CN116288289B - 一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,涉及陶瓷覆铜载板加工领域,旨在解决陶瓷覆铜载板正面镀镍背面镀银的问题,其技术方案要点是:1)真空烧结;2)化学前处理:将陶瓷覆铜载板通过化学处理,表面清洗干净;3)图形蚀刻:选用化学蚀刻法,蚀刻出不同类型的图形;4)选化印刷、曝光、显影;5)化学镀银:在蚀刻图形面进行选择性化学镀银;6)去膜清洗:退除其它多余干膜层,并清洗干净后烘干;7)印刷胶、烘烤:选用印刷空白网框,将可剥离胶体刷在产品表面遮蔽后,烘烤固化;8)化学镀镍;9)剥胶、清洗烘干。本发明的一种陶瓷覆铜载板正面镀镍,背面镀银,满足产品性能需求,生产过程中不会发生药水污染。
Description
技术领域
本发明涉及功率半导体加工领域,更具体地说,它涉及一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法。
背景技术
化学镀镍又称为无电解镀镍,也可以称为自催化镀.,具体过程是指:在一定条件下,水溶液中的金属离子被还原剂还原,并且沉淀到固态基体表面上的过程。这一过程与置换镀不同,其镀层是可以不断增厚的,且施镀金属本身也具有催化能力。
化学镀银具有稳定性高、防银变色能力强等特点,用于各种金属、非金属材料表面进行化学镀银操作。化学镀银液拥有比电镀银更好的光亮性、可焊性、抗变色性以及低成本、易操作的性能,同时由于银耐腐蚀、具有较高的电导率和良好的导热性能、焊接性能及很好的反光能力,因此它在金属表面的保护和防腐方面得到了广泛的应用。
根据市场发展需要,本发明主要研究开发在同一片陶瓷载板正面化学镀镍,背面选择性化学镀银,两种不同镀种相结合的施镀方法。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其通过在陶瓷覆铜载板的正面镀镍,背面镀银,从而可以满足不同产品的性能需求,同时相互之间不会发生药水污染,影响产品性能。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,包括以下步骤:
1)真空烧结;
2)化学前处理:将陶瓷覆铜载板通过化学处理,表面清洗干净;
3)图形蚀刻:选用化学蚀刻法,蚀刻出不同类型的图形;
4)选化印刷、曝光、显影;
5)化学镀银:在蚀刻图形面进行选择性化学镀银;
6)去膜清洗:退除其它多余干膜层,并清洗干净后烘干;
7)印刷胶、烘烤:选用印刷空白网框,将可剥离胶体刷在产品表面遮蔽后,烘烤固化;
8)化学镀镍:在陶瓷覆铜载板的正面进行化学镀镍;
9)剥胶、清洗烘干。
本发明进一步设置为:在步骤1)中,钎焊浆料采用丝印技术印刷在陶瓷基板上,在此基础上覆盖无氧铜后放到850℃真空钎焊炉内进行烧结。
本发明进一步设置为:在步骤2)中,化学处理主要包括除油、微蚀、酸洗,使其在室温下除去陶瓷覆铜载板表面氧化物及其它异物残留,同时使铜面获得粗糙度。
本发明进一步设置为:所述除油包括PDH-439:80-120g/L;时间30-90s。
本发明进一步设置为:所述微蚀包括硫酸:40-60ml/L;过硫酸钠80-120g/L;时间:60-120s。
本发明进一步设置为:所述酸洗包括硫酸:30-50ml/L;时间:30-90s。
本发明进一步设置为:在步骤7)印刷胶、烘烤步骤中,可剥离胶体的粘度为1000-1500dpa.s,烘烤温度150℃,烘烤时间40-60min。
综上所述,本发明具有以下有益效果:
1、该方法在同一片覆铜陶瓷载板表面实现了两种不同的镀种;
2、该方法将选择性化学镀银与化学全镀镍相结合的方式,零率高、实用性强,质量稳定;
3、该方法解决了药水渗漏与残留影响质量的问题。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图;
图2为本发明正面镀镍的效果图;
图3为本发明背面选择性镀银的效果图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明进行详细描述。
一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其工艺流程如附图1所示,其包括有:
1)首先,将钎焊浆料采用丝印技术印刷在陶瓷基板上,在此基础上覆盖无氧铜后放到850℃的真空钎焊炉内进行烧结,烧结完成后进入下道工序;
2)然后先将陶瓷覆铜载板通过化学处理;表面清洗干净;
此过程主要通过除油,用PDH-439:80-120g/L,时间30-90s,将陶瓷覆铜载板表面清理去油;
然后通过微蚀,即使用硫酸:40-60ml/L,过硫酸钠80-120g/L,时间:60-120s;进行微蚀;
在通过酸洗,即使用硫酸:30-50ml/L,时间:30-90s,在室温下除去产品表面氧化物及其它异物残留,同时使铜面获得一定的粗糙度;
3)然后进行蚀刻图形,该工序目是将选用化学蚀刻法,蚀刻出不同类型的图形,该图形尺寸大小,深浅均需符合一定规格的要求即可;
4)完成蚀刻图形后进行选化印刷、曝光、显影,印刷包括有干(湿)膜印刷;
5)然后在蚀刻图形面进行选择性化学镀银;
6)在获得符合要求的局部镀银层后,退除其它多余干膜层,并清洗干净后烘干;
7)选用印刷空白网框,将可剥离胶体刷在产品表面遮蔽后,烘烤固化;进入下道化学镀镍工序,其中空白网框即没有图形的网框;
其管控条件如下表格:
管控项目 | 管控条件 |
剥离胶 | 1000-1500dpa.s |
烘烤温度 | 150℃ |
烘烤时间 | 40-60min |
8)在陶瓷覆铜载板的正面进行化学镀镍;
9)镀镍完成后,手动剥掉胶体,确保胶体无残留,并且将产品表面清洗干净并烘干即可。
其正面化学镀镍的效果如附图2所示。
其背面选择性化学镀银的效果如附图3所示。
本发明主要开发了在同一片陶瓷载板正面化学镀镍,背面选择性化学镀银,两种不同镀种相结合的施镀方法,在同一片产品镀不同的镀种,可以满足产品不同的性能需求,但是,如果在工艺上处理不好,相互之间药水容易发生污染,影响产品试用性能和外观不良,本发明在陶瓷载板上先进行化学镀银,镀银完成后利用印刷空白网框,将可剥离的胶体刷在产品表面进行遮蔽后并进行烘烤,使胶体附着的同时降低药水的影响,然后进行化学镀镍,从而避免了药水的相互影响,解决了药水渗漏和残留的问题,从而提高了产品的质量,同时获得的两种镀种在同一片覆铜陶瓷载板表面完成加工的工艺。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其特征在于,包括以下步骤:
1) 真空烧结:钎焊浆料采用丝印技术印刷在陶瓷基板上,在陶瓷基板的两面覆盖无氧铜后放到850℃真空钎焊炉内进行烧结;
2) 化学前处理:将陶瓷覆铜载板通过化学处理,表面清洗干净;
3) 图形蚀刻:选用化学蚀刻法,在陶瓷覆铜载板的正面和背面分别蚀刻出不同类型的图形;
4) 在背面选化印刷、曝光、显影;
5) 化学镀银:在背面进行选择性化学镀银;
6) 去膜清洗:退除其它多余干膜层,并清洗干净后烘干;
7) 印刷胶、烘烤:选用印刷空白网框,将可剥离胶体刷在产品背面遮蔽后,烘烤固化;
8) 化学镀镍:在陶瓷覆铜载板的正面进行化学镀镍;
9) 剥胶、清洗烘干。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其特征在于:在步骤2)中,化学处理主要包括除油、微蚀、酸洗,使其在室温下除去陶瓷覆铜载板表面氧化物及其它异物残留,同时使铜面获得粗糙度。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其特征在于:所述除油包括PDH-439:80-120g/L;时间30-90s。
4.根据权利要求2所述的一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其特征在于:所述微蚀包括硫酸:40-60ml/L;过硫酸钠80-120g/L;时间:60-120s。
5.根据权利要求2所述的一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其特征在于:所述酸洗包括硫酸:30-50ml/L;时间:30-90s。
6.根据权利要求1所述的一种陶瓷覆铜载板镀镍与银的方法,其特征在于:在步骤7)印刷胶、烘烤步骤中,可剥离胶体的粘度为1000-1500dpa.s,烘烤温度150℃,烘烤时间40-60min。
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Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08176835A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-09 | Nippon Riironaale Kk | ガラス又はセラミックス基板へのめっき層の形成方法 |
JP2010120034A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Nhk Spring Co Ltd | ろう付方法及びその方法による接合部材 |
CN202586892U (zh) * | 2012-05-09 | 2012-12-05 | 深圳市新天源电子有限公司 | 具有镍银电极的石英晶体谐振器 |
CN103974527A (zh) * | 2014-04-30 | 2014-08-06 | 苏州倍辰莱电子科技有限公司 | 一种卷式软质电路控制板 |
CN105407649A (zh) * | 2015-11-12 | 2016-03-16 | 深圳恒宝士线路板有限公司 | 一种填充金属线路的陶瓷pcb制造方法 |
JP2017163074A (ja) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | 三菱マテリアル株式会社 | パワーモジュール用基板の製造方法 |
CN110468394A (zh) * | 2019-08-02 | 2019-11-19 | 长沙理工大学 | 一种化学镀镍钯金的银基线路板及其制备方法 |
CN111945139A (zh) * | 2020-07-27 | 2020-11-17 | 江苏富乐德半导体科技有限公司 | 一种覆铜陶瓷基板镀镍方法 |
CN112752414A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-05-04 | 贵研铂业股份有限公司 | 一种复合层氮化铝陶瓷电路板 |
CN114340147A (zh) * | 2022-01-13 | 2022-04-12 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种预填充绝缘材料的覆铜陶瓷基板的制作方法 |
CN114525500A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-24 | 南通威斯派尔半导体技术有限公司 | 一种覆铜陶瓷基板局部镀银方法 |
CN115551213A (zh) * | 2022-11-28 | 2022-12-30 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种覆铜陶瓷基板图形侧壁无镀银层的方法 |
-
2023
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Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08176835A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-09 | Nippon Riironaale Kk | ガラス又はセラミックス基板へのめっき層の形成方法 |
JP2010120034A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Nhk Spring Co Ltd | ろう付方法及びその方法による接合部材 |
CN202586892U (zh) * | 2012-05-09 | 2012-12-05 | 深圳市新天源电子有限公司 | 具有镍银电极的石英晶体谐振器 |
CN103974527A (zh) * | 2014-04-30 | 2014-08-06 | 苏州倍辰莱电子科技有限公司 | 一种卷式软质电路控制板 |
CN105407649A (zh) * | 2015-11-12 | 2016-03-16 | 深圳恒宝士线路板有限公司 | 一种填充金属线路的陶瓷pcb制造方法 |
JP2017163074A (ja) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | 三菱マテリアル株式会社 | パワーモジュール用基板の製造方法 |
CN110468394A (zh) * | 2019-08-02 | 2019-11-19 | 长沙理工大学 | 一种化学镀镍钯金的银基线路板及其制备方法 |
CN111945139A (zh) * | 2020-07-27 | 2020-11-17 | 江苏富乐德半导体科技有限公司 | 一种覆铜陶瓷基板镀镍方法 |
CN112752414A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-05-04 | 贵研铂业股份有限公司 | 一种复合层氮化铝陶瓷电路板 |
CN114525500A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-24 | 南通威斯派尔半导体技术有限公司 | 一种覆铜陶瓷基板局部镀银方法 |
CN114340147A (zh) * | 2022-01-13 | 2022-04-12 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种预填充绝缘材料的覆铜陶瓷基板的制作方法 |
CN115551213A (zh) * | 2022-11-28 | 2022-12-30 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种覆铜陶瓷基板图形侧壁无镀银层的方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
陶瓷表面电学性能的研究;闫洪;电镀与涂饰(第02期);37-41 * |
Also Published As
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CN116288289A (zh) | 2023-06-23 |
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