CN116017892A - 5g通讯设备的垂直焊盘电路板生产方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种5G通讯设备的垂直焊盘电路板生产方法,包括:垂直焊盘模块制作步骤、L2‑L3层流动性半固化片开槽步骤、L1‑L2、L3‑L4层制作步骤、L1‑L4层制作步骤。本发明先采用厚铜芯板层压后的基板制作出垂直焊盘模块,再将垂直焊盘模块侧壁金属化的两面朝上下放置(使厚铜层垂直),用局部混压方式将垂直焊盘模块内置在板内层压,再钻孔、金属化沉电铜,再铣金属槽孔将垂直厚铜层露出来,再经过图镀、沉金,制作出垂直焊盘PCB结构。可使焊盘设计多元化,突破局限于常规焊盘平面化的瓶颈,满足客户垂直焊接元器件节省空间需求,同时可实现量产化制作。
Description
技术领域
本发明涉及电路板制造领域,特别涉及一种5G通讯设备的垂直焊盘电路板生产方法。
背景技术
随着PCB电子产品日益向小型化,高集成化,高频化的趋势发展,部分5G通讯设备类PCB产品开始引入垂直焊盘设计,用于安装元器件产品,从而提高产品总体集成度或达到节省空间的效果。现有的焊盘设计,由于焊盘宽度小,加设备及加工方法的局限性,制约了焊盘需要平面设计,而平面焊盘上焊接元器件大大占用了空间。部分产品由于需要节省空间,需要将元器件贴片在槽孔侧壁内,板件焊盘需要在PCB板件侧壁成90°垂直设计,由于在侧壁垂直位置,目前行业暂无相关方法制作。
发明内容
本发明提供了一种5G通讯设备的垂直焊盘电路板生产方法,以解决至少一个上述技术问题。
为解决上述问题,作为本发明的一个方面,提供了一种5G通讯设备的垂直焊盘电路板生产方法,包括:垂直焊盘模块制作步骤、L2-L3层流动性半固化片开槽步骤、L1-L2、L3-L4层制作步骤、L1-L4层制作步骤:
垂直焊盘模块制作步骤,包括:
步骤11,一次层压:
在一定温度与压力作用下,半固化片的树脂流动,当温度到一定程度时,发生固化,将9张0.13mm 6/6OZ(不含铜)芯板、2张铜箔与10张半固化片,粘合在一起;
步骤12,铣槽孔1:
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,铣出槽孔。
步骤13,侧壁金属化:
沉铜:对铣槽后的板件进行侧壁金属化处理,处理的主要目的是使的侧壁基材区域形成导电层,其产生的铜层为0.02um左右;
负片电镀:对沉铜后的板件通过电镀的方式进行沉铜层的加厚,厚度在10-12um左右,使侧壁金属化,与厚铜层形成导通;
步骤14,外光成像1:
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将需要镀锡的区域露出来;
步骤15,镀锡:
在镀锡缸阳极溶解出锡离子,在电场作用下移动到阴极,其得到电子,在侧壁包边铜层上导上一层抗蚀刻保护的锡层;
步骤16,外层蚀刻1:
在碱液的作用下,将膜去掉露出待蚀刻的铜面,在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,将顶底层铜层蚀刻掉,露出基材,在退锡缸因硝酸与锡面发生反应,去掉镀锡层,露出侧壁包边铜层;
步骤17,铣板1:
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,在大板中铣出一个个垂直焊盘模块,完成垂直焊盘模块制作;
L2-L3层流动性半固化片开槽步骤,包括:根据要求,用1.0mm铣刀在流动半固化上进行铣板机加工,铣出余L1-L2、L3-L4芯板层大小一样的方形槽,为方便后工序与L1-L2、L2-L3、L3-L4层进行叠构做准备;
L1-L2、L3-L4层制作步骤,包括:
步骤21,开料:
通过开料机将L1-L2、L3-L4层覆铜板裁切成设计尺寸;
步骤22,内光成像:
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将L2、L3层需要蚀刻的区域露出来,L1、L4层铜面用干膜保护起来;
步骤23,内层蚀刻:
在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,将L2、L3层线路制作出来,然后通过在退膜缸在碱液的作用下,将膜溶解掉,露出所需线路;
步骤24,铣槽孔1:
根据要求,用0.8mm铣刀在L1-L2、L3-L4层芯板上进行铣板机加工,铣出长宽尺寸比垂直焊盘模块长宽尺寸大0.2mm槽,为方便后工序与L2-L3层进行叠构做准备;
L1-L4层制作步骤,包括:
步骤31,层压:
将L1-L2层、L3-L4层芯板棕化,然后通过叠放L2-L3流动性半固化片,用管位钉铆合好后,然后在槽孔内放置垂直焊盘模块(垂直焊盘模块侧壁金属化的顶底朝上下放,使厚铜层垂直),在一定温度与压力作用下,通过半固化片的树脂流动,填充线路与基材,当温度到一定程度时,发生固化,将层间和垂直焊盘模块粘合在一起形成L1-L4层;
步骤32,钻孔:
根据客户的要求,在板上进行钻孔机加工,为方便后工序内外层导通做准备。
步骤33,孔金属化(沉铜、板镀):
沉铜:对钻孔后的板件进行孔金属化处理,处理的主要目的是使板材中间的基材区域形成导电层,其产生的铜层为0.02um左右;
板镀:对沉铜后的板件通过电镀的方式进行沉铜层的加厚,厚度在5-8um左右;
步骤34,铣金属槽孔:
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,铣出比“铣槽孔1”槽孔宽小4mm的空旷槽孔(即单边留2mm垂直焊盘模块在基板上),将垂直厚铜层露出来;
步骤35,外光成像:
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将需要镀铜锡的区域露出来;
步骤36,图形电镀:
通过前处理,使板面清洁,在镀铜、镀锡缸阳极溶解出铜离子、锡离子,在电场作用下移动到阴极,其得到电子,在板上的导电区域镀上一层金属铜层和进行抗蚀刻保护的锡层;
步骤37,外层蚀刻:
在碱液的作用下,将膜去掉露出待蚀刻的铜面,在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,在退锡缸因硝酸与锡面发生反应,去掉镀锡层,露出线路焊盘铜面及蚀刻后的垂直焊盘;
步骤38,阻焊/字符:
阻焊:用丝印网将阻焊泥漏印于板面通过预烘去除挥发,形成半固化膜层,通过对位曝光,被光照的地方阻焊膜交连反应,没照的地方在碱液作用下显影掉。在高温下,阻焊完全固化,附于板面;
字符:制作方式和阻焊类似;
步骤39,沉金:
通过化学置换反应,在板面铜面及垂直焊盘上沉积上一层金属镍层和金层。
本发明先采用厚铜芯板层压后的基板制作出垂直焊盘模块,再将垂直焊盘模块侧壁金属化的两面朝上下放置(使厚铜层垂直),用局部混压方式将垂直焊盘模块内置在板内层压,再钻孔、金属化沉电铜,再铣金属槽孔将垂直厚铜层露出来,再经过图镀、沉金,制作出垂直焊盘PCB结构。可使焊盘设计多元化,突破局限于常规焊盘平面化的瓶颈,满足客户垂直焊接元器件节省空间需求,同时可实现量产化制作。
附图说明
图1示意性地示出了本发明的剖视图;
图2示意性地示出了本发明的结构示意图;
图3示意性地示出了步骤11的示意图;
图4示意性地示出了步骤12的示意图;
图5示意性地示出了步骤13的示意图;
图6示意性地示出了步骤14的示意图;
图7示意性地示出了步骤15的示意图;
图8示意性地示出了步骤16的示意图;
图9示意性地示出了步骤17的示意图;
图10示意性地示出了L2-L3层流动性半固化片开槽步骤的示意图;
图11示意性地示出了步骤22的示意图;
图12示意性地示出了步骤23的示意图;
图13示意性地示出了步骤24的示意图;
图14示意性地示出了步骤31的示意图;
图15示意性地示出了步骤32的示意图;
图16示意性地示出了步骤34的示意图;
图17示意性地示出了步骤35的示意图;
图18示意性地示出了步骤36的示意图;
图19示意性地示出了步骤37的示意图。
具体实施方式
以下对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
图1中,“1”为PCB板的L1层;“2”为PCB板的L2层;“3”为PCB板的L3层;“4”为PCB板的L4层;“5”为垂直焊盘模块侧壁金属化后的铜面;“6”为垂直焊盘模块中的垂直厚铜层;
图2中,“7”为垂直焊盘,“8”为阻焊;“9”为厚铜层;“10”为基铜;“11”为板镀铜;“12”为图镀铜;“13”为侧壁金属化铜;“14”为槽孔。
本发明先采用厚铜芯板层压后的基板制作垂直焊盘模块,再将垂直焊盘模块侧壁金属化的两面朝上下放置(使厚铜层垂直),用局部混压方式将垂直焊盘模块内置在板内层压,再钻孔、金属化沉电铜,再铣金属槽孔将垂直厚铜层露出来,再经过图镀、沉金,制作出垂直焊盘PCB结构。
本发明先采用厚铜芯板层压后的基板制作出垂直焊盘模块,再将垂直焊盘模块侧壁金属化的两面朝上下放置(使厚铜层垂直),用局部混压方式将垂直焊盘模块内置在板内层压,再钻孔、金属化沉电铜,再铣金属槽孔将垂直厚铜层露出来,再经过图镀、沉金,制作出垂直焊盘PCB结构。
垂直焊盘模块制作流程
1、一次层压:
在一定温度与压力作用下,半固化片的树脂流动,当温度到一定程度时,发生固化,将9张0.13mm 6/6OZ(不含铜)芯板、2张铜箔与10张半固化片,粘合在一起。
2、铣槽孔1
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,铣出槽孔。
3、侧壁金属化
沉铜:对铣槽后的板件进行侧壁金属化处理,处理的主要目的是使的侧壁基材区域形成导电层,其产生的铜层为0.02um左右;
负片电镀:对沉铜后的板件通过电镀的方式进行沉铜层的加厚,厚度在10-12um左右,使侧壁金属化,与厚铜层形成导通。
4、外光成像1
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将需要镀锡的区域露出来。
5、镀锡
在镀锡缸阳极溶解出锡离子,在电场作用下移动到阴极,其得到电子,在侧壁包边铜层上导上一层抗蚀刻保护的锡层
6、外层蚀刻1
在碱液的作用下,将膜去掉露出待蚀刻的铜面,在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,将顶底层铜层蚀刻掉,露出基材,在退锡缸因硝酸与锡面发生反应,去掉镀锡层,露出侧壁包边铜层
7、铣板1
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,在大板中铣出一个个垂直焊盘模块,完成垂直焊盘模块制作。
L2-L3层:流动性半固化片开槽:
根据要求,用1.0mm铣刀在流动半固化上进行铣板机加工,铣出余L1-L2、L3-L4芯板层大小一样的方形槽,为方便后工序与L1-L2、L2-L3、L3-L4层进行叠构做准备。
L1-L2、L3-L4层关键制作流程:
1、开料:
通过开料机将L1-L2、L3-L4层覆铜板裁切成设计尺寸。
2、内光成像
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将L2、L3层需要蚀刻的区域露出来,L1、L4层铜面用干膜保护起来。
3、内层蚀刻
在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,将L2、L3层线路制作出来,然后通过在退膜缸在碱液的作用下,将膜溶解掉,露出所需线路。
4、铣槽孔1
根据要求,用0.8mm铣刀在L1-L2、L3-L4层芯板上进行铣板机加工,铣出长宽尺寸比垂直焊盘模块长宽尺寸大0.2mm槽,为方便后工序与L2-L3层进行叠构做准备。
L1-L4层关键制作流程:
1、层压:
将L1-L2层、L3-L4层芯板棕化,然后通过叠放L2-L3流动性半固化片,用管位钉铆合好后,然后在槽孔内放置垂直焊盘模块(垂直焊盘模块侧壁金属化的顶底朝上下放,使厚铜层垂直),在一定温度与压力作用下,通过半固化片的树脂流动,填充线路与基材,当温度到一定程度时,发生固化,将层间和垂直焊盘模块粘合在一起形成L1-L4层。
2、钻孔:
根据客户的要求,在板上进行钻孔机加工,为方便后工序内外层导通做准备。
3、孔金属化(沉铜、板镀):
沉铜:对钻孔后的板件进行孔金属化处理,处理的主要目的是使板材中间的基材区域形成导电层,其产生的铜层为0.02um左右;
板镀:对沉铜后的板件通过电镀的方式进行沉铜层的加厚,厚度在5-8um左右。
4、铣金属槽孔
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,铣出比“铣槽孔1”槽孔宽小4mm的空旷槽孔(即单边留2mm垂直焊盘模块在基板上),将垂直厚铜层露出来。
5、外光成像
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将需要镀铜锡的区域露出来。
6、图形电镀
通过前处理,使板面清洁,在镀铜、镀锡缸阳极溶解出铜离子、锡离子,在电场作用下移动到阴极,其得到电子,在板上的导电区域镀上一层金属铜层和进行抗蚀刻保护的锡层。
7、外层蚀刻
在碱液的作用下,将膜去掉露出待蚀刻的铜面,在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,在退锡缸因硝酸与锡面发生反应,去掉镀锡层,露出线路焊盘铜面及蚀刻后的垂直焊盘。
8、阻焊/字符
阻焊:用丝印网将阻焊泥漏印于板面通过预烘去除挥发,形成半固化膜层,通过对位曝光,被光照的地方阻焊膜交连反应,没照的地方在碱液作用下显影掉。在高温下,阻焊完全固化,附于板面。
字符:制作方式和阻焊类似。
9、沉金
通过化学置换反应,在板面铜面及垂直焊盘上沉积上一层金属镍层和金层。
本发明先采用厚铜芯板层压后的基板制作出垂直焊盘模块,再将垂直焊盘模块侧壁金属化的两面朝上下放置(使厚铜层垂直),用局部混压方式将垂直焊盘模块内置在板内层压,再钻孔、金属化沉电铜,再铣金属槽孔将垂直厚铜层露出来,再经过图镀、沉金,制作出垂直焊盘PCB结构。可使焊盘设计多元化,突破局限于常规焊盘平面化的瓶颈,满足客户垂直焊接元器件节省空间需求,同时可实现量产化制作。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (1)
1.一种5G通讯设备的垂直焊盘电路板生产方法,其特征在于,包括:垂直焊盘模块制作步骤、L2-L3层流动性半固化片开槽步骤、L1-L2、L3-L4层制作步骤、L1-L4层制作步骤:
垂直焊盘模块制作步骤,包括:
步骤11,一次层压:
在一定温度与压力作用下,半固化片的树脂流动,当温度到一定程度时,发生固化,将9张0.13mm 6/6OZ(不含铜)芯板、2张铜箔与10张半固化片,粘合在一起;
步骤12,铣槽孔1:
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,铣出槽孔。
步骤13,侧壁金属化:
沉铜:对铣槽后的板件进行侧壁金属化处理,处理的主要目的是使的侧壁基材区域形成导电层,其产生的铜层为0.02um左右;
负片电镀:对沉铜后的板件通过电镀的方式进行沉铜层的加厚,厚度在10-12um左右,使侧壁金属化,与厚铜层形成导通;
步骤14,外光成像1:
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将需要镀锡的区域露出来;
步骤15,镀锡:
在镀锡缸阳极溶解出锡离子,在电场作用下移动到阴极,其得到电子,在侧壁包边铜层上导上一层抗蚀刻保护的锡层;
步骤16,外层蚀刻1:
在碱液的作用下,将膜去掉露出待蚀刻的铜面,在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,将顶底层铜层蚀刻掉,露出基材,在退锡缸因硝酸与锡面发生反应,去掉镀锡层,露出侧壁包边铜层;
步骤17,铣板1:
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,在大板中铣出一个个垂直焊盘模块,完成垂直焊盘模块制作;
L2-L3层流动性半固化片开槽步骤,包括:根据要求,用1.0mm铣刀在流动半固化上进行铣板机加工,铣出余L1-L2、L3-L4芯板层大小一样的方形槽,为方便后工序与L1-L2、L2-L3、L3-L4层进行叠构做准备;
L1-L2、L3-L4层制作步骤,包括:
步骤21,开料:
通过开料机将L1-L2、L3-L4层覆铜板裁切成设计尺寸;
步骤22,内光成像:
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将L2、L3层需要蚀刻的区域露出来,L1、L4层铜面用干膜保护起来;
步骤23,内层蚀刻:
在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,将L2、L3层线路制作出来,然后通过在退膜缸在碱液的作用下,将膜溶解掉,露出所需线路;
步骤24,铣槽孔1:
根据要求,用0.8mm铣刀在L1-L2、L3-L4层芯板上进行铣板机加工,铣出长宽尺寸比垂直焊盘模块长宽尺寸大0.2mm槽,为方便后工序与L2-L3层进行叠构做准备;
L1-L4层制作步骤,包括:
步骤31,层压:
将L1-L2层、L3-L4层芯板棕化,然后通过叠放L2-L3流动性半固化片,用管位钉铆合好后,然后在槽孔内放置垂直焊盘模块(垂直焊盘模块侧壁金属化的顶底朝上下放,使厚铜层垂直),在一定温度与压力作用下,通过半固化片的树脂流动,填充线路与基材,当温度到一定程度时,发生固化,将层间和垂直焊盘模块粘合在一起形成L1-L4层;
步骤32,钻孔:
根据客户的要求,在板上进行钻孔机加工,为方便后工序内外层导通做准备。
步骤33,孔金属化(沉铜、板镀):
沉铜:对钻孔后的板件进行孔金属化处理,处理的主要目的是使板材中间的基材区域形成导电层,其产生的铜层为0.02um左右;
板镀:对沉铜后的板件通过电镀的方式进行沉铜层的加厚,厚度在5-8um左右;
步骤34,铣金属槽孔:
根据要求,用1.0mm铣刀在板上进行铣板机加工,铣出比“铣槽孔1”槽孔宽小4mm的空旷槽孔(即单边留2mm垂直焊盘模块在基板上),将垂直厚铜层露出来;
步骤35,外光成像:
在一定温度、压力下,在板面贴上干膜,再用底片对位,最后在曝光机上利用紫外光的照射,使底片未遮蔽的干膜发生反应,在板面形成所需线路图形,然后通过显影段在显影液的作用下,将没有被光照射的膜溶解掉,将需要镀铜锡的区域露出来;
步骤36,图形电镀:
通过前处理,使板面清洁,在镀铜、镀锡缸阳极溶解出铜离子、锡离子,在电场作用下移动到阴极,其得到电子,在板上的导电区域镀上一层金属铜层和进行抗蚀刻保护的锡层;
步骤37,外层蚀刻:
在碱液的作用下,将膜去掉露出待蚀刻的铜面,在蚀刻缸铜与铜离子发生反应,生产亚铜,达到蚀刻作用,在退锡缸因硝酸与锡面发生反应,去掉镀锡层,露出线路焊盘铜面及蚀刻后的垂直焊盘;
步骤38,阻焊/字符:
阻焊:用丝印网将阻焊泥漏印于板面通过预烘去除挥发,形成半固化膜层,通过对位曝光,被光照的地方阻焊膜交连反应,没照的地方在碱液作用下显影掉。在高温下,阻焊完全固化,附于板面;
字符:制作方式和阻焊类似;
步骤39,沉金:
通过化学置换反应,在板面铜面及垂直焊盘上沉积上一层金属镍层和金层。
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