CN116125561A - 膜层组件和电子设备 - Google Patents

膜层组件和电子设备 Download PDF

Info

Publication number
CN116125561A
CN116125561A CN202310002319.7A CN202310002319A CN116125561A CN 116125561 A CN116125561 A CN 116125561A CN 202310002319 A CN202310002319 A CN 202310002319A CN 116125561 A CN116125561 A CN 116125561A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
functional
substrate
film layer
equal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202310002319.7A
Other languages
English (en)
Inventor
郑婷婷
朱林波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Vivo Mobile Communication Co Ltd
Original Assignee
Vivo Mobile Communication Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vivo Mobile Communication Co Ltd filed Critical Vivo Mobile Communication Co Ltd
Priority to CN202310002319.7A priority Critical patent/CN116125561A/zh
Publication of CN116125561A publication Critical patent/CN116125561A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/263—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer having non-uniform thickness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00—Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B17/00—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor

Abstract

本申请公开了一种膜层组件和电子设备，其中，膜层组件，用于摄像装置，包括：基板；功能膜层；紫外吸收层，紫外吸收层连接于基板和功能膜层之间；基板朝向紫外吸收层的一侧设有凸凹部，紫外吸收层的一部分填充于凸凹部。

Description

膜层组件和电子设备
技术领域
本申请属于电子设备的技术领域，具体涉及一种膜层组件和电子设备。
背景技术
相关技术中，镜头由基板加层状功能薄膜结构构成，其中，基板为树脂基板。功能薄膜的制备方式多为离子辅助气相沉积，而高能的离子产生的紫外辐射会使基板中的含碳原子主链断裂，基板的材料表面改性老化，导致功能薄膜与基板附着力差，易出现功能薄膜脱膜的现象。
发明内容
本申请旨在提供一种膜层组件、摄像装置和电子设备，至少解决了相关技术中，基板的材料表面改性老化导致功能薄膜脱膜的技术问题。
为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：
第一方面，本申请实施例提出了一种膜层组件，用于摄像装置，包括：基板；功能膜层；紫外吸收层，紫外吸收层连接于基板和功能膜层之间；基板朝向紫外吸收层的一侧设有凸凹部，紫外吸收层的一部分填充于凸凹部。
第二方面，本申请实施例提出了一种电子设备，包括：如第一方面中任一实施例的膜层组件。
在本申请的实施例中，膜层组件包括基板、功能膜层和紫外吸收层。
通过合理设置基板、功能膜层和紫外吸收层的配合结构，使得紫外吸收层位于基板和功能膜层之间，紫外吸收层与基板连接，且紫外吸收层与功能膜层连接。
紫外吸收层具有保护基板的作用，紫外吸收层能够减少紫外高能离子对基板的表面的化学改性，延缓基板的材料老化，进一步提高基板和功能膜层的附着力，随着膜层组件的使用时间的延长，不会对基板造成损坏，提高了膜层组件的结构稳定性，降低了功能膜层脱膜的发生概率，有利于延长产品的使用寿命，有利于提升产品的使用性能。
可以理解的是，功能膜层使膜层组件具有特定功能，也就是说，根据加膜层组件的使用场景来设置功能膜层的使用功能。如，功能膜层具有透光功能，又如，功能膜层具有反光功能，再如，功能膜层具有吸光功能等等，在此不一一列举。
进一步地，通过合理设置基板和紫外吸收层的配合结构，使得基板设有凸凹部，凸凹部朝向紫外吸收层设置，且紫外吸收层的一部分填充于凸凹部。凸凹部的结构设置使得基板表面粗糙化，使得基板的表面暴露更多的活性位点，这样，能够增加基板和功能膜层的化学键的键合，可提高基板和功能膜层的附着力。不易出现功能膜层脱膜的现象。本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本申请的第一个实施例的膜层组件的结构示意图；
图2是本申请的第二个实施例的膜层组件的结构示意图；
图3是图2的膜层组件的吸收率的示意图；
图4是本申请的第三个实施例的膜层组件的结构示意图；
图5是图4的膜层组件的反射率的示意图。
附图标记：
图1、图2和图4中的附图标记与部件名称之间的对应关系为：
100膜层组件，110基板，112凸凹部，120功能膜层，122第一功能部，1222第一二氧化硅层，1224钛铝化合物层，124第二功能部，1242第二二氧化硅层，1244二氧化钛层，126二氧化硅功能部，130紫外吸收层，140耐磨层。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
下面结合图1至图5描述根据本申请实施例的膜层组件100和电子设备。
如图1、图2和图4所示，根据本申请一些实施例的膜层组件100，用于摄像装置，包括：基板110；功能膜层120；紫外吸收层130，紫外吸收层130连接于基板110和功能膜层120之间。
在该实施例中，膜层组件100包括基板110、功能膜层120和紫外吸收层130。
通过合理设置基板110、功能膜层120和紫外吸收层130的配合结构，使得紫外吸收层130位于基板110和功能膜层120之间，紫外吸收层130与基板110连接，且紫外吸收层130与功能膜层120连接。
紫外吸收层130具有保护基板110的作用，紫外吸收层130能够减少紫外高能离子对基板110的表面的化学改性，延缓基板110的材料老化，进一步提高基板110和功能膜层120的附着力，随着膜层组件100的使用时间的延长，不会对基板110造成损坏，提高了膜层组件100的结构稳定性，降低了功能膜层120脱膜的发生概率，有利于延长产品的使用寿命，有利于提升产品的使用性能。
可以理解的是，功能膜层120使膜层组件100具有特定功能，也就是说，可以根据膜层组件100的使用场景来设置功能膜层120的使用功能。如，功能膜层120具有透光功能，又如，功能膜层120具有反光功能，再如，功能膜层120具有吸光功能等等，在此不一一列举。
在一些实施例中，如图1、图2和图4所示，基板110朝向紫外吸收层130的一侧设有凸凹部112，紫外吸收层130的一部分填充于凸凹部112。
在该实施例中，通过合理设置基板110和紫外吸收层130的配合结构，使得基板110设有凸凹部112，凸凹部112朝向紫外吸收层130设置，且紫外吸收层130的一部分填充于凸凹部112。凸凹部112的结构设置使得基板110表面粗糙化，使得基板110的表面暴露更多的活性位点，这样，能够增加基板110和功能膜层120的化学键的键合，可提高基板110和功能膜层120的附着力。不易出现功能膜层120脱膜的现象。
在一些实施例中，紫外吸收层130包括钛酸镧层。
在该实施例中，细化紫外吸收层130的组成，具体地，紫外吸收层130包括钛酸镧层。钛酸镧层更容易利用电子束蒸发将其汽化成膜，因此，可利用产生紫外辐射较少的电子束蒸发技术将钛酸镧层作为保护层插入在基板110和功能膜层120之间。
在一些实施例中，紫外吸收层130的折射率大于或等于1.99/550nm，且小于或等于2.1/550nm；紫外吸收层130的厚度大于或等于20nm，且小于或等于300nm。
在该实施例中，进一步限定紫外吸收层130的参数，具体地，紫外吸收层130的折射率大于或等于1.99/550nm，且小于或等于2.1/550nm。也即，在550nm波长下测得的折射率大于或等于1.99，且小于或等于2.1。如，折射率包括2.02、2.04、2.06、2.08等等，在此不一一列举。
其中，基板110包括以下任一种或其组合：聚对苯二甲酸乙二醇酯基板110、聚碳酸酯基板110和聚甲基丙烯酸甲酯基板110。
该设置使得紫外吸收层130的折射率接近基板110的折射率，有利于基于基板110的膜系设计。
进一步地，紫外吸收层130的厚度大于或等于20nm，且小于或等于300nm。如，紫外吸收层130的厚度包括30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、120nm、140nm、160nm、180nm、200nm、220nm、240nm、260nm和280nm等等，在此不一一列举。紫外吸收层130的厚度处于上述范围内，对基板110有保护作用。
该设置在保证功能膜层120的特定光学性能的基础上，能够提高基板110与功能膜层120之间的附着力。
在一些实施例中，如图1、图2和图4所示，膜层组件100，还包括：耐磨层140，设于功能膜层120背离紫外吸收层130的一侧。
在该实施例中，通过合理设置膜层组件100的结构，使得膜层组件100还包括耐磨层140，并使功能膜层120位于紫外吸收层130和耐磨层140之间，耐磨层140能够减小摩擦系数，其表面更爽滑，能够提高功能膜层120的抗摩擦性，进而能够提高膜层组件100的结构稳定性，有利于延长膜层组件100的使用寿命，有利于提升膜层组件100的使用性能。
在一些实施例中，耐磨层140包括硅氧烷改性全氟聚醚聚合物层。
在该实施例中，进一步限定耐磨层140的结构，使得耐磨层140包括硅氧烷改性全氟聚醚层，其中被改性的全氟聚醚的类型可在Y型(由六氟丙烯在紫外作用下光氧化形成的聚合物)，Z型(由四氟乙烯在光氧化形成的直链化合物)，K型(由六氟环氧丙烷在氟化铯催化作用聚合成的支链化合物)和D型(由四氟氧杂环丁烷的聚合产物直接氟化而成的聚合物)中任意选择。
在一些实施例中，耐磨层140的表面张力大于或等于6.7mN/m，且小于或等于25mN/m。
在该实施例中，进一步限定耐磨层140的参数，具体地，耐磨层140的表面张力大于或等于6.7mN/m，且小于或等于25mN/m。耐磨层140的表面张力处于上述范围内，能够在保证功能膜层120具有特定功能的同时，提高膜层结构的表面的爽滑度，增加耐磨性。
具体地，耐磨层140的表面张力包括18mN/m、19mN/m、20mN/m、21mN/m、22mN/m、23mN/m和24mN/m等等，在此不一一列举。
在一些实施例中，凸凹部112是通过离子刻蚀、激光刻蚀、腐蚀、光刻或纳米压印制成。
在该实施例中，可通过离子刻蚀、激光刻蚀、腐蚀、光刻或纳米压印制的方式制成凸凹部112。
在一些实施例中，凸凹部112的凸起的形状包括柱形、锥形、四棱柱或圆台。
在该实施例中，进一步限定凸凹部112的结构，凸凹部112的凸起的形状包括柱形、锥形、四棱柱或圆台，该设置使得基板110表面粗糙化，使得基板110的表面暴露更多的活性位点，这样，能够增加基板110和功能膜层120的化学键的键合。
在一些实施例中，凸凹部112的凸起的表面粗糙度均方根大于或等于0.8nm，且小于或等于100nm；凸起在垂直于膜层组件100的厚度方向上的宽度大于或等于10nm，且小于或等于400nm。
在该实施例中，进一步限定凸凹部112的结构，具体地，凸凹部112的凸起的表面粗糙度均方根大于或等于0.8nm，且小于或等于100nm，凸起在第一方向上的宽度S大于或等于10nm，且小于或等于400nm。
可以理解的是，当凸起的形状不规则，或者沿膜层组件100的厚度方向，凸起在第一方向上的宽度不均等时，凸起的宽度S指的是，沿膜层组件100的厚度方向，凸起在第一方向上的宽度的平均值。
具体地，凸起的表面粗糙度均方根包括10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm和90nm等等，在此不一一列举。
在一些实施例中，基板110包括以下任一种或其组合：聚对苯二甲酸乙二醇酯基板110、聚碳酸酯基板110和聚甲基丙烯酸甲酯基板110。
在一些实施例中，如图2所示，功能膜层120包括：多个第一功能部122，多个第一功能部122叠置，每个第一功能部122包括第一二氧化硅层1222和钛铝化合物层1224，第一二氧化硅层1222叠置于钛铝化合物层1224远离紫外吸收层130的一侧。
在该实施例中，功能膜层120包括多个第一功能部122，多个第一功能部122沿膜层组件100的厚度方向叠置，每个第一功能部122包括第一二氧化硅层1222和钛铝化合物层1224。也即，功能膜层120包括N个第一功能部122，也可以说，功能膜层120包括N个第一二氧化硅层1222和N个钛铝化合物层1224，任意相邻两个第一二氧化硅层1222之间夹设有一个钛铝化合物层1224，任意相邻两个钛铝化合物层1224之间夹设有一个第一二氧化硅层1222。
功能膜层120为多层结构，该设置使得功能膜层120具有高吸收性能，反射率低。光线入射功能膜层120，反射率低，透过率低，以满足膜层组件100高吸收率、低反射率、低透过率的使用需求。
如图2所示，功能膜层120包括三个第一功能部122，三个第一功能部122分别记作功能部一、功能部二和功能部三。功能部一的第一二氧化硅层1222的厚度是63nm，钛铝化合物层1224的厚度是23nm。功能部二的第一二氧化硅层1222的厚度是17nm，钛铝化合物层1224的厚度是240nm。功能部三的第一二氧化硅层1222的厚度是41nm，钛铝化合物层1224的厚度是15nm。耐磨层140的厚度是15nm。紫外吸收层130的厚度是100nm。基层的厚度是2mm。
在其他一些实施例中，功能膜层120为单层结构。
在一些实施例中，如图4所示，功能膜层120包括：多个第二功能部124，多个第二功能部124叠置，每个第二功能部124包括第二二氧化硅层1242和二氧化钛层1244，第二二氧化硅层1242叠置于二氧化钛层1244远离紫外吸收层130的一侧；第二二氧化硅功能部126，第二二氧化硅功能部126位于多个第二功能部124和紫外吸收层130之间。
在该实施例中，功能膜层120包括多个第二功能部124和第二二氧化硅功能部126，多个第二功能部124沿膜层组件100的厚度方向叠置，每个第二功能部124包括第二二氧化硅层1242和二氧化钛层1244。也即，功能膜层120包括N个第二功能部124，也可以说，功能膜层120包括N个第二二氧化硅层1242和N个二氧化钛层1244，任意相邻两个第二二氧化硅层1242之间夹设有一个二氧化钛层1244，任意相邻两个二氧化钛层1244之间夹设有一个第二二氧化硅层1242。
功能膜层120为多层结构，该设置使得功能膜层120具有高透过率性能，反射率低。光线入射功能膜层120，反射率低，透过率高，以满足膜层组件100低反射率、高透过率的使用需求。
如图4所示，功能膜层120包括两个第二功能部124，两个第二功能部124分别记作功能部四、功能部五。功能部四的第二二氧化硅层1242的厚度是92nm，二氧化钛层1244的厚度是38nm。功能部五的第二二氧化硅层1242的厚度是8nm，二氧化钛层1244的厚度是66nm。耐磨层140的厚度是18nm。紫外吸收层130的厚度是24nm。基层的厚度是2mm。第二二氧化硅功能部126的厚度是26nm。
具体地，首先，采用粗糙化的树脂作为基板110，使之表面暴露更多的活性位点(即，凸凹部112)，增加基板110和功能膜层120的化学键的键合。
其次，通过在基板110功能膜层120之间增加具有保护基板110作用的紫外吸收层130(如，钛酸镧层)，减少紫外高能离子对基板110的表面的化学改性，延缓材料老化，进一步提高基板110和功能膜层120的附着力。
最后，在最外层涂覆一层耐磨层140(其中，耐磨层140包括含氟涂层)，降低表面能，减少动摩擦系数，使表面更爽滑，提高抗摩擦性，进而提高膜层组件100的结构稳定性。
本申请的膜层组件100，使得功能膜层120在基板110的上的附着力和耐磨性大大增加，进一步提高摄像装置的产品性能。
具体地，基板110粗糙化。基板110包括但不限于：聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，PET)基板110、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)基板110和聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methyl methacrylate)，PMMA)基板110。基板110粗糙化的方法包括但不限于离子刻蚀，激光刻蚀，湿法腐蚀，光刻及纳米压印等。基板110的粗糙化(即，形成凸凹部112)的形状可以是规则的，包括但不限于三角形阵列，圆柱形阵列，矩形阵列，也可以是非规则。表面粗糙度采用表面粗糙度均方根(Root mean square，RMS)以及在垂直于膜层组件100的厚度方向上的宽度S来衡量，凸凹部112的凸起的RMS大于或等于0.8nm，且小于或等于100nm，S大于或等于10nm，且小于或等于400nm。
具体地，插入紫外吸收层130。紫外吸收层130包括钛酸镧层，钛酸镧层的材料的折射率大于或等于1.99/550nm，且小于或等于2.1/550nm。功能膜层120包括二氧化钛层1244，紫外吸收层130相较于二氧化钛层1244的折射率更接近基板110的折射率，这有利于基于膜层的膜系设计。
且紫外吸收层130更容易利用电子束蒸发将其汽化成膜，因此可利用产生紫外辐射较少的电子束蒸发技术，将紫外吸收层130作为保护层插入基板110和功能膜层120之间。在实现特定光学性能的基础上提高基板110与功能膜层120之间的附着力。具体地，紫外吸收层130的厚度大于或等于20nm，且小于或等于300nm。
具体地，在功能膜层120背离紫外吸收层130的一侧设置耐磨层140(如，耐磨层140包括含氟涂层)。耐磨层140包括硅氧烷改性全氟聚醚层。其中改性的全氟聚醚层的类型可在Y型(由六氟丙烯在紫外作用下光氧化形成的聚合物)，Z型(由四氟乙烯在光氧化形成的直链化合物)，K型(由六氟环氧丙烷在氟化铯催化作用聚合成的支链化合物)和D型(由四氟氧杂环丁烷的聚合产物直接氟化而成的聚合物)中任意选择。
耐磨层140的表面张力大于或等于6.7mN/m，且小于或等于25mN/m。在实现特定光学性能的基础上提高结构表面的爽滑度，增加耐磨性。
实施例一，如图2所示，基板110为PET基板110，基板110的凸凹部112的凸起的表面粗糙度均方根为2nm，凸起在垂直于膜层组件100的厚度方向上的宽度为100nm。基板110上的凸凹部112通过纳米压印制作。膜层组件100具有可见光波段(400nm-700nm)的高吸收。以厚度为100nm的钛酸镧层作为保护层，以钛铝化合物(TiAlC)为吸收膜层，第一二氧化硅(SiO2)层为介质膜层，耐磨层140包括硅氧烷改性全氟聚醚层。
膜层组件100包括厚度为2mm的PET基板110、厚度为100nm的钛酸镧层、厚度为15nm的钛铝化合物层1224、厚度为41nm的第一二氧化硅层1222、厚度为240nm的钛铝化合物层1224、厚度为17nm的第一二氧化硅层1222、厚度为23nm的钛铝化合物层1224、厚度为63nm的第一二氧化硅层1222和厚度为15nm的硅氧烷改性的全氟聚醚聚合物层。
具体地，图3示出了基于图2中的膜层组件100的吸收率的示意图。对该膜层组件100的样品进行恒温(80℃)水浴加热30分钟后，用无尘布擦干表面水渍后静置2小时，采用胶带进行粘结剥离实验，验证整体结构的稳定性，验证结果见表1，结果显示胶带剥离后功能膜层120未脱落。相关技术中的膜层组件100经附着力测试后功能膜层120会脱落。
实施例二，如图4所示，基板110为PMMA基板110，基板110的凸凹部112的凸起的表面粗糙度均方根为1.2nm，凸起在垂直于膜层组件100的厚度方向上的宽度为80nm。基板110上的凸凹部112通过纳米压印制作。膜层组件100具有可见光波段(400nm-700nm)的减反射。以厚度为24nm的钛酸镧层作为保护层，以二氧化钛层1244为高折射率层，第二二氧化硅(SiO2)层为低折射率层。耐磨层140包括硅氧烷改性全氟聚醚层。
膜层组件100包括厚度为2mm的PMMA基板110、厚度为24nm的钛酸镧层、厚度为26nm的二氧化硅功能部126、厚度为66nm的二氧化钛层1244、厚度为8nm的第二二氧化硅层1242、厚度为38nm的二氧化钛层1244、厚度为92nm的第二二氧化硅层1242和厚度为18nm的硅氧烷改性全氟聚醚层。
具体地，图5示出了基于图4中的膜层组件100的反射率的示意图。对该膜层组件100的样品进行恒温(100℃)水浴加热30分钟后，用无尘布擦干表面水渍后静置2小时，采用胶带进行粘结剥离实验，验证整体结构的稳定性，验证结果见表1，结果显示胶带剥离后功能膜层120未脱落，该结构稳定性良好。相关技术中的膜层组件100经附着力测试后功能膜层120会脱落。
采用粗糙化的树脂作为基板110，使之表面暴露更多的活性位点，增加基板110和功能膜层120的化学键的键合，增加基板110和功能膜层120的附着力。
通过钛酸镧层减少了基板110的辐射老化，增加了基板110和功能膜层120的附着力。
通过最外层的耐磨层140，减少了结构的动摩擦系数，增加其耐磨性。
表1
Figure BDA0004035610220000101
根据本申请在一些实施例的摄像装置，包括：上述任一实施例的膜层组件100。
根据本申请实施例的摄像装置因包括上述实施例的膜层组件100，因此具有上述膜层组件100的全部有益效果，在此不一一陈述。
具体地，摄像装置包括镜头，镜头由膜层组件100制成。
具体地，摄像装置包括镜筒，镜筒由膜层组件100制成。
根据本申请另一些实施例的电子设备，包括：上述任一实施例的膜层组件100或摄像装置。
根据本申请实施例的电子设备因包括上述实施例的膜层组件100或摄像装置，因此具有上述膜层组件100或摄像装置的全部有益效果，在此不一一陈述。
具体地，电子设备可以是手机等移动终端、可穿戴式设备、平板电脑、膝上型电脑、移动计算机、增强现实设备(又称之为AR设备)、虚拟现实设备(又称之为VR设备)及掌上游戏机等。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本申请的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本申请的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本申请的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种膜层组件，用于摄像装置，其特征在于，包括：
基板；
功能膜层；
紫外吸收层，所述紫外吸收层连接于所述基板和所述功能膜层之间；所述基板朝向所述紫外吸收层的一侧设有凸凹部，所述紫外吸收层的一部分填充于所述凸凹部。
2.根据权利要求1所述的膜层组件，其特征在于，所述紫外吸收层包括钛酸镧层。
3.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，所述紫外吸收层的折射率大于或等于1.99/550nm，且小于或等于2.1/550nm；
所述紫外吸收层的厚度大于或等于20nm，且小于或等于300nm。
4.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，还包括：
耐磨层，设于所述功能膜层背离所述紫外吸收层的一侧。
5.根据权利要求4所述的膜层组件，其特征在于，所述耐磨层包括硅氧烷改性全氟聚醚聚合物层。
6.根据权利要求5所述的膜层组件，其特征在于，所述耐磨层的表面张力大于或等于17mN/m，且小于或等于25mN/m。
7.根据权利要求1所述的膜层组件，其特征在于，所述凸凹部的凸起的表面粗糙度均方根大于或等于0.8nm，且小于或等于100nm；
所述凸起在垂直于所述膜层组件的厚度方向上的宽度大于或等于10nm，且小于或等于400nm。
8.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，所述功能膜层包括：
多个第一功能部，多个所述第一功能部叠置，每个所述第一功能部包括第一二氧化硅层和钛铝化合物层，所述第一二氧化硅层叠置于所述钛铝化合物层远离所述紫外吸收层的一侧。
9.根据权利要求1或2所述的膜层组件，其特征在于，所述功能膜层包括：
多个第二功能部，多个所述第二功能部叠置，每个所述第二功能部包括二氧化硅层和第二二氧化钛层，所述第二二氧化硅层叠置于所述二氧化钛层远离所述紫外吸收层的一侧；
二氧化硅功能部，所述二氧化硅功能部位于所述多个第二功能部和所述紫外吸收层之间。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
如权利要求1至9中任一项所述的膜层组件。
CN202310002319.7A 2023-01-03 2023-01-03 膜层组件和电子设备 Pending CN116125561A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310002319.7A CN116125561A (zh) 2023-01-03 2023-01-03 膜层组件和电子设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310002319.7A CN116125561A (zh) 2023-01-03 2023-01-03 膜层组件和电子设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116125561A true CN116125561A (zh) 2023-05-16

Family

ID=86296773

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202310002319.7A Pending CN116125561A (zh) 2023-01-03 2023-01-03 膜层组件和电子设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN116125561A (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6446497B2 (ja) ワイヤグリッド偏光板、投影型映像表示機器、及びワイヤグリッド偏光板の製造方法
US7894019B2 (en) Wire grid polarizer and liquid crystal display device using the same
TWI359834B (en) Hard-coated antiglare film, method of manufacturin
WO2009125751A1 (ja) ワイヤグリッド型偏光子の製造方法
KR20080056642A (ko) 하드 코트 필름의 제조 방법, 하드 코트 필름, 편광판 및화상 표시 장치
WO2003079059A1 (en) Antireflection film, its production method, optical device, and image display
JP2009540364A (ja) 偏光分割微細構造を有する反射偏光子
JP2015068853A (ja) 積層体、撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器
CN112694847A (zh) 一种具有防眩光、减反射以及防指纹的薄膜
CN111103637A (zh) 防反射薄膜
JP2003302532A (ja) 偏光板およびその製造方法
JP2007065635A5 (zh)
JP2004361732A (ja) プラスチック製光学素子
KR20190128736A (ko) 반사 방지 필름
JP2018025718A (ja) 光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、及び液晶表示装置用バックライトユニット
KR20090020494A (ko) 광학 적층체
CN116125561A (zh) 膜层组件和电子设备
JPH08122504A (ja) 反射防止フィルム及びその製造方法
JP2000275401A (ja) 反射防止膜およびその製造方法
WO2016060003A1 (ja) 光学素子および光学素子の製造方法
JP2005173326A (ja) プラスチック製光学部品
JP3329924B2 (ja) 反射防止フィルム及びその製造方法
WO2009098941A1 (ja) 反射防止フィルム
JP2013101274A (ja) 光学フィルム、画像表示装置および画像表示装置の製造方法
JP2000347002A5 (zh)

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination