CN116092985B - 一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置及检测方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置及检测方法,包括:清洗组件,其包括位于晶圆两侧且平行设置的两组滚刷,所述滚刷的两端配置有滚刷支架;检测组件,其包括检测模块和感应模块,所述检测模块包括固定件和位于所述固定件的两端的应力传感器,所述感应模块包括与所述应力传感器连接的永磁体以及配置于所述滚刷支架上的电磁铁,所述永磁体与所述电磁铁的同磁极相对设置,所述应力传感器用于检测所述永磁体与所述电磁铁之间的磁性斥力。本发明利用了同极相斥的原理,当永磁体和电磁铁的距离逐渐接近时,由于同极产生相斥的磁力,会对应力传感器产生不同的压力,通过应力传感器感应到的拉应力和压应力以实现对夹持力的柔性测量。
Description
技术领域
本发明属于晶圆生产技术领域,具体而言,涉及一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置及检测方法。
背景技术
集成电路产业是信息技术产业的核心,在助推制造业向数字化、智能化转型升级的过程中发挥着关键作用。芯片是集成电路的载体,芯片制造涉及芯片设计、晶圆制造、晶圆加工、电性测量、切割封装和测试等工艺流程。
芯片制造过程中,清洗是最重要和最频繁的步骤之一。清洗的目的是为了避免微量离子和金属颗粒对半导体器件的污染,保障半导体器件的性能和合格率。晶圆清洗方式有:滚刷清洗、兆声清洗等,其中,滚刷清洗应用较为广泛。
在竖直刷洗晶圆的过程中,通常采用调整对中丝杠且对中丝杠移动距离为基准(固定值)的方法,间接采集滚刷转动伺服电机运行时的夹持力来判断刷子对晶圆夹持力的大小。此测量方式必然会存在由于电机结构问题造成滚刷实际的夹持力与伺服电机反馈的夹持力有偏差的情况。在实际使用过程中,使用一段时间后,伺服电机反馈的夹持力逐渐增加,而实际滚刷与晶圆刷洗过程中的夹持力并未改变,这样会使得工艺人员对建立设定参数的判断造成影响,从而影响跑片效率和清洗效果。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明提出一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置及检测方法。
第一方面,本发明实施例提供了一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置,包括:
清洗组件,其包括位于晶圆两侧且平行设置的两组滚刷,所述滚刷的两端配置有滚刷支架,所述滚刷支架带动所述滚刷移动,使得两组滚刷相向或相背运动以夹持或松开晶圆;
检测组件,其包括检测模块和感应模块,所述检测模块包括固定件和位于所述固定件的两端的应力传感器,所述感应模块包括与所述应力传感器连接的永磁体以及配置于所述滚刷支架上的电磁铁,所述永磁体与所述电磁铁的同磁极相对设置,所述应力传感器用于检测所述永磁体与所述电磁铁之间的磁性斥力。
在一些实施例中,所述晶圆清洗装置还包括槽体,所述槽体用于容纳晶圆并形成供晶圆清洗的空间;
所述清洗组件设置于所述槽体的内部,所述检测组件位于所述滚刷的端部对应的所述槽体外部的相对两侧。
在一些实施例中,所述滚刷支架上配置有伺服电机,所述伺服电机的输出轴与所述滚刷的一端传动连接,所述伺服电机用于带动所述滚刷沿其轴向旋转。
在一些实施例中,所述永磁体与所述电磁铁的外周包裹有隔套,所述隔套用于限制所述永磁体与所述电磁铁沿轴向排斥以防止所述永磁体与所述电磁铁发生径向错位。
在一些实施例中,所述晶圆清洗装置还包括位于所述槽体内部的支撑组件,所述支撑组件用于限定晶圆处于竖直平面内并带动晶圆在竖直平面内沿其轴向旋转。
在一些实施例中,所述槽体的外部的相对两侧设置有导向组件,所述滚刷支架与所述导向组件滑动连接,所述导向组件用于限定所述滚刷支架的移动路径。
在一些实施例中,所述导向组件包括导向基座和配置于所述导向基座上的导向线轨,所述导向线轨与所述滚刷的轴线垂直;
所述导向线轨上设置有两组滑动支座,每一所述滑动支座上配置一所述滚刷支架,所述滑动支座带动所述滚刷支架沿所述导向线轨移动。
在一些实施例中,所述槽体的底部配置有驱动组件,所述驱动组件与所述滑动支座传动连接,用于带动所述滑动支座沿所述导向线轨移动。
在一些实施例中,所述驱动组件包括相互平行的两组双向丝杠以及与所述双向丝杠连接的传动电机,所述传动电机用于带动所述双向丝杠旋转,经由所述滑动支座使得两组滚刷相向或相背移动。
第二方面,本发明实施例提供了一种滚刷夹持力的检测方法,采用上述晶圆清洗装置对滚刷的夹持力进行检测,包括:
在两组滚刷之间夹持压力传感器,通过应力传感器检测磁性斥力,采集不同夹持力下的磁性斥力的数值;
将采集到的夹持力数值与对应的磁性斥力数值进行函数拟合得到磁性斥力与滚刷夹持力之间的拟合曲线;
将压力传感器替换为晶圆,在晶圆清洗过程中,将应力传感器采集的磁性斥力代入拟合曲线中得到滚刷的夹持力。
与现有技术相比,本发明的有益效果包括:
在本发明中,滚刷的驱动端装配有检测组件,从而替代伺服电机采集滚刷的夹持力以确定滚刷对晶圆的夹持力大小。检测组件利用了永磁体和电磁铁同极相斥的原理,当永磁体和电磁铁的距离逐渐接近时,由于同极产生相斥的磁力,会对应力传感器产生不同的压力,通过应力传感器感应到的拉应力和压应力以实现对夹持力的柔性测量。此外,电磁铁的磁力大小可调,由此可将磁铁的磁性斥力与滚刷对晶圆的夹持力调整一致,也可线性地调整电磁铁与永磁体之间的磁性斥力,以模拟不同品牌型号地滚刷的材质密度的弹性压缩形变,从而更准确的判断滚刷对晶圆的夹持力。
附图说明
通过结合以下附图所作的详细描述,本发明的优点将变得更清楚和更容易理解,这些附图只是示意性的,并不限制本发明的保护范围,其中:
图1示出了本发明一实施例提供的晶圆清洗装置的结构示意图;
图2示出了本发明一实施例提供的检测组件的结构示意图;
图3示出了本发明一实施例提供的晶圆清洗装置的俯视图;
图4示出了本发明一实施例提供的电磁铁和永磁体的结构示意图;
图5示出了本发明一实施例提供的双向丝杠的结构示意图。
实施方式
下面结合具体实施例及其附图,对本发明所述技术方案进行详细说明。在此记载的实施例为本发明的特定的具体实施方式,用于说明本发明的构思;这些说明均是解释性和示例性的,不应理解为对本发明实施方式及本发明保护范围的限制。除在此记载的实施例外,本领域技术人员还能够基于本申请权利要求书及其说明书所公开的内容采用显而易见的其它技术方案,这些技术方案包括采用对在此记载的实施例的做出任何显而易见的替换和修改的技术方案。
本说明书的附图为示意图,辅助说明本发明的构思,示意性地表示各部分的形状及其相互关系。应当理解的是,为了便于清楚地表现出本发明实施例的各部件的结构,各附图之间并未按照相同的比例绘制,相同的参考标记用于表示附图中相同的部分。下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
在本发明中,晶圆(Wafer, w)也称基板(Substrate),其含义和实际作用等同。
在晶圆清洗装置中,伺服电机400和滚刷100之间是直接驱动关系,而电机内部有油封和滚动轴承,随着使用时间的推移,滚刷100持续夹持晶圆w进行竖直刷洗,伺服电机400的转轴长期承受径向力,必然存在油封橡胶长期挤压变形的情况;同时,伺服电机400的内部轴承也会长期承受径向力,一旦轴承的滚珠出现磨损,采集得到的夹持力也会增大。而现有的伺服电机400的夹持力是通过电机驱动器的内部电流值计算得到的,因此对夹持力进行间接采样来判断滚刷100的夹持力大小并不准确。在实际检测过程中,晶圆清洗装置使用一段时间后利用伺服电机400间接测得的滚刷100的夹持力比实际的夹持力要大,进而导致需要频繁更换伺服电机400以维持测准,由此不仅影响了操作人员对机台运行状态的判断,也提高了机台的维护成本,对操作人员在设定参数的建立准确性上造成误导,降低了机台的稳定性和跑片效率。
至少为了解决上述技术问题,本发明一实施例提供了一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置,如图1和图2所示,包括:
清洗组件,其包括位于晶圆w的两侧且平行设置的两组滚刷100,滚刷100的两端配置有滚刷支架210,滚刷支架210带动滚刷100移动,使得两组滚刷100相向或相背运动以夹持或松开晶圆w;
检测组件200,其包括检测模块和感应模块,检测模块包括固定件270和位于固定件270的两端的应力传感器260,感应模块包括与应力传感器260连接的永磁体250以及配置于滚刷支架210上的电磁铁220,永磁体250与电磁铁220的同磁极相对设置,应力传感器260用于检测永磁体250与电磁铁220之间的磁性斥力。
如图1所示,滚刷100的驱动端装配有检测组件200,从而替代伺服电机400采集滚刷100的夹持力以确定滚刷100对晶圆w的夹持力大小。检测组件200利用了永磁体250和电磁铁220同极相斥的原理,当永磁体250和电磁铁220的距离逐渐接近时,由于同极产生相斥的磁力,会对应力传感器260产生不同的压力,通过应力传感器260感应到的拉应力和压应力以实现对夹持力的柔性测量。此外,电磁铁220的磁力大小可调,由此可将磁铁的磁性斥力与滚刷100对晶圆w的夹持力调整一致,也可线性地调整电磁铁220与永磁体250之间的磁性斥力,以模拟不同品牌型号的滚刷100的材质密度的弹性压缩形变,从而更准确的判断滚刷100对晶圆w的夹持力。
在本实施例中,清洗组件包括两组滚刷100以及四组滚刷支架210,每一组滚刷100的两端分别配置有一滚刷支架210,滚刷100两端配置的滚刷支架210带动滚刷100向晶圆w的方向移动,使得两组滚刷100夹持晶圆w;或者,带动滚刷100向远离晶圆w的方向移动,使得两组滚刷100松开晶圆w。
滚刷100的驱动端(与伺服电机400连接的一端)配置有检测组件,检测组件包括检测模块、第一感应模块和第二感应模块,检测模块位于第一感应模块和第二感应模块之间,两组滚刷100分别记为第一滚刷和第二滚刷,第一滚刷和第二滚刷均具有第一端和第二端,且第一滚刷和第二滚刷的第一端位于同侧,第一滚刷和第二滚刷的第二端位于另一侧。第一滚刷的第一端的下方配置有第一感应模块,第二滚刷的第一端下方配置有第二感应模块,第一滚刷和第二滚刷的第一端之间的区域的下方配置有感应模块。
具体地,如图2所示,检测模块包括居中设置的固定件270、第一应力传感器和第二应力传感器,固定件270的中心与晶圆w所在平面对齐,固定件270的两端分别配置有第一应力传感器和第二应力传感器。
第一感应模块包括与第一应力传感器连接的第一永磁体以及固定于第一滚刷支架的下部的第一电磁铁(第一滚刷的第一端配置有第一滚刷支架),第一永磁体和第一电磁铁的同磁极相对设置,二者在磁性斥力的作用下形成一定间隙。
第二感应模块包括与第二应力传感器连接的第二永磁体以及固定于第二滚刷支架的下部的第二电磁铁(第二滚刷的第一端配置有第二滚刷支架),第二永磁体和第二电磁铁的同磁极相对设置,二者在磁性斥力的作用下形成一定间隙。
在本实施例中,清洗组件包括两个滚刷100,两个滚刷100分别设置于晶圆w的两侧表面,两个滚刷100反向旋转对晶圆w的表面进行滚动刷洗,例如,其中一个滚刷100顺时针旋转的同时另一个滚刷100逆时针旋转。特别优选地,两侧滚刷100的旋转方向背离晶圆w表面,使得滚刷100转动时对晶圆w产生向上的摩擦力,以在清洗液落下的区域使滚刷100与晶圆w之间的相对速度最大,从而提高刷洗效果。
需要说明的是,本实施例对滚刷100的结构及材质不作具体要求和特殊限定,示例性地,滚刷100通常包括中空轴以及包覆在中空轴外周的海绵,滚刷100安装在一对可旋转的固定结构上,滚刷100的一端的固定结构设置有进液孔,通过进液孔向中空轴的内部供液,中空轴上均匀分布若干出液孔,以使轴内液体能穿过出液孔到达海绵,并从海绵渗出,从而为滚刷100保湿,并使得海绵表面形成液膜,防止海绵直接接触导致海绵上的污染物回粘污染晶圆w。
在本实施例中,电磁铁220包括磁芯和缠绕于磁芯外周的线圈,线圈两端外接电源。电磁铁220的磁力大小可调,本实施例对具体的调节方式不作特殊限定,示例性地,可以通过改变输入电流大小、改变线圈的匝数及线圈疏密程度、替换不同材质地磁芯等方式对电磁铁220的磁力大小进行调节。
在检测过程中,可选地,向线圈中通入脉冲电流以对电磁铁220进行磁化,通过脉冲电流的激励使得电磁铁220产生恒定磁场,磁场产生后即可停止通入脉冲电流,在检测过程中无需持续通电,进而减小了电磁铁220的发热量。
需要说明的是,本实施例提供的固定件270可以是分体结构,包括上下相对扣合的第一固定件和第二固定件,第一固定件和第二固定件的贴合面分别形成有第一凹槽和第二凹槽,第一固定件和第二固定件相对扣合后,第一凹槽和第二凹槽对合形成用于容纳应力传感器260的固定腔。
本实施例提供的应力传感器260为拉压力传感器,其用于检测电磁铁220和永磁体250之间的磁性斥力。如图4所示,永磁体250和相邻的电磁铁220的磁极同极相对设置,当电磁铁220逐渐靠近永磁体250时,二者之间的距离S逐渐减小,同磁极之间产生的磁性斥力逐渐增大。
图1所示的实施例中,晶圆清洗装置还包括槽体300,槽体300用于容纳晶圆w并形成供晶圆w清洗的空间。清洗组件设置于槽体300的内部,检测组件200位于滚刷100的端部对应的槽体300外部的相对两侧。
图2所示的实施例中,滚刷支架210上配置有伺服电机400,伺服电机400的输出轴与滚刷100的一端传动连接,伺服电机400用于带动滚刷100沿其轴向旋转。
图4所示的实施例中,永磁体250与电磁铁220的外周包裹有隔套240,隔套240用于限制永磁体250与电磁铁220沿轴向排斥以防止永磁体250与电磁铁220发生径向错位。
如图4所示,电磁铁220外周还套设有安装座230,电磁铁220通过安装座230固定于滚刷支架210的一侧的底部。
图1所示的实施例中,晶圆清洗装置还包括位于槽体300内部的支撑组件700,支撑组件700用于限定晶圆w处于竖直平面内并带动晶圆w在竖直平面内沿其轴向旋转。
本实施例提供的支撑组件700包括第一主动轮、从动轮和第二主动轮,其中,从动轮位于晶圆w边缘的最底部,第一主动轮和第二主动轮以从动轮为中心对称设置于从动轮的两侧。晶圆w清洗时,第一主动轮和第二主动轮在各自的驱动电机的带动下沿其轴线旋转。晶圆w两侧的滚刷100与晶圆w的表面接触并绕滚刷100的轴线旋转,在摩擦力的作用下,竖直设置于两个滚刷100的间隙中的晶圆w绕晶圆w的轴线旋转,滚动的滚刷100与旋转的晶圆w接触以移除晶圆w表面的污染物。在晶圆w的旋转过程中带动从动轮被动旋转,通过后置的传感器计算从动轮的转动圈数,从而推算晶圆w的转速,监测晶圆w的清洗状态。
图1所示的实施例中,槽体300的外部的相对两侧设置有导向组件500,滚刷支架210与导向组件500滑动连接,导向组件500用于限定滚刷支架210的移动路径。具体地,导向组件500包括导向基座510和配置于导向基座510上的导向线轨520,导向线轨520与滚刷100的轴线垂直;导向线轨520上设置有两组滑动支座530,每一滑动支座530上配置一滚刷支架210,滑动支座530带动滚刷支架210沿导向线轨520移动。
需要说明的是,本实施例限定的导向组件500包括位于槽体300两端的第一导向组件和第二导向组件,第一导向组件和第二导向组件的结构相同且对称设置于滚刷100两端。本实施例以第一导向组件为例对其与检测组件200之间的连接关系和位置关系进行说明:
第一导向组件包括与滚刷100垂直的导向线轨520,导向线轨520上滑动设置有第一滑动支座和第二滑动支座,第一滑动支座上固定有第一滚刷支架,第二滑动支座上固定有第二滚刷支架,第一滑动支座带动第一滚刷支架沿导向线轨520移动使得第一滚刷支架带动第一滚刷向靠近晶圆w方向或远离晶圆w方向移动。同样地,第二滑动支座带动第二滚刷支架沿导向线轨520移动使得第二滚刷支架带动第二滚刷向靠近晶圆w方向或远离晶圆w方向移动。最终使得第一滚刷和第二滚刷夹持或放开晶圆w。
第二导向组件具由与第一导向组件相同的结构、连接关系和位置关系,在此不再赘述。需要说明的是,滚刷100两端均设置有导向组件500,导向组件500的滚刷支架210通过与滚刷100的两端传动以带动整个滚刷100移动。
图3所示的实施例中,槽体300的底部配置有驱动组件600,驱动组件600与滑动支座530传动连接,用于带动滑动支座530沿导向线轨520移动。具体地,驱动组件600包括相互平行的两组双向丝杠610以及与双向丝杠610连接的传动电机620,传动电机620用于带动双向丝杠610旋转,经由滑动支座530使得两组滚刷100相向或相背移动。
在本实施例中,驱动组件600包括相互平行的第一双向丝杠和第二双向丝杠610,第一双向丝杠对应第一滚刷,其两端与第一滚刷的两端的滚刷支架210传动连接;第二双向丝杠610对应第二滚刷,其两端与第二滚刷的两端的滚刷支架210传动连接。通过传动电机620分别驱动第一双向丝杠和第二双向丝杠610旋转,使得第一双向丝杠和第二双向丝杠610经由各自的导向组件500分别带动第一滚刷和第二滚刷同向移动或反向移动,以夹紧晶圆w或放开晶圆w。
如图5所示,双向丝杠610包括旋向不同的第一螺纹段611和第二螺纹段612,其中,第一螺纹段611具由左旋螺纹,第二螺纹段612具由右旋螺纹,当传动电机620带动双向丝杆逆时针旋转时,双向丝杠610带动两端的滑动支座530沿导向线轨520向远离晶圆w的方向移动,使得两组滚刷100脱离晶圆w表面,从而放开晶圆w;反之,当传动电机620带动双向丝杠610顺时针旋转时,双向丝杠610带动两端的滑动支座530沿导向线轨520向靠近晶圆w的方向移动,使得两组滚刷100接触晶圆w表面,从而夹持晶圆w。
本实施例提供了一种滚刷100的夹持力的检测方法,包括:
在两组滚刷100之间夹持压力传感器,通过应力传感器260检测磁性斥力,采集不同夹持力下的磁性斥力的数值;
将采集到的夹持力数值与对应的磁性斥力数值进行函数拟合得到磁性斥力与滚刷100的夹持力之间的拟合曲线;
将压力传感器替换为晶圆,在晶圆清洗过程中,将应力传感器260采集的磁性斥力代入拟合曲线中得到滚刷100的夹持力。
本实施例提供的检测方法具体包括:
在两组滚刷100之间放入压力传感器,通过驱动组件600带动两组滚刷100移动使其与压力传感器接触,记录压力传感器采集到的滚刷100的夹持力作为基准值,通过调整通入电磁铁220的电流大小以调整电磁铁220的磁性强弱,使得固定件两侧的应力传感器260感应的磁性斥力保持一致,记录此时的应力传感器260采集到的磁性斥力;
通过驱动组件600带动两组滚刷100相向移动,使得滚刷100由接触状态进入夹持状态,记录压力传感器和应力传感器260采集到的滚刷100的夹持力和磁性斥力;按上述方式,驱动组件600带动滚刷100逐步移动,每移动一次记录当前状态下的夹持力数值和磁性斥力数值,随着滚刷100逐步移动,滚刷100的夹持力逐渐增大,磁性斥力相应增大;汇总夹持力数值和与之对应的磁性斥力数值,并进行函数拟合得到夹持力与磁性斥力之间的拟合曲线;
将压力传感器取下替换为晶圆,对晶圆进行清洗,在清洗过程中通过应力传感器260采集磁性斥力的大小,并代入上述拟合曲线,计算得到当前状态下的滚刷100的夹持力。
申请人声明,以上所述仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,所属技术领域的技术人员应该明了,任何属于本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
Claims (10)
1.一种检测滚刷夹持力的晶圆清洗装置,其特征在于,包括:
清洗组件,其包括位于晶圆两侧且平行设置的两组滚刷,所述滚刷的两端配置有滚刷支架,所述滚刷支架带动所述滚刷移动,使得两组滚刷相向或相背运动以夹持或松开晶圆;
检测组件,其包括检测模块和感应模块,所述检测模块包括固定件和位于所述固定件的两端的应力传感器,所述感应模块包括与所述应力传感器连接的永磁体以及配置于所述滚刷支架上的电磁铁,所述永磁体与所述电磁铁的同磁极相对设置,所述应力传感器用于检测所述永磁体与所述电磁铁之间的磁性斥力。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置还包括槽体,所述槽体用于容纳晶圆并形成供晶圆清洗的空间;
所述清洗组件设置于所述槽体的内部,所述检测组件位于所述滚刷的端部对应的所述槽体外部的相对两侧。
3.根据权利要求1或2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述滚刷支架上配置有伺服电机,所述伺服电机的输出轴与所述滚刷的一端传动连接,所述伺服电机用于带动所述滚刷沿其轴向旋转。
4.根据权利要求1或2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述永磁体与所述电磁铁的外周包裹有隔套,所述隔套用于限制所述永磁体与所述电磁铁沿轴向排斥以防止所述永磁体与所述电磁铁发生径向错位。
5.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置还包括位于所述槽体内部的支撑组件,所述支撑组件用于限定晶圆处于竖直平面内并带动晶圆在竖直平面内沿其轴向旋转。
6.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述槽体的外部的相对两侧设置有导向组件,所述滚刷支架与所述导向组件滑动连接,所述导向组件用于限定所述滚刷支架的移动路径。
7.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述导向组件包括导向基座和配置于所述导向基座上的导向线轨,所述导向线轨与所述滚刷的轴线垂直;
所述导向线轨上设置有两组滑动支座,每一所述滑动支座上配置一所述滚刷支架,所述滑动支座带动所述滚刷支架沿所述导向线轨移动。
8.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述槽体的底部配置有驱动组件,所述驱动组件与所述滑动支座传动连接,用于带动所述滑动支座沿所述导向线轨移动。
9.根据权利要求8所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述驱动组件包括相互平行的两组双向丝杠以及与所述双向丝杠连接的传动电机,所述传动电机用于带动所述双向丝杠旋转,经由所述滑动支座使得两组滚刷相向或相背移动。
10.一种滚刷夹持力的检测方法,其特征在于,采用权利要求1至9任一项所述的晶圆清洗装置对滚刷的夹持力进行检测,包括:
在两组滚刷之间夹持压力传感器,通过应力传感器检测磁性斥力,采集不同夹持力下的磁性斥力的数值;
将采集到的夹持力数值与对应的磁性斥力数值进行函数拟合得到磁性斥力与滚刷夹持力之间的拟合曲线;
将压力传感器替换为晶圆,在晶圆清洗过程中,将应力传感器采集的磁性斥力代入拟合曲线中得到滚刷的夹持力。
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