CN115942788A - 一种透明显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种透明显示装置，包括：透明显示装置包括正常区和高透光区，正常区包括发光区和非发光区；发光区包括至少一个子像素；非发光区围绕发光区设置，高透光区围绕非发光区设置；高透光区用于透过可见光，且高透光区对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值。本发明实施例提供的技术方案改善了透明显示装置的外观偏色以及透光区的透光效果差的问题，提升了用户的视觉体验。

Description

一种透明显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明显示装置。

背景技术

随着AR/VR兴起，人们对于虚拟内容和现实世界的融合需求越来越大；透明显示因其能够融合显示内容和现实世界的独特功能，逐渐出现在人们的日常生活中，并不断发展成为一种应用潮流。

但是，目前的透明显示装置在中小尺寸终端应用时，存在外观偏色以及透光区的透光效果差的问题，亟待改善以满足用户追求的视觉体验。

发明内容

本发明提供了一种透明显示装置，以改善透明显示装置的外观偏色以及透光区的透光效果差的问题，提升用户的视觉体验。

根据本发明的一方面，提供了一种透明显示装置，包括：

所述透明显示装置包括正常区和高透光区，所述正常区包括发光区和非发光区；

所述发光区包括至少一个子像素；

所述非发光区围绕所述发光区设置，所述高透光区围绕所述非发光区设置；

所述高透光区用于透过可见光，且所述高透光区对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值。

该技术方案中，透明显示装置设置了用于透过可见光的高透光区，使得透明显示装置具有良好的透光效果。另外，高透光区对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值，即高透光区对于可见光波段的整体透过率的均匀性比较高，使得透明显示装置的外观不会存在偏色问题，从而提升了用户的视觉体验。

可选地，所述非发光区设置有遮光层，用于阻挡可见光透过。

该技术方案中，在非发光区设置了用于阻挡可见光透过的遮光层，具体的可以阻挡380-780nm波段可见光透过透明显示装置出射，使得上述可见光仅可通过高透光区透过透明显示装置，减少或消除透明显示装置的图案化膜层(阳极、导电走线等图案化膜层)之间透光空隙，改善了透明显示装置的透光衍射缺陷；同时，用于透过可见光的高透光区，具有良好的透光效果，从而提高了透明显示装置的透明度。另外，高透光区对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值，即高透光区对于可见光波段的整体透过率的均匀性比较高，使得透明显示装置的外观不会存在偏色问题，从而提升了用户的视觉体验。

可选地，所述高透光区设置有有机胶去除区；

所述有机胶去除区内的有机胶被部分或者全部去除；

所述有机胶去除区在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影；

优选地，所述高透光区还设置有阴极去除区；

所述阴极去除区的阴极层被全部去除；

所述阴极去除区在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖部分所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影。

该技术方案中，在高透光区设置有有机胶去除区，优选地，高透光区还设置有阴极去除区，即高透光区不包括蓝光波段可见光透过率不高的有机胶，以及优选地，高透光区内减少了可见光波段的整体透过率不高的阴极层，使得透明显示装置的可见光波段的整体透过率波动较小且水平较高，从而改善透明显示装置的外观发黄问题，以及具有良好的透光效果，提升用户的视觉体验。其中，阴极去除区在透明显示装置的基板上的正投影覆盖部分高透光区在透明显示装置的基板上的正投影，可使阴极层的方阻满足透明显示装置的正常电性工作的要求。

可选地，所述遮光层包括黑色有机胶；

所述黑色有机胶设置有第一镂空区域；

所述黑色有机胶位于所述高透光区的侧面环绕所述第一镂空区域设置；

所述第一镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影。

该技术方案中，黑色有机胶用于构成遮光层，由于黑色有机胶在380nm-600nm波段基本无可见光透过，可使遮光层阻挡大部分可见光透过，同时结合滤光膜层对于600nm-780nm波段可见光的吸收作用，从而减少或消除阳极、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。黑色有机胶中的第一镂空区域对应于有机胶去除区，且第一镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影覆盖高透光区在透明显示装置的基板上的正投影，用于提高透明显示装置的可见光波段的整体透过率。

优选地，在上述技术方案的基础上，黑色有机胶位于高透光区的侧面为倾斜缓坡型侧面。

该技术方案中，黑色有机胶位于高透光区的侧面为倾斜缓坡型侧面，使得黑色有机胶位于高透光区的侧面上的相邻透过光之间的光程差变化平缓(相邻透过光之间的光程差的数值在一个很小的数值范围内)，改善黑色有机胶位于高透光区的侧面造成的透明显示装置的透光衍射缺陷(部分波段可见光)。

优选地，所述黑色有机胶的第一镂空区域通过一次刻蚀工艺完成。

该技术方案中，黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面(高透光区的侧面)，构建高透光区时，以正常或者激光刻蚀方法，一次性去除高透光区内的黑色有机胶，使得高透光区侧面的黑色有机胶形成缓坡型刻蚀截面。当部分波段可见光透过无滤光膜层覆盖的黑色有机胶，可使相邻透过光之间的光程差变化平缓，改善黑色有机胶刻蚀面(高透光区的侧面)造成的透明显示装置的透光衍射缺陷。

可选地，所述黑色有机胶的第一镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的至少部分呈曲线。

该技术方案中，黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区的侧面)在透明显示装置的基板上的正投影的轮廓至少部分呈曲线，可以进一步改善透明显示装置的透光衍射缺陷。

可选地，所述黑色有机胶作为像素限定层。

该技术方案中，像素限定层可用于阻挡380nm-600nm波段可见光透过，同时结合滤光膜层对于600nm-780nm波段可见光的吸收作用，从而减少或消除阳极、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。

可选地，所述黑色有机胶作为所述透明显示装置内的各有机胶膜层中的至少一层。

该技术方案中，各有机胶膜层中的至少一层采用黑色有机胶来阻挡380nm-600nm波段可见光透过，同时结合滤光膜层对于600nm-780nm波段可见光的吸收作用，从而减少或消除阳极、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。

可选地，所述透明显示装置设置有阴极层；

所述阴极层设置有第二镂空区域；

所述第二镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖部分所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影；优选地，所述阴极层的第二镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的至少部分呈曲线。

该技术方案中，阴极层设置有第二镂空区域，第二镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影覆盖部分高透光区在透明显示装置的基板上的正投影，可以减少高透光区中阴极层的面积占比，从而改善透明显示装置的可见光波段的整体透过率的波动及水平。具体的，阴极层的第二镂空区域可以通过精密金属掩膜版蒸镀或者激光刻蚀的方法，去除高透光区内的部分阴极层而形成。优选地，阴极层的第二镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影的轮廓至少部分呈曲线，可以改善阴极层图案化后产生的透明显示装置的透光衍射缺陷。

可选地，所述第二镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影位于所述第一镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影之内。

该技术方案中，阴极层不仅位于正常区，还位于高透光区，使得阴极层的方阻满足透明显示装置的正常电性工作的要求。

可选地，所述遮光层还包括滤光膜层；

所述透明显示装置依次包括基板、阵列层、发光器件层和封装层的叠层；

所述滤光膜层位于所述封装层背离所述发光器件层的一侧。

该技术方案中，滤光膜层用于吸收上述黑色有机胶无法阻挡的600nm-780nm波段可见光，使得遮光层可以阻挡整个可见光波段的外界光透过透明显示装置出射，从而减少或消除阳极、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。

本发明实施例的技术方案，透明显示装置设置了用于透过可见光的高透光区，使得透明显示装置具有良好的透光效果。另外，高透光区对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值，即高透光区对于可见光波段的整体透过率的均匀性比较高，使得透明显示装置的外观不会存在偏色问题，从而提升了用户的视觉体验。

应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明实施例提供的一种透明显示装置的俯视示意图；

图2是根据本发明实施例提供的一种发光区、非发光区以及高透光区的剖面结构示意图；

图3是根据本发明实施例提供的另一种发光区、非发光区以及高透光区的剖面结构示意图；

图4是根据本发明实施例提供的一种黑色有机胶的可见光波段透过率光谱；

图5是根据本发明实施例提供的一种发光区子像素排列的俯视示意图；

图6是根据本发明实施例提供的一种黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面结构示意图；

图7是根据本发明实施例提供的一种黑色有机胶通过多次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面结构示意图；

图8是根据本发明实施例提供的第一种黑色有机胶的第一镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的结构示意图；

图9是根据本发明实施例提供的第二种黑色有机胶的第一镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的结构示意图；

图10是根据本发明实施例提供的第三种黑色有机胶的第一镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的结构示意图；

图11是根据本发明实施例提供的第四种黑色有机胶的第一镂空区域在透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的结构示意图；

图12是根据本发明实施例提供的一种镂空区域的俯视示意图；

图13是根据本发明实施例提供的一种光从远离基板方向入射黑色有机胶的示意图；

图14是根据本发明实施例提供的一种光从远离基板方向入射阴极层的示意图；

图15是根据本发明实施例提供的一种光从基板方向入射黑色有机胶的示意图；

图16是根据本发明实施例提供的一种光从基板方向入射阴极层的示意图；

图17是根据本发明实施例提供的一种像素和高透光区的排列示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

正如上述背景技术中所述，由于透明显示装置的透光区存在对于不同波长条件下可见光透过率差异性很大的膜层材料，导致透明显示装置外观存在偏色问题，例如低蓝光波段可见光透过率的材料，会使显示装置外观发黄。且透光区存在对于不同波长条件下可见光透过率差异性很大的膜层材料还会使得透光区的透光效果不佳。综上，现有技术的透明显示装置存在上述缺陷使得影响了用户的视觉体验感。

为了解决上述问题，本发明实施例提供了如下技术方案：

需要说明的是，在本发明实施例中，对于透明显示装置的类型不作限定，例如透明显示装置可以为液晶显示(LCD)、有机发光二极管显示(OLED)、和量子点发光二极管显示(QLED)等等。在本发明实施例中示出的透明显示装置仅以OLED透明显示装置为例进行介绍。

参见图1，图1是根据本发明实施例提供的一种透明显示装置的俯视示意图。该透明显示装置包括正常区01和高透光区02，正常区01包括发光区011和非发光区012；发光区011包括至少一个子像素；非发光区012围绕发光区011设置，高透光区02围绕非发光区012设置；高透光区02用于透过可见光，且高透光区02对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值。

示例性的，上述预设差值小于或等于15％。

本实施例提供的技术方案，透明显示装置设置了用于透过可见光的高透光区02，使得透明显示装置具有良好的透光效果。另外，高透光区02对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值，即高透光区02对于可见光波段的整体透过率的均匀性比较高，使得透明显示装置的外观不会存在偏色问题，从而提升了用户的视觉体验。

可选地，参见图2和图3，图2是根据本发明实施例提供的一种发光区、非发光区以及高透光区的剖面结构示意图，图3是根据本发明实施例提供的另一种发光区、非发光区以及高透光区的剖面结构示意图。非发光区012设置有遮光层S0，用于阻挡可见光透过。

示例性的，图2和图3中，透明显示装置包括基板1、缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4、第三绝缘层5、第一平坦化层6、第二平坦化层7、像素限定层8、阳极9、发光层10、阴极层11、封装层12和滤光膜层13，以及位于缓冲层2表面的半导体层14，位于第一绝缘层3表面的栅极15，其中半导体层14、栅极15、漏极或者源极16和源极或者漏极17构成薄膜晶体管T1，位于第一绝缘层3表面的下极板18和位于第二绝缘层4表面的上电极19构成存储电容C1。其中，图2中，像素限定层8和滤光膜层13构成遮光层S0。图3中，像素限定层8、第一平坦化层6、第二平坦化层7和滤光膜层13构成遮光层S0。在其他一实施例中，遮光层S0包括有机胶中的至少一层，示例性的，图2和图3中有机胶包括像素限定层8、第一平坦化层6和第二平坦化层7。或者，在其他另一实施例中，遮光层S0包括有机胶中的至少一层以及滤光膜层13。需要说明的是，上述缓冲层、绝缘层、平坦化层、像素限定层8、薄膜晶体管T1和存储电容C1可以称之为阵列层；上述阳极9、发光层10和阴极层11可以称之为发光器件层。

在本实施例中，在非发光区012设置了用于阻挡可见光透过的遮光层S0，具体的可以阻挡380-780nm波段可见光透过透明显示装置出射，使得上述可见光仅可通过高透光区02透过透明显示装置，减少或消除透明显示装置的图案化膜层(阳极9、导电走线等图案化膜层)之间透光空隙，改善了透明显示装置的透光衍射缺陷；同时，用于透过可见光的高透光区，具有良好的透光效果，从而提高了透明显示装置的透明度。另外，高透光区02对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值，即高透光区02对于可见光波段的整体透过率的均匀性比较高，使得透明显示装置的外观不会存在偏色问题，从而提升了用户的视觉体验。

可选地，在上述技术方案的基础上，参见图2和图3，高透光区02设置有有机胶去除区20；有机胶去除区20内的有机胶被部分或者全部去除；有机胶去除区20在透明显示装置的基板1上的正投影覆盖高透光区02在透明显示装置的基板1上的正投影。优选地，高透光区02还设置有阴极去除区21；阴极去除区21的阴极层被全部去除；阴极去除区21在透明显示装置的基板1上的正投影覆盖部分高透光区02在透明显示装置的基板1上的正投影。

具体的，在高透光区02设置有有机胶去除区20，优选地，高透光区02还设置有阴极去除区21，即高透光区02不包括蓝光波段可见光透过率不高的有机胶，以及优选地，高透光区02内减少了可见光波段的整体透过率不高的阴极层，使得透明显示装置的可见光波段的整体透过率波动较小且水平较高，从而改善透明显示装置的外观发黄问题，以及具有良好的透光效果，提升用户的视觉体验。其中，阴极去除区21在透明显示装置的基板1上的正投影覆盖部分高透光区02在透明显示装置的基板1上的正投影，可使阴极层11的方阻满足透明显示装置的正常电性工作的要求。

可选地，在上述技术方案的基础上，透明显示装置中的有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层10、电子传输层和电子注入层等等，其中对于不同波长条件下可见光波段透过率差异性大的有机功能材料，通过精密金属掩膜版蒸镀或者激光刻蚀的方法，使上述有机功能材料仅在正常区01之内，即高透光区02不包括对于不同波长条件下可见光波段透过率差异性大的有机功能材料，从而改善透明显示装置的外观偏色问题。示例性的，图2和图3中，高透光区02将包括空穴注入层、空穴传输层、发光层10、电子传输层和电子注入层等在内的有机功能层全部去除。在其他实施例中，还可以只去除对于不同波长条件下可见光波段透过率差异性大的有机功能材料，从而改善透明显示装置的外观偏色问题。

另外，可选地，在上述技术方案的基础上，柔性的透明显示装置中基板1通过选用蓝光波段可见光透过率更高的透明聚酰亚胺(CPI)代替原有包括的聚酰亚胺(PI)材料，以改善透明显示装置的外观发黄问题；当透明显示装置的应用场景对于基板1的弯折度要求不高时，优选地，基板1可以直接使用玻璃(Glass)，从而改善透明显示装置的外观偏色问题以及可见光波段的整体透过率。

可以理解的是，柔性的透明显示装置还可以不包括遮光层S0，并且使用蓝光波段可见光透过率更高的透明聚酰亚胺(CPI)和透明有机胶代替原有的聚酰亚胺(PI)和通常有机胶材料，以改善透明显示装置的外观发黄问题；同时，当透明显示装置的应用场景对于基板1的弯折度要求不高时，透明显示装置不包括遮光层S0，基板1使用玻璃(Glass)，并以蓝光波段可见光透过率更高的透明有机胶代替原有的通常有机胶材料，从而进一步改善透明显示装置的外观偏色问题。

可选地，在上述技术方案的基础上，遮光层S0包括黑色有机胶，黑色有机胶的材料不作限定；黑色有机胶设置有第一镂空区域；黑色有机胶位于高透光区02的侧面环绕第一镂空区域设置；第一镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影覆盖高透光区02在透明显示装置的基板1上的正投影。

参见图4，图4是根据本发明实施例提供的一种黑色有机胶的可见光波段透过率光谱；其中，黑色有机胶在380nm-600nm波段基本无可见光透过。

在一实施例中，参见图2，像素限定层8和滤光膜层13构成遮光层S0，像素限定层8是黑色有机胶，黑色有机胶的第一镂空区域是有机胶去除区20。

在另一实施例中，参见图3，像素限定层8、第一平坦化层6、第二平坦化层7和滤光膜层13构成遮光层S0，像素限定层8、第一平坦化层6和第二平坦化层7是黑色有机胶，黑色有机胶的第一镂空区域是有机胶去除区20。在其他实施例中，遮光层S0包括有机胶中的至少一层，其中，有机胶中的至少一层选用黑色有机胶。

在本实施例中，黑色有机胶用于构成遮光层S0，由于黑色有机胶在380nm-600nm波段基本无可见光透过，可使遮光层S0阻挡大部分可见光透过，同时结合滤光膜层13对于600nm-780nm波段可见光的吸收作用，从而减少或消除阳极9、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。其中，滤光膜层13可为蓝光滤光片，材料在600nm-780nm波段无可见光透过，此处不作限定。黑色有机胶的第一镂空区域对应于有机胶去除区20，且第一镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影覆盖高透光区02在透明显示装置的基板1上的正投影，用于提高透明显示装置的可见光波段的整体透过率。

可选地，参见图5，图5是根据本发明实施例提供的一种发光区子像素排列的俯视示意图，发光区011内的子像素(例如是红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B)对应阳极在透明显示装置的基板1上的正投影与子像素对应阳极相连的薄膜晶体管(例如是第一薄膜晶体管T11、第二薄膜晶体管T12和第三薄膜晶体管T13)在透明显示装置的基板1上的正投影的重合度在预设重合度范围内处于最大化。

发光区011内的子像素对应阳极在透明显示装置的基板1上的正投影与子像素对应阳极相连的薄膜晶体管在透明显示装置的基板1上的正投影的重合度大，可以增加高透光区02在透明显示装置内面积占比，从而有助于提升透明显示装置的透光效果。

优选地，在上述技术方案的基础上，黑色有机胶位于高透光区02的侧面为倾斜缓坡型侧面。

需要说明的是，图6中黑色有机胶位于高透光区02的侧面为倾斜缓坡型侧面，使得黑色有机胶位于高透光区02的侧面上的相邻透过光之间的光程差变化平缓(相邻透过光之间的光程差的数值在一个很小的数值范围内)，改善黑色有机胶位于高透光区02的侧面造成的透明显示装置的透光衍射缺陷(部分波段可见光)。

图7中黑色有机胶位于高透光区02的侧面为台阶型侧面，位于高透光区02的台阶型黑色有机胶的侧面会使透过黑色有机胶的可见光(例如透过光1、透过光2和透过光3)之间具有明显的光程差，造成透明显示装置的透光衍射缺陷问题(部分波段可见光)；同时，上述有机胶边界距离，会影响高透光区02在透明显示装置内面积占比。通过和图7对比，可以看出图6中黑色有机胶位于高透光区02的侧面为倾斜缓坡型侧面，使得黑色有机胶位于高透光区02的侧面上的相邻透过光之间的光程差变化平缓(相邻透过光之间的光程差的数值在一个很小的数值范围内)。

优选地，在上述技术方案的基础上，黑色有机胶的第一镂空区域通过一次刻蚀工艺完成。

在一实施例中，参见图2，像素限定层8和滤光膜层13构成遮光层S0，像素限定层8是黑色有机胶，黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面。

在另一实施例中，参见图3，像素限定层8、第一平坦化层6、第二平坦化层7和滤光膜层13构成遮光层S0，像素限定层8、第一平坦化层6和第二平坦化层7是黑色有机胶，黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面。在其他实施例中，遮光层S0包括有机胶中的至少一层，其中，有机胶中的至少一层选用黑色有机胶。

黑色有机胶位于高透光区02的侧面为倾斜缓坡型侧面。具体的，黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面(高透光区02的侧面)，如图6所示，图6是根据本发明实施例提供的一种黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面结构示意图，即构建高透光区02时，以正常或者激光刻蚀方法，一次性去除高透光区02内的黑色有机胶，使得高透光区02侧面的黑色有机胶形成缓坡型刻蚀截面。当部分波段可见光透过无滤光膜层13覆盖的黑色有机胶，可使相邻透过光之间的光程差变化平缓，改善黑色有机胶刻蚀面(高透光区02的侧面)造成的透明显示装置的透光衍射缺陷(部分波段可见光)。

如图7所示，图7是根据本发明实施例提供的一种黑色有机胶通过多次刻蚀工艺构成第一镂空区域的侧面结构示意图，即构建高透光区02时，通过多次正常或激光刻蚀工艺，去除高透光区02内的黑色有机胶。每次刻蚀一层有机胶，为了保证各层有机胶涂覆后可形成平坦化界面，相邻两次刻蚀的有机胶层之间需要保留一定的有机胶边界距离，从而形成台阶型刻蚀截面。台阶型黑色有机胶刻蚀面会使透过黑色有机胶的可见光(例如透过光1、透过光2和透过光3)之间具有明显的光程差，造成透明显示装置的透光衍射缺陷问题(部分波段可见光)；同时，上述有机胶边界距离，会影响高透光区02在透明显示装置内面积占比，故本实施例中采取图6所示的黑色有机胶通过一次刻蚀工艺构成第一镂空区域的方法，避免黑色有机胶出现台阶型刻蚀截面，进而造成透明显示装置的透光衍射缺陷，以及降低透光面积占比的问题，从而提升了用户的视觉体验。

可选地，在上述技术方案的基础上，参见图8-图11，黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区02的侧面)在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓至少部分呈曲线。

示例性的，图8中黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区02的侧面)在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓为圆形。图9中黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区02的侧面)在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓为椭圆。图10中黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区02的侧面)在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓为圆角矩形。图11中黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区02的侧面)在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓为圆缺角矩形。

具体的，黑色有机胶的第一镂空区域(高透光区02的侧面)在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓至少部分呈曲线，可以进一步改善透明显示装置的透光衍射缺陷。

可选地，在上述技术方案的基础上，参见图2，黑色有机胶作为像素限定层8；像素限定层8可用于阻挡380nm-600nm波段可见光透过，同时结合滤光膜层13对于600nm-780nm波段可见光的吸收作用，从而减少或消除阳极9、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。

可选地，在上述技术方案的基础上，黑色有机胶作为透明显示装置内各有机胶膜层中的至少一层。参见图3，有机胶膜层包括第一平坦化层6、第二平坦化层7和像素限定层8。位于非发光区012的各有机胶膜层中的至少一层采用黑色有机胶来阻挡380nm-600nm波段可见光透过，同时结合滤光膜层13对于600nm-780nm波段可见光的吸收作用，从而减少或消除阳极9、导电走线等图案化膜层之间透光空隙，改善透明显示装置的透光衍射缺陷，提升了用户的视觉体验。

可选地，在上述技术方案的基础上，参见图3，阴极层11设置有第二镂空区域(阴极去除区21)；第二镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影覆盖部分高透光区02在透明显示装置的基板1上的正投影，可以减少高透光区02中阴极层11的面积占比，从而改善透明显示装置的可见光波段的整体透过率的波动及水平。具体的，阴极层11的第二镂空区域可以通过精密金属掩膜版蒸镀或者激光刻蚀的方法，去除高透光区02内的部分阴极层而形成。优选地，阴极层11的第二镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓至少部分呈曲线，可以改善阴极层11图案化后产生的透明显示装置的透光衍射缺陷。具体的，阴极层11的第二镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影的轮廓呈圆形、椭圆、圆角矩形以及圆缺角矩形的任意一种。

可选地，在上述技术方案的基础上，参见图12，图12是根据本发明实施例提供的一种镂空区域的俯视示意图，示例性的，图12中黑色有机胶作为像素限定层8，阴极层11的第二镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影位于黑色有机胶的第一镂空区域在透明显示装置的基板1上的正投影之内，即阴极层11不仅位于正常区01，还位于高透光区02，使得阴极层11的方阻满足透明显示装置的正常电性工作的要求。

需要说明的是，对于黑色有机胶可阻挡透过的380nm-600nm波段可见光，参见图13和图14以及图15和图16，当光从远离基板方向入射(图13和图14)，阴极层11可先降低处于高透光区02边缘的光线L1的强度，以减小衍射(发散)角度大的高级次透过衍射光能量，从而改善透明显示装置的透光衍射缺陷；当光从基板方向入射(图15和图16)，阴极层11可降低通过黑色有机胶第一镂空区域且处于高透光区02边缘的光线L1的强度，以减小衍射(发散)角度大的高级次透过衍射光能量，从而改善透明显示装置的透光衍射缺陷。

可选地，为了进一步改善透明显示装置的透光衍射缺陷，如图17所示，图17是根据本发明实施例提供的一种像素和高透光区的排列示意图，可将像素0110和高透光区02或者二者中任一个进行不规则排列，以改善透明显示装置的透光衍射缺陷，同时提高像素0110及高透光区02排列的灵活性。

上述具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明保护范围之内。

Claims (10)

1.一种透明显示装置，其特征在于，包括：

所述透明显示装置包括正常区和高透光区，所述正常区包括发光区和非发光区；

所述发光区包括至少一个子像素；

所述非发光区围绕所述发光区设置，所述高透光区围绕所述非发光区设置；

所述高透光区用于透过可见光，且所述高透光区对不同波长条件下可见光波段透过率的差值小于预设差值。

2.根据权利要求1所述的透明显示装置，其特征在于，所述非发光区设置有遮光层，用于阻挡可见光透过。

3.根据权利要求1所述的透明显示装置，其特征在于，所述高透光区设置有有机胶去除区；

所述有机胶去除区内的有机胶被部分或者全部去除；

所述有机胶去除区在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影；

优选地，所述高透光区还设置有阴极去除区；

所述阴极去除区的阴极层被全部去除；

所述阴极去除区在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖部分所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影。

4.根据权利要求2所述的透明显示装置，其特征在于，所述遮光层包括黑色有机胶；

所述黑色有机胶设置有第一镂空区域；

所述第一镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影；

优选地，所述黑色有机胶位于所述高透光区的侧面为倾斜缓坡型侧面；

优选地，所述黑色有机胶的第一镂空区域通过一次刻蚀工艺完成。

5.根据权利要求4所述的透明显示装置，其特征在于，所述黑色有机胶的第一镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的至少部分呈曲线。

6.根据权利要求4所述的透明显示装置，其特征在于，所述黑色有机胶作为像素限定层。

7.根据权利要求4所述的透明显示装置，其特征在于，所述黑色有机胶作为所述透明显示装置内的各有机胶膜层中的至少一层。

8.根据权利要求4所述的透明显示装置，其特征在于，所述透明显示装置设置有阴极层；

所述阴极层设置有第二镂空区域；

所述第二镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影覆盖部分所述高透光区在所述透明显示装置的基板上的正投影；

优选地，所述阴极层的第二镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影的轮廓的至少部分呈曲线。

9.根据权利要求8所述的透明显示装置，其特征在于，所述第二镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影位于所述第一镂空区域在所述透明显示装置的基板上的正投影之内。

10.根据权利要求2所述的透明显示装置，其特征在于，所述遮光层还包括滤光膜层；

所述透明显示装置依次包括基板、阵列层、发光器件层和封装层的叠层；

所述滤光膜层位于所述封装层背离所述发光器件层的一侧。

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