CN116143495B - 一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖及其制备方法 - Google Patents

一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖及其制备方法 Download PDF

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CN116143495B CN202310408743.1A CN202310408743A CN116143495B CN 116143495 B CN116143495 B CN 116143495B CN 202310408743 A CN202310408743 A CN 202310408743A CN 116143495 B CN116143495 B CN 116143495B
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Abstract

本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖及其制备方法，包括以下步骤：A、通过干法制粉工艺获得坯料；B、制备基础釉浆；C、制备遮盖釉；D、制备发色釉；E、制备装饰釉；F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；布施遮盖釉，形成遮盖釉层；布施发色釉，形成发色釉层；布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。本方案提出的制备方法，其通过在坯体层和装饰釉层之间增设遮盖釉层和发色层，既起到遮盖坯体层表面如不良底色、坯面缺陷等的作用，又不会影响装饰釉层的釉面性能，在实现节能的前提下，能有效克服现有干法制粉工艺造成的坯面缺陷。

Description

一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖及其制备方法。
背景技术
釉面砖的制备，一般是先按照坯体的原料配方比例进行备料，然后再将坯体的原料通过制粉工艺制备相应粒径的粉料，最后通过布料和压制工艺获得陶瓷生坯，并在其顶部布施釉料后入窑烧制，从而得到釉面砖。
目前，在陶瓷生坯的制备过程中，坯体粉料的制粉工艺一般为湿法制粉工艺，具体地，湿法制粉的工艺流程主要是先将配制好的坯体原料加水进行湿法球磨制成浆料，然后再将浆料通过喷雾塔进行喷雾造粒制成粉料。而在现有的湿法制粉工艺中，一般将湿法球磨后的浆料水分控制在33～37%，而如此高水分含量的浆料经过喷雾造粒制成水分含量为6～8%的粉料的过程中，必然需要较高的热量对水分进行蒸发，因此造成湿法制粉工艺的能耗极高。
为了有效降低制粉工艺中的能耗，一些建筑陶瓷的生产厂家开始研究干法制粉工艺，以代替现有能耗较高的湿法制粉工艺。具体地，干法制粉的工艺流程主要是先将配制好的坯体原料进行除铁和破碎，并通过立式干磨机进行制粉，以获得所需水分含量的细粉，再将细粉进行除铁除渣后，加湿造粒以获得符合生产粒径的粉料。与传统的湿法制粉工艺相比，干法制粉工艺的综合能耗能虽然能下降60～75%，但其工艺痛点也比较明显。
具体地：
1、从显微镜观察放大的照片看，干法制粉工艺所制备的粉料颗粒呈不规则形状，棱角较多，颗粒表面较为毛糙，粒子实心，使得粒子的堆积容重相对较大。因此在压机成型工序中，所压制的砖坯由于粉料的孔隙率较小，致密度较大，最终砖坯烧制后的收缩较小，尺寸也较大。同时，由于干法制粉的粉料颗粒表面毛糙，在成型过程中，颗粒之间的摩擦力较大，砖坯的各个位置的受力均度不一致，收缩不一致。上述情况随着陶瓷砖的规格提高，其成型压力的增加，不一致现象越来越明显，这使得砖坯的尺寸偏差较大，同时使得砖坯表面不平整且粗糙。
2、另外，由于低吸水率产品的烧结度较高，因此其烧制温度也较高，而过高的烧制温度会导致烧制过程中产生较多的液相，这必将影响有机质的氧化排气，进而导致坯体表面产生痱子针孔和黑点。进一步地，由于干法制粉工艺所制得的粉体颗粒为实心颗粒，而由实心粉料压制后得到的坯体密度一般较大，密度较大的生坯在烧制过程中也会进一步影响坯体原料中有机质的排气，使坯体表面也会更容易产生痱子针孔和黑点。
3、由于干法制粉工艺采用的是立式干磨机，其内壁和研磨介质均为合金，在原料研磨过程中，容易产生金属杂质，该杂质在高温烧制后，容易氧化形成黑色杂点残留在陶瓷砖上，因此导致烧制后的砖坯表面存在黑点。
因此，现有的干法制粉工艺一般仅应用于瓷片生产和高吸水率(0.5～3%)釉面砖产品的生产，而不能满足低吸水率（≤0.1%）产品的生产需求。
发明内容
本发明的目的在于提出一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其通过在坯体层和装饰釉层之间增设遮盖釉层和发色层，既起到遮盖坯体层表面如不良底色、坯面缺陷等的作用，又不会影响装饰釉层的釉面性能，在实现节能的前提下，能有效克服现有干法制粉工艺造成的坯面缺陷，且方法简单，成本低。
本发明的另一个目的在于提出一种由上述制备方法制得的低吸水率釉面砖，其吸水率≤0.1%，且釉面平整，无痱子和针孔，无黑点，发色良好，有利于克服现有技术中的不足之处。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；
B、将基础釉原料加水球磨，过筛获得基础釉浆；其中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭9～11份、膨润土1～3份、钾钠砂34～38份、钠砂11～15份、黑滑石5.5～6.5份和水洗高岭土31～35份；
C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料68～72份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英0～2份、烧滑石5.5～6.5份和钠长石4～6份；
D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料48～52份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英1～3份、烧滑石0.5～1.5份和钠长石28～30份；
E、制备装饰釉；
F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。
优选的，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的水分含量为33～37%。
优选的，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％。
优选的，步骤B中，将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目筛获得基础釉浆。
优选的，步骤F中，所述遮盖釉的施釉量为225～300g/m2。
优选的，步骤F中，所述发色釉的施釉量为225～300g/m2。
优选的，步骤B中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭10份、膨润土2份、钾钠砂36份、钠砂13份、黑滑石6份和水洗高岭土33份；
步骤C中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料70份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石6份和钠长石5份；
步骤D中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料50份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石1份和钠长石29份。
优选的，步骤A中，按照质量份数计算，所述坯料包括膨润土9～11份、黄砂19～23份、青砂32～36份、白砂8～12份、镁质土2～4份、钾钠砂4～6份、铝石粉7～9份和铝矾土8～10份。
优选的，按照质量百分比，所述青砂的氧化铁含量为2.6～2.8%，氧化镁含量为1.2～1.5%，氧化钾含量为1.4～1.5%，氧化钠含量为3.6～4.0%；
步骤A中，按照质量百分比，所述坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%。
一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖，使用上述基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法制备而成，所述低吸水率釉面砖的吸水率≤0.1%，所述遮盖釉层的光泽度为2～4度。
本申请实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
1、通过在坯体层和装饰釉层之间增设遮盖釉层和发色层，既起到遮盖坯体层表面如不良底色、坯面缺陷等的作用，又不会影响装饰釉层的釉面性能，在实现节能的前提下，能有效克服现有干法制粉工艺造成的坯面缺陷，打破了干法制粉工艺制备低吸水率釉面砖的界限。
2、采用砂坭料制备遮盖釉和发色釉的基础釉浆，增加了基础釉浆的塑性和悬浮性，为后续基础釉浆与化工料的混合加工时，提高了遮盖釉和发色釉的保湿性，解决传统面釉由于添加大量昂贵的防腐剂而产生的成本问题，有利于稳定釉料性能。
3、遮盖釉层在高温烧制过程中形成以镁铝尖晶石为主、镁橄榄石和堇青石为辅的镁质固溶体系，同时，其共融物里含有一定量的刚玉晶体。遮盖釉层中大量高折射率晶体的生成，有利于提高整个遮盖釉层的折射率，从而对光线产生明显的散射作用，进而实现明显的遮盖效果。
4、发色釉层在高温烧制过程中形成以钠长石为主，镁铝尖晶石和堇青石为辅的钠质固溶体系，该体系的遮盖力虽弱，但发色较好，可以作为遮盖釉层和装饰釉层的中间过渡层，兼顾遮盖的同时又可以降低遮盖釉层对装饰釉层发色的影响。
具体实施方式
一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；
B、将基础釉原料加水球磨，过筛获得基础釉浆；其中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭9～11份、膨润土1～3份、钾钠砂34～38份、钠砂11～15份、黑滑石5.5～6.5份和水洗高岭土31～35份；
C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料68～72份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英0～2份、烧滑石5.5～6.5份和钠长石4～6份；
D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料48～52份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英1～3份、烧滑石0.5～1.5份和钠长石28～30份；
E、制备装饰釉；
F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。
由于现有采用干法制粉工艺制得的砖坯表面容易出现不平整、存在痱子和针孔、还存在黑点的缺陷，因此，为了在实现节能的前提下，克服现有干法制粉工艺造成的砖面缺陷，本方案通过在坯体层和装饰釉层之间增设遮盖釉层和发色层，既起到遮盖坯体层表面如不良底色、坯面缺陷等的作用，又不会影响装饰釉层的釉面性能，在实现节能的前提下，能有效克服现有干法制粉工艺造成的坯面缺陷，打破了干法制粉工艺制备低吸水率釉面砖的界限。
另外，传统的釉面砖产品一般包括湿法制粉工艺坯体层、面釉层和装饰釉层，在上述层次结构中，面釉层的作用最为关键，其作为坯体层和装饰釉层之间的中间层，既要起到遮盖坯体层表面如不良底色、坯面缺陷等的作用，又不能影响装饰釉层的釉面性能，如釉层形变度、发色等，而为了同时兼顾上述各种性能，极大地限制了面釉的配方设计。
具体地，传统釉面砖产品的面釉缺陷表现为：（1）传统的面釉层的放射性较大，这主要是由于其需要遮盖坯体层的不良底色，会在配方中加入较多的硅酸锆(可达到4～20wt%)，这会带来严重的放射性问题；另外，包括硅酸锆的仓库的安全设立和含锆瓷砖产品等方面，容易引起严重的质量及客诉问题。此外，使用硅酸锆作为面釉的原料，在一方面，硅酸锆作为增白剂能促进图案装饰层的发色，减少色料使用量，在另一方面，硅酸锆经过烧制后生成了含锆共融物，其折射率较高，具有较强的遮盖能力，由于硅酸锆在遮盖和增白方面的出色性能，也成为了其用量一直居高不下的原因。（2）传统釉料一般使用白度较高，且经过提纯和煅烧后的化工料进行加工，因此其原料成本较高。（3）利用化工料制得的釉浆塑性不高，保湿性能较差。特别是在温度较高的夏天，存放2到3天就容易导致釉浆性能发生明显变化，如引起触变、流动性差和起粉现象，严重影响生产质量，而为了保证釉浆性能稳定，往往需要在面釉配方中加入大量的防腐剂，再次提升了面釉的制备成本。
因此，为了克服传统面釉的生产缺陷，同时使遮盖能力足以覆盖由干法制粉工艺制成的坯体层的砖面缺陷，本方案还对低吸水率釉砖中的遮盖釉层和发色层的制备方法和配方进行改进，先采用砂坭料加水制备出基础釉浆，再在基础釉浆的基础上添加所需的化工料进行二次加工，制备出满足生产需求的遮盖釉和发色釉。
需要说明的是，在建筑陶瓷领域的制备原料中，砂坭料指的是天然矿物材料只经过简单的物理性预处理的原料，而化工料指的是天然矿物材料经过物理性预处理后，再经过化学性预处理的原料。进一步地，物理性预处理包括水洗除杂、均化、破碎、除铁和过筛等处理步骤，化学性预处理包括煅烧(如烧滑石、氧化铝粉、石英粉等化工料)，以及与其他原料混合球磨后再煅烧(如熔块)等处理步骤。而在一般情况下，行业内陶瓷坯体都是以砂坭料作为原料进行制备，陶瓷釉料主要以化工料作为原料进行制备。
而现有技术中的面釉，其配方体系一般需要满足较低的硅含量、极高的铝含量以及较高的镁、钠等助熔剂成分的条件，而上述条件是普通砂坭料无法满足的。如果利用砂坭料制备陶瓷釉，则需要对用于制备陶瓷釉的砂坭料有极高的要求，部分砂坭料还需要进行预处理，如对矿物煅烧后的特定晶型进行转变、结晶水脱水、有机/无机质排气等，因此，出于经济效益和生产质量上的考虑，现有技术中难以利用砂坭料作为陶瓷釉的制备原料。
但由于砂坭料的获取途径多，原料成本低，因此，为打破砂坭料难以用于制备陶瓷釉的界限，本方案提出了一套制备遮盖釉和发色釉的新工艺和及新配方。
首先，本方案先将基础釉原料加水球磨，过筛获得基础釉浆，其中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭9～11份、膨润土1～3份、钾钠砂34～38份、钠砂11～15份、黑滑石5.5～6.5份和水洗高岭土31～35份。基础釉原料均属于砂坭料，其能有效降低釉料的原料成本，解决了传统釉料采用昂贵的化工料所导致的生产成本高的技术问题。同时，配方中引入较多的塑性料，包括混合坭、膨润土、黑滑石和水洗高岭土，增加了基础釉浆的塑性和悬浮性，为后续基础釉浆与化工料的混合加工时，提高了遮盖釉和发色釉的保湿性，解决传统面釉由于添加大量昂贵的防腐剂而产生的成本问题，有利于稳定釉料性能；此外，由上述原料配方组成的配方体系中，基础釉浆中Al2O3、MgO和Na2O的含量较高，有助于后续遮盖釉的成分调整，便于提升遮盖釉层中遮盖力较强的晶体的形成。
其次，本方案在基础釉浆的基础上添加配方量的釉用高岭土、煅烧氧化铝、石英、烧滑石和钠长石5种化工料进行遮盖釉的制备，配方体系通过引入含有高含量的Al2O3和MgO成分的基础釉浆，同时通过引入煅烧氧化铝和烧滑石，使得遮盖釉成分含有高达31%的Al2O3以及2.5%的MgO，有利于釉层在高温烧制过程中形成以镁铝尖晶石MgO·Al2O3(折射率1.72)为主、镁橄榄石2MgO·SiO2(折射率1.63)和堇青石2MgO·2Al2O3·5SiO2(折射率1.56)为辅的镁质固溶体系，特别是将遮盖釉层的配方烧结度控制在较高温状态时，有利于使得镁质固溶体产物以高折射率的镁铝尖晶石为主；同时，其共融物里含有一定量的刚玉晶体α-Al2O3(折射率1.77)。遮盖釉层中大量高折射率晶体的生成，有利于提高整个遮盖釉层的折射率，从而对光线产生明显的散射作用，进而实现明显的遮盖效果。
值得强调的是，遮盖釉的配方体系设计还令其釉层烧结温度保证在较低温度内，即令遮盖釉层的烧结度较低，这样可以使得釉层内部的致密度较低，气孔率较高，从而更有利于光线在釉层中的散射，最终使得遮盖力得以再次提高。
再次，本方案在基础釉浆的基础上添加配方量的釉用高岭土、煅烧氧化铝、石英、烧滑石和钠长石5种化工料进行发色釉的制备，其主要作为遮盖釉层在促进发色性能上的补充。具体地，由于遮盖釉在高温煅烧过程中生成的镁质固溶体产物的遮盖力虽强，但发色却较弱，当装饰釉层布施于遮盖釉层顶部时，镁质固溶体产物必然会与装饰釉层中的原料发生反应，使形成的玻璃相较少，从而产生发色不良的情况。因此，为避免上述情况的出现，本方案在遮盖釉层和装饰釉层中增设一过渡层，利用发色釉中的原料配方在体系中产生更多的钠质固溶体，以促进玻璃相的生成，从而达到促进发色的目的。
在发色釉的配方设计上，其仍然以基础釉浆为主料，然后采用了以Na2O为主，MgO为次的助熔剂体系，与遮盖釉层的以MgO为主，Na2O为次的助熔剂体系不同，使得发色釉层更容易形成低折射率产物，形成以钠长石(折射率1.52)为主，镁铝尖晶石MgO·Al2O3(折射率1.72)和堇青石2MgO·2Al2O3·5SiO2(折射率1.56)为辅的钠质固溶体系，该体系的遮盖力虽弱，但发色较好，可以作为遮盖釉层和装饰釉层的中间过渡层，兼顾遮盖的同时又可以降低遮盖釉层对装饰釉层发色的影响。
还需要说明的是，本方案基础釉原料中的混合坭通过市售途径购买，按照质量百分比，混合坭的化学成分包括SiO268.05%、Al2O320.07%、Fe2O31.85%、TiO20.43%、CaO 0.24%、MgO 0.26%、K2O 1.31%、Na2O 0.38%和烧失量6.97%。另外，基础釉原料中的黑滑石同样通过市售途径购买，按照质量百分比，黑滑石的化学成分包括SiO258.37%、Al2O30.91%、Fe2O30.04%、TiO20.02%、CaO 3.32%、MgO 22.72%、K2O 0.15%、Na2O 0.07%和烧失量9.40%。
更进一步说明，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的水分含量为33～37%。
在本技术方案的一个优选实施例中，还对基础釉浆的含水率进行严格控制，以稳定遮盖釉和发色釉的釉浆性能。
优选的，按照质量百分比，所述基础釉浆的水分含量为35%。
更进一步说明，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％。
在本技术方案的另一个优选实施例中，还对基础釉浆的细度进行严格控制，以便于在节能的前提下，保证原料的充分分散。
更进一步说明，步骤B中，将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目筛获得基础釉浆。
进一步地，本方案将砂坭料釉浆的制备与多级过筛工序进行配合，能有效过滤出釉浆中因团聚、颗粒较大的有机质以及其他气体产生物的无机质(如碳酸盐，硫、氮和碳化物)。
更进一步说明，步骤F中，所述遮盖釉的施釉量为225～300g/m2。
更进一步说明，步骤F中，所述发色釉的施釉量为225～300g/m2。
更进一步地，本方案还对遮盖釉和发色釉的施釉量进行限定，能有效提高遮盖釉的釉面遮盖能力，同时促进装饰釉层的发色。
另外，在陶瓷行业内，湿法制粉工艺所生产的浅色瓷砖产品的面釉层施釉量为500～550g/m2，深色瓷砖产品的面釉施釉量为450～500g/m2。在干法制粉工艺中，本方案所涉及的遮盖釉和发色釉的施釉量均为225～300g/m2，总釉量为450～600g/m2，这种大釉量工艺在解决干法制粉工艺坯体层的表面缺陷时，也兼顾了浅色和深色瓷砖产品的遮盖需求，简化了工艺。
更进一步说明，步骤B中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭10份、膨润土2份、钾钠砂36份、钠砂13份、黑滑石6份和水洗高岭土33份；
步骤C中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料70份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石6份和钠长石5份；
步骤D中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料50份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石1份和钠长石29份。
更进一步说明，步骤A中，按照质量份数计算，所述坯料包括膨润土9～11份、黄砂19～23份、青砂32～36份、白砂8～12份、镁质土2～4份、钾钠砂4～6份、铝石粉7～9份和铝矾土8～10份。
本方案中坯体层采用的塑性体系为膨润土，再以带部分塑性功能的青砂为辅，有利于提升整个配方体系的塑性。进一步地，由于膨润土的水份相对较低且塑性较好，有利于降低配方的含水率，从而降低在立式干磨机中的热风量的使用量，节省能源，有效提高立式干磨机的干磨效率。
优选的，按照质量份数计算，所述坯料包括膨润土10份、黄砂21份、青砂34份、白砂10份、镁质土3份、钾钠砂5份、铝石粉8份和铝矾土9份。
更进一步说明，按照质量百分比，所述青砂的氧化铁含量为2.6～2.8%，氧化镁含量为1.2～1.5%，氧化钾含量为1.4～1.5%，氧化钠含量为3.6～4.0%；
步骤A中，按照质量百分比，所述坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%。
青砂是一种砂料，主要出产于重庆市荣昌区和永川区一带，是当地特有的陶瓷原材料，该类原材料烧成塑性好且储量大，容易获得，若在陶瓷配方中大量添加，则能极大的降低原材料成本，同时由于青砂的化学成分还带有一定量的氧化镁、氧化钾和氧化钠，使得青砂具有良好的助熔效果；但由于青砂含铁量较高，原始白度仅约3.5度，若用于陶瓷原料，则会降低坯体白度。因此，为了在确保成本的基础上，使坯体层中的青砂满足生产所需，本方案还对青砂的各氧化物含量进行优选。
另外，在本技术方案的一个优选实施例中，对坯料的颗粒度进行了优选，有利于通过级配的调整，改善坯体层的尺寸偏差较大，表面不平整的问题。
一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖，使用上述基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法制备而成，所述低吸水率釉面砖的吸水率≤0.1%，所述遮盖釉层的光泽度为2～4度。
利用本方案的制备方法制得的低吸水率釉面砖，其大幅降低了低吸水率陶瓷砖的生产能耗和成本，同时能有效确保釉面砖的釉面平整、无痱子和针孔、无黑点现象，还有利于促进产品发色。
另外，在釉面砖生产过程中，釉层的光泽度越高，其釉面越细腻，烧结度越高，因此本方案利用光泽度来表征釉层烧结度。
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；其中，按照质量份数计算，坯料包括膨润土10份、黄砂21份、青砂34份、白砂10份、镁质土3份、钾钠砂5份、铝石粉8份和铝矾土9份，且按照质量百分比，青砂的氧化铁含量为2.65%，氧化镁含量为1.29%，氧化钾含量为1.41%，氧化钠含量为3.85%；坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%；
B、将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目获得含水率为33%、细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％的基础釉浆；其中，按照质量份数计算，基础釉原料包括混合坭9份、膨润土1份、钾钠砂34份、钠砂11份、黑滑石5.5份和水洗高岭土31份；
C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，遮盖釉包括基础釉原料68份、釉用高岭土2份、煅烧氧化铝14份、烧滑石5.5份和钠长石4份；
D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，发色釉包括基础釉原料48份、釉用高岭土2份、煅烧氧化铝14份、石英1份、烧滑石0.5份和钠长石28份；
E、制备常规装饰釉；
F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施施釉量为225g/m2的遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施施釉量为225g/m2的发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。
实施例2
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；其中，按照质量份数计算，坯料包括膨润土10份、黄砂21份、青砂34份、白砂10份、镁质土3份、钾钠砂5份、铝石粉8份和铝矾土9份，且按照质量百分比，青砂的氧化铁含量为2.65%，氧化镁含量为1.29%，氧化钾含量为1.41%，氧化钠含量为3.85%；坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%；
B、将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目获得含水率为35%、细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％的基础釉浆；其中，按照质量份数计算，基础釉原料包括混合坭10份、膨润土2份、钾钠砂36份、钠砂13份、黑滑石6份和水洗高岭土33份；
C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，遮盖釉包括基础釉原料70份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石6份和钠长石5份；
D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，发色釉包括基础釉原料50份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石1份和钠长石29份；
E、制备常规装饰釉；
F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施施釉量为250g/m2的遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施施釉量为250g/m2的发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。
实施例3
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；其中，按照质量份数计算，坯料包括膨润土10份、黄砂21份、青砂34份、白砂10份、镁质土3份、钾钠砂5份、铝石粉8份和铝矾土9份，且按照质量百分比，青砂的氧化铁含量为2.65%，氧化镁含量为1.29%，氧化钾含量为1.41%，氧化钠含量为3.85%；坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%；
B、将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目获得含水率为37%、细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％的基础釉浆；其中，按照质量份数计算，基础釉原料包括混合坭11份、膨润土3份、钾钠砂38份、钠砂15份、黑滑石6.5份和水洗高岭土35份；
C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，遮盖釉包括基础釉原料72份、釉用高岭土4份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石6.5份和钠长石6份；
D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，发色釉包括基础釉原料52份、釉用高岭土4份、煅烧氧化铝16份、石英3份、烧滑石1.5份和钠长石30份；
E、制备常规装饰釉；
F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施施釉量为300g/m2的遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施施釉量为300g/m2的发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。
对比例
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；其中，按照质量份数计算，坯料包括膨润土10份、黄砂21份、青砂34份、白砂10份、镁质土3份、钾钠砂5份、铝石粉8份和铝矾土9份，且按照质量百分比，青砂的氧化铁含量为2.65%，氧化镁含量为1.29%，氧化钾含量为1.41%，氧化钠含量为3.85%；坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%；
B、制备常规面釉；其中，按照质量份数计算，所述面釉包括釉用高岭土10份、钾长石11份、煅烧氧化铝14份、石英15份、烧滑石5份、钠长石31份、煅烧高岭土13份和硅酸锆6份；
C、制备常规装饰釉；
D、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施施釉量为600g/m2的面釉，形成面釉层；在面釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到釉面砖。
观察上述实施例和对比例中烧制后低吸水率瓷砖的砖面情况，并对烧制后的瓷砖进行陶瓷领域常规的性能测试，其结果如下表1所示：
表1 实施例组和对比例中各瓷砖的性能测试结果
Figure SMS_1
由表1的性能测试结果可知，利用本方案的制备方法制备低吸水率的釉面砖产品，其遮盖釉层光泽度达到2～4度，且产品表面平整，无痱子和针孔，也无黑点，发色良好，比现有的湿法制粉工艺面釉配方的遮盖能力更强。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
A、将坯体原料通过立式干磨机研磨获得细粉，将细粉加湿造粒获得坯料；
B、将基础釉原料加水球磨，过筛获得基础釉浆；其中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭9～11份、膨润土1～3份、钾钠砂34～38份、钠砂11～15份、黑滑石5.5～6.5份和水洗高岭土31～35份；
C、制备遮盖釉；其中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料68～72份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英0～2份、烧滑石5.5～6.5份和钠长石4～6份；
D、制备发色釉；其中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料48～52份、釉用高岭土2～4份、煅烧氧化铝14～16份、石英1～3份、烧滑石0.5～1.5份和钠长石28～30份；
E、制备装饰釉；
F、将步骤A的坯料压制成型，干燥形成坯体层；在坯体层的顶部布施遮盖釉，形成遮盖釉层；在遮盖釉层的顶部布施发色釉，形成发色釉层；在发色釉层的顶部布施装饰釉，形成装饰釉层；入窑烧制，得到低吸水率釉面砖。
2.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的水分含量为33～37%。
3.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤B中，按照质量百分比，所述基础釉浆的细度为过325目筛，筛余0.8～1.2％。
4.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤B中，将基础釉原料加水球磨，依次过20目筛、40目筛、60目筛、80目筛和100目筛获得基础釉浆。
5.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤F中，所述遮盖釉的施釉量为225～300g/m2。
6.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤F中，所述发色釉的施釉量为225～300g/m2。
7.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，
步骤B中，按照质量份数计算，所述基础釉原料包括混合坭10份、膨润土2份、钾钠砂36份、钠砂13份、黑滑石6份和水洗高岭土33份；
步骤C中，按照质量份数计算，所述遮盖釉包括基础釉原料70份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石6份和钠长石5份；
步骤D中，按照质量份数计算，所述发色釉包括基础釉原料50份、釉用高岭土3份、煅烧氧化铝16份、石英2份、烧滑石1份和钠长石29份。
8.根据权利要求1所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤A中，按照质量份数计算，所述坯料包括膨润土9～11份、黄砂19～23份、青砂32～36份、白砂8～12份、镁质土2～4份、钾钠砂4～6份、铝石粉7～9份和铝矾土8～10份。
9.根据权利要求8所述的一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法，其特征在于，按照质量百分比，所述青砂的氧化铁含量为2.6～2.8%，氧化镁含量为1.2～1.5%，氧化钾含量为1.4～1.5%，氧化钠含量为3.6～4.0%；
步骤A中，按照质量百分比，所述坯料的颗粒级配为：20目筛网筛余≤2%、40目筛网筛余30～45％、60目筛网筛余50～70％、100目筛网筛余≥80%。
10.一种基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖，其特征在于，使用权利要求1～9任意一项所述的基于干法制粉工艺的低吸水率釉面砖的制备方法制备而成，所述低吸水率釉面砖的吸水率≤0.1%，所述遮盖釉层的光泽度为2～4度。
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