CN116348587A - 具有经调节的流径的直列式过滤器盖 - Google Patents
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Abstract
提供过滤器盖(200、400、500、600、700)，其包括对保持在过滤器盖(200、400、500、600、700)内的膜过滤器的表面上方的流特性进行调节的内部几何结构。在一些情况下，内部几何结构提供过滤器盖(200、400、500、600、700)内的再循环，该再循环提供跨过过滤器膜的交叉流元素，该交叉流元素减少过滤器的堵塞。
Description
背景技术
多年来，在生物处理技术和相关技术中，已使用直列式过滤器的若干设计。一种已知的过滤器盖是设计成用于使用正压来对小体积的液体进行微过滤的WhatmanTM Swin-Lok过滤器保持器。这些保持器用于在实验室中或当样本必须现场收集并处理时对液体或气体进行灭菌取样。包括NucleporeTM和CycloporeTM径迹蚀刻、纤维素过滤器以及玻璃纤维过滤器的各种各样的膜类型可取决于应用而在该保持器中使用。过滤器包括组装环101、盖102、上支承格栅103、平垫圈104、膜105、O形环106、下支承格栅107以及基部108。另一种类型的直列式过滤器被称为如图1B中所显示的Swinnex过滤器保持器。Swinnex过滤器114具有适于允许连接注射器的入口112、圆锥形入口110、基部111以及出口113。这些过滤器产生死端过滤，这通常可能由于在过滤器表面上收集的堆积物而遭受堵塞。
发明人已注意到关于直列式过滤器的问题在于它们在过滤器接口处经历堵塞。关于单次使用式无菌产品，在过程中需要更换过滤器是特别地不利的。当过滤器前方的滞留物包括颗粒物质(诸如，细胞碎片)时，这些问题和相关问题变得更明显。
发明内容
根据本文中所描述的示例的过滤器盖可附接到基部，并且在操作期间将过滤器保持在盖与基部之间，其中，过滤器盖包括用以在过滤器盖内提供期望的流分量的至少一个特征部。过滤器盖可包括：圆锥形部分，其中，圆锥形构造成在过滤器膜的表面上分配流体；以及在圆锥形部分内的至少一个流导管，其中，流导管能够提供再循环流、涡流、螺旋流和/或跨过膜的交叉流中的至少一个。
流导管可包括构造成在过滤器盖内提供涡流的涡流特征部，其中，涡流特征部可为螺旋形结构。过滤器盖可包括再循环结构，其中，再循环结构是位于螺旋形结构的径向外部的通道。流导管可包括用于在过滤器盖内赋予交叉流的双圆锥体结构。在双圆锥体结构的情况下，再循环通道可设于过滤器盖的中心区域中。相对于通过膜的流，交叉流增加跨过膜的表面的流量。流导管可包括再循环导管或限流特征部(例如，文丘里收缩部)或再循环导管和限流特征部两者。过滤器盖可包括螺旋形导叶，以增加跨膜流。
过滤器盖可使用至少一个增材制造步骤来制造。增材制造可包括选择性激光烧结(SLS)、立体光刻(SLA)、数字光投影(DLP)、连续液体界面编程(CLIP)、粘合剂喷射成形、选择性热烧结(SHS)、融合沉积建模(FDM)、直接金属激光烧结(DMLS)或定向能量沉积(DED)。
附图说明
图1A显示常规WhatmanTM Swin-Lok过滤器盖。
图1B显示常规“Sweeney”过滤器盖。
图2A显示具有根据本文中所描述的示例的横截面的过滤器盖的透视图。
图2B显示根据本文中所描述的示例的具有膜的过滤器壳体中的过滤器盖。
图2C显示用于模拟图2A的过滤器盖内的流的流体域。
图2D显示流率和湍流对图2A的过滤器盖的再循环的模拟影响。
图2E显示图2A的过滤器盖中的作为当前流率的函数的静压。
图2F显示跨过图2A的过滤器盖的膜表面的模拟流。
图2G显示图2A(涡流顶部)和图6A(双圆锥体)的过滤器盖的再循环与流率的关系。
图2H显示图2A(涡流顶部)和图6A(双圆锥体)的过滤器盖的再循环百分比与流率的关系。
图3A显示可被采用来制备根据本文中所描述的一个示例的过滤器盖的增材制造技术的界面的描绘。
图3B显示根据本文中所描述的一个示例的用于实施图3A中所显示的增材制造技术的装置。
图4显示具有根据本文中所描述的示例的横截面的过滤器盖的透视图。
图5A显示具有根据本文中所描述的示例的横截面的过滤器盖的透视图。
图5B显示图5A中所显示的双圆锥体过滤器盖的流向量。
图5C显示图5A中所显示的双圆锥体过滤器盖的在过滤器表面上的流向量。
图6A显示具有根据本文中所描述的示例的横截面的过滤器盖的透视图。
图6B显示流率和湍流对图6A的过滤器盖的再循环的模拟影响。
图6C显示图6A的过滤器盖中的模拟流速度。
图6D显示图6A的过滤器盖的跨过膜表面的模拟流。
图7A显示具有根据本文中所描述的示例的横截面的过滤器盖的透视图。
图7B显示图7A中所显示的双圆锥体AB过滤器盖的流向量。
图7C显示图7A中所显示的双圆锥体AB过滤器盖的在过滤器表面上的流向量。
具体实施方式
各种实施方式和细节参考可在例如直列式过滤器组件中使用的过滤器壳体而描述，在直列式过滤器组件中，过滤器盖将过滤器膜抵靠基部保持，并且，流体从过滤器盖流过过滤器并流出基部。过滤器壳体可包括圆锥形和流径，流径构造成修改通过直列式过滤器组件的流体流。发明人已意识到需要允许过滤器壳体内的过滤器膜上有受控制的流体流的过滤器壳体。该流体流可在使用中在过滤器膜的表面上赋予切向流或交叉流的分量。流体流还可涉及流体在盖内的再循环。盖内的流状态可为层流或湍流的，并且，流状态可通过改变流率、压降和/或过滤器壳体的内部流径的几何结构来控制。在一些情况下，过渡到湍流在过滤器盖内赋予再循环流。过滤器盖可在无源系统中例如通过控制进入过滤器盖中的液体流率来实现再循环，而不需要增加泵或其它外部能源。
如本文中所使用的用语“圆锥形”指代从其窄端处的导管形状开始增大并且在大端处的膜的表面上使流体扩散的结构。用语圆锥形意指适用于构造成在过滤器膜的表面上分配流体并且可独立于过滤器壳体的外部形状的内部结构。例如，过滤器盖的外表面可为圆柱形的，但包括圆锥形内部导管。用语“圆锥形”描述一般形状，并且不赋予在数学上精确的圆锥形几何结构。更确切地说，期望从较窄导管到膜的平滑过渡，以相对于尺寸的较步进式的增大而减小与流体流径的加宽相关联的压降。
发明人已设想过滤器壳体组件的盖的若干过滤器结构，可利用所述过滤器结构来赋予期望的流特性。在许多情况下，这些结构利用要求增材制造的几何结构。例如，内部几何结构可包括不具有单个“拉平面”的结构构造，注射模制的特征部可从该单个“拉平面”从模具释放。在上文中参考图1A-1B而显示的较早的过滤器壳体组件和过滤器盖包括能够使用传统注射模制技术来构造的对称结构。在许多情况下，本文中所描述的示例的过滤器壳体的结构复杂性将防止构件从模具释放，并且因此将排除使用注射模制技术进行制造。
用于也被称为3D打印的增材制造的若干技术已实现多年前不可获得的复杂内部几何结构水平的物品的设计。这些技术大体上涉及在增材过程中逐层构建物品。用于我们的目标市场的塑料零件的增材制造技术的若干示例是选择性激光烧结(SLS)、立体光刻(SLA)、数字光投影(DLP)、连续液体界面编程(CLIP)、粘合剂喷射成形、选择性热烧结(SHS)、融合沉积建模(FDM)。这些过程中的一些通常要求后处理，诸如利用可去除粉末或使聚合物固化成成品的溶剂来清洗。在金属物品的情况下，可使用其它已知的技术，诸如直接金属激光烧结(DMLS)或定向能量沉积(DED)。然而，设想大多数过滤器壳体应用将使用塑料增材制造技术。在一些情况下，增材技术可包括牺牲模具的构造，牺牲模具可由可通过在使用牺牲模具来使过滤器壳体成形之后利用溶解来去除的材料打印。虽然一种增材技术可提供优于另一种增材技术的优点，但本文中所描述的过滤器壳体可通过任何增材制造技术或增材技术组合来制备。
图2A显示根据本文中所描述的示例的要与过滤器壳体组件一起使用的过滤器盖200。图2B显示过滤器壳体215，其中，过滤器盖200紧固到过滤器基部214。过滤器盖200构造成配合到过滤器基部214上，其中，多孔膜210保持在基部214与过滤器盖200之间。过滤器盖200包括可适于接纳O形环211的槽205。过滤器可具有边缘207，边缘207可在操作期间使用与基部的螺纹部分(未显示)对接的螺纹环(未显示)来以常规方式抵靠基部214被夹紧。过滤器盖200包括入口203。过滤器盖200入口的外侧包括适于与入口管或注射器对接的槽208。过滤器盖200包括内部通路204和内部脊209，内部通路204和内部脊209可在某些流条件下产生期望的流。过滤器盖200包括内部通道202。在某些流条件(包括湍流)下，内部通道202允许过滤器壳体内的流再循环。
以不同流率模拟使用过滤器盖200的过滤器壳体215内的流。图2C显示来自计算网格的流体体积。针对所讨论的几何结构的每种设计而提取流体体积。对几何结构作出微小修改以避免计算网格中的坏单元。修改被认为微小得足以尚未影响流场。入口和出口被赋予恒定压力，并且，通过修改多孔区域(膜)上的阻力从而产生模拟压降来调整流率。模拟表明，设计几何结构中的每种影响跨过膜的表面的切向流以及是否将在过滤器壳体内发生再循环。此外，模拟表明，对于给定的过滤器壳体设计，这些流状态通过压降和/或流率来控制。不同流状态之间的流率截止(cutoff)取决于过滤器盖的几何结构。因此，如果改变特定设计的尺寸或角度，则期望限定不同流状态的流率也将改变。在许多情况下，流率仅在指定对于其针对该设计而实现预期效果(例如，再循环)的流率所需的程度上为重要的。
图2D-2F显示在流率增加的条件下在图2A的过滤器盖200内的模拟流。在20ml/min(毫升/分钟)的流率下，通过盖的流是层流的，并且未实现再循环。当流量增加至60ml/min时，该流过渡到湍流，并且开始发生再循环。在500ml/min下，如图2C中所显示的，实现显著的再循环。过滤器盖200的再循环流率是82ml/min，或是处于500ml/min的总流量的16％。对于三种不同流率，在速度场的表现方面存在若干差异。内螺旋体中的旋转流运动随着流率而增加。随着流量增加，最大速度从入口移动到内螺旋体的起点。图2E显示压降，并且显示低压区由于漩涡而出现在螺旋体的上部部分中，并且，一旦该压差足够大，就开始发生再循环。过滤器盖200上的压降是650Pa。
图2F显示对于流率20ml/min、60ml/min以及500ml/min中的每个在膜上方0.25mm处的变化的流率。膜上的流在不同的情况之间改变。20ml/min显示由层流产生的模式，60ml/min情况显示在流过渡到湍流时的类似的模式。500ml/min情况显示由湍流和再循环产生的紊乱行为。如图2G中所显示的，对于过滤器盖200(涡流顶部)，再循环流率开始在60ml/min的流率下出现，并且然后以二次方的方式随着流率的增加而增加。如图2H中所显示的，再循环百分比随着流率的增加而增加。
如上文中所注意到的，根据示例的过滤器壳体和过滤器盖大体上可使用增材制造过程来制造。可使用的一种增材制造过程是CLIP，CLIP可在由Carbon3D销售的增材制造机器中实施，并且在作为PCT/US2015/036444提交于2015年6月18日的标题为“利用可聚合液体的往复供给来进行的三维打印”的WO2015/195924中描述，WO2015/195924针对其关于CLIP过程的细节的教导通过引用而并入。图3A显示在CLIP过程中如何堆积材料，并且，图3B显示用于执行CLIP过程的设备。
CLIP过程提供一种形成三维物体的方法，该方法包括：(1)提供载体301和具有构建表面306的光学透明部件，载体301和构建表面306在其间限定构建区域；(2)利用可聚合液体304来填充构建区域，利用通过光学透明部件的光308来持续地或间歇地照射构建区域，以用可聚合液体304形成固体聚合物；以及(3)持续地或间歇地使载体301远离构建表面而前进(例如，循序地或与照射步骤同时地)，以由固体聚合物形成三维物体302。
照明可循序地实行，并且优选地以较高强度(例如，在“频闪”模式下)实行。如在下文中进一步描述的，可在两种或三种循序模式下从基区通过可选的过渡区到主体区而实行制作。载体可相对于构建表面竖直地往复运动，以增强或加快可聚合液体对构建区域的再填充。CLIP过程还可涉及实行填充步骤、照射步骤和/或前进步骤，同时地还：(i)持续地维持可聚合液体的死区与构建表面接触；以及(ii)持续地将聚合区斜坡(gradient)303(如下文中所讨论的，聚合区斜坡303也可被描述为生长的三维物体的底部上的活性表面)维持在死区与固体聚合物之间并且与其中的每个接触，聚合区斜坡303包括呈部分固化形式的可聚合液体。
换句话说，在CLIP的一些优选实施例中，在原位形成或产生三维物体或其至少一些邻接部分。如本文中所使用的，“在原位”具有其在化学工程领域中的含义，并且意指“就位”。例如，其中，三维物体的生长部分和构建表面两者(典型地利用它们的居间的活性表面或聚合斜坡303和死区305)在形成3D物体的至少部分期间维持就位，或充分地维持就位，以避免在3D物体中形成断裂线或平面。例如，在一些示例中，3D物体的在最终3D物体中彼此邻接的不同部分两者可从聚合斜坡或活性表面303或在聚合斜坡或活性表面303内循序地形成。此外，3D物体的第一部分可保留在聚合斜坡303中或接触活性表面，而与第一部分邻接的第二部分形成于聚合斜坡303中。因此，3D物体可远程地从聚合斜坡或活性表面连续地制作、生长或产生(而非在离散层中制作)。死区305和聚合区斜坡/活性表面303可通过所制备的物体的一些或全部构造来维持例如(并且，在一些实施例中)达至少5、10、20或30秒钟的时间，并且，在一些实施例中，达至少1或2分钟的时间。
在图3B中显示用于实施CLIP的设备。该设备包括提供电磁辐射12的辐射源11，诸如数字光处理器(DLP)，电磁辐射12通过反射镜13对由壁14限定的构建室和形成构建室的底部的刚性构建板15进行照明，该构建室以液体树脂16填充。如在下文中进一步讨论的，室15的底部由包括半渗透部件的构建板构造。正在构造的物体17的顶部附接到载体18。载体由线性平台19沿竖直方向驱动，然而，如下文中所讨论的，可使用备选结构。
在一个方面，图2A中所显示的过滤器盖可使用CLIP过程来制备。在这样的情况下，如图3A中所显示的，过滤器盖可通过在载体上逐层地构建该部分来制备。连续横截面或构建层限定具有螺旋形形状的内部几何结构。由于增材制造通过逐层地连续构建来限定这些几何结构，因而产品是具有不可使用常规技术(诸如，注射模制)或减材技术(诸如，CNC铣削)来制备的内部结构的过滤器盖。虽然CLIP在本文中被描述为根据示例的用于制备过滤器壳体构件和过滤器盖的有利方法，但可利用上文中所描述的其它增材制造过程。在所描述的过程中，当根据本文中所描述的示例的过滤器盖由塑料制备时，SLS、SLA以及DLP是特别适合的。值得注意的是，产品可包括增材地制造的过滤器盖部分和常规地制造的部分。例如，支承网和膜过滤器放置于其上的基部可被注射模制。另外，在牺牲模具的情况下，整个部分则可使用热塑性材料来注射模制。
图4显示根据示例的盖400。该过滤器盖400包括与图2A的过滤器盖200类似的内部螺旋形结构，但不包括再循环通道。过滤器盖400构造成配合到基部(未显示)上，其中，多孔膜(未显示)保持在基部与过滤器盖之间。过滤器盖400包括适于接纳O形环的槽405。过滤器可具有边缘407，边缘407可在操作期间使用与基部的螺纹部分(未显示)对接的螺纹环(未显示)来以常规方式抵靠基部被夹紧。过滤器盖400包括入口403。过滤器盖400入口的外侧包括构造成与入口管或注射器对接的槽408，诸如鲁尔锁定螺纹。备选地，槽可以以用于将管保持就位的倒钩置换或具有平滑表面。过滤器盖400包括内部通路404和具有内部螺旋形通路408的内部脊409，内部螺旋形通路408可在某些流条件下在多孔膜的表面上产生涡流。
内部脊409可如所期望的那样调整。如果期望增加流体在盖内的停留时间，则脊409的角度可减小，使得流体在较横向的流模式下围绕盖的周边行进。在一些情况下，更低的攻角可在盖内产生数量更多的脊409。在此情况下，将在膜表面上出现具有更大的横向运动分量的流体。例如，可提供相对于与过滤器盖400的中心轴线垂直的平面具有从大约5°或10°至大约30°、从大约5°、10°、15°等至大约10°、20°、30°、40°、45°的角度的一个或多个内部脊409。备选地，若期望，则可增加脊409的角度。在此情况下，将在膜表面上出现具有更大的竖直运动分量的流体。例如，可提供相对于与过滤器盖400的中心轴线垂直的平面具有从大约45°或50°至大约75°、从大约45°、50°、55°、60°等至大约50°、60°、70°、80°、85°、90°的角度的一个或多个内部脊409。取决于应用，可调整这些因素，以增强过滤器的再循环、流率以及堵塞倾向。
图5A显示根据示例的双圆锥体过滤器盖500。过滤器盖500构造成配合到基部(未显示)上，其中，多孔膜(未显示)保持在基部与过滤器盖之间。过滤器盖500包括适于接纳O形环的槽505。过滤器可具有边缘507，边缘507可在操作期间使用与基部的螺纹部分(未显示)对接的螺纹环(未显示)来以常规方式抵靠基部被夹紧。过滤器盖500包括入口503。过滤器盖500入口的外侧包括构造成与入口管或注射器对接的槽508，诸如鲁尔锁定螺纹。备选地，槽可以以用于将管保持就位的倒钩置换或具有平滑表面。过滤器盖500包括内部通路504和内部圆锥体509，内部圆锥体509可产生用于流的流体通路504。
图5B和图5C描绘过滤器盖500内的模拟流径。模拟流径显示跨过过滤器膜的切向流，这对于特定应用可为合乎需要的。在此情况下，跨过膜的纯径向流。这好比引起旋转流的设计，旋转流与通过膜的流相比而增加跨过膜的流量。
图6显示根据示例的双圆锥体再循环过滤器盖600。过滤器盖600构造成配合到基部(未显示)上，其中，多孔膜(未显示)保持在基部与过滤器盖之间。过滤器盖600包括适于接纳O形环的槽605。过滤器可具有边缘607，边缘607可在操作期间使用与基部的螺纹部分(未显示)对接的螺纹环(未显示)来以常规方式抵靠基部被夹紧。过滤器盖600包括入口603。过滤器盖600入口的外侧包括构造成与入口管或注射器对接的槽608，诸如鲁尔锁定螺纹。备选地，槽可以以用于将管保持就位的倒钩置换或具有平滑表面。
过滤器盖600包括内部入口通路604和内部圆锥体609，内部圆锥体609可在盖的外壁之间产生用于流径的流体通路608。盖600还包括中心再循环通道609和上部再循环通道610，上部再循环通道610提供用于使再循环流体进入内部通路608的流径。上部再循环通道610可包括可在操作期间调节通过盖的再循环流的限流特征部611或文丘里收缩部。如所显示的，通道610可定位成在限流部611的中心与流体通路608相交。备选地，通道610可定位成使得通道610在限流特征部611下游或正后方与流体通路608相交。起因于由限流特征部产生的低压区，该修改将增加再循环速率。
图6B-6E显示在流率增加的条件下在图6A的过滤器盖内的模拟流。在图6B中图示再循环。起因于再循环通道中的低流量(～1ml/min)，流线不显示在135ml/min情况(其中，开始再循环)下的再循环流。如图6C中所显示的，该流在135ml/min下不一定是湍流的，但文丘里收缩部上的速度大得足以生成驱动再循环所需要的压差。135ml/min情况和500ml/min情况在文丘里收缩部上具有其最大速度。这是产生驱动再循环所必需的压降的原因。在20ml/min情况下，最大值出现在文丘里收缩部前方。对于135ml/min情况和500ml/min情况两者，在文丘里收缩部后方观察到最低压力。对于135ml/min情况而看到该现象表明它起因于文丘里收缩部而非再循环流，因为，再循环非常小(～1ml/min)。即使再循环出口移动，最低压力也很可能将在相同位置。
图6C显示膜表面上方的0.25mm处的流。与先前的图像形成对照，对于135ml/min情况的在膜上的流不同于500ml/min情况的在膜上的流。实际上，它表现得更像不具有再循环通道的双圆锥体中的流(图5A、5C)。由于在135ml/min下，流正刚刚开始过渡到湍流，因而在135ml/min情况与500ml/min情况之间存在大的差异。
图2A和图6A的再循环过滤器盖提供可对于不同应用为合乎需要的不同流特性。对于涡流顶部，在大约60ml/min的流率下开始再循环，并且，对于双圆锥体，在135ml/min的流率下开始再循环(图2G)。再循环百分比对于涡流顶部比对于双圆锥体更高(图2H)。对于两种设计，再循环百分比随着流率的增加而增加，但对于双圆锥体，在大约250ml/min之后，增加速率较低。一旦完全形成湍流，在流率的方面的进一步增加就仅产生压力损失，而不会进一步增加再循环。因而，特定设计具有最佳流率，以便实现再循环，同时使压降最小化。
图7A显示根据示例的过滤器盖700。过滤器盖700具有带有导叶的双圆锥体构造。过滤器盖700具有入口通路704，入口通路704大于图5A的双圆锥体过滤器500中的入口通路。过滤器盖700构造成配合到基部(未显示)上，其中，多孔膜(未显示)保持在基部与过滤器盖之间。过滤器盖700包括适于接纳O形环的槽705。过滤器可具有边缘707，边缘707可在操作期间使用与基部的螺纹部分(未显示)对接的螺纹环(未显示)来以常规方式抵靠基部被夹紧。过滤器盖700包括入口703。过滤器盖700入口的外侧包括适于与入口管或注射器对接的槽708。过滤器盖700包括入口通路704和内部圆锥体709，内部圆锥体709可产生用于流径的流体通路708。过滤器盖700包括螺旋导叶710，螺旋导叶710在多孔膜的表面上在离开流体通路708的流体中引起螺旋流。相对于直接地流过膜的流体，该流模式增加在膜表面上切向地行进的流体的量。
图7B和图7C描绘过滤器盖700内的模拟流径。模拟流径显示过滤器膜上的螺旋流，其可对于特定应用为合乎需要的。
考虑到本文中所公开的本发明的说明书和实践，本发明的其它实施例和用途将对本领域技术人员显而易见。本文中所引用的所有参考文献(包括所有美国和外国专利和专利申请)都特此通过引用而具体地且全部地并入于本文中。意图的是，说明书和示例被认为仅仅是示例性的，其中，本发明的真实范围和精神由所附权利要求书指示。
Claims (21)
1.一种用于生物处理的过滤器盖(200、400、500、600、700)，包括：
圆锥形部分，其中，所述圆锥形构造成在过滤器膜的表面上分配流体；以及
在所述圆锥形部分内的至少一个流导管(204、404、504、608、708)，其中，所述流导管(204、404、504、608、708)能够提供再循环流、涡流、螺旋流和/或跨过所述膜的交叉流中的至少一个。
2.根据权利要求1所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述流导管(204、404、504、608、708)包括构造成在所述过滤器盖内提供涡流的涡流特征部(209、409、509、609、709)。
3.根据权利要求2所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述涡流特征部(209、409、509、609、709)包括一个或多个内部脊409，所述一个或多个内部脊409相对于与所述过滤器盖400的中心轴线垂直的平面具有从大约5°或10°至大约30°和/或从大约5°、10°、15°、25°至大约10°、20°、30°、40°、45°和/或从大约45°或50°至大约75°和/或从大约45°、50°、55°、60°、70°、80°至大约50°、60°、70°、80°、85°、90°的角度。
4.根据权利要求2或3所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述涡流特征部(209、409、509、609、709)是螺旋形结构(408)和/或提供螺旋形结构(408)。
5.根据权利要求4所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述流导管(204、404、504、608、708)包括再循环结构，其中，所述再循环结构包括位于所述螺旋形结构(408)的径向外部的通道(202、609、610)。
6.根据任一项前述权利要求所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述流导管(204、404、504、608、708)能够提供跨过所述膜的交叉流，并且，相对于通过所述膜的流，交叉流增加跨过所述膜的表面的流量。
7.根据任一项前述权利要求所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述流导管(204、404、504、608、708)包括再循环导管(608)。
8.根据权利要求7所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述再循环导管(608)包括限流特征部(611)。
9.根据权利要求8所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述限流特征部(611)是文丘里收缩部。
10.根据任一项前述权利要求所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)，其中，所述过滤器盖包括螺旋形导叶(710)。
11.一种制备根据任一项前述权利要求所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)的方法，其中，所述方法包括至少一个增材制造步骤。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述增材制造包括选择性激光烧结(SLS)、立体光刻(SLA)、数字光投影(DLP)、连续液体界面编程(CLIP)、粘合剂喷射成形、选择性热烧结(SHS)、融合沉积建模(FDM)、直接金属激光烧结(DMLS)或定向能量沉积(DED)。
13.根据权利要求11或12所述的方法，其中，所述增材制造包括选择性激光烧结(SLS)、立体光刻(SLA)、数字光投影(DLP)、连续液体界面编程(CLIP)、粘合剂喷射成形、选择性热烧结(SHS)。
14.一种使用根据权利要求1至10中的任一项所述的过滤器盖(200、400、500、600、700)来过滤的方法。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述过滤包括对生物产品进行过滤。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述生物产品是单次使用式无菌生物产品。
17.根据权利要求14至16中的任一项所述的方法，其中，所述过滤器盖(200、400、500、600、700)在过滤器组件中使用，并且，流率是至少60ml/min。
18.根据权利要求14至17中的任一项所述的方法，其中，与不存在再循环的过滤相比，过滤产生允许过滤介质的长期使用的再循环。
19.根据权利要求14至18中的任一项所述的方法，其中，流率处于在所述过滤器盖(200、400、500、600、700)内提供再循环的水平。
20.根据权利要求14至19中的任一项所述的方法，其中，流率是至少500ml/min。
21.根据权利要求14至20中的任一项所述的方法，其中，所述流率是至少1000ml/min。
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