CN116364641A - 起模针组件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种起模针组件,更详细来说涉及一种即便在基座进行升降以引入及导出基板的情况下也可防止起模针的下端部与腔室的基底接触且防止产生颗粒及摩擦静电的起模针组件。
Description
技术领域
本发明涉及一种起模针(liftpin)组件,更详细来说涉及一种即便在基座进行升降以引入及导出基板的情况下也可防止起模针的下端部与腔室的基底接触且防止产生颗粒及摩擦静电的起模针组件。
背景技术
通常在基板处理装置的腔室内侧布置基座以对引入到腔室的内侧的基板进行支撑。
图7是示出根据以往技术的在腔室的内侧基座40的动作的侧面图。如图7所示,在以往技术中,起模针30贯通基座40的针孔42进行布置。
在此种情况,为了向腔室的内侧引入基板S使基座40下降。在基座40下降的同时起模针30的下端部与腔室的基底15接触。之后,如果使基座40进一步下降,则起模针30的上端部从基座40突出。在如上所述突出的起模针30的上端部通过移送臂(未图示)等移送基板S并进行安装,之后使基座40上升到工艺高度。
在从腔室导出基板S的情况下也是同样地,基座40下降,起模针30的下端部与腔室的基底15接触,且在起模针30的上端部从基座40突出的状态下通过移送臂等将基板S导出到腔室的外部。
在根据以往技术的腔室结构中,为了引入或导出基板使基座40进行升降,在此种情况起模针30的下端部与腔室的基底15接触。
如上所述,如果起模针30的下端部与腔室的基底15接触,则可能因摩擦在腔室内侧产生颗粒等异物。另外,可能产生由起模针30的下端部与腔室的基底15的摩擦引起的静电并沿起模针30传递到基板S。
发明内容
[发明所要解决的问题]
本发明为了解决如上所述的问题点,目的在于提供一种即便在基座进行升降以引入或导出基板的情况下也可防止起模针的下端部与腔室的基底接触的起模针组件。
[解决问题的技术手段]
如上所述的本发明的目的通过起模针组件来达成,所述起模针组件包括:起模针,以贯通基座的针孔并可沿上下移动的方式配置;以及间隔保持单元,在所述基座下降时防止所述起模针的下端部与腔室的基底接触。
此处,利用所述间隔保持单元可调节所述起模针的下端部与所述腔室的基底之间的间隔。
另外,在所述起模针由多个形成时所述间隔保持单元与所述多个起模针对应地配置有多个,且利用所述多个间隔保持单元可分别对所述多个起模针的下端部与所述腔室的基底之间的间隔进行调节。
例如,所述间隔保持单元包括配置在所述起模针的下端部的第一磁性单元、以及配置在所述腔室的基底的第二磁性单元,且可利用所述第一磁性单元与第二磁性单元之间的斥力在所述起模针的下端部与所述腔室的基底之间保持间隔。
在此种情况,所述第二磁性单元可埋置在所述基底中进行布置。
另外,所述第一磁性单元及第二磁性单元中的至少一者可由可调节斥力的电磁铁形成。
在此种情况,在所述基座下降时驱动所述电磁铁,而在所述基座上升到工艺高度的情况下可不驱动所述电磁铁。
[发明的效果]
根据具有上述构成的本发明,通过在起模针的下端部与腔室的基底之间布置斥力起作用的间隔保持单元,即便在基座进行升降的情况下也可利用斥力防止起模针的下端部与腔室的基底接触且防止产生由摩擦形成的颗粒及产生摩擦静电。
附图说明
图1是具有根据本发明一实施例的起模针组件的基板处理装置的侧面图。
图2是示出基座及起模针组件的侧面图。
图3是将图2中布置在基座的起模针组件放大示出的侧面图。
图4是示出基座下降且起模针的上端部上升的状态的侧面图。
图5是示出在图4的状态下基板安装在起模针的上端部的状态的侧面图。
图6是示出在图5中基座上升到工艺高度的状态的侧面图。
图7是示出根据以往技术的在腔室中布置在腔室内侧的基座与起模针的侧面图。
[符号的说明]
100:腔室
105:基底
200:气体供给部
300:起模针组件
400:基座
310:起模针
312:主体部
314:头部
410:针孔
412:下部针孔
414:上部针孔
500:间隔保持单元
510:第一磁性单元
520:第二磁性单元
1000:基板处理装置
具体实施方式
以下,参照附图对根据本发明实施例的起模针组件的结构详细地进行阐述。
图1是具有根据本发明一实施例的起模针组件300的基板处理装置1000的侧面图。
参照图1,所述基板处理装置1000可具有提供可对基板S进行沉积、刻蚀等各种处理工艺的处理空间110的腔室100。
在所述腔室100的内侧上部可配置朝向所述基板S供给工艺气体的气体供给部200。
另外,在所述腔室100的内侧下部可配置对所述基板S进行支撑的基座400。在所述基座400的上部安装基板S并进行针对所述基板S的工艺。
图2是示出所述基座400及起模针组件300的侧面图,且图3是将图2中布置在所述基座400的起模针组件300放大示出的侧面图。
参照图2及图3,所述起模针组件300可包括:起模针310,以贯通所述基座400的针孔410并可沿上下移动的方式配置;以及间隔保持单元500,在所述基座400下降时防止所述起模针310的下端部与所述腔室100的基底105接触。
即,在本发明中,通过在所述基座400配置起模针组件300,即便在所述基座400进行升降以引入及导出所述基板S的情况下也可防止起模针310的下端部与腔室100的基底105接触。以下,对所述起模针组件300的结构进行阐述。
在所述基座400中形成针孔410,且所述起模针310以贯通所述针孔410并可沿上下移动的方式进行布置。
在所述起模针310的主体部312的上端部形成直径或大小与主体部312相比更大的头部314。
另外,所述针孔410由下部针孔412、以及与所述下部针孔412相比直径或大小更大的上部针孔414形成。因此,在所述下部针孔412与上部针孔414之间形成阶差部。
因此,在所述起模针310贯通所述针孔410进行布置的情况下,所述起模针310的头部314可安装在所述阶差部。另外,所述起模针310的主体部312贯通所述下部针孔412进行布置。在此种情况,所述起模针310的下端部从所述基座400的下表面突出。
在上述构成中,所述间隔保持单元500即便在所述基座400下降的情况下也可防止所述起模针310的下端部与所述腔室100的基底105接触。
例如,所述间隔保持单元500可包括配置在所述起模针310的下端部的第一磁性单元510、以及配置在所述腔室100的基底105的第二磁性单元520。
在此种情况,如果对所述第一磁性单元510与第二磁性单元520赋予相同的极性,则在所述第一磁性单元510与第二磁性单元520之间斥力发挥作用。因此,即便在所述基座400下降且所述起模针310的下端部与所述基底105接近的情况下,也可利用所述第一磁性单元510与第二磁性单元520之间的斥力使所述起模针310的下端部不与所述基底105接触并隔开且保持间隔d。
在此种情况,所述第一磁性单元510及第二磁性单元520中的至少一者可由可调节斥力的电磁铁形成。
即,如果由电磁铁构成磁性单元,则可通过调节电磁铁的电压来改变磁力强度。由此,可对在所述第一磁性单元510与第二磁性单元520之间斥力发挥作用的距离d进行调节,从而可调节所述起模针310的下端部与所述腔室100的基底105之间的间隔。
例如,在图中,所述第一磁性单元510由磁体形成,且第二磁性单元520由电磁铁形成,但不限定于此。例如,所述第一磁性单元510由电磁铁形成且所述第二磁性单元520由磁体形成,或者也可为所述第一磁性单元510及第二磁性单元520两者均由电磁铁形成。以下,假定所述第一磁性单元510由磁体形成且第二磁性单元520由电磁铁形成的情况来进行说明。
另一方面,在所述第一磁性单元510由磁体形成的情况,可以可装卸的方式连接到所述起模针310的下端部。所述磁体可由即便在腔室100内部的高温的环境下也可承受住的材质、例如铝镍钴(alnico)、钐钴(samarium cobalt)、铁氧体(ferrite)等制作而成。
所述第一磁性单元510利用螺纹等以可装卸的方式结合到所述起模针310的下端部。在此种情况,可防止磁体因所述腔室100内部的环境而被腐蚀等,且为了提高耐久性,利用铁氟龙(Teflon)等对磁体进行涂布。
另一方面,所述第二磁性单元520与所述起模针310的第一磁性单元510对应地配置在所述基底105。即,所述第二磁性单元520可布置在所述第一磁性单元510的中心线的延长线上。
在此种情况,所述第二磁性单元520可埋置在所述基底105中进行布置。即,所述第二磁性单元520的上表面可与所述基底105的上表面位于同一面上。
虽然在图中未示出,但是所述第二磁性单元也可从所述基底105突出来配置。但是,在此种情况下,可能由于突出的第二磁性单元对腔室100内部的气体的排气路径造成影响,且异物等可能集中到突出的第二磁性单元。因此,本实施例中说明所述第二磁性单元520以埋置在所述基底105中且不突出的方式进行布置的情形。
图2及图3中示出的第二磁性单元520可通过从外部的电力源(未图示)接收电力来驱动。
在此种情况,首先确认配置在所述起模针310的下端部的所述第一磁性单元510的磁力及极性,且可对所述第二磁性单元520的极性及所施加的电压进行调节。
即,将所述第二磁性单元520的极性实现为与所述第一磁性单元510相同的极性,进而对施加到所述第二磁性单元520的电压进行调节并改变磁力强度,从而可对所述第一磁性单元510与第二磁性单元520之间斥力影响的距离d进行调节。由此,在所述基座400下降的情况下,可对所述起模针310的下端部与所述基底105之间的距离d进行调节。
另一方面,如图2所示,在所述基座400配置有多个所述起模针310。在此种情况,上述间隔保持单元500可配置在所有所述多个起模针310。
因此,可利用分别配置在多个起模针310的间隔保持单元500分别对所述多个起模针310的下端部与所述腔室100的基底105之间的间隔进行调节。
即便在使所述多个间隔保持单元500的电磁铁的电压全部相同的情况下,因所述起模针310的长度的制作上的公差、或针孔410的阶差部的高度差异等主要因素,所述起模针310的上端部的高度也可能变不同。此情形使基板S倾斜地布置在所述起模针310,从而可能在后续的工艺中不能对所述基板S顺畅地进行工艺。
因此,在本发明中,分别对所述多个间隔保持单元500的电磁铁的电压进行调节,从而可在所述基座400下降的情况下将所述起模针310的上端部的高度全部调节成相同的。
以下,对具有上述构成的起模针组件300的动作进行阐述。
图4是示出所述基座400下降且所述起模针310的上端部从所述基座400突出并上升的状态的侧面图。
如图4所示,如果所述基座400下降,则所述起模针310的下端部会接近所述腔室100的基底105。
在此种情况,可在所述基座400开始下降的时刻或在此之前对由电磁铁形成的所述第二磁性单元520施加预先确定的电压。
因此,如果所述基座400下降且所述起模针310的下端部与所述基底105之间的距离到达所述第一磁性单元510与第二磁性单元520之间的斥力起作用的距离d,则尽管所述基座400下降,由于所述斥力所述起模针310也不会再进一步下降。在此种情况,通过所述基座400的下降使所述起模针310的上端部从所述基座400突出。
接着,如图5所示,利用移送臂(未图示)等从所述腔室100的外部引入基板S并安装在突出的所述起模针310的上端部。
接着,如图6所示,所述基座400上升到工艺高度。
参照图6,如果所述基座400上升,则所述起模针310的头部314安装在所述针孔410的阶差部且所述基板S安装在所述基座400的上表面。接着,所述基座400上升到工艺高度并进行工艺。
另一方面,如果在所述基座400上升到工艺高度并进行工艺中也对所述第二磁性单元520施加电压,则可能对针对所述基板S进行的工艺造成影响。特别是,在针对所述基板S进行的工艺与使用等离子体的工艺对应的情况,如果对所述第二磁性单元520施加电压,则可能对腔室100内侧的等离子体造成影响。
因此,在本发明中,在所述基座400上升的情况下,不对由电磁铁形成的第二磁性单元520施加电压。
例如,如图6所示,在所述基座400上升到工艺高度时,可切断施加到所述第二磁性单元520的电压,然后进行针对所述基板S的工艺。
再者,如果所述基座400上升且所述起模针310的头部314被安装在所述针孔410的阶差部,则可切断所述第二磁性单元520的电压。此情形可通过感知所述起模针310的上端部与基座400的上表面之间的距离、及所述基座400的上升距离来进行调节。
另一方面,在完成针对所述基板S的处理工艺并从所述腔室100导出所述基板S的情况下,以倒序进行上述图5及图6的动作,且可利用移送臂将安装在突出的起模针310的上部的基板S导出到腔室100的外部。
以上虽然参照本发明的优选实施例进行了说明,但是相应技术领域的普通技术人员可在不脱离上文所述的权利要求所记载的本发明的思想及领域的范围内对本发明实施各种修改及变更。因而,应当认为,如果变形的实施基本上包括本发明权利要求的构成要素,则均包括在本发明的技术范畴内。
Claims (7)
1.一种起模针组件,其特征在于,包括:
起模针,以贯通基座的针孔并能够沿上下移动的方式配置;以及
间隔保持单元,在所述基座下降时防止所述起模针的下端部与腔室的基底接触。
2.根据权利要求1所述的起模针组件,其特征在于,
利用所述间隔保持单元能够调节所述起模针的所述下端部与所述腔室的所述基底之间的间隔。
3.根据权利要求2所述的起模针组件,其特征在于,
在所述起模针由多个形成时,所述间隔保持单元与多个所述起模针对应地配置有多个,
利用多个所述间隔保持单元能够分别对所述多个起模针的所述下端部与所述腔室的所述基底之间的所述间隔进行调节。
4.根据权利要求1所述的起模针组件,其特征在于,
所述间隔保持单元包括配置在所述起模针的所述下端部的第一磁性单元、以及配置在所述腔室的所述基底的第二磁性单元,
利用所述第一磁性单元与所述第二磁性单元之间的斥力在所述起模针的所述下端部与所述腔室的所述基底之间保持间隔。
5.根据权利要求4所述的起模针组件,其特征在于,
所述第二磁性单元埋置在所述基底中进行布置。
6.根据权利要求4所述的起模针组件,其特征在于,
所述第一磁性单元及所述第二磁性单元中的至少一者由能够调节斥力的电磁铁形成。
7.根据权利要求6所述的起模针组件,其特征在于,
在所述基座下降时驱动所述电磁铁,而在所述基座上升到工艺高度的情况下不驱动所述电磁铁。
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PB01 | Publication | ||
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