CN116199529A - 一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖及其制备方法，涉及陶瓷砖技术领域。该细腻哑光干粒釉陶瓷砖从下往上依次包括：坯体、面釉层、图案层和干粒釉层，所述干粒釉层的原料包括干粒熔块；所述干粒熔块的原料，按质量份数计，包括：氧化铝18‑20份、石英粉52‑55份、氧化锌3‑5份、碳酸锶3‑5份、石灰石8‑10份、碳酸钡2‑4份、长石4‑6份。该陶瓷砖的制备方法包括：对干燥的砖坯进行喷水处理后，在所述砖坯表面依次布施面釉釉浆、喷墨打印图案；在含有所述打印图案的砖坯表面布施干粒釉浆，烧成，得到所述细腻哑光干粒釉陶瓷砖。本申请通过对瓷砖表面的干粒釉配方进行研究，制备得到了既有细腻质感，又有哑光效果的陶瓷砖。
Description
技术领域
本申请涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高，对于生活品质的追求也越来越高，现代家居装修风格也随之变为更高档、更有品味，以往的大理石版面亮光砖已无法满足于消费者对于家装品质的追求。
而使用干粒釉作为陶瓷砖生产的表面效果釉，能非常好的体现砖面的质感，因为干粒釉的施釉量比普通全抛釉的施釉量更多，抛光后的干粒釉瓷砖釉面更平整、水波纹更小，有利于釉面质感效果的提升，更有利于得到高级感的瓷砖。此外，干粒釉还能做出很好的哑光效果瓷砖，尤其是近几年的现代仿古砖市场占有率越来越高，哑光干粒釉面砖可以实现仿古砖的效果。但是如何获得一种质感更强、触感细腻柔润、防污性能更好的哑光陶瓷砖，是需要解决的一个问题。
发明内容
有鉴于此，本申请的目的在于提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖及其制备方法。通过对釉层表面的干粒釉配方进行研究，制备得到了一种既有细腻质感，又有哑光效果的陶瓷砖。
为实现以上目的，本申请的技术方案如下：
本申请提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖，所述陶瓷砖从下往上依次包括：坯体、面釉层、图案层和干粒釉层，所述干粒釉层的原料包括干粒熔块；
所述干粒熔块的原料，按质量份数计，包括：氧化铝18-20份、石英粉52-55份、氧化锌3-5份、碳酸锶3-5份、石灰石8-10份、碳酸钡2-4份、长石4-6份。
优选地，所述干粒熔块的化学组成，按质量百分数计，包括：52％-56％SiO2、15％-19％Al2O3、3％-5％K2O、2％-5％CaO、3％-5％Na2O、8％-15％BaO、3％-5％SrO、3％-5％ZnO、0.05％-0.3％MgO。
优选地，所述干粒釉层的原料还包括助熔剂；
所述助熔剂的原料，按照质量份数计，包括：钾长石25-27份、钠长石9-11份、氧化锌4-6份、石英10-12份、水洗土7-10份、白云石16-20份、滑石6-10份、碳酸锶9-10份、超细氧化铝3-4份、刚玉2-3份。
优选地，所述面釉层的原料包括面釉釉料；按质量份数计，所述面釉釉料包括：长石32-35份、高岭土18-20份、石英粉19-21份、滑石8-10份、氧化铝10-12份、氧化锌3-5份、碳酸钡3-5份。
优选地，所述面釉釉料的化学组成，按质量百分数计，包括：65％-67％SiO2、25％-27％Al2O3、4％-4.5％K2O、1％-1.5％Na2O、0.2％-0.5％TiO2、0.2％-0.3％Fe2O3、0.3％-0.5％CaO、1％-1.2％MgO。
优选地，所述干粒熔块的颗粒细度为240目-400目。
本申请还提供了上述细腻哑光干粒釉陶瓷砖的制备方法，包括：
对干燥的砖坯进行喷水处理后，在所述砖坯表面依次布施面釉釉浆、喷墨打印图案；
在含有所述打印图案的砖坯表面布施干粒釉浆，烧成，得到所述细腻哑光干粒釉陶瓷砖；
所述干粒釉浆包括所述干粒熔块和悬浮剂。
优选地，所述制备方法满足以下条件中的至少一个：
a.所述布施面釉釉浆的方式包括淋釉和喷釉；
b.所述布施面釉釉浆的施釉量为500-650g/(750mm×1500mm)；
c.所述面釉釉浆的制备方法包括：
将配方量的面釉釉料原料混合均匀，并取100份放入球磨机中，再加入甲基纤维素钠0.1-0.3份、三聚磷酸钠0.1-0.3份、水30-50份以及硅酸锆3-10份，球磨6-10h，得到所述面釉釉浆；
d.所述面釉釉浆的比重为1.8-2.0，流速为28-36s；
e.所述干粒熔块和所述悬浮剂的质量比为(30-40)：(70-60)；
f.所述布施干粒釉浆的施釉量为400-500g/(750mm×1500mm)；
g.所述干粒釉浆的比重为1.2-1.3，流速为30-35s；
h.所述烧成后的陶瓷砖的砖面光泽度为7-10度；
i.所述烧成之后还包括进行抛光处理，所述抛光处理包括全抛或半抛；
j.所述半抛后的陶瓷砖的砖面光泽度为10-15度。
优选地，所述干粒釉浆中还包括助熔剂时，所述干粒釉浆的制备方法包括：
在100份配方量的助熔剂原料中加入0.1-0.3份的助剂、30-40份的水，放入球磨机中进行球磨处理，得到助熔剂浆料；
将所述助熔剂浆料加入所述干粒熔块和所述悬浮剂混合形成的初始釉浆中，搅拌均匀，得到所述干粒釉浆；
所述助熔剂浆料的质量是所述初始釉浆的质量的3％-10％。
优选地，所述烧成的温度为1150℃-1180℃。
本申请的有益效果：
本申请的细腻哑光干粒釉陶瓷砖中，通过对干粒熔块原料的选择，实现了陶瓷砖釉面的细腻触感，且还能呈现哑光效果。其中，通过调整氧化铝的含量，保证干粒釉的初始熔点温度在1100℃左右，防止温度过高或过低导致釉料中的气泡无法顺利排出而产生缺陷；通过加入碳酸锶和碳酸钡来促进釉面的发色，加入氧化锌来助熔并增加烧成范围，加入长石和石英粉一方面起到助熔作用，另一方面还能提高配方中的硅铝占比而提高釉面的硬度，加入石灰石进一步提高烧成后的釉面硬度。使用该干粒熔块制备的陶瓷砖，除了有细腻柔和的、如皮肤质感的釉面，其防污效果也非常好。
本申请陶瓷砖的制备方法，简单易操作，与原有的干粒釉生产产线基本相同，可进行批量化地大规模生产。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对本发明范围的限定。
图1为实施例1的陶瓷砖进行防污性能测试之后的釉面放大100倍的照片；
图2为实施例3的陶瓷砖进行防污性能测试之后的釉面放大100倍的照片。
具体实施方式
如本文所用之术语：
“由……制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素，而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。
连接词“由……组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由……组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时，其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。
当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1～5”时，所描述的范围应被解释为包括范围“1～4”、“1～3”、“1～2”、“1～2和4～5”、“1～3和5”等。当数值范围在本文中被描述时，除非另外说明，否则该范围意图包括其端值和在该范围内的所有整数和分数。
在这些实施例中，除非另有指明，所述的份和百分比均按质量计。
“质量份”指表示多个组分的质量比例关系的基本计量单位，1份可表示任意的单位质量，如可以表示为1g，也可表示2.689g等。假如我们说A组分的质量份为a份，B组分的质量份为b份，则表示A组分的质量和B组分的质量之比a：b。或者，表示A组分的质量为aK，B组分的质量为bK(K为任意数，表示倍数因子)。不可误解的是，与质量份数不同的是，所有组分的质量份之和并不受限于100份之限制。
“和/或”用于表示所说明的情况的一者或两者均可能发生，例如，A和/或B包括(A和B)和(A或B)。
本申请提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖，该陶瓷砖从下往上依次包括：坯体、面釉层、图案层和干粒釉层。
其中，干粒釉层的原料包括干粒熔块，所述干粒熔块的原料，按质量份数计，包括：氧化铝18-20份，例如可以是18份、19份或者20份；石英粉52-55份，例如可以是52份、53份、54份或者55份；氧化锌3-5份，例如可以是3份、4份或者5份；碳酸锶3-5份，例如可以是3份、4份或者5份；石灰石8-10份，例如可以是8份、9份或者10份；碳酸钡2-4份，例如可以是2份、3份或者4份；长石4-6份，例如可以是4份、5份或者6份。
需要说明的是，干粒熔块是将这些原料混合均匀后，放入高温炉窑中进行烧制，冷却后再进行破碎分解，得到干粒熔块。
干粒熔块中各原料的作用机理为：氧化铝添加量的多少主要是影响干粒釉的始融点温度，将始融点温度控制在1100℃左右，确保釉料中的气泡能够顺利排出且不产生针孔缺陷；氧化锌的作用主要是干粒原料烧制过程中起到助溶作用，增加干粒釉的烧成范围；碳酸锶和碳酸钡主要是干粒釉的烧制过程中促进釉面发色的作用；长石和石英粉在干粒釉烧制过程中起到了助熔作用，同时能够提高整个配方中的硅铝占比来提高釉面的硬度；石灰石提高干粒釉烧成后的干粒表面硬度。
在本申请的一些优选实施方式中，所述干粒熔块的化学组成，按质量百分数计，包括：52％-56％SiO2，例如可以是52％、52.5％、53％、53.5％、54％、54.5％、55％、55.5％或者56％；15％-19％Al2O3，例如可以是15％、15.5％、16％、16.5％、17％、17.5％、18％、18.5％或者19％；3％-5％K2O，例如可以是3％、3.5％、4％、4.5％或者5％；2％-5％CaO，例如可以是2％、2.5％、3％、3.5％、4％、4.5％或者5％；3％-5％Na2O，例如可以是3％、3.5％、4％、4.5％或者5％；8％-15％BaO，例如可以是8％、9％、10％、11％、12％、13％、14％或者15％；3％-5％SrO，例如可以是3％、3.5％、4％、4.5％或者5％；3％-5％ZnO，例如可以是3％、3.5％、4％、4.5％或者5％；0.05％-0.3％MgO，例如可以是0.05％、0.1％、0.15％、0.2％、0.25％或者0.3％。
在本申请的一些优选实施方式中，所述干粒釉层的原料还包括助熔剂，所述助熔剂的原料，按照质量份数计，包括：钾长石25-27份，例如可以是25份、26份或者27份；钠长石9-11份，例如可以是9份、10份或者11份；氧化锌4-6份，例如可以是4份、5份或者6份；石英10-12份，例如可以是10份、11份或者12份；水洗土7-10份，例如可以是7份、8份、9份或者10份；白云石16-20份，例如可以是16份、17份、18份、19份或者20份；滑石6-10份，例如可以是6份、7份、8份、9份或者10份；碳酸锶9-10份，例如可以是9份、9.5份或者10份；超细氧化铝3-4份，例如可以是3份、3.5份或者4份；刚玉2-3份，例如可以是2份、2.5份或者3份。
需要说明的是，一般将干粒熔块烧制得到干粒釉时，干粒与干粒之间的间隙内如果没有填充，那么在进行防污测试时，很容易会因为存在间隙，而无法通过防污测试。本申请通过在干粒釉层中添加助熔剂，一方面可以使得助熔剂在烧成过程中填入干粒与干粒的空隙中，使得陶瓷砖的釉面达到更好的防污效果，另一方面助熔剂的成分还不会影响干粒烧成后釉面质感，确保了釉面的细腻柔和效果。
在本申请的一些优选实施方式中，所述面釉层中的面釉釉料，按质量份数计，包括：长石32-35份，例如可以是32份、33份、34份或者35份；高岭土18-20份，例如可以是18份、19份或者20份；石英粉19-21份，例如可以是19份、20份或者21份；滑石8-10份，例如可以是8份、9份或者10份；氧化铝10-12份，例如可以是10份、11份或者12份；氧化锌3-5份，例如可以是3份、4份或者5份；碳酸钡3-5份，例如可以是3份、4份或者5份。
在本申请的一些优选实施方式中，所述面釉釉料的化学组成，按质量百分数计，包括：65％-67％SiO2，例如可以是65％、65.5％、66％、66.5％或者67％；25％-27％Al2O3，例如可以是25％、25.5％、26％、26.5％或者27％；4％-4.5％K2O，例如可以是4％、4.1％、4.2％、4.3％、4.4％或者4.5％；1％-1.5％Na2O，例如可以是1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％或者1.5％；0.2％-0.5％TiO2，例如可以是0.2％、0.3％、0.4％或者0.5％；0.2％-0.3％Fe2O3，例如可以是0.2％、0.22％、0.25％、0.28％或者0.3％；0.3％-0.5％CaO，例如可以是0.3％、0.35％、0.4％、0.45％或者0.5％；1％-1.2％MgO，例如可以是1％、1.05％、1.1％、1.15％或者1.2％。
在本申请的一些优选实施方式中，所述干粒熔块的颗粒细度为240目-400目，更优选为325目。可以理解的是，400目的干粒熔块制备得到的釉面效果会更加细腻，但是这会大大提高生产成本，还会影响生产效率，完成325目筛网过筛时间比完成过400目筛网过筛时间要快20％。因此，综合考虑后，优先选择使用325目的干粒熔块。
本申请还提供了上述细腻哑光干粒釉陶瓷砖的制备方法，包括：
S1、对干燥的砖坯进行喷水处理后，在所述砖坯表面依次布施面釉釉浆、喷墨打印图案；
S2、在含有所述打印图案的砖坯表面布施干粒釉浆，烧成，得到所述细腻哑光干粒釉陶瓷砖。
其中，S2中干粒釉浆包括干粒熔块和悬浮剂。
在本申请的一些优选实施方式中，干粒熔块和悬浮剂的质量比为(30-40)：(70-60)，例如可以是30：70、35：65或者40：60，更优选为30：70。
在本申请的一些优选实施方式中，干粒釉浆的比重为1.2-1.3，例如可以是1.2、1.22、1.25、1.28或者1.3；流速为30-35s，例如可以是30s、31s、32s、33s、34s或者35s。
在本申请的一些优选实施方式中，当S2中的干粒釉浆中还包括助熔剂时，所述干粒釉浆的制备方法包括：
(1)在100份配方量的助熔剂原料中加入0.1-0.3份的助剂、30-40份的水，放入球磨机中进行球磨处理，得到助熔剂浆料；
(2)将所述助熔剂浆料加入所述干粒熔块和所述悬浮剂混合形成的初始釉浆中，搅拌均匀，得到所述干粒釉浆。
需要说明的是，球磨得到助溶剂浆料时，所使用的助剂包括甲基纤维素钠和三聚磷酸钠。
进一步优选地，所述助熔剂浆料的质量是所述初始釉浆的质量的3％-10％，例如可以是3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％或者10％，更优选为6％。
在本申请的一些优选实施方式中，所述布施面釉釉浆的方式以及布施干粒釉浆的方式包括淋釉和喷釉。更优选地，使用钟罩淋釉设备来淋面釉釉浆和干粒釉釉浆。
在本申请的一些优选实施方式中，所述布施面釉釉浆的施釉量为500-650g/(750mm×1500mm)，更优选为600g/(750mm×1500mm)。
在本申请的一些优选实施方式中，所述面釉釉浆的制备方法包括：
按照重量份数，将配方量的面釉釉料(即长石32-35份、高岭土18-20份、石英粉19-21份、滑石8-10份、氧化铝10-12份、氧化锌3-5份、碳酸钡3-5份)，与甲基纤维素钠0.1-0.3份、三聚磷酸钠0.1-0.3份、水30-50份以及硅酸锆3-10份，加入球磨机中，进行球磨，在球磨6-10h之后，制备得到面釉釉浆。
需要说明的是，面釉釉浆中添加的硅酸锆主要是为了调节面釉的白度，其具体的添加量可以根据面釉釉浆的颜色进行灵活调控。在球磨结束时，需要先测试釉浆的细度是否达标，该面釉釉浆的细度为0.3-0.6时，可以从球磨机中取出，过筛、进行陈化，否则就需要继续进行球磨，直至釉浆细度达标。
在本申请的一些优选实施方式中，所述面釉釉浆的比重为1.8-2.0，例如可以是1.8、1.85、1.9、1.95或者2.0；流速为28-36s，例如可以是28s、29s、30s、31s、32s、33s、34s、35s或者36s。
在本申请的一些优选实施方式中，所述布施干粒釉浆的施釉量为400-500g/(750mm×1500mm)，更优选为450g/(750mm×1500mm)。
在本申请的一些优选实施方式中，S1中的砖坯在经过压机压制成型后，还需经过200℃左右的干燥窑炉干燥后，再进行喷水处理，喷水的目的主要为避免淋面釉出现小针孔缺陷。进一步优选地，通过喷水柜进行喷水，喷水量优选为50g/(750mm×1500mm)。
在本申请的一些优选实施方式中，经过烧成后的陶瓷砖，在不经过抛光时的砖面光泽度为7-10度，而经过半抛后的陶瓷砖的砖面光泽度为10-15度。
具体的，在进行抛光时，可以采用研磨刷抛块和海绵抛磨块，通过不同的组合方式来实现细腻柔和的砖面质感，其具体的组合方式如下：
在本申请的一些优选实施方式中，陶瓷砖的烧成温度为1150℃-1180℃，例如可以是1150℃、1160℃、1170℃或者1180℃，更优选为1160℃。
下面将结合具体实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
实施例1
本实施例提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖，规格为750mm×1500mm。该陶瓷砖从下往上依次包括：坯体、面釉层、图案层和干粒釉层，具体制备方法包括：
(1)经过压机压制成型的砖坯，经过200℃左右的干燥窑炉干燥后，在其表面通过喷水柜喷水50g/件。
(2)制备面釉釉浆：按质量份数，取长石35份、高岭土20份、石英粉19份、滑石8份、氧化铝10份、氧化锌4份、碳酸钡4份，再与0.1份的甲基纤维素钠、0.3份的三聚磷酸钠、40份水以及10份的硅酸锆，放入球磨机中进行球磨，制备得到面釉釉浆。该面釉釉浆的比重在1.8-2.0之间，流速在28-36s之间，即可放入钟罩淋设备中进行淋釉；
(3)制备干粒釉浆：先取氧化铝20份、石英粉55份、氧化锌5份、碳酸锶5份、石灰石10份、碳酸钡3份、长石5份混合后，进行高温烧制，冷却后粉碎制成325目的干粒熔块；
然后取钾长石25份、钠长石10份、氧化锌5份、石英10份、水洗土10份、白云石19份、滑石6份、碳酸锶10份、超细氧化铝3份、刚玉2份，与0.2份助剂、30份的水进行球磨，制成助熔剂浆料；
之后将干粒熔块与悬浮剂按照30：70的质量比混合形成初始釉料，再加入6％的助熔剂浆料，形成干粒釉浆。该釉浆比重在1.2-1.3之间，流速在30-35s之间，即可放入钟罩淋设备中进行淋釉。
(4)在喷水后的砖坯表面，使用钟罩淋釉设备淋面釉釉浆，面釉釉浆的施釉量为600g/件。
(5)淋完面釉后通过喷墨打印机打印图案至面釉层之上。
(6)在打印的图案上，使用钟罩淋釉设备淋干粒釉浆，干粒釉浆的施釉量为450g/件。
(7)淋完后，将砖坯进行干燥后，再通过输送皮带送入烧成窑炉内进行烧成，烧成温度为1160℃。
(8)冷却后，进行抛光处理，经过分选后打包入库。
实施例2
本实施例提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖，同实施例1，所不同的是：步骤(3)中的干粒熔块为400目。
实施例3
本实施例提供一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖，同实施例1，所不同的是步骤(3)中不添加助熔剂浆料，即干粒釉浆中只有干粒熔块和悬浮剂。
对比例1
本对比例提供一种哑光干粒釉陶瓷砖，同实施例1，所不同的是：步骤(3)中的干粒熔块为80目。
对上述实施例1-3以及对比例1制备的陶瓷砖经过半抛之后，进行肉眼观察，明显可以发现对比例1中制备得到的陶瓷砖表面比较粗糙，没有实施例1-3制备的陶瓷砖体现出的细腻质感。而对光泽度进行测试，实施例1-3以及对比例1的光泽度基本在10度-12度之间，表明了本申请的陶瓷砖具有良好的哑光效果。
将上述实施例1、实施例3中的陶瓷砖进行防污测试，具体的防污测试包括：将水泥与墨水以2：1的质量比混合后，均匀涂抹于陶瓷砖的表面，然后通过人工脚踩水泥和墨水的混合物，再静置15分钟后，待混合物完全干透后，使用清水进行冲洗并擦拭。如果能够擦拭干净，且瓷砖表面完全没有残留物，则防污性能最优。需要说明的是，本申请陶瓷砖使用的防污测试等级，是行业内最高的，同等于全抛釉产品的纳米防污，对于全抛釉产品一般需要通过打蜡填充到釉面的毛孔中使其防污性能非常优越，才可以通过该防污测试。而本申请的技术方案中不需要打蜡，也可以通过这个防污测试。
图1为实施例1的陶瓷砖进行防污性能测试之后的釉面放大100倍的照片，图2为实施例3的陶瓷砖进行防污性能测试之后的釉面放大100倍的照片。对比图1和图2，明显可以看到，图2中的釉面上除了陶瓷砖自身的黑色花纹之外，还有一定的墨水残留。这也就说明干粒熔块之间在烧成之后，会存在一定的毛细孔间隙，这些毛细孔很容易在防污测试时隐藏一部分污垢，而本申请中加入助融剂之后，釉面上基本没有毛细孔的出现。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如，在上面的权利要求书中，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本发明的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
Claims (10)
1.一种细腻哑光干粒釉陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖从下往上依次包括：坯体、面釉层、图案层和干粒釉层，所述干粒釉层的原料包括干粒熔块；
所述干粒熔块的原料，按质量份数计，包括：氧化铝18-20份、石英粉52-55份、氧化锌3-5份、碳酸锶3-5份、石灰石8-10份、碳酸钡2-4份、长石4-6份。
2.如权利要求1所述的细腻哑光干粒釉陶瓷砖，其特征在于，所述干粒熔块的化学组成，按质量百分数计，包括：52％-56％SiO2、15％-19％Al2O3、3％-5％K2O、2％-5％CaO、3％-5％Na2O、8％-15％BaO、3％-5％SrO、3％-5％ZnO、0.05％-0.3％MgO。
3.如权利要求1所述的细腻哑光干粒釉陶瓷砖，其特征在于，所述干粒釉层的原料还包括助熔剂；
所述助熔剂的原料，按照质量份数计，包括：钾长石25-27份、钠长石9-11份、氧化锌4-6份、石英10-12份、水洗土7-10份、白云石16-20份、滑石6-10份、碳酸锶9-10份、超细氧化铝3-4份、刚玉2-3份。
4.如权利要求1所述的细腻哑光干粒釉陶瓷砖，其特征在于，所述面釉层的原料包括面釉釉料；按质量份数计，所述面釉釉料包括：长石32-35份、高岭土18-20份、石英粉19-21份、滑石8-10份、氧化铝10-12份、氧化锌3-5份、碳酸钡3-5份。
5.如权利要求4所述的细腻哑光干粒釉陶瓷砖，其特征在于，所述面釉釉料的化学组成，按质量百分数计，包括：65％-67％SiO2、25％-27％Al2O3、4％-4.5％K2O、1％-1.5％Na2O、0.2％-0.5％TiO2、0.2％-0.3％Fe2O3、0.3％-0.5％CaO、1％-1.2％MgO。
6.如权利要求1-5任一项所述的细腻哑光干粒釉陶瓷砖，其特征在于，所述干粒熔块的颗粒细度为240目-400目。
7.一种权利要求1-6任一项所述的细腻哑光干粒釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括：
对干燥的砖坯进行喷水处理后，在所述砖坯表面依次布施面釉釉浆、喷墨打印图案；
在含有所述打印图案的砖坯表面布施干粒釉浆，烧成，得到所述细腻哑光干粒釉陶瓷砖；
所述干粒釉浆包括所述干粒熔块和悬浮剂。
8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，满足以下条件中的至少一个：
a.所述布施面釉釉浆的方式包括淋釉和喷釉；
b.所述布施面釉釉浆的施釉量为500-650g/(750mm×1500mm)；
c.所述面釉釉浆的制备方法包括：
将配方量的面釉釉料原料混合均匀，并取100份放入球磨机中，再加入甲基纤维素钠0.1-0.3份、三聚磷酸钠0.1-0.3份、水30-50份以及硅酸锆3-10份，球磨6-10h，得到所述面釉釉浆；
d.所述面釉釉浆的比重为1.8-2.0，流速为28-36s；
e.所述干粒熔块和所述悬浮剂的质量比为(30-40)：(70-60)；
f.所述布施干粒釉浆的施釉量为400-500g/(750mm×1500mm)；
g.所述干粒釉浆的比重为1.2-1.3，流速为30-35s；
h.所述烧成后的陶瓷砖的砖面光泽度为7-10度；
i.所述烧成之后还包括进行抛光处理，所述抛光处理包括全抛或半抛；
j.所述半抛后的陶瓷砖的砖面光泽度为10-15度。
9.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述干粒釉浆中还包括助熔剂时，所述干粒釉浆的制备方法包括：
在100份配方量的助熔剂原料中加入0.1-0.3份的助剂、30-40份的水，放入球磨机中进行球磨处理，得到助熔剂浆料；
将所述助熔剂浆料加入所述干粒熔块和所述悬浮剂混合形成的初始釉浆中，搅拌均匀，得到所述干粒釉浆；
所述助熔剂浆料的质量是所述初始釉浆的质量的3％-10％。
10.如权利要求7-9任一项所述的制备方法，其特征在于，所述烧成的温度为1150℃-1180℃。
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