二高度的一部分。
方面5.根据方面1至4中任一项所述的显示装置，所述显示装置还包括：多条数据线，所述多条数据线在第一方向上定向；多条扫描线，所述多条扫描线在与所述第一方向不同的第二方向定向，所述透射区域内的扫描线或数据线包括绕过至少一个透射部分的非线性区域。
方面6.根据方面1至5中任一项所述的显示装置，其中，与和所述透射区域相交的扫描线或数据线相关联的信号传输特性不同于与不与所述透射区域相交的扫描线或数据线相关联的信号传输特性。
方面7.根据方面1至6中任一项所述的显示装置，其中，所述透射区域还包括形成在所述阴极图案化材料上的覆盖层。
方面8.根据方面1至7中任一项所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料覆盖所述透射区域的一部分，并且其中，所述覆盖层覆盖整个透射区域。
方面9.根据方面1至8中任一项所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料设置在所述至少一个凹陷区域的单个凹陷区域的顶表面上。
方面10.根据方面1至9中任一项所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料包括与所述透射层的所述至少一个凹陷区域相对应的至少一个凹陷区域，并且其中，所述覆盖层是平面的并且填充所述阴极图案化材料的所述至少一个凹陷区域。
方面11.根据方面1至10中任一项所述的显示装置，其中，所述透射区域包括第一透射区域和第二透射区域，并且其中，相比于所述第二透射区域，所述第一透射区域被配置为使更多的光经过并进入所述显示面板。
方面12.一种显示装置，包括：显示面板，该显示面板包括发光区域和用于将光传送到设置在所述显示面板下方的传感器的透射区域，其中，所述透射区域包括：透射层，该透射层用于传送光并具有第一凹陷区域，其中，所述第一凹陷区域设置在所述透射区域的中央。
方面13.根据方面12所述的显示装置，所述显示装置还包括以将阴极图案化材料接合到所述透射层的形式形成在所述透射层上的所述阴极图案化材料。
方面14.根据方面12至13中任一项所述的显示装置，其中，所述透射层还包括设置在所述透射区域的角部处的第二凹陷区域。
方面15.根据方面12至14中任一项所述的显示装置，其中，所述透射层还包括设置在所述透射区域的横向边缘处的第三凹陷区域。
方面16.根据方面12至15中任一项所述的显示装置，其中，所述第三凹陷区域的形状与所述第二凹陷区域的形状不同。
方面17.根据方面12至16中任一项所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料形成为覆盖所述第一凹陷区域并暴露所述第二凹陷区域。
方面18.根据方面12至17中任一项所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料形成为覆盖所述第一凹陷区域和所述第二凹陷区域。
方面19.根据方面12至18中任一项所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料的尺寸小于所述透射区域的尺寸。
方面20.根据方面12至19中任一项所述的显示装置，其中，所述透射区域还包括形成在所述阴极图案化材料上方的覆盖层。
相关申请的交叉引用
本专利申请要求2021年12月31日向韩国知识产权局提交的申请号为10-2021-0194138的韩国专利申请的优先权权益，通过引用将其整体并入本文。

Claims (20)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
显示面板，所述显示面板包括发光区域和用于将光传送到设置在所述显示面板下方的传感器的透射区域，
其中，所述透射区域包括：
透射层，所述透射层用于传送光并具有非平面顶表面；以及
阴极图案化材料，所述阴极图案化材料形成为覆盖所述透射层的所述非平面顶表面。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述透射层包括用于增大所述透射层的表面积的至少一个凹陷区域。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述透射层包括具有第一形状的至少一个第一凹陷区域和具有与所述第一形状不同的第二形状的至少一个第二凹陷区域。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述非平面顶表面包括所述透射层的具有第一高度的一部分和所述透射层的具有比所述第一高度小的第二高度的一部分。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述透射区域还包括形成在所述阴极图案化材料上的覆盖层。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料覆盖所述透射区域的一部分，并且其中，所述覆盖层覆盖整个透射区域。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料设置在所述至少一个凹陷区域的单个凹陷区域的顶表面上。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料包括与所述透射层的所述至少一个凹陷区域相对应的至少一个凹陷区域，并且其中，所述覆盖层是平面的并且填充所述阴极图案化材料的所述至少一个凹陷区域。
9.根据权利要求4所述的显示装置，所述显示装置还包括：
多条数据线，所述多条数据线在第一方向上定向；
多条扫描线，所述多条扫描线在与所述第一方向不同的第二方向上定向，所述透射区域内的扫描线或数据线包括绕过至少一个透射部分的非线性区域。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其中，与和所述透射区域相交的扫描线或数据线相关联的信号传输特性不同于与不和所述透射区域相交的扫描线或数据线相关联的信号传输特性。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述透射区域包括第一透射区域和第二透射区域，并且其中，相比于所述第二透射区域，所述第一透射区域被配置为使更多的光经过并进入所述显示面板。
12.一种显示装置，所述显示装置包括：
显示面板，所述显示面板包括发光区域和用于将光传送到设置在所述显示面板下方的传感器的透射区域，
其中，所述透射区域包括：
透射层，所述透射层用于传送光并具有第一凹陷区域，其中，所述第一凹陷区域设置在所述透射区域的中央。
13.根据权利要求12所述的显示装置，所述显示装置还包括以将阴极图案化材料接合到所述透射层的形式形成在所述透射层上的所述阴极图案化材料。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述透射层还包括设置在所述透射区域的角部处的第二凹陷区域。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述透射层还包括设置在所述透射区域的横向边缘处的第三凹陷区域。
16.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述第三凹陷区域的形状与所述第二凹陷区域的形状不同。
17.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料形成为覆盖所述第一凹陷区域并暴露所述第二凹陷区域。
18.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料形成为覆盖所述第一凹陷区域和所述第二凹陷区域。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中，所述阴极图案化材料的尺寸小于所述透射区域的尺寸。
20.根据权利要求19所述的显示装置，其中，所述透射区域还包括形成在所述阴极图案化材料上方的覆盖层。
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CN110491917A (zh) * 2019-08-09 2019-11-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及电子设备
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