CN115849525B - 一种抛光液废水物理清洁处理装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及抛光液废水处理的技术领域，尤其涉及一种抛光液废水物理清洁处理装置及方法，该装置包括容器、防止容器发生泄漏的密封圈、安装在容器底部防止金属杂质沉积的搅拌装置以及贯穿密封圈并分为四段相不干涉的线圈；本方法主要利用线圈会产生磁性的特质，对抛光液废水中的钴、镍以及其他金属碎屑进行吸附，通过对抛光液透光度的检测进而反馈调节线圈中电流的大小和线圈的转速。本发明通过以上设计，以一种完全物理的方式完成对抛光液废水的处理，通过这样清洁环保的物理方法完成对抛光液废水的处理，清洁环保，且不会产生任何新的物质，可以减少企业的投入成本，做优企业的生产效益。

Description

一种抛光液废水物理清洁处理装置及方法

技术领域

本发明涉及抛光液废水处理的技术领域，尤其是涉及一种抛光液废水物理清洁处理装置及方法。

背景技术

抛光液抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。同时其还具有性能稳定、无毒，对环境无污染等优点。

但是在抛光液使用的过程中，由于其需要直接对金属进行接触打磨，因此抛光液在使用之后其里面会含有大量的钴、镍、及其他金属屑杂质，而对于现有技术，对于抛光液废水的处理基本采用化学处理法，即通过物质之间相互的化学反应从而对金属杂质进行除杂，但是采用化学处理的形式，处理完后的抛光液中会产生新的化学成分，不利于抛光液废水的回收利用，而随意排放又会对环境造成极大的危害。

发明内容

为了解决上述背景技术中提出的技术缺陷，本发明采用如下技术方案：

本发明的目的之一是提供一种抛光液废水物理清洁处理装置，可对线圈进行通电，线圈通电后会具有磁性，利用磁铁性质的吸附作用进而将抛光液废水中的钴、镍、及其他金属屑杂质进行吸附过滤，通过这样清洁环保的物理方法完成对抛光液废水的处理，清洁环保，且不会产生任何新的物质，可以减少企业的投入成本，做优企业的生产效益。

一种抛光液废水处理装置，包括有容器，所述容器内安装有搅拌装置及线圈，所述搅拌装置用于搅拌容器内的抛光液，所述线圈穿透容器底部设置，所述线圈通电后，该段线圈通电而具有磁性，直至该段线圈断电后，线圈断电从而使磁性消失。

优选的，所述线圈和容器连接处设置有密封圈。

优选的，所述线圈分为n段且收尾相互连接闭合。

优选的，所述线圈设有多个，各所述线圈沿容器底部的周向等距设置。

优选的，所述搅拌装置包括设于容器底部的主轴及与主轴固定连接的搅拌叶片，所述主轴和容器转动连接，所述搅拌叶片设有多个，沿主轴的径向等距排布。

综上所述，本发明的有益效果为:

本发明利用线圈的电磁效应对抛光液废水中的钴、镍、及其他金属屑杂质进行吸附过滤，避免了化学试剂的使用以及抛光液废水中新的化学反应的发生，以一种物理方法完成了对抛光液废水的处理，清洁环保。

本发明的目的之二是提供了一种抛光液废水物理清洁处理方法，通过对抛光液废水中透光度及吸附率的检测，靶向调节感应线圈中通电电流的大小和线圈转速，设置通电电流及转速的阈值，在提高效率的同时对电源进行保护，随后利用线圈通电后的磁铁性质的吸附作用进而将抛光液废水中的钴、镍、及其他金属屑杂质进行吸附过滤，通过这样清洁环保的物理方法完成对抛光液废水的处理，清洁环保，且不会产生任何新的物质。

一种抛光液废水物理清洁处理方法，适用于上述抛光液废水处理装置，包括以下步骤：

步骤1，设定初始参数：设定线圈电流Ii(i＝1,2,3，...，P),其中，I1表示线圈通入的初始电流大小，IP表示线圈中通入电流大小的峰值；线圈转速Vi(i＝1,2,3，...，P),其中，V1表示线圈初始转速，VP表示线圈转速的峰值；

步骤2，打开搅拌装置，使搅拌装置搅拌位于容器内的抛光液；

步骤3，线圈通电后开始给线圈通入大小为I1的电流，线圈通电后产生磁性；

步骤4，通电后的线圈对容器中的金属杂质进行吸附，并且线圈以V1的速度进行转动；

步骤5，线圈断电后，磁性消失，金属杂质下落；

步骤6，实时检测容器中的透光度ρj及吸附率Xj，其中吸附率，其中ρj和Xj分别表示第j次物理吸附后容器中抛光液污水的透光度以及第j次吸附过程中金属杂质的吸附率；

步骤7，将检测的抛光液污水透光度ρj与标准清洁水透光度ρ’进行比较：

(1)若ρj≥ρ’，则直接转入步骤9；

(2)若ρj＜ρ’，则需转入步骤8；

步骤8，将第j次吸附过程中金属杂质的吸附率Xj与理想吸附率X’进行比较，同时对线圈电流进行判定，并在判定完成后转入步骤9：

(1)若Xj≤X’，且Ii＜IP，则Ii＝I(i+1)，Vi＝Vi；

(2)若Xj≤X’，且Ii≥IP，则Ii＝IP，Vi＝V(i+1)；

(3)若Xj＞X’，则Ii＝Ii，Vi＝Vi；

步骤9，抛光液污水处理完毕。

综上所述，本发明的有益效果为:

1、在抛光液废水吸附过程中，通过实时监测抛光液废水的透光度及吸附率，动态调节线圈施加电流的大小及线圈的转速，避免了电流过大对电源的损耗。

2、对于外圈容器中的净化水，由于其经过层层过滤后浓度较低，因此在后期的处理过程中，其是可以不断的反复重复利用的。

上述说明仅是本发明的技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1是本发明实施例的单个反应容器剖视示意图；

图2是本发明实施例的容器轴测图；

图3是本发明实施例的抛光液废水物理处理方法的工作流程图。

图中的附图标记说明：

1、抛光液废水处理装置；101、线圈；102、密封圈；103、搅拌装置；104、容器。

具体实施方式

为了使本发明的内容能更容易被清楚的理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本发明作进一步说明。

需要说明的是，本文所使用的术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

如图1至图2所示，一种抛光液废水处理装置1，包括有容器104，所述容器104内安装有搅拌装置103及线圈101，所述搅拌装置103用于搅拌容器104内的抛光液，所述线圈101穿透容器104底部设置，所述线圈101通电后，该段线圈101通电而具有磁性，直至该段线圈101断电后，线圈101断电从而使磁性消失。所述线圈101和容器104连接处设置有密封圈102。所述线圈101分为n段且收尾相互连接闭合。所述线圈101设有多个，各所述线圈101沿容器104底部的周向等距设置。所述搅拌装置103包括设于容器104底部的主轴及与主轴固定连接的搅拌叶片，所述主轴和容器104转动连接，所述搅拌叶片设有多个，沿主轴的径向等距排布。

本发明的目的之二是提供了一种抛光液废水物理清洁处理方法，通过对抛光液废水中透光度及吸附率的检测，靶向调节感应线圈101中通电电流的大小和线圈101转速，设置通电电流及转速的阈值，在提高效率的同时对电源进行保护，随后利用线圈101通电后的磁铁性质的吸附作用进而将抛光液废水中的钴、镍、及其他金属屑杂质进行吸附过滤，通过这样清洁环保的物理方法完成对抛光液废水的处理，清洁环保，且不会产生任何新的物质，

如图3所示，一种抛光液废水物理清洁处理方法，适用于上述抛光液废水处理装置1，包括以下步骤：

步骤1，设定初始参数：设定线圈101电流Ii(i＝1,2,3，...，P),其中，I1表示线圈101通入的初始电流大小，IP表示线圈101中通入电流大小的峰值；线圈101转速Vi(i＝1,2,3，...，P),其中，V1表示线圈101初始转速，VP表示线圈101转速的峰值；

步骤2，打开搅拌装置103，使搅拌装置103搅拌位于容器104内的抛光液；

步骤3，线圈101通电后开始给线圈101通入大小为I1的电流，线圈101通电后产生磁性；

步骤4，通电后的线圈101对容器104中的金属杂质进行吸附，并且线圈101以V1的速度进行转动；

步骤5，线圈101断电后，磁性消失，金属杂质下落；

步骤6，实时检测容器104中的透光度ρj及吸附率Xj，其中吸附率，其中ρj和Xj分别表示第j次物理吸附后容器104中抛光液污水的透光度以及第j次吸附过程中金属杂质的吸附率；

步骤7，将检测的抛光液污水透光度ρj与标准清洁水透光度ρ’进行比较：

(1)若ρj≥ρ’，则直接转入步骤9；

(2)若ρj＜ρ’，则需转入步骤8；

步骤8，将第j次吸附过程中金属杂质的吸附率Xj与理想吸附率X’进行比较，同时对线圈101电流进行判定，并在判定完成后转入步骤9：

(1)若Xj≤X’，且Ii＜IP，则Ii＝I(i+1)，Vi＝Vi；

(2)若Xj≤X’，且Ii≥IP，则Ii＝IP，Vi＝V(i+1)；

(3)若Xj＞X’，则Ii＝Ii，Vi＝Vi；

步骤9，抛光液污水处理完毕。

以下选取初始参数进行说明：

在本实施例中，初始参数的选取如下表数据：

1、线圈101电流参数见下表1：

表1

2、线圈101转速参数见下表2：

表2

名称	V1	V2	V3	V4	V5
						转速(r/min)‘’)	16	12	9	7	6

3、抛光液废水中基本参数见下表3：

表3

名称	标准透光度ρ’	理想吸附率X’
			数据	92％	30％

具体包括以下步骤：

步骤1，设定初始参数：设定线圈101电流，使得I1＝4A,线圈101电流的峰值设置为IP＝I5＝9A；设定线圈101转速V1＝16r/min,线圈101转速的峰值VP＝V5＝6r/min；

步骤2，打开搅拌装置103，使搅拌装置103在容器104中工作；

步骤3，线圈101通电后开始给线圈101通入大小为I1＝4A的电流，线圈101通电后产生磁性；

步骤4，通电后的线圈101对容器104中的金属杂质进行吸附，并且线圈101以V1＝16r/min的速度进行转动；

步骤5，线圈101断电后，磁性消失，金属杂质下落；

步骤6，实时检测容器104中的透光度ρj及吸附率Xj，其中吸附率，本实施例中令j＝1，ρ1＝35％，ρ2＝42％进行示范流程；

步骤7，将检测的抛光液污水透光度ρ1＝35％与标准清洁水透光度ρ’＝92％进行比较：

由于ρ1＝35％＜ρ’＝92％，因此需转入步骤8；

步骤8，将第1次吸附完成后金属杂质的吸附率X1＝20％与理想吸附率X’＝30％进行比较，同时对线圈101电流进行判定：

由于此时X1＝20％＜X’＝30％，并且此时I1＝4A＜IP＝9A，因此线圈101下次通电时电流增大为I＝I2＝6A后保持又是上次相同转速继续对容器104中的金属等杂质进行吸附。

步骤9，直至ρj≥92％后，抛光液废水处理完毕。

本具体实施方式的实施例均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，其中相同的零部件用相同的附图标记表示。故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种抛光液废水物理清洁处理方法，其特征在于：采用抛光液废水处理装置，该装置包括有容器，所述容器内安装有搅拌装置及线圈，所述搅拌装置用于搅拌容器内的抛光液，所述线圈穿透容器底部设置且线圈和容器连接处设置有密封圈，所述线圈通电后，该段线圈通电而具有磁性，直至该段线圈断电后，线圈断电从而使磁性消失；

具体处理方法包括以下步骤：

步骤1，设定初始参数：设定线圈电流Ii（i=1,2,3，...，P）,其中，I1表示线圈通入的初始电流大小，IP表示线圈中通入电流大小的峰值；线圈转速Vi（i=1,2,3，...，P）,其中，V1表示线圈初始转速，VP表示线圈转速的峰值；

步骤2，打开搅拌装置，使搅拌装置搅拌位于容器内的抛光液；

步骤3，线圈通电后开始给线圈通入大小为I1的初始电流，线圈通电后产生磁性；

步骤4，通电后的线圈对容器中的金属杂质进行吸附，并且线圈以V1的速度进行转动；

步骤5，线圈断电后，磁性消失，金属杂质下落；

步骤6，实时检测容器中的透光度ρj及吸附率Xj，其中ρj和Xj分别表示第j次物理吸附后容器中抛光液污水的透光度以及第j次吸附过程中金属杂质的吸附率；

步骤7，将检测的抛光液污水透光度ρj与标准清洁水透光度ρ’进行比较：

（1）若检测的抛光液污水透光度ρj≥标准清洁水透光度ρ’，则直接转入步骤9；

（2）若检测的抛光液污水透光度ρj＜标准清洁水透光度ρ’，则需转入步骤8；

步骤8，将第j次吸附过程中金属杂质的吸附率Xj与理想吸附率X’进行比较，同时对线圈电流进行判定：

（1）若将第j次吸附过程中金属杂质的吸附率Xj≤理想吸附率X’，且线圈电流Ii＜线圈中通入电流大小的峰值IP，则将线圈电流Ii调整为线圈电流I（i+1），线圈转速Vi不变；

（2）若将第j次吸附过程中金属杂质的吸附率Xj≤理想吸附率X’，且线圈电流Ii≥线圈中通入电流大小的峰值IP，则将线圈电流Ii调整为线圈中通入电流大小的峰值IP，将线圈转速Vi调整为线圈转速V（i+1）；

（3）若将第j次吸附过程中金属杂质的吸附率Xj＞理想吸附率X’，则保持线圈电流不变，线圈转速Vi不变；

并在判定完成后转入步骤9，

步骤9，抛光液污水处理完毕。

2.根据权利要求1所述一种抛光液废水物理清洁处理方法，其特征在于：所述线圈沿着圆周方向分为n段,n大于等于2且为正整数。

3.根据权利要求1所述一种抛光液废水物理清洁处理方法，其特征在于：所述线圈设有多个，各所述线圈沿容器底部的周向等距设置。

4.根据权利要求1所述一种抛光液废水物理清洁处理方法，其特征在于：所述搅拌装置包括设于容器底部的主轴及与主轴固定连接的搅拌叶片，所述主轴和容器转动连接，所述搅拌叶片设有多个，沿主轴的径向等距排布。