CN116334544A - 真空蒸镀装置、自转角度判断方法及被蒸镀物的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种在被蒸镀物可自转公转的真空蒸镀装置中，能够准确判断被蒸镀物的自转角度的技术。本发明的真空蒸镀装置具有：多个夹持器、拍摄部、以及控制部。所述多个夹持器能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物，并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转。所述拍摄部能够拍摄保持有被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器。所述控制部基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度。

Description

真空蒸镀装置、自转角度判断方法及被蒸镀物的制造方法

技术领域

本发明涉及一种真空蒸镀装置等技术。

背景技术

真空蒸镀法是通过在真空中将金属、氧化物等蒸镀材料加热并使其蒸发，将其蒸汽附着和沉积在衬底等被蒸镀物，从而在被蒸镀物上进行成膜的技术。

作为真空蒸镀法的一种，已知在真空腔室内在使衬底等被蒸镀物自转公转的同时进行成膜的技术(例如参照下述专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-263762号公报。

发明要解决的问题

需要一种在被蒸镀物可自转公转的真空蒸镀装置中能够准确地判断被蒸镀物的自转角度的技术。

发明内容

鉴于上述情况，本发明的目的在于提供一种在被蒸镀物可自转公转的真空蒸镀装置中能够准确地判断被蒸镀物的自转角度的技术。

用于解决问题的方案

本发明的真空蒸镀装置具有多个夹持器、拍摄部、以及控制部。

所述多个夹持器能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物，并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转。

所述拍摄部能够拍摄保持有被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器。

所述控制部基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度。

由此，能够在被蒸镀物可自转公转的真空蒸镀装置中准确地判断被蒸镀物的自转角度。

在上述真空蒸镀装置中，所述控制部可以切换动态蒸镀模式和静态蒸镀模式，所述动态蒸镀模式在使所述被蒸镀物自转公转的同时对被蒸镀物进行蒸镀，所述静态蒸镀模式使所述被蒸镀物静止并对被蒸镀物进行蒸镀。

在上述真空蒸镀装置中，所述控制部在所述静态蒸镀模式下，可以使所述拍摄部进行拍摄，判断所述被蒸镀物的自转角度。

在上述真空蒸镀装置中，所述拍摄部的视角可以至少包括当所述夹持器自转一周时所述夹持器在公转方向移动的范围。

在上述真空蒸镀装置中，可以还具有：入射角度调节机构，其使所述夹持器围绕与所述公转轴垂直的方向的轴转动，调节所述蒸镀物相对于所述被蒸镀物的入射角度。

在上述真空蒸镀装置中，所述拍摄部的视角可以至少包括所述入射角度的调节引起的所述夹持器的转动使所述夹持器在扰动方向扰动时的扰动范围。

在上述真空蒸镀装置中，所述夹持器可以具有用于判断所述被蒸镀物的自转角度的标记。

在上述真空蒸镀装置中，所述标记可以设置在离开所述夹持器的自转轴的位置，对应于所述夹持器的自转公转而围绕所述自转轴旋转。

在上述真空蒸镀装置中，所述夹持器可以具有凸缘部，所述标记可以设置在所述凸缘部。

在上述真空蒸镀装置中，所述标记可以是贯通所述凸缘部的孔部。

在上述真空蒸镀装置中，所述控制部可以基于所述图像内的标记的位置和夹持器的中心位置，判断所述自转角度。

在上述真空蒸镀装置中，所述控制部可以执行将所述图像内的夹持器以从所述夹持器的正面看到那样进行校正的校正处理，基于校正处理后的图像判断所述自转角度。

在上述真空蒸镀装置中，可以还具有：真空腔室；以及第一窗部，其设置于所述真空腔室，所述拍摄部从所述真空腔室的外侧经由所述第一窗部拍摄所述夹持器。

在上述真空蒸镀装置中，可以还具有：第一防护部，其防止所述蒸镀物蒸镀在所述第一窗部。

在上述真空蒸镀装置中，所述第一防护部可以包括在所述真空室的内部切换遮挡所述第一窗部的遮挡状态和使第一窗部露出的露出状态的第一遮挡件。

在上述真空蒸镀装置中，所述第一防护部可以包括在所述真空室的内部介于所述第一窗部和所述蒸镀物的蒸镀源之间的防护板。

在上述真空蒸镀装置中，还具有：照明部，其在所述拍摄部拍摄时对所述夹持器照射光。

在上述真空蒸镀装置中，可以还具有：真空腔室；以及第二窗部，其设置于所述真空腔室，所述照明部从所述真空腔室的外侧经由所述第二窗部对所述夹持器照射光。

在上述真空蒸镀装置中，可以还具有：第二防护部，其防止所述蒸镀物蒸镀在所述第二窗部。

在上述真空蒸镀装置中，所述第二防护部可以包括在所述真空室的内部切换遮挡所述第二窗部的遮挡状态和使第二窗部露出的露出状态的第二遮挡件。

在上述真空蒸镀装置中，可以还具有：旋转体，其以能够旋转的方式支承所述多个夹持器中的各自转轴，能够围绕所述公转轴旋转；目视用第一标记，其设置在所述夹持器，对应于所述夹持器的自转公转而围绕所述自转轴旋转；以及目视用第二标记，其设置在所述旋转体，对应于所述旋转体的旋转而围绕所述公转轴旋转，所述目视用第二标记在所述夹持器变成规定的自转角度时，其位置与所述目视用第一标记一致。

本发明的自转角度判断方法，在能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转的多个夹持器中，通过拍摄部对保持有所述被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器进行拍摄，基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度。

本发明的蒸镀有蒸镀物的被蒸镀物的制造方法，在能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转的多个夹持器中，通过拍摄部对保持有所述被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器进行拍摄，基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度，基于判断的所述被蒸镀物的自转角度，使蒸镀物蒸镀在被蒸镀物。

发明效果

如上所述，根据本发明，能够提供一种能够在被蒸镀物可自转公转的真空蒸镀装置中准确地判断被蒸镀物的自转角度的技术。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式的真空蒸镀装置的示意性侧视图。

图2是在真空蒸镀装置内部从上侧观察其上部的示意图。

图3A是从上侧观察各夹持器和各晶片自转公转时的样子的图。

图3B是从上侧观察各夹持器和各晶片自转公转时的样子的图。

图4是表示拍摄对象夹持器的分解立体图。

图5是从上侧观察拍摄对象夹持器中的筒部和凸缘部的图。

图6是表示拍摄对象夹持器的其它例子的图。

图7是从正面侧观察第一遮挡件和第二遮挡件的图。

图8是用于说明拍摄部的视角的图，是表示在由拍摄部的图像上的拍摄对象夹持器和晶片的运动的图。

图9是表示拍摄部的视角与第一遮挡件和第二遮挡件的关系的图。

图10是表示拍摄部的视角与防护板的关系的图。

图11是表示控制装置中的控制部的处理的流程图。

图12是用于说明校正处理的图。

图13是表示预先存储校正处理的方法的一个例子的图。

图14是表示在拍摄对象夹持器的自转角度分别为0°、30°、60°、90°、120°、150°、180°、210°、240°、270°、300°、330°的情况下的校正处理后的图像的图。

图15是表示判断夹持器和晶片的自转角度时的处理的图。

图16是在真空蒸镀装置内部从上侧观察其上部的示意图，是表示目视用标记的图。

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。

<<第一实施方式>>

<真空蒸镀装置100的整体结构>

图1是示出本发明的一实施方式的真空蒸镀装置100的示意性侧视图。图2是在真空蒸镀装置100内部从上侧观察其上部的示意图。如图1所示，真空蒸镀装置100具有作为真空容器的真空腔室20。

在真空腔室20的内部，在其上侧配置有：能够分别保持晶片1(被蒸镀物)的多个夹持器10、分别固定在各夹持器10的自转轴21、以及分别固定在各自转轴21的自转用齿轮22。

此外，在真空腔室20的内部，在其上侧配置有：旋转体24，其以能够旋转的方式支承夹持器10的自转轴21且能够以公转轴23为中心轴旋转；和固定齿轮26，其与夹持器10的自转用齿轮22啮合。

这里，在图2中，在旋转体24的下侧的夹持器10、保持在夹持器10的下侧的晶片1等隐藏在旋转体24的下侧、夹持器10下侧等本来是看不见的，但为了便于理解本实施方式，在图2中用实线示出了夹持器10和晶片1等。对此，在后述的图3A、图3B和图16中也是如此。

此外，在真空腔室20的内部，在其下侧配置有：坩埚31，其储存作为蒸镀源的蒸镀材料；和电子束装置32，其通过用电子束照射坩埚31内的蒸镀材料来加热蒸镀材料。

此外，在真空腔室20的内部，在其下侧配置有：隔板33，其以覆盖坩埚31和电子束装置32的方式设置；和蒸镀源遮挡件34，其可开闭设置在隔板33的开口。

此外，在真空腔室20的外部设置有：真空泵41，其对真空腔室20的内部进行真空排气。此外，在真空腔室20的外部设置有：拍摄部43，其可拍摄保持晶片1的多个夹持器10中的至少一个夹持器10；和照明部44，其在拍摄部43拍摄时对作为拍摄对象的夹持器10(和晶片1)照射光。

此外，在真空腔室20的外部设置有：显示部45，其显示由拍摄部43拍摄的图像；和控制装置46，其统一控制真空蒸镀装置100的各部分。

此外，在构成真空腔室20的外壁部中，在与拍摄部43对应的位置设置有第一窗部47，在与照明部44对应的位置设置有第二窗部48。

在真空腔室20内部，在与第一窗部47对应的位置设置有用于防止蒸镀物附着和沉积在第一窗部47的第一防护部51。第一防护部51包括第一遮挡件53和防护板54。

在真空腔室20的内部，在与第二窗部48对应的位置设置有用于防止蒸镀物附着和沉积在第二窗部48的第二防护部52。第二防护部52包括第二遮挡件55(也可以包括防护板)。

<真空蒸镀装置100的各部分的详细结构>

固定齿轮26是构成为圆盘状的外齿轮，在其外周面的下侧形成有与夹持器10的自转用齿轮22啮合的多个齿部。在真空腔室20的内部，在其顶面部固定有多个支柱27，固定齿轮26固定在这些支柱27的下端部。此外，在固定齿轮26的中心位置设置有用于使公转轴23穿通的贯通口。

公转轴23是上下方向(Z轴方向)的轴，穿通真空腔室20的内外。公转轴23经由旋转导入器62以能够旋转的方式轴支承在真空腔室20的顶面部。旋转导入器62通过铁磁流体密封等构成，能够在以能够旋转的方式支承公转轴23的同时保持真空腔室20内的气密性。公转轴23的上端部侧与电动机61连结，公转轴23的下端部侧固定在旋转体24的中心位置。

电动机61根据来自控制装置46(控制部)的指令驱动，并通过该驱动使公转轴23旋转。可以对电动机61设置旋转编码器等旋转角度检测器，在这种情况下，旋转角度检测器检测出的旋转角度的信息被反馈到控制装置46。

旋转体24能够以能够旋转的方式轴支承多个夹持器10中的各自转轴21，此外，能够以公转轴23为中心轴旋转。旋转体24构成为圆盘状，其中心位置固定在公转轴23的下端部。此外，旋转体24在径向的外周侧以在周向上均等的间隔以能够旋转的方式轴支承各夹持器10的自转轴21。

在旋转体24中，在对夹持器10的自转轴21进行轴支承的位置更靠近径向内侧的位置设置有入射角度调节机构25。入射角度调节机构25使夹持器10围绕与公转轴23垂直的方向的轴转动，以调节蒸镀物相对于晶片1的入射角度。入射角度是夹持器10的下表面和晶片1的表面相对于上下方向(Z轴方向)形成的角度。

入射角度调节机构25例如由铰链机构等构成。入射角度调节机构25的入射角度的调节可以由电动机等自动进行，也可以手动进行。虽然各晶片1的入射角度典型地为各晶片1被设成共同的角度，但是也能够设定将一部分晶片1的入射角度设定为不同于其它晶片1的入射角度。

自转轴21由旋转体24以能够旋转的方式轴支承。自转轴21的上端部侧固定在自转用齿轮22的旋转中心，自转轴21的下端部侧固定在夹持器10的旋转中心。

自转用齿轮22是构成为圆盘状的外齿轮，在其外周面上形成有与固定自转用齿轮22啮合的多个齿部。固定齿轮26和自转用齿轮22被设计成即使当夹持器10被入射角度调节机构25旋转时，各齿部也适当地啮合。

这里，本实施方式中的用于夹持器10的转动的结构(入射角度调节机构25、夹持器转动时的固定齿轮26、自转用齿轮22的啮合结构等)只要是能够在保持向自转轴21提供适当的驱动力的状态的同时调节和固定蒸镀物相对于晶片1的入射角的结构，则可以是任何结构。

多个夹持器10能够分别保持晶片1，围绕公转轴23在分别自转的同时可公转。

晶片1是被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物的一个例子。被蒸镀物只要是被蒸镀物进行蒸镀的对象物，则可以是任何物体。晶片1构成为圆盘状，其一部分具有由定位平边(以下简称为定位边)形成的直线的缺口。

此外，在本实施方式中，在晶片1中，设置有在其表面上以特定的角度方向延伸的未图示的突起部或槽部(或者它们两者)，不仅在晶片1的表面进行蒸镀物的蒸镀，在突起部(特别是在一个方向延伸的侧面)或槽部(特别是在一个方向延伸的内壁面)也进行蒸镀物的蒸镀。

图3A和图3B是从上侧观察各夹持器10和各晶片1自转公转时的样子的图。参照图2和图3，多个夹持器10在周向上以一定的间隔(60°)配置，在保持该一定的间隔的状态下，围绕公转轴23在自转的同时公转。在图中所示的例子中，示出了夹持器10的数量为6个(间隔60°)的情况的例子，但是夹持器10的数量没有特别限定，能够适当变更。

各夹持器10(各晶片1)自转公转时的公转速度和自转速度在各夹持器10(各晶片1)中是共同的。在本实施方式中，各夹持器10(各晶片1)的公转方向从上侧观察是逆时针方向(从下侧(夹持器10的正面侧)观察是顺时针方向)。此外，各夹持器10(各晶片1)的自转方向从上侧观察是逆时针方向(从下侧(夹持器10的正面侧)观察是顺时针方向)。另外，自转公转的旋转方向也可以相反。

参照图3A和图3B，对各夹持器10和各晶片1的公转角度和自转角度进行说明。各夹持器10和各晶片1的公转角度，在以真空腔室20为基准的坐标系中，12点的位置为0°，逆时针(从上侧观察)的方向为角度增加的方向。各夹持器10和各晶片1的自转角度基于以公转轴23为基准的定位边的角度来设定，逆时针(从上侧观察)的方向为角度增加的方向。

在图3A的上侧的图中，示出了各夹持器10和各晶片1的公转角度为0°、60°、120°、180°、240°且自转角度为0°时的样子。在各夹持器10和各晶片1中，自转角度为0°是指连接公转轴23的中心和自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)的直线与基于定位边的直线正交的状态，且定位边比自转轴21靠近径向外侧的状态。

在图3A的中央的图中，示出了各夹持器10和各晶片1的公转角度为15°、75°、135°、195°、255°、315°且自转角度为90°时的样子。在各夹持器10和各晶片1中，自转角度为90°是指连接公转轴23的中心和自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)的直线与基于定位边的直线平行的状态，且定位边比自转轴21靠近左侧(从上侧观察)的状态。

在图3A的下侧的图中，示出了各夹持器10和各晶片1的公转角度为30°、90°、150°、210°、270°、330°且自转角度为180°时的样子。在各夹持器10和各晶片1中，自转角度为180°是指连接公转轴23的中心和自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)的直线与基于定位边的直线正交的状态，且定位边比自转轴21靠近径向内侧的状态。

在图3B的上侧的图中，示出了各夹持器10和各晶片1的公转角度为45°、105°、165°、225°、285°、345°且自转角度为270°时的样子。在各夹持器10和各晶片1中，自转角度为270°是指连接公转轴23的中心和自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)的直线与基于定位边的直线平行的状态，且定位边比自转轴21靠近右侧(从上侧观察)的状态。

在图3B的下侧的图中，示出了各夹持器10和各晶片1的公转角为60°、120°、180°、240°、300°、360°且自转角度为360°时的样子。在各夹持器10和各晶片1中，自转角度为360°是指连接公转轴23的中心和自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)的直线与基于定位边的直线正交的状态，且定位边比自转轴21靠近径向外侧的状态。即，自转角度360°与自转角度0°相同。

从图3可以理解，各夹持器10和各晶片1的自转角度根据公转运动而改变，但是其自转角度在各夹持器10和各晶片1中是共同的。

在图3所示的例子中，设计为当各夹持器10和各晶片1自转一周(360°)时，各夹持器10和各晶片1各自公转60°。另一方面，当各夹持器10和各晶片1自转一周(360°)时，各夹持器10和各晶片1的公转角度不限于60°，可适当变更。

另外，在本实施方式中，当各夹持器10和各晶片1自转一周(360°)时，各夹持器10和各晶片1公转的角度(60°)设计成与各夹持器10的周向上的间隔(60°)一致。

另外，关于这些角度，也可以不一定一致。在这种情况下，不进行利用电动机61的脉冲控制的、各夹持器10和各晶片1的向原点位置(后述)的对齐，而是基于拍摄部43拍摄的夹持器10和晶片1的图像进行该对齐。

在图2和图3中，作为拍摄部43的拍摄对象的夹持器10用黑色的圆强调表示。在本实施方式中，确定一个作为拍摄对象的夹持器10。在以真空腔室20为基准的坐标系中，当作为原点的基准的夹持器10(在图2、图3A的上侧，12点的位置的夹持器10)位于公转角度为0°的位置时，作为该拍摄对象的夹持器10是位于公转角度为60°的位置的夹持器10。

另外，在之后的说明中，在将作为拍摄对象的夹持器10与其它夹持器10进行区分的情况下，将该夹持器10称为拍摄对象夹持器10a。此外，在之后的说明中，在以真空腔室20为基准的坐标系中，将作为原点的基准的夹持器10(在图2、图3A的上侧，12点的位置的夹持器10)的公转角度为0°，自转角度为0°，且拍摄对象夹持器10a的公转角度为60°，自转角度为0°的位置称为原点位置(参照图2和图3A的上侧)。

图4是表示拍摄对象夹持器10a的分解立体图。图5是从上侧观察拍摄对象夹持器10a中的筒部11和凸缘部12的图。

如图4和图5所示，拍摄对象夹持器10a包括筒部11、固定在筒部11的下侧的凸缘部12、以及散热器13。此外，夹持器10具有：盖部14，其在与筒部11之间夹着并固定晶片1和散热器13；和轴部15，其固定在盖部14的中心。

筒体11具有筒体11a、和设置在筒体11a的下侧的底部11b。筒体11a构成为圆筒状，内部可收纳晶片1和散热器13。

在筒部11的底部11b形成有用于嵌入晶片1的嵌入槽11c，在该嵌入槽11c的下侧的位置设置有用于使晶片1从下方露出的露出口11d。

嵌入槽11c具有与晶片1的外形(XY方向)相同的形状(圆形且一部分为直线形状)，其尺寸比晶片1些许大。此外，露出口11d具有与晶片1的外形(XY方向)相同的形状(圆形且一部分为直线形状)，其尺寸比晶片1些许小。

在筒体11a的上侧，在周向上以规定间隔设置有三个卡定部3。三个卡定部3分别构成为L字状，能够将设置在盖部14的三个突起14a卡定。

卡定部3包括第一卡定部3a、第二卡定部3b、和第三卡定部3c。第一卡定部3a和第二卡定部3b设置在与定位边对应的一侧，第三卡定部设置在定位边的相反侧。

在本实施方式中，第一卡定部3a和第二卡定部3b的周向上的间隔为110°。此外，第二卡定部3b和第三卡定部3c的周向上的间隔为125°，第三卡定部3c和第一卡定部3a的周向上的间隔为125°。

也就是说，在本实施方式中，在多个卡定部3之间的周向上的间隔中，至少一个间隔与其它间隔不同。由此，当将晶片1设置在夹持器上时，能够始终在相同的方向设置晶片1(例如，在原点位置处能够以自转角度0°设置晶片1)。另外，也能够将多个卡定部3之间的周向上的间隔设为全部相同(等间隔)(在突起14a中同样)。

在这里的例子中，对卡定部3的数量为三个的情况进行了说明，但是卡定部3的数量不限于此，可适当变更(在突起14a中同样)。

凸缘部12为圆环状，形成为与筒部11相比其外径更大。在凸缘部12设置有在上下方向贯通的孔部2。该孔部2是作为用于判断夹持器10和晶片1的自转角度的基准的标记。

孔部2配置在穿过自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)且穿过基于晶片1的定位边的直线的中心的直线上。孔部2设置在离开拍摄对象夹持器10a的自转轴21的位置，对应于拍摄对象夹持器10a的自转公转而围绕自转轴21旋转。

在图中所示的例子中，孔部2的形状为圆形，但是该形状可适当变更。另外，作为孔部2的其它形状，可以举出椭圆、多边形(△、□、☆)、×号、+号等。另外，典型地，在孔部2的正上方不配置反射光那样的构造物。也就是说，成为经由孔部2能够看到背面侧的旋转体24的状态。由此，在拍摄部43拍摄的图像中，能够增加孔部2和其它部分之间的对比度。

散热器13配置在晶片1的上侧，将蒸镀时的晶片1产生的热释放到外部。另外，也可以省略散热器13。

盖部14构成为圆盘状，构成为其外径比筒部11的内径些许小。在盖部14的外周面上设置有从其外周面向径向外侧突出的三个突起14a。三个突起14a沿周向以规定间隔(与三个卡定部3相同的间隔：110°、125°、125°)形成。三个突起14a通过从上方嵌入三个L字状的卡定部3后围绕轴旋转，而被三个卡定部3卡定。

轴部15在盖部14的上侧固定在盖部14的中心位置。轴部15是构成自转轴21的下侧的构件。轴部15在其上侧具有嵌合部15a。嵌合部15a构成为能够与构成自转轴21的上侧的构件(未图示)嵌合。通过使嵌合部15a嵌合，构成自转轴21的下侧的构件即轴部15与构成自转轴21的上侧的构件嵌合，由此构成一体的自转轴21。

这里，拍摄对象夹持器10a和其它夹持器10之间的区别在于，除拍摄对象夹持器10a以外的夹持器10没有设置凸缘部12和孔部2。另外，可以对所有夹持器10设置凸缘部12和孔部2。

图6是表示拍摄对象夹持器10a的其它例子的图。在图6所示的例子中，省略了凸缘部12。此外，在图6所示的例子中，孔部2被设置成在上下方向贯通筒部11的底部11b。

与图4和图5所示的例子相同，孔部2配置在穿过自转轴21的中心(夹持器10和晶片1的中心)且穿过基于晶片1的定位边的直线的中心的直线上。此外，孔部2设置在离开拍摄对象夹持器10a的自转轴21的位置，对应于拍摄对象夹持器10a的自转公转而围绕自转轴21旋转。

此外，例如，在图4和图5所示的例子中，可以增加筒部11的筒体11a的厚度(径向)，使筒体11a的外径扩大至凸缘部12的外径的位置(在这种情况下，省略凸缘部12)。在这种情况下，也可以在筒体11a设置孔部2。

再次参照图1，在真空腔室20的内部，在其下侧配置有存储作为蒸镀源的蒸镀材料的坩埚31。坩埚31配置在公转轴23的正下方的位置。坩埚31可以是通过转换器切换多个坩埚31的类型。在这种情况下，例如，在坩埚31中的蒸镀材料减少的情况、将蒸镀材料切换成不同材料的情况下，通过转换器切换坩埚31。

电子束装置32配置在坩埚31附近。电子束装置32通过对坩埚31中的蒸镀材料照射电子束来加热蒸镀材料并蒸发蒸镀材料。

电子束装置32经由线缆64与电源63电连接。线缆64经由电流导入器65穿通真空腔室20的内外。电流导入器65能够在将线缆64穿通真空腔室20内外的同时保持真空腔室20内的气密性。电源63与控制装置46电连接，根据控制装置46的指令向电子束装置32供电，从电子束装置32射出电子束。

另外，在图中所示的例子中，作为蒸镀的方式使用了电子束方式，但是蒸镀的方式可以是电阻加热方式、高频感应方式、激光方式、或切换两种以上方式等，其方式没有特别限定。

隔板33以覆盖坩埚31和电子束装置32的方式设置，将真空腔室20内部的空间划分为上侧的第一空间(晶片1侧)和下侧的第二空间(蒸镀源侧)。

在隔板33中，在其上部，在与第一窗部47对应的位置设置有防护板54。防护板54在真空腔室20的内部介于第一窗部47和蒸镀物的蒸镀源之间。防护板54是由树脂或金属等材料构成的平板状构件，防止蒸镀物附着和沉积在第一窗部47。防护板54配置成相对于上下方向(Z轴方向)倾斜规定的角度。

另外，也可以在与第二窗部48对应的位置设置用于防止蒸镀物附着和沉积在第二窗部48的防护板。该防护板在真空腔室的内部介于第二窗部48和蒸镀物的蒸镀源之间。

此外，在隔板33中，在与坩埚31对应的位置设置有开口。蒸镀源用遮挡件34可切换设置在隔板33的开口的开闭状态。蒸镀源用遮挡件34在蒸镀材料的加热开始后紧接着将开口变成关闭状态，在蒸镀材料的蒸发稳定的时刻将开口打开，开始对晶片1的蒸镀。

蒸镀源用遮挡件34固定在电动机等致动器66的驱动轴67上。驱动轴67经由旋转导入器68以能够旋转的方式轴支承在真空腔室20的底部。旋转导入器68通过铁磁流体密封等构成，能够在以能够旋转的方式支承驱动轴67的同时保持真空腔室20内的气密性。

致动器68与控制装置46电连接，根据控制装置46的指令使驱动轴67驱动，从而使蒸镀源用遮挡件34驱动，切换隔板33中的开口的开闭状态。

真空泵41经由排气管42连接在真空腔室20的内部，能够对真空腔室20的内部进行真空排气。真空泵41与控制装置46电连接，根据控制装置46的指令对真空腔室20进行真空排气。

显示部45例如由液晶显示器等构成，根据控制部(图像处理部)的指令显示由拍摄部43拍摄的图像(包括静止图像、动态图像)等。显示部45例如在真空腔室20的侧壁部的外部固定在用户容易看到的位置。

拍摄部43根据控制部(图像处理部)的指令，经由第一窗部47拍摄多个夹持器10(和多个晶片1)中的至少一个夹持器10(和晶片1)。在本实施方式中，拍摄部43构成为拍摄多个夹持器10中的一个夹持器10(晶片1)。另外，在图2和图3中，拍摄对象夹持器10a用黑色的圆强调表示。

拍摄部43的受光轴例如相对于上下方向(Z轴方向)为30°～60°左右。另外，之后参照图8～图10等对拍摄部43的结构进行详细说明。

在利用由拍摄部43拍摄时，照明部44根据控制部(图像处理部)的指令，经由第二窗部48对拍摄对象夹持器10a(和晶片1)照射光。照明部44的投光轴例如相对于上下方向(Z轴方向)为45°～90°左右。

在图1所示的例子中，照明部44的投光轴配置在比拍摄部43的受光轴靠近上侧(晶片1侧)，但受光轴也可以配置在比投光轴靠近上侧(晶片1侧)。也就是说，拍摄部43可以配置在比照明部44靠近上侧。

此外，在图1所示的例子中，拍摄部43的受光轴与照明部44的投光轴不同，但受光轴和投光轴也可以一致。也就是说，拍摄部43和照明部44也可以配置在相同的位置。在拍摄部43和照明部44配置在相同位置的情况下，能够省略第二窗部48和第二遮挡件55(以及对应的防护板)。

另外，也能够省略照明部44(例如，从设置于真空腔室20的窗部47、48、其它窗部(用户供用于观察内部的情况的窗部等)充分获取光的情况等)。在省略了照明部44的情况下，也能够省略第二窗部48、第二遮挡件55(以及对应的防护板)。

以上，记载了可见光区域中的光成为可以在拍摄部43中获得足够精度的图像的光量的情况。另一方面，在使用了具有其它波长区域、特别是红外区域中的灵敏度的拍摄部43的情况下，也能够省略照明部44。在成膜时，由于在孔部2的表面和其上部之间产生温度差，因此在红外线图像中，其对比度升高，能够容易地检测出孔部2的位置。因此，从在产生上述温度差的成膜时检测孔部2的位置的观点出发，优选使用了红外线图像这样的方法。

第一窗部47和第二窗部48是由玻璃、丙烯酸树脂等构成的透明构件，构成真空腔室20的侧壁部的一部分。

第一遮挡件53在真空腔室20的内部，切换遮挡第一窗部47的遮挡状态和使第一窗部47露出的露出状态。第二遮挡件55在真空腔室20的内部，切换遮挡第二窗部48的遮挡状态和使第二窗部48露出的露出状态。第一窗部47和第二窗部48在通过拍摄部43拍摄时处于露出状态，在其它时刻处于遮挡状态。

图7是从正面侧观察的第一遮挡件53和第二遮挡件55的图。图7的上侧的图表示第一遮挡件53和第二遮挡件55遮挡窗部47、48的遮挡状态，图7的下侧的图表示第一遮挡件53和第二遮挡件55露出窗部47、48的露出状态。

如图7所示，第一遮挡件53具有比第一窗部47大的尺寸，以能够遮挡第一窗部47。同样地，第二遮挡件55具有比第二窗部48大的尺寸，以能够遮挡第二窗部48。

在图7所示的例子中，第一窗部47和第二窗部48的形状以及第一遮挡件53和第二遮挡件55的形状为圆形。另一方面，这些形状也可以是矩形等，对其形状没有特别限定。

第一遮挡件53的外周的一部分固定在驱动轴57上，第二遮挡件55的外周的一部分也固定在驱动轴57上。第一遮挡件53和第二遮挡件55夹着驱动轴57相对地设置，以驱动轴57作为旋转轴一体地旋转。

驱动轴57是与第一窗部47和第二窗部48中的平面正交的方向上的轴。驱动轴57由电动机等致动器56驱动(参照图1)。驱动轴57经由旋转导入器58以能够旋转的方式轴支承在真空腔室20的侧壁部。旋转导入器58通过铁磁流体密封等构成，能够以能够旋转的方式支承驱动轴57的同时保持真空腔室20内的气密性。

致动器56与控制装置46电连接，根据控制装置46的指令使驱动轴57驱动，从而使第一遮挡件53和第二遮挡件55驱动，切换第一窗部47和第二窗部48的遮挡状态和露出状态。

控制装置46可以是专用于真空蒸镀装置100的装置，也可以是PC(PersonalComputer：个人计算机)等通用的装置。控制装置46包括控制部、存储部、操作部、通信部等。

控制部基于存储在存储部中的各种程序执行各种运算，统一控制真空蒸镀装置100的各部分。

控制部通过硬件或硬件和软件的组合来实现。硬件构成为控制部的一部分或全部，作为该硬件，可以举出CPU(Central Processing Unit：中央处理器)、DSP(DigitalSignal Processor：数字信号处理器)、GPU(Graphics Processing Unit：图形处理器)、VPU(Vision Processing Unit：视觉处理单元)、FPGA(Field Programmable Gate Array：现场可编程门阵列)、PLC(Programmable Logic Controller：可编程逻辑控制器)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit：专用集成电路)、或者其中两个以上的组合等。

控制部包括图像处理部。图像处理部执行与拍摄部的拍摄有关的处理、拍摄的图像的图像处理、与显示部的图像显示有关的处理等。另外，图像处理部也可以单独设置在控制装置46的外部。

存储部包括存储控制部的处理所需的各种程序、各种数据的非易失性存储器、以及用作控制部的作业区域的易失性存储器。

另外，上述各种程序既可以从光盘、半导体存储器等可移动的记录介质中读取，也可以从网络上的服务器设备下载。

操作部输入用户的各种操作，向控制部输出。通信部例如构成为能够在网络上的服务器设备等其它设备之间通信。

<本发明的基本思想>

在此，对本发明的基本思想进行说明。如后所述，在本实施方式中，可切换动态蒸镀模式和静态蒸镀模式，所述动态蒸镀模式在使晶片1自转公转的同时进行蒸镀，静态蒸镀模式使晶片1静止并对镜片1进行蒸镀。

像这样，在本实施方式中，由于能够在一个真空蒸镀装置100中切换动态蒸镀模式和静态蒸镀模式，因此与例如使用分开的装置进行动态蒸镀和静态蒸镀的情况相比，能够削减成本。

在动态蒸镀模式中，通过在使晶片1自转公转的同时进行蒸镀，将蒸镀物均匀地蒸镀在晶片1的表面。另一方面，在静态蒸镀模式中，通过使晶片1静止并进行蒸镀，将蒸镀物蒸镀在设置在晶片1表面的在特定的角度方向延伸的突起部或槽部(或者两者上)。特别是由于本发明作为对在某个角度方向延伸的突起部的立面(侧面)的成膜方法是有效的，因此在以后的说明中，将静态蒸镀模式中的成膜对象作为突起部的侧面进行说明。

在动态蒸镀模式中，需要准确地控制晶片1的自转速度、公转速度，但另一方面，不太需要准确地控制晶片1的当前的自转角度。另一方面，在静态蒸镀模式中，需要准确地控制晶片1的当前的自转角度。

这是因为，基于设置在晶片1的表面上的突起部的侧面移动的方向的关系，在一定程度上确定用于在该突起部的侧面进行蒸镀的晶片1的自转角度。也就是说，如果晶片1的自转角度是不准确的角度，则无法使蒸镀物蒸镀在目标突起部的侧面。

晶片1的自转角度的控制能够仅基于使公转轴23旋转的电动机的脉冲控制、设置在该电动机上的旋转角度检测器等的信息来进行，但是在这种情况下，晶片1的自转角度容易变得不准确。

因此，在本实施方式中，在静态蒸镀模式下，通过拍摄部4对拍摄对象夹持器10a和晶片1进行拍摄，由控制部(图像处理部)基于拍摄的图像来判断当前的自转角度是否是目标自转角度。由此，能够在静态蒸镀模式下准确地控制晶片1的自转角度，能够使蒸镀物适当地蒸镀在设置于晶片1表面的突起部的侧面。

另外，在本实施方式中，在静态蒸镀模式下进行利用拍摄部43的拍摄和利用控制部(图像处理部)对晶片1的自转角度的判断，也可以在动态蒸镀模式下进行利用拍摄部43的拍摄和利用控制部(图像处理部)对晶片1的自转角度的判断。

<拍摄部43的视角>

接下来，对拍摄部43的视角的条件进行说明。图8是用于说明拍摄部43的视角的图，是表示在拍摄部43拍摄的图像上的拍摄对象夹持器10a和晶片1的运动的图。

在图8中，虚线的矩形表示拍摄部43的视角。此外，单点划线表示拍摄部43拍摄的图像内的拍摄对象夹持器10a和晶片1的公转轨道(从拍摄部43观看时的夹持器10和晶片1的公转轨道)。

此外，在图8中，两条虚线的曲线表示拍摄部43的图像内的拍摄对象夹持器10a和晶片1的扰动范围(从拍摄部43观看时的夹持器10和晶片1的扰动范围)。另外，关于扰动将在之后说明。

在图8中，示出了在拍摄对象夹持器10a和晶片1以0°～360°的自转角度旋转的情况下(参见图3中的黑色圆)，拍摄部43的图像内的拍摄对象夹持器10a和晶片1的运动(从拍摄部43观看时的夹持器10的运动)。

首先，对拍摄部43的横向视角进行说明。拍摄部43的横向视角对应于夹持器10和晶片1的公转方向。

拍摄部43的横向的视角至少包括当夹持器10和晶片1自转一周(360°)时夹持器10和晶片1在公转方向移动的范围。

例如，在拍摄部43的横向的视角中，右侧的边界线被设定为可拍摄在自转角度为0°时的拍摄对象夹持器10a的下表面整体(包括孔部2)和晶片1的表面整体。此外，在拍摄部43的横向的视角中，左侧边界线被设定为可拍摄在自转角度为360°时的拍摄对象夹持器10a的下表面整体(包括孔部2)和晶片1的表面整体。

接下来，对拍摄部43的纵向视角进行说明。拍摄部43的纵向的视角对应于夹持器10和晶片1的扰动方向。

这里，扰动是指夹持器10和晶片1的公转轨道在扰动方向(径向)偏移，而夹持器10和晶片1在扰动方向偏移。此外，扰动范围是指夹持器10和晶片1在扰动方向(径向)扰动的范围。

像这样，夹持器10和晶片1被入射角度调节机构25转动而调节入射角度。此时，夹持器10和晶片1在扰动方向扰动。

拍摄部43的纵向的视角至少包括：由于入射角度的调节引起的夹持器10和晶片1的转动使夹持器10和晶片1在扰动方向扰动时的扰动范围。

例如，在拍摄部43的纵向的视角中，上侧的边界线被设定为能够在拍摄对象夹持器10a和晶片1向扰动方向的最内侧扰动时，对拍摄对象夹持器10a的下表面整体(包括孔部2)和晶片1的表面整体进行拍摄。此外，在拍摄部43的纵向的视角中，下侧的边界线被设定为能够在拍摄对象夹持器10a和晶片1向扰动方向的最外侧扰动时，对拍摄对象夹持器10a的下表面整体(包括孔部2)和晶片1的表面整体进行拍摄。

另外，当入射角的调节引起的夹持器10和晶片1的转动使夹持器10和晶片1扰动时，在拍摄部43的图像中，拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1的表面的观看时的面积改变。

也就是说，拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1表面相对于拍摄部43的受光轴越接近垂直，拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1表面的观看时的面积越大。相反，拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1表面相对于拍摄部43的受光轴越偏离垂直，该观看时的面积变得越小。因此，考虑这一点，也可以设定拍摄部43的纵向的视角。

图9是表示拍摄部43的视角与第一遮挡件53和第二遮挡件55的关系的图。如图9所示，在第一窗部47和第二窗部48的露出状态下，第一遮挡件53和第二遮挡件55的位置被设定为位于拍摄部43的横向的视角外。

图10是表示拍摄部43的视角与防护板54的关系的图。如图10所示，防护板54的位置被设定为位于拍摄部43的纵向的视角外(在设置有与第二窗部48对应的防护板的情况下，该防护板也同样)。

<动作说明>

接下来，对控制装置46中的控制部的处理进行说明。图11是表示控制装置46中的控制部的处理的流程图。

作为图11的流程图中开始时的真空腔室20的内部初始状态，以真空泵41基于控制装置46的指令运转，成为适于蒸镀的真空度为前提。另一方面，基于下述的蒸镀次序，也可以包括大气开放的步骤，插入在蒸镀前的步骤的某个时间点成为适于蒸镀的真空度的步骤。

首先，控制部基于蒸镀次序判断接下来的蒸镀模式是动态蒸镀模式还是静态蒸镀模式(步骤101)。

在蒸镀次序中，预先规划了动态蒸镀模式和静态蒸镀模式的顺序。例如，在蒸镀次序中，蒸镀模式的顺序规划为动态蒸镀模式→静态蒸镀模式的顺序、静态蒸镀模式→动态蒸镀模式的顺序、动态蒸镀模式和静态蒸镀模式交替重复的顺序等。

这里，蒸镀次序例如可以通过由控制部中的未图示的存储部预先读取用于实现作为被蒸镀物的晶片1所需的成膜(附着或沉积)的具体的动作顺序来获得。

在蒸镀次序中，动态蒸镀模式与自转公转速度、入射角度、蒸镀物的种类(利用转换器的坩埚31的选择)等信息相关联。此外，在蒸镀次序中，静态蒸镀模式与自转角度、入射角度、蒸镀的种类等信息相关联。

另外，在本实施方式的说明中，在动态蒸镀模式中入射角度、蒸镀物的种类中的任意一个不同的情况下，将它们作为不同的动态蒸镀模式。此外，在静态蒸镀模式中自转角度、入射角度、蒸镀物的种类中的任意一个不同的情况下，将它们作为不同的静态蒸镀模式进行说明。

因此，在本实施方式中，在蒸镀次序中，动态蒸镀模式有时以动态蒸镀模式→动态蒸镀模式的方式连续(入射角度、蒸镀物的种类不同的情况下)。此外，静态蒸镀模式有时以静态蒸镀模式→静态蒸镀模式的方式连续(自转角度、入射角度、蒸镀物的种类不同的情况下)。

当判断下一次蒸镀模式时，控制部判断该蒸镀模式是否是静态蒸镀模式(步骤102)。在下一次蒸镀模式不是静态蒸镀模式的情况(步骤102的“否”)，也就是下一次蒸镀模式是动态蒸镀模式的情况下，控制部开始动态蒸镀模式(步骤122)。

当动态蒸镀模式开始时，控制部判断是否需要变更晶片1相对于蒸镀物的入射角度(步骤123)。

在需要变更入射角度的情况下(步骤123的“是”)，控制部使入射角度调节机构25驱动，以使各夹持器10和各晶片1转动，变更入射角度(步骤124)。然后，控制部进入到下一个步骤125。

另一方面，在不需要变更入射角度的情况下(步骤123的“否”)，控制部跳过步骤124(不变更入射角度)，进入到下一个步骤125。

在步骤125中，控制部判断是否需要变更蒸镀物的种类。在需要变更蒸镀物的种类的情况下(步骤125的“是”)，控制部使转换器(未图示)驱动来变更坩埚31，从而变更蒸镀物的种类(步骤126)。然后，控制部进入到下一个步骤127。

另一方面，在不需要变更蒸镀物的种类的情况下(步骤125的“否”)，控制部跳过步骤126(不变更蒸镀物的种类)，进入到下一个步骤127。

在步骤127中，控制部在使各夹持器10和各晶片1自转公转的同时使蒸镀物蒸镀在晶片1的表面。接下来，控制部判断动态蒸镀是否结束(步骤128)。

在动态蒸镀没有结束的情况下(步骤128的“否”)，控制部返回步骤127，继续执行动态蒸镀。在动态蒸镀已结束的情况下(步骤128的“是”)，控制部判断蒸镀次序中包括的所有蒸镀模式是否结束(步骤129)。

在蒸镀次序中包括的所有蒸镀模式中还残留有未结束的蒸镀模式的情况下(步骤129的“否”)，控制部返回步骤101，由蒸镀次序判断下一次蒸镀模式。另一方面，在蒸镀次序中包括的所有蒸镀模式已结束的情况下(步骤129的“是”)，控制部结束处理。

在步骤102中，在下一次蒸镀模式是静态蒸镀模式的情况下(步骤102的“是”)，控制部开始静态蒸镀模式(步骤103)。当开始静态蒸镀模式时，控制部判断是否需要变更晶片1相对于蒸镀物的入射角度(步骤104)。

在需要变更入射角度的情况下(步骤104的“是”)，控制部使入射角度调节机构25驱动，以使各夹持器10和各晶片1驱动，变更入射角度(步骤105)。然后，控制部进入到下一个步骤106。

另一方面，在不需要变更入射角度的情况下(步骤104的“否”)，控制部跳过步骤105(不变更入射角度)，进入到下一个步骤106。

在步骤106中，控制部判断是否需要变更蒸镀物的种类。在需要变更蒸镀物的种类的情况下(步骤106的“是”)，控制部使转换器(未图示)驱动来变更坩埚31，从而变更蒸镀物的种类(步骤107)。然后，控制部进入到下一个步骤108。

另一方面，在不需要变更蒸镀物的种类的情况下(步骤106的“否”)，控制部跳过步骤107(不变更蒸镀物的种类)，进入到下一个步骤108。

在步骤108中，控制部判断上一次蒸镀模式是否是静态蒸镀模式。在上一次蒸镀模式是静态蒸镀模式的情况下(步骤108的“是”)，控制部判断各夹持器10和各晶片1的自转角度与上一次静态蒸镀模式中的自转角度是否相同(步骤109)。

在各夹持器10和各晶片1的自转角度与上一次静态蒸镀模式中的自转角度相同的情况下(步骤109的“是”)(例如，在与上一次静态蒸镀模式走向相同的突起部的侧面进行蒸镀的情况)，控制部跳过步骤110～步骤115(不执行自转角度的变更、利用拍摄确认自转角度等的处理)，进入到步骤116。

在步骤108中，在上一次蒸镀模式是动态蒸镀模式的情况下(步骤108的“否”)，控制部跳过步骤109，进入到下一个步骤110。此外，在步骤109中，虽然上一次蒸镀模式是静态蒸镀模式，但是在本次的自转角度与上一次的自转角度不同的情况下(步骤109的“否”)(例如，在与上一次静态蒸镀模式走向不同的突起部的侧面进行蒸镀的情况)，控制部进入到下一个步骤110。

在步骤110中，控制部通过电动机61驱动公转轴23，以使各夹持器10和各晶片1移动至原点位置。

需要说明的是，如上所述，原点位置是在以真空腔室20为基准的坐标系中，作为原点基准的夹持器10(在图2、图3A的上侧中，12点的位置的夹持器10)的公转角度为0°、自转角度为0°，且拍摄对象夹持器10a的公转角度为60°、自转角度为0°的位置(参照图2和图3A的上侧)。

当各夹持器10和各晶片1向原点位置移动时，接着，控制部通过电动机61使公转轴23旋转，使各夹持器10和各晶片1向其变成目标自转角度的位置移动(步骤111)。另外，在目标自转角度与原点位置的自转角度(也就是自转角度为0°)一致的情况下，控制部省略步骤111的处理。接下来，控制部(图像处理部)利用拍摄部43对拍摄对象夹持器10a和晶片1进行拍摄(步骤112)。

接下来，控制部(图像处理部)执行将实际拍摄的拍摄对象夹持器10a和晶片1的图像以从正面看到拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1的表面那样进行校正的校正处理(步骤113)。

图12是用于说明校正处理的图。在图12中上侧的图是示出校正处理前的图像的图，在图12中下侧的图是示出校正处理后的图像的图。

参照图12的上侧的图，由于拍摄部43的投光轴相对于拍摄对象夹持器10a的下表面、晶片1的表面不垂直，因此在该图像中，拍摄对象夹持器10a的下表面、晶片1的表面为椭圆形。另一方面，参照图12的下侧的图，当对该图像进行校正处理时，在该图像中，拍摄对象夹持器10a的下表面、晶片1的表面变为圆形，将拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1的表面校正成从正面观察的样子。

这里，对用于步骤113的校正处理的事先设定进行说明。控制部(图像处理部)通过事先设定，按夹持器10和晶片1的每个自转角度、每个入射角度，预先存储怎样校正实际拍摄的图像能够像正面图像那样进行校正处理。

图13是表示通过事先设定而预先存储校正处理的方法的一个例子的图。参照图13的最上面，在拍摄对象夹持器10a的下表面粘贴了棋盘格纹的板的状态下，将拍摄对象夹持器10a设定为某个自转角度和某个入射角度。

另外，此时的拍摄对象夹持器10a的自转角度的模式例如是0°、30°、60°、90°、120°、150°、180°、210°、240°、270°、300°、330°这12种模式。此外，此时的拍摄对象夹持器10a的入射角度的模式例如是60°、70°、80°和90°这4种模式。这种情况下，全部模式为12×4为48种模式。

在该48种模式中，如图13上侧的图所示的图像分别由拍摄部43拍摄。之后，如图13的中间的图所示，当检测到棋盘的白块部分，以使白块部分的间隔均等的方式进行校正处理时，如图13的下侧的图所示那样，成为从正面观察拍摄对象夹持器10a的下表面那样的图像。该校正处理的方法对48种模式分别进行，分别对48种模式建立关联地存储。

返回图11的步骤的说明。当执行校正处理时，接着，控制部(图像处理部)基于校正处理后的图像，判断夹持器10和晶片1的自转角度(步骤114)。

图14是表示在拍摄对象夹持器10a的自转角度分别为0°、30°、60°、90°、120°、150°、180°、210°、240°、270°、300°、330°的情况下的校正处理后的图像的图。

在步骤114中，控制部(图像处理部)对校正处理后的图像进行拍摄对象夹持器10a和晶片1的中心位置的检测和孔部2的位置的检测，基于这些位置，判断夹持器10和晶片1的自转角度。

图15是表示判断夹持器10和晶片1的自转角度时的处理的图。首先，控制部(图像处理部)检测拍摄对象夹持器10a的外形，并从拍摄对象夹持器10a的外形检测拍摄对象夹持器10a和晶片1的中心位置(自转轴的中心位置)。

接下来，控制部(图像处理部)检测孔部2的位置。然后，控制部(图像处理部)对如下直线的方向进行判断，该直线与连接拍摄对象夹持器10a和晶片1的中心位置(自转轴的中心位置)与孔部2的位置的直线正交，并且该直线穿过拍摄对象夹持器10a和晶片1的中心位置(自转轴的中心位置)。

该直线的方向是与晶片1中的定位边平行的直线。控制部(图像处理部)基于图像内的该直线的方向判断夹持器10和晶片1的自转角度。另外，控制部(图像处理部)预先存储有在图像中该直线的方向变为哪个方向时夹持器10和晶片1的自转角度成为哪个角度。

在判断夹持器10和晶片1的自转角度之后，控制部进入到下一个步骤115。在步骤115中，控制部(图像处理部)判断夹持器10和晶片1的自转角度相对于成为目标值的自转角度是否在规定范围内(例如±10°以内)。

在夹持器10和晶片1的自转角度相对于成为目标值的自转角度不在规定范围内(例如±10°以内)的情况下(步骤115的“否”)，控制部(图像处理部)将错误次数+1(步骤119)。然后，控制部(图像处理部)判断错误次数是否为2次以下(步骤120)。

在错误次数为2次以下的情况下(步骤120的“是”)，控制部(图像处理部)返回步骤110，再次执行步骤110以后的处理。另一方面，在错误次数为3次的情况下(步骤120的“否”)，控制部(图像处理部)在显示部45的画面上显示由错误引起的警告(步骤121)，结束处理。

另外，在这里的说明中，对发生错误时，各夹持器10和各晶片1再次返回原点位置后，将各夹持器10和各晶片1再次移动至目标自转角度的位置的情况进行了说明。

另一方面，控制部(图像处理部)在步骤114中识别各夹持器10和各晶片1的自转角度。因此，控制部(图像处理部)能够判断当前的自转角度相对于上述规定的范围(±10°)还少几度、超过了几度等。因此，控制部(图像处理部)也可以执行如下处理：当发生错误时，基于该判断，以与差相应的量使各夹持器10和各晶片1自转公转，将自转角度控制在规定的范围内。

在步骤115中，在夹持器10和晶片1的自转角度相对于目标值在规定范围内的情况下(步骤115的“是”)，控制部进入到步骤116。在步骤116中，控制部以使各夹持器10和各晶片1静止的状态下进行蒸镀，将蒸镀物蒸镀在设置于晶片1的突起部的侧面。

接下来，控制部判断静态蒸镀是否结束(对目标突起部的侧面的蒸镀结束)(步骤117)。在静态蒸镀没有结束(对目标突起部的侧面的蒸镀结束)的情况下(步骤117的“否”)，控制部返回步骤116，继续执行静态蒸镀。

另一方面，在静态蒸镀已结束(对目标突起部的侧面的蒸镀结束)的情况下(步骤117的“是”)，控制部判断是否蒸镀次序中包括的所有蒸镀模式已经结束(步骤118)。

在蒸镀次序中包括的所有蒸镀模式中还残留有未结束的蒸镀模式的情况下(步骤118的“否”)，控制部返回步骤101，由蒸镀次序判断下一次蒸镀模式。另一方面，在蒸镀次序中包括的所有蒸镀模式已结束的情况下(步骤118的“是”)，控制部结束处理。

这里，在图11所示的例子的情况下，在上一次蒸镀模式为静态蒸镀模式，本次蒸镀模式为静态蒸镀模式的情况下(步骤108的“是”)，并且在不需要变更自转角度的情况下(步骤109的“否”)，各夹持器10和各晶片1再次返回到原点位置后(步骤110)，各夹持器10和各晶片1再次移动到目标自转角度的位置(步骤111)。

另一方面，控制部(图像处理部)在步骤114中识别上一次静态蒸镀模式中的各夹持器10和各晶片1的自转角度。因此，控制部(图像处理部)能够根据各夹持器10和各晶片1的当前的自转角度，判断进行何种程度的自转公转才能够使各夹持器10和各晶片1向本次静态蒸镀模式中的自转角度的位置移动。因此，控制部(图像处理部)在变更自转角度时，能够省略向原点位置的恢复处理，以与差相应的量使夹持器10和晶片1自转公转，将当前自转角度变更为目标自转角度。

另外，在需要变更自转角度的情况下，当执行暂时恢复为原点位置的处理时，能够降低从电动机61到自转轴21的旋转传递机构中的齿轮间隙、滞后等(非线性部)死区的影响(降低错误次数)，因此，在这一点上优选。

<用户的目视用标记4>

接下来，对用户的目视用标记4进行说明。在上述图14中，例如参照夹持器10和晶片1的自转角度为0°的图。假设自转角度为0°的图像被显示在显示部45上，用户目视该图像。然而，即使用户看到该图像，也很难直观地判断夹持器10和晶片1的自转角度为0°。

因此，可以设置目视用标记4，以使用户能够直观地识别夹持器10和晶片1的自转角度。

图16是在真空蒸镀装置100内部从上侧观察其上部的示意图，是示出目视用标记4的图。如图16所示，目视用标记4包括设置在拍摄对象夹持器10a的第一目视用标记4a和设置在旋转体24的第二目视用标记4b。

这里，在图16中，第一目视用标记4a和第二目视用标记4b被隐藏在固定齿轮26的下侧、旋转体24的下侧、夹持器10的下侧等，本来是看不见的，但为了便于理解本实施方式，在图16中，用实线示出了第一目视用标记4a和第二目视用标记4b。

第一目视用标记4a随着拍摄对象夹持器10a的自转公转而围绕自转轴21旋转。第二目视用标记随着旋转体24的旋转而围绕公转轴23旋转，且当拍摄对象夹持器10a变成规定的自转角度时，其位置与第一目视用标记一致。

第一目视用标记4a形成在拍摄对象夹持器10a的下表面。第一目视用标记4a构成为以自转轴21的位置为中心呈放射状延伸的线状。第一目视用标记4a围绕自转轴21以30°的间隔设置(总计12条)。

第二目视用标记4b形成在旋转体24的下表面。第二目视用标记4b构成为以公转轴23的位置为中心呈放射状延伸的线状。第二目视用标记4b围绕公转轴23以15°的间隔设置，在原点位置设置在公转角度为60°、75°、90°、105°、120°的位置(总计5条)。

当拍摄对象夹持器10a的自转角度为0°、90°、180°、270°、360°时，第二目视用标记4b的位置与第一目视用标记4a一致。当第一目视用标记和第二目视用标记一致时，用户能够直观地识别夹持器10和晶片1的自转角度为0°、90°、180°、270°、360°等容易划分的角度。

另外，第一目视用标记4a的周向上的间隔和条数、以及第二目视用标记4b的周向上的间隔和条数等并不限于这里所举出的例子，能够适当变更。此外，第一目视用标记4a可以相对于所有的夹持器10设置，第二目视用标记4b可以设置在旋转体24的整周上。

<作用等>

如上所述，本实施方式的真空蒸镀装置100具有：多个夹持器10，其能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的晶片1，围绕公转轴23在分别自转的同时可公转；拍摄部43，其可拍摄保持有晶片1的多个夹持器10中的至少一个夹持器10；以及控制部，其基于拍摄部43拍摄的图像来判断晶片1的自转角度。

由此，能够在晶片1可自转公转的真空蒸镀装置100中准确地判断晶片1的自转角度。

特别地，在自转公转型的真空蒸镀装置100中，由于存在多个从一个驱动力(电动机61)到自转轴21的旋转传递机构，因此存在齿轮间隙、滞后等(非线性部)死区。因此，在仅基于驱动力(电动机61)侧的脉冲控制、旋转角度检测器的位置检测中，作为误差不得不允许齿轮间隙、滞后等的影响。另外，由于齿轮间隙、滞后等为了应对蒸镀时被施加的热而设置的(不设置则会导致旋转传递机构的早期损坏)，因此这些设置对于真空蒸镀装置100是必须的结构。

即，在以不能允许齿轮间隙、滞后等误差为条件的静态蒸镀中，本实施方式的技术思想更加发挥效果。此外，在本实施方式中，能够提供一种真空蒸镀装置100，其能够一并实施不同的自转角度条件下的静态蒸镀、动态蒸镀，能够连续地切换这些静态蒸镀、动态蒸镀来执行蒸镀。

此外，本实施方式是可切换动态蒸镀模式和静态蒸镀模式的类型。由此，与不同的装置各自分担而进行动态蒸镀模式和静态蒸镀模式的情况相比，能够削减费用。

此外，在本实施方式中，在静态蒸镀模式中，判断晶片1的自转角度，控制其自转角度。由此，在静态蒸镀模式下，能够使蒸镀物适当地蒸镀在晶片1的突起部的侧面。

此外，在本实施方式中，拍摄部43的横向的视角至少包括当拍摄对象夹持器10a自转一周时拍摄对象夹持器10a在公转方向移动的范围。由此，能够准确地判断晶片1的自转角度，准确地控制自转角度。

此外，在本实施方式中，拍摄部43的纵向的视角至少包括由于入射角度的调节引起的拍摄对象夹持器10a的转动使拍摄对象夹持器10a在扰动方向扰动时的扰动范围。由此，能够准确地判断晶片1的自转角度，准确地控制自转角度。

此外，作为入射角度调节机构25的另一实施方式，如果使用手动的旋转导入和直线导入机构能够调节入射角度(例如使用如下述手动操纵机构，该手动操纵机构使用能够通过旋转螺丝来调节入射角度的入射角度调节机构，利用嵌合在该螺丝头的轴，通过该轴向真空腔室20内部进行旋转和直线导入)，则在保持真空腔室20内部的真空度的状态下可手动调节入射角度。通过这种方式，即使是手动调节，也能够不使真空腔室20大气开放，而保持适于蒸镀的真空度(例如，图11的步骤105和124中的入射角的变更也能够通过手动而不是自动地进行)。因此，在通过图11的各步骤实施成膜的基础上，能够缩短工序，提高生产效率。

此外，在本实施方式中，拍摄对象夹持器10a具有用于判断晶片1的自转角度的标记。由此，能够进一步准确地判断晶片1的自转角度，准确地控制自转角度。

此外，在本实施方式中，该标记是贯通凸缘部12的孔部2。由此，能够增大孔部2和孔部2以外的部分之间的对比度，能够容易地检测成为晶片1的自转角度的判断依据的标记。

在本实施方式中，也可以对所有的夹持器10设置标记，在这种情况下，也可以对所有的夹持器分别设置尺寸、形状等不同的标记。由此，能够区分各夹持器10。例如，标记可以是相同的形状且不同的尺寸，或者是相同的尺寸且不同的形状(例如，圆、椭圆、多边形(△、□、☆)、×号、+号等)，或者是不同的尺寸且不同的形状。

这样，通过区分识别各夹持器10，图11的步骤104中的在向原点位置的恢复操作中，能够使用位于拍摄部43的视角内的夹持器的位置信息。由此，能够缩短向原点位置的恢复操作所花费的时间，能够提高生产率。此外，在上述的错误等异常时，能够快速确定成为异常原因的夹持器10。

此外，在本实施方式中，基于图像内的标记的位置和夹持器10的中心位置来判断自转角度。由此，能够进一步准确地判断晶片1的自转角度，准确地控制自转角度。

此外，在本实施方式中，执行将拍摄对象夹持器10a和晶片1的图像以从正面看到拍摄对象夹持器10a的下表面和晶片1的表面那样进行校正的校正处理。由此，能够进一步准确地判断晶片1的自转角度，准确地控制自转角度。

此外，在本实施方式中，在与拍摄部43中的第一窗部47对应的位置设置第一遮挡件53和防护板54。由此，能够适当地防止蒸镀物蒸镀在第一窗部47。

此外，在本实施方式中，设置有：照明部44，其在拍摄部43拍摄时对夹持器10照射光。由此，能够进一步准确地判断晶片1的自转角度，准确地控制自转角度。

此外，在本实施方式中，在与照明部44中的第二窗部48对应的位置设置第二遮挡件55(和防护板)。由此，能够适当地防止蒸镀物蒸镀在第二窗部48。

此外，在本实施方式中，在设置有目视用标记4的情况下，用户通过图像间接地、或者直接地观察目视用标记4，从而能够直观地识别晶片1的自转角度。

附图标记说明

1：晶片

2：孔部

10：夹持器

20：真空腔室

31：坩埚

43：拍摄部

44：照明部

46：控制装置

47：第一窗部

48：第二窗部

53：第一遮挡件

54：防护板

55：第二遮挡件

100：真空蒸镀装置

Claims (23)

1.一种真空蒸镀装置，具有：

多个夹持器，其能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物，并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转；

拍摄部，其能够拍摄保持有被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器；以及

控制部，其基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其中，

所述控制部切换动态蒸镀模式和静态蒸镀模式，

所述动态蒸镀模式在使所述被蒸镀物自转公转的同时对被蒸镀物进行蒸镀，所述静态蒸镀模式使所述被蒸镀物静止并对被蒸镀物进行蒸镀。

3.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其中，

所述控制部在所述静态蒸镀模式下，使所述拍摄部进行拍摄，判断所述被蒸镀物的自转角度。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的真空蒸镀装置，其中，

所述拍摄部的视角至少包括当所述夹持器自转一周时所述夹持器在公转方向移动的范围。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的真空蒸镀装置，还具有：

入射角度调节机构，其使所述夹持器围绕与所述公转轴垂直的方向的轴转动，调节所述蒸镀物相对于所述被蒸镀物的入射角度。

6.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置，其中，

所述拍摄部的视角至少包括由于所述入射角度的调节引起的所述夹持器的转动使所述夹持器在摄动方向摄动时的摄动范围。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的真空蒸镀装置，其中，

所述夹持器具有用于判断所述被蒸镀物的自转角度的标记。

8.根据权利要求7所述的真空蒸镀装置，其中，

所述标记设置在离开所述夹持器的自转轴的位置，对应于所述夹持器的自转公转而围绕所述自转轴旋转。

9.根据权利要求8所述的真空蒸镀装置，其中，

所述夹持器具有凸缘部，

所述标记设置在凸缘部。

10.根据权利要求9所述的真空蒸镀装置，其中，

所述标记是贯通所述凸缘部的孔部。

11.根据权利要求8～10中任一项所述的真空蒸镀装置，其中，

所述控制部基于所述图像内的标记的位置和夹持器的中心位置，判断所述自转角度。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的真空蒸镀装置，其中，

所述控制部执行将所述图像内的夹持器以从所述夹持器的正面看到那样进行校正的校正处理，基于校正处理后的图像判断所述自转角度。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的真空蒸镀装置，还具有：

真空腔室；以及

第一窗部，其设置于所述真空腔室，

所述拍摄部从所述真空腔室的外侧经由所述第一窗部拍摄所述夹持器。

14.根据权利要求13所述的真空蒸镀装置，还具有：

第一防护部，其防止所述蒸镀物蒸镀在所述第一窗部。

15.根据权利要求14所述的真空蒸镀装置，其中，

所述第一防护部包括在所述真空腔室的内部切换遮挡所述第一窗部的遮挡状态和使第一窗部露出的露出状态的第一遮挡件。

16.根据权利要求14或15所述的真空蒸镀装置，其中，

所述第一防护部包括在所述真空腔室的内部介于所述第一窗部和所述蒸镀物的蒸镀源之间的防护板。

17.根据权利要求1～16中任一项所述的真空蒸镀装置，还具有：

照明部，其在所述拍摄部拍摄时对所述夹持器照射光。

18.根据权利要求17所述的真空蒸镀装置，还具有：

真空腔室；以及

第二窗部，其设置于所述真空腔室，

所述照明部从所述真空腔室的外侧经由所述第二窗部对所述夹持器照射光。

19.根据权利要求18所述的真空蒸镀装置，还具有：

第二防护部，其防止所述蒸镀物蒸镀在所述第二窗部。

20.根据权利要求19所述的真空蒸镀装置，其中，

所述第二防护部包括在所述真空腔室的内部切换遮挡所述第二窗部的遮挡状态和使第二窗部露出的露出状态的第二遮挡件。

21.根据权利要求1～20中任一项所述的真空蒸镀装置，还具有：

旋转体，其以能够旋转的方式支承所述多个夹持器的各自转轴，能够围绕所述公转轴旋转；

目视用第一标记，其设置在所述夹持器，对应于所述夹持器的自转公转而围绕所述自转轴旋转；以及

目视用第二标记，其设置在所述旋转体，对应于所述旋转体的旋转而围绕所述公转轴旋转，所述目视用第二标记在所述夹持器变成规定的自转角度时，其位置与所述目视用第一标记一致。

22.一种自转角度判断方法，其中，

在能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转的多个夹持器中，通过拍摄部对保持有所述被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器进行拍摄，

基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度。

23.一种蒸镀有蒸镀物的被蒸镀物的制造方法，其中，

在能够分别保持被蒸镀物进行蒸镀的被蒸镀物并能够在分别自转的同时围绕公转轴公转的多个夹持器中，通过拍摄部对保持有所述被蒸镀物的所述多个夹持器中的至少一个夹持器进行拍摄，

基于所述拍摄部拍摄的图像，判断所述被蒸镀物的自转角度，

基于判断的所述被蒸镀物的自转角度，使蒸镀物蒸镀在所述被蒸镀物。

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