CN116300333A - 一种光学镜头 - Google Patents
一种光学镜头 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116300333A CN116300333A CN202310137811.5A CN202310137811A CN116300333A CN 116300333 A CN116300333 A CN 116300333A CN 202310137811 A CN202310137811 A CN 202310137811A CN 116300333 A CN116300333 A CN 116300333A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- group
- light
- lens
- groups
- object plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
- G02B13/0015—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras characterised by the lens design
- G02B13/002—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras characterised by the lens design having at least one aspherical surface
- G02B13/0045—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras characterised by the lens design having at least one aspherical surface having five or more lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
- G02B13/0055—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
- G02B13/0055—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element
- G02B13/0065—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element having a beam-folding prism or mirror
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70316—Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
本发明属于光刻工艺设备技术领域,具体涉及一种光学镜头,可用于高分辨率紫外光刻机。一个物面(掩模面)经过投影物镜后可以多次成像形成多个像面,从而使产率成倍增加。节省了投影物镜以及整个曝光设备的成本。同时,本发明可以实现多个物面成一个或多个像面的技术效果。
Description
技术领域
本发明属于光刻工艺设备技术领域,具体涉及一种光学镜头。
背景技术
光学光刻是一种利用光将掩模图案投影复制到硅片面的复制技术,集成电路就是投影曝光装置而制成的。借助于投影曝光装置,具有不同掩模图案的图形被成像至基底上,用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板或微机电等一系列结构。过去几十年曝光设备技术水平不断发展,满足了更小线条尺寸,更大曝光面积,更高的可靠性及产率,以及更低的成本需求。
为了获得高产率,通常使用汞灯或激光光源,光学光刻领域的大视场步进光刻装置通常使用g线、h线、i线,KrF,ArF等光源。高产率的提升方式一般是增大视场尺寸,提升照度等,这两种方法会直接导致光学系统的复杂程度增加,从而引起曝光系统的成本过高,而且由大视场、高照度等带来的系统像差矫正、镜头热效应、镜片加工、装配等一系列的问题亟需解决。传统镜头一个掩模对应一个像面,效率受限。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种高产率的投影光刻物镜,可用于高分辨率紫外光刻机。一个物面(掩模面)经过投影物镜后可以多次成像形成多个像面,从而使产率成倍增加。节省了投影物镜以及整个曝光设备的成本。同时,本发明可以实现多个物面成一个或多个像面的技术效果。
为了达到上述技术目的,本发明所采用的具体技术方案为:
一种光学镜头,用于将至少一组来自物面的光刻图案同时成像至至少一组像面进行光刻投影;包括:
物面镜组,用于接收所述光刻图案,将所述光刻图案的光线统一为面光源;
分光镜组,包括至少一组分光镜和至少一组反光镜;所述分光镜设置在所述面光源的光路上,用于将所述面光源分为至少两束分离光;所述反光镜设置在所述分离光的光路上,用于反射所述分离光;
像面镜组,用于接收来自所述分光镜或所述反光镜的分离光,并转换为光刻图案;
其中:所述光学镜头的光路可逆。
进一步的,所述分光镜包括至少一组梯度分光部;第一级梯度分光部的入射光为所述面光源,第二级梯度分光部的入射光源为第一级梯度分光部的分离光,第三级梯度分光部的光源为第二级梯度分光部的分离光......;
至少一级所述梯度分光部配置为由分光镜和反光镜组成。
进一步的,所述光学镜头的光路可逆的实现方法为:所述物面镜组的光路、分光镜组的光路以及像面镜组的光路均可逆。
进一步的,所述物面镜组为一组,所述分光镜组包括两组一分二分光镜和两组反光镜,所述像面镜组为三组;
第一组所述一分二分光镜用于将所述面光源分为第一分离光和第二分离光;第一组所述反光镜设置在所述第一分离光的光路上;第二组所述一分二分光镜设置在所述第二分离光的光路上并将所述第二分离光分为第三分离光和第四分离光;第二组所述反光镜设置在所述第三分离光的光路上;
三组所述像面镜组分别用于接收所述第一分离光、第三分离光和第四分离光,并分别转换为光刻图案。
进一步的,所述第二分离光的光照强度为所述第一分离光的两倍;所述第三分离光和所述第四分离光的光照强度等于所述第一分离光。
进一步的,所述物面镜组为三组,所述分光镜组包括四组分光棱镜和四组反光镜,所述像面镜组为三组;三组物面镜组的光路以及三组像面镜组的光路相互平行;
第一组反光镜设置在第一组物面镜组的出射光路上;第一组分光棱镜同时设置在第一组反光镜与第二组物面镜组的出射光路上;
第二组反光镜设置在第三组物面镜组的出射光路上;
第二组分光棱镜同时设置在第二组反光镜与第二组物面镜组的出射光路上,反射面垂直于第一分光棱镜的反射面;
第三组和第四组分光镜、第三组和第四组反光镜以及三组像面镜组的组合与第一组和第二组分光镜、第一组和第二组反光镜以及三组物面镜组的组合光路对称设置。
进一步的,所述分光镜组还包括光吸收元件,所述光吸收元件用于吸收第一组反光镜的反射光穿过第一组分光棱镜的之后剩余光以及,吸收第二组反光镜的反射光穿过第二组分光棱镜的之后剩余光。
进一步的,各所述像面镜组与各所述物面镜组的光学性能一致;所述分光镜组还包括行程反光镜;所述行程反光镜用于延长所述分离光的行程,使自所述物面镜组出射口到达各所述像面镜组入射口的光路距离一致。
进一步的,所述物面镜组自入射至出射方向依次包括:L1、L2、L3、L4、L5、L6和L7;
所述L1为负光焦度弯月透镜;所述L2为负光焦度双凹透镜;所述L3正光焦度双凸透镜;所述L4为正光焦度弯月透镜;所述L5为正光焦度双凸透镜;所述L6为负光焦度双凹透镜;所述L7为正光焦度弯月透镜。
进一步的,所述光学镜头还包括调节镜组;所述调节镜组自入射至出射方向依次包括L8、L9、孔径光阑、L10和L11;
所述调节镜组以所述孔径光阑光路对称设置;
所述L8为光焦度为负的近似的平凹透镜;所述L9为光焦度为正的双凸透镜。
进一步的,所述调节镜组设置在所述光学镜头的汇聚光路上。
进一步的,所述物面镜组、调节镜组和所述像面镜组满足以下关系:
0.4<f1/f2=f4/f3<0.6;-2.0<fl2/f1<-3.0;1.0<fl7/f2<-1.6;1.56<Vl4/Vl7<2.48;1.56<Vl9/Vl8<2.48;-1.0<Vl9/Vl8<-1.6;
其中:f1:物面镜组的焦距;f2:L8和L9的整体焦距;f3:L10和L11的整体焦距;f4:像面镜组的焦距;fl2:L2的焦距;fl7:L7的焦距;fl9:L9的焦距;Vl4:L4材料的阿贝数;Vl7:L7材料的阿贝数;Vl8:L8材料的阿贝数;Vl9:L9材料的阿贝数。
进一步的,所述L2朝向入射反向的一面以及所述L7朝向出射反向的一面设置有非球面表面类型。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明具体实施方式中,一种光学镜头的光学结构示意图;
图2为本发明具体实施方式中,一种光学镜头的具体光路示意图;
图3为本发明具体实施方式中,一种光学镜头的场曲和畸变示意图;
图4为本发明具体实施方式中,一种光学镜头的像差曲线图;
图5为本发明具体实施方式中,一种光学镜头的物方远心度示意图;
图6为本发明具体实施方式中,一种光学镜头的像方远心度示意图;
图7为本发明具体实施方式中,另一种光学镜头的具体光路示意图;
其中:1、光刻图案出射口;2、物面镜组;3、第一调节部;4、
孔径光阑;5、第二调节部;6、第一分光镜;7、第一反光镜;8、第二分光镜;9、第二反光镜;10、第一行程反光镜;11;第二行程反光镜;12、第三像面镜组;13、第二像面镜组;14、第一像面镜组;
15、第三像面;16、第二像面;17、第一像面;18、第一吸光元件;
19、第二吸光元件。
具体实施方式
下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
要说明的是,下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见,本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中,且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本发明,所属领域的技术人员应了解,本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施,且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说,可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外,可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
还需要说明的是,以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想,图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
另外,在以下描述中,提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而,所属领域的技术人员将理解,可在没有这些特定细节的情况下实践所述方面。
在本发明的一个实施例中,提出一种光学镜头,用于将至少一组来自物面的光刻图案同时自至少一组像面进行光刻投影;包括:
物面镜组2,用于接收光刻图案,将光刻图案的光线统一为面光源;
分光镜组,包括至少一组分光镜和至少一组反光镜;分光镜设置在面光源的光路上,用于将面光源分为至少两束分离光;反光镜设置在分离光的光路上,用于反射分离光;
像面镜组,用于接收来自分光镜或反光镜的分离光,并转换为光刻图案;
其中:光学镜头的光路可逆。
在一个实施例中,物面镜组2的入光面形光学镜头的物面,像面镜组的出光面形成光刻投影精的像面;物面镜组2将点光源和/或面光源的光刻图案统一转化为面光源并出射;分光镜组利用至少一组分光镜和至少一组反光镜,将面光源进行一次或多次分光形成分离光,其中,分离光可经(同一组或不同组)分光镜进行二次分离或多次分离,反光镜可设置为反射一组分离光或一组以上分离光。像面镜组可设置为单独接受由分光镜直接出射的分离光、可以设置为单独接受由反光镜出射的分离光,也可以设置为同时接受分光镜和反光镜所出射的分离光,最终各像面镜组出射用于在光刻基底上进行曝光的光刻光源。本实施例的分光镜的数量及类型(是否均匀分光、一分2或一分多)、反光镜的数量及类型(是否实现滤波、是否为曲面镜)以及分光镜组的光路的具体布置以一个物面镜组2所对应像面镜组的个数、光刻图案的光照强度以及每个光刻光源的光照强度需求来调整,本实施例不作限制。
同时,本实施例对光学镜头的组合放大倍数、视场、分辨率等光学指标依据光刻曝光的具体需求设置,本实施例不作进一步限制。
本实施例可以实现:在物面镜组2的入光口照射光刻图案,经分光镜组分光后,可同时在一个以上的像面镜组的出射口进行光刻曝光,成倍提高了光刻生产效率。
在本实施例中,实现光路可逆的具体方式包括:物面镜组2、分光镜、反光镜、像面镜组的光路单独均可逆或整体可逆,进而可以实现:在一个以上的像面镜组的入光口照射光刻图案,经分光镜组汇聚后,可同时在一个(或以上)的像面镜组的出射口进行光刻曝光,当像面镜组数量多于物面镜组2时,能够大幅度提高光刻光源的光照强度。
在一个实施例中,分光镜包括至少一组梯度分光部;第一级梯度分光部的入射光为面光源,第二级梯度分光部的入射光源为第一级梯度分光部的分离光,第三级梯度分光部的光源为第二级梯度分光部的分离光......;
至少一级梯度分光部配置为由分光镜和反光镜组成。
本实施例将分光镜分为梯度分光部,梯度分光部的数量以及包不包含反光镜可以依据所需要像面镜组的数量以及分光镜的性能进行设定,每一组梯度分光部仅包含一组分光镜。当像面镜组的数量为两组时,只需要采用一组梯度分光部将物面镜组2所出射的面光源分为两组,其中一组直接传递至一组物面镜组2的入光面处,另一组经由反光镜反射至剩余的一组物面镜组2的入光面处;当像面镜组的数量为多组时,梯度分光部可为一组也可设置为一组以上,当采用一组梯度分光部时,梯度分光部只设置一组分光镜对面光源进行“一分多”,可增加分光镜组的设置灵活性,当采用一组以上梯度分光部时,可不采用“一分多分光镜”而采用一分二分光镜,每个梯度顺延分光,可降低分光镜组的设计复杂性。
本实施例的最后一级梯度分光部,分光镜将面光源分为两组或以上,其中一组直接传递至一组物面镜组2的入光面处,其余分别经由反光镜反射至一组物面镜组2的入光面处。
在本实施例中,为了适应光刻机的工艺规律,将光学镜头的光刻图案入射方向与各光刻光源的出射方向平行设置。具体措施为利用反光镜将被分光镜改变角度的分离光进行角度调节。
在一个实施例中,光学镜头的光路可逆的实现方法为:物面镜组2的光路、分光镜组的光路以及像面镜组的光路均可逆。
示例1:
在上述实施例的基础上,物面镜组2为一组,分光镜组包括两组一分二分光镜和两组反光镜,像面镜组为三组;
第一组一分二分光镜(第一分光镜6)用于将面光源分为第一分离光和第二分离光;第一组反光镜设置在第一分离光的光路上;第二组一分二分光镜(第二分光镜8)设置在第二分离光的光路上并将第二分离光分为第三分离光和第四分离光;第二组反光镜设置在第三分离光的光路上;
三组像面镜组分别用于接收第一分离光、第三分离光和第四分离光,并分别转换为光刻图案。
如图1或图2所示,本示例采用“一分三”的方式,光学镜头的尺寸以及光刻光源的强度能够更加适用于现有的光刻机。本实施例的分光镜采用PBS分光棱镜或其他具有相同一分二功能的分光镜。
在本示例一个实施例中,三组物面镜组2所接收到的分离光的光照强度一致,第二分离光的光照强度为第一分离光的两倍;第三分离光和第四分离光的光照强度等于第一分离光。
本实施例的第一组一分二分光镜对面光源的光照强度分离比例为1:2;第二组一分二分光镜对光照强度为“2”的分离光进行均分。
在一个实施例中,在上述实施例的基础上,三组物面镜组2所形成的光刻光源一致,各像面镜组的光学性能一致;分光镜组还包括行程反光镜;行程反光镜用于延长分离光的行程,使自物面镜组2出射口到达各像面镜组入射口的光路行程一致。
在本实施例中,物面镜组2自入射至出射方向依次包括:L1、L2、L3、L4、L5、L6和L7;
L1为负光焦度弯月透镜;L2为负光焦度双凹透镜;L3正光焦度双凸透镜;L4为正光焦度弯月透镜;L5为正光焦度双凸透镜;L6为负光焦度双凹透镜;L7为正光焦度弯月透镜。
在本实施例中,如图1或图2所示,光学镜头还包括调节镜组;调节镜组自入射至出射方向依次包括L8、L9、孔径光阑4、L10和L11;
调节镜组以孔径光阑4光路对称,上下部分分别为第一调节部3和第二调节部5;
L8为光焦度为负的近似的平凹透镜;L9为光焦度为正的双凸透镜。
在本实施例中,调节镜组设置在光学镜头的汇聚光路上。如图1或图2所示,即物面镜组2与分光镜组之间。
在本实施例中,物面镜组2、调节镜组和像面镜组满足以下关系:
0.4<f1/f2=f4/f3<0.6;-2.0<fl2/f1<-3.0;1.0<fl7/f2<-1.6;1.56<Vl4/Vl7<2.48;1.56<Vl9/Vl8<2.48;-1.0<Vl9/Vl8<-1.6;
其中:f1:物面镜组2的焦距;f2:L8和L9的整体焦距;f3:L10和L11的整体焦距;f4:像面镜组的焦距;fl2:L2的焦距;fl7:L7的焦距;fl9:L9的焦距;Vl4:L4材料的阿贝数;Vl7:L7材料的阿贝数;Vl8:L8材料的阿贝数;Vl9:L9材料的阿贝数。
在本实施例中:L2朝向入射反向的一面以及L7朝向出射反向的一面设置有非球面表面类型。如图1和图2所示,本实施例的投影镜采用双远心结构,投影镜从光刻图案出射口1掩模至第一像面17、掩模至第二像面16、掩模至第三像面15,共包含32个透镜、两个平板分光镜,其中第一分光镜6为三分之二透射,三分之一反射,反射的光进入第一反光镜7再被反射至第一物面镜组14,最后到达第一像面17;经第一分光镜6透射的光会进入第二分光镜8,第二分光镜8为半透半反,其作用是将光线进行等比例分光,透过第二分光镜8的一部分光经第一行程反光镜10和第二行程反光镜11,入射至第二物面镜组13,最后到达第二像面16;反射光反射后再次被第二反光镜9反射进入第三物面镜组12,最后到达第三像面15。由此,一个光刻图案的物方图像经过本实施例的光学镜头后,会被分为三个不同的路径并分别成像。在本实施例中,行程反光镜包括第一行程反光镜10和第二行程反光镜11,作用是保证第一像面17,第二像面16和第三像面15在同一个水平面上,第一行程反光镜10和第二行程反光镜11沿X轴向内平行分布,两者具有一定的距离间隔,其光路如第一像面17和第三像面15的两次反射路径。
本实施例的投影镜可以实现放大倍率为1倍的投影曝光,相比传统光学系统,该方案可同时具有第一像面17、第二像面16和第三像面15。
本实施例的光路具体参数如下表:
表1物面-像面的光路参数
本实施例的非球面表面类型的非球面满足如下公式:
两个非球面表面类型对应的系数如下表所示:
表2非球面系数表
参见图3-6,本实施例的光学镜头满足一下工作条件:
工作波长:365±5.0nm
分辨率:2um
数值孔径:0.12
曝光视场直径:≥60mm
放大倍率:1x
示例2:
如图3所示,本示例的物面镜组2为三组,分光镜组包括四组分光棱镜和四组反光镜,像面镜组为三组;三组物面镜组2的光路以及三组像面镜组的光路相互平行;
第一组反光镜设置在第一组物面镜组2的出射光路上;第一组分光棱镜同时设置在第一组反光镜与第二组物面镜组2的出射光路上;
第二组反光镜设置在第三组物面镜组2的出射光路上;第二组分光棱镜同时设置在第二组反光镜与第二组物面镜组2的出射光路上,反射面垂直于第一分光棱镜的反射面;
第三组和第四组分光镜、第三组和第四组反光镜以及三组像面镜组的组合与第一组和第二组分光镜、第一组和第二组反光镜以及三组物面镜组2的组合光路对称设置,两个组合之间设置调节镜组。
本示例的分光棱镜需保证出射光线与反射光线的光行程一致,为PBS分光棱镜或薄片贴膜分光棱镜。
在本示例的一个实施例中,光学镜头还包括光吸收元件,光吸收元件用于吸收第一组反光镜的反射光穿过第一组分光棱镜的之后剩余光以及,吸收第二组反光镜的反射光穿过第二组分光棱镜的之后剩余光。本实施例的光吸收元件包括第一吸光元件18和第二吸光元件19,设置在所要吸收光的光路上避免其发生反射、折射从而对光学镜头的光路尤其是分光镜组的光路产生干扰,均采用低光反射材质,如表面涂黑的高分子材料等,本实施例不作限定。
如图7所示,本示例采用“三分三”的方式,光学镜头的尺寸以及光刻光源的强度能够更加适用于现有的光刻机。本示例的分光镜采用分光棱镜或其他具有相同一分二功能的分光镜。
在本示例的一个实施例中,三组物面镜组2所形成的光刻光源一致,各物面镜组2及各像面镜组的光学性能均一致;本实施例的分光镜组设置方式为:设置两组示例1的分光镜组并光路对称设置,之间采用调节镜组隔开,本实施例的像面镜组与示例1等同。
本实施例在第二组物面镜组2的出射光路设置一组行程反光镜(两片镜片),在第二组像面镜组的入射光路前也设置一组行程反光镜(两片镜片)。
在本实施中,调节镜组设置在光学镜头的汇聚光路上。如图7所示,即第二组分光棱镜与第三组三棱分光柱之间
本实施例的物面镜组2及调节镜组的组成、参数及光学关系与示例1一致。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (15)
1.一种光学镜头,其特征在于,用于将至少一组来自物面的光刻图案同时成像至至少一组像面进行光刻投影;包括:
物面镜组,用于接收所述光刻图案,将所述光刻图案的光线统一为面光源;
分光镜组,包括至少一组分光镜和至少一组反光镜;所述分光镜设置在所述面光源的光路上,用于将所述面光源分为至少两束分离光;所述反光镜设置在所述分离光的光路上,用于反射所述分离光;
像面镜组,用于接收来自所述分光镜或所述反光镜的分离光,并转换为光刻图案;
其中:所述光学镜头的光路可逆。
2.根据权利要求1所述的光学镜头,其特征在于,所述分光镜包括至少一组梯度分光部;第一级梯度分光部的入射光为所述面光源,第二级梯度分光部的入射光源为第一级梯度分光部的分离光,第三级梯度分光部的光源为第二级梯度分光部的分离光......;
至少一级所述梯度分光部配置为由分光镜和反光镜组成。
3.根据权利要求1所述的光学镜头,其特征在于,所述光学镜头的光路可逆的实现方法为:所述物面镜组的光路、分光镜组的光路以及像面镜组的光路均可逆。
4.根据权利要求1-3之任一项所述的光学镜头,其特征在于,所述物面镜组为一组,所述分光镜组包括两组一分二分光镜和两组反光镜,所述像面镜组为三组;
第一组所述一分二分光镜用于将所述面光源分为第一分离光和第二分离光;第一组所述反光镜设置在所述第一分离光的光路上;第二组所述一分二分光镜设置在所述第二分离光的光路上并将所述第二分离光分为第三分离光和第四分离光;第二组所述反光镜设置在所述第三分离光的光路上;
三组所述像面镜组分别用于接收所述第一分离光、第三分离光和第四分离光,并分别转换为光刻图案。
5.根据权利要求4所述的光学镜头,其特征在于,所述第二分离光的光照强度为所述第一分离光的两倍;所述第三分离光和所述第四分离光的光照强度等于所述第一分离光。
6.根据权利要求1-3之任一项所述的光学镜头,其特征在于,所述物面镜组为三组,所述分光镜组包括四组分光棱镜和四组反光镜,所述像面镜组为三组;三组物面镜组的光路以及三组像面镜组的光路相互平行;
第一组反光镜设置在第一组物面镜组的出射光路上;第一组分光棱镜同时设置在第一组反光镜与第二组物面镜组的出射光路上;
第二组反光镜设置在第三组物面镜组的出射光路上;
第二组分光棱镜同时设置在第二组反光镜与第二组物面镜组的出射光路上,反射面垂直于第一分光棱镜的反射面;
第三组和第四组分光镜、第三组和第四组反光镜以及三组像面镜组的组合,与第一组和第二组分光镜、第一组和第二组反光镜以及三组物面镜组的组合光路对称设置。
7.根据权利要求6所述的光学镜头,其特征在于,所述分光镜组还包括光吸收元件,所述光吸收元件用于吸收第一组反光镜的反射光穿过第一组分光棱镜的之后剩余光以及,吸收第二组反光镜的反射光穿过第二组分光棱镜的之后剩余光。
8.根据权利要求1-3之任一项所述的光学镜头,其特征在于,各所述像面镜组与各所述物面镜组的光学性能一致;所述分光镜组还包括行程反光镜;所述行程反光镜用于延长所述分离光的行程,使自所述物面镜组出射口到达各所述像面镜组入射口的光路距离一致。
9.基于权利要求8所述的光学镜头,其特征在于,所述物面镜组自入射至出射方向依次包括:L1、L2、L3、L4、L5、L6和L7;
所述L1为负光焦度弯月透镜;所述L2为负光焦度双凹透镜;所述L3正光焦度双凸透镜;所述L4为正光焦度弯月透镜;所述L5为正光焦度双凸透镜;所述L6为负光焦度双凹透镜;所述L7为正光焦度弯月透镜。
10.根据权利要求8所述的光学镜头,其特征在于,所述光学镜头还包括调节镜组;所述调节镜组自入射至出射方向依次包括L8、L9、孔径光阑、L10和L11;
所述调节镜组以所述孔径光阑光路对称设置;
所述L8为光焦度为负的近似的平凹透镜;所述L9为光焦度为正的双凸透镜。
11.根据权利要求9或10所述的光学镜头,其特征在于,所述调节镜组设置在所述光学镜头的汇聚光路上。
12.根据权利要求11所述的光学镜头,其特征在于,所述物面镜组、调节镜组和所述像面镜组满足以下关系:
0.4<f1/f2=f4/f3<0.6;-2.0<fl2/f1<-3.0;1.0<fl7/f2<-1.6;1.56<Vl4/Vl7<2.48;1.56<Vl9/Vl8<2.48;-1.0<Vl9/Vl8<-1.6;
其中:f1:物面镜组的焦距;f2:L8和L9的整体焦距;f3:L10和L11的整体焦距;f4:像面镜组的焦距;fl2:L2的焦距;fl7:L7的焦距;fl9:L9的焦距;Vl4:L4材料的阿贝数;Vl7:L7材料的阿贝数;Vl8:L8材料的阿贝数;Vl9:L9材料的阿贝数。
13.根据权利要求9所述的光学镜头,其特征在于,所述L2朝向入射反向的一面以及所述L7朝向出射反向的一面设置有非球面表面类型。
14.根据权利要求1所述的光学镜头,其特征在于,所述光学镜头的像方NA的范围为0.05~0.85。
15.根据权利要求1所述的光学镜头,其特征在于,所述光学镜头的工作波长范围为193nm~450nm,工作波长为单色或多色。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310137811.5A CN116300333A (zh) | 2023-02-13 | 2023-02-13 | 一种光学镜头 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310137811.5A CN116300333A (zh) | 2023-02-13 | 2023-02-13 | 一种光学镜头 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116300333A true CN116300333A (zh) | 2023-06-23 |
Family
ID=86780728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310137811.5A Pending CN116300333A (zh) | 2023-02-13 | 2023-02-13 | 一种光学镜头 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116300333A (zh) |
-
2023
- 2023-02-13 CN CN202310137811.5A patent/CN116300333A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
USRE38421E1 (en) | Exposure apparatus having catadioptric projection optical system | |
US6590718B2 (en) | Projection exposure system having a reflective reticle | |
KR100306619B1 (ko) | 높은개구수를갖는반사굴절식광학축소시스템 | |
US6366410B1 (en) | Reticular objective for microlithography-projection exposure installations | |
CA2045944C (en) | Field compensated lens | |
US5650877A (en) | Imaging system for deep ultraviolet lithography | |
US6349005B1 (en) | Microlithographic reduction objective, projection exposure equipment and process | |
US7834981B2 (en) | Projection exposure apparatus, projection exposure method and projection objective | |
US7301707B2 (en) | Projection optical system and method | |
KR100380267B1 (ko) | 노광장치 | |
JPH08171054A (ja) | 反射屈折光学系 | |
JP2001027727A (ja) | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 | |
US9146475B2 (en) | Projection exposure system and projection exposure method | |
WO2001082000A1 (en) | Optical reduction system with elimination of reticle diffraction induced bias | |
US5696631A (en) | Unit magnification projection lens system | |
KR101028938B1 (ko) | 액침 리소그래피용 굴절 투영 대물렌즈 | |
US7372634B2 (en) | Reticle-masking objective with aspherical lenses | |
US6144495A (en) | Projection light source | |
JP2007508591A (ja) | 反射屈折投影対物レンズ | |
CN111596532A (zh) | 一种双远心镜头及数字投影光刻系统 | |
CN116300333A (zh) | 一种光学镜头 | |
WO2007071569A1 (en) | Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus | |
JP4644935B2 (ja) | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 | |
KR20040005677A (ko) | 리소그래피 시스템의 조명 시스템에서 사용되는 릴레이 렌즈 | |
JPH09311277A (ja) | 反射屈折光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |