CN115808824A - 显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本公开提供了一种显示面板，包括：第一显示基板、第二显示基板、液晶层和隔垫物，所述第一显示基板和所述第二显示基板相对设置，所述液晶层和所述隔垫物位于所述第一显示基板与所述第二显示基板之间；所述隔垫物的材料包括无机材料。本公开实施例还提供了一种显示面板的制备方法和显示装置。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。
背景技术
液晶显示面板(Liquid Crystal Display，简称LCD)由显示基板、对盒基板和位于二者之间的液晶层构成。为保证液晶盒厚，在显示基板和对盒基板之间还设置有隔垫物。由于隔垫物(Photo Spacer，简称PS)周围液晶分子配向异常会导致隔垫物周边漏光可见，故需要对有隔垫物及其周边区域进行遮光处理，例如利用黑矩阵(Black Matrix，简称BM)来对隔垫物及其周边区域进行遮挡以解决隔垫物周边漏光问题。
在相关技术中，隔垫物使用的是有机材料，受限于有机材料的图案化工艺的制程能力，隔垫物上的最小宽度(Critical Dimension，简称CD)在4.5um左右，此时所需用于对隔垫物及其周边进行遮挡的黑矩阵的最小宽度在7.5um左右。即，用于对隔垫物及其周边进行遮挡的黑矩阵尺寸偏大，这会严重影响到产品开口率。
发明内容
第一方面，本公开实施例提供了一种显示面板，包括：第一显示基板、第二显示基板、液晶层和隔垫物，所述第一显示基板和所述第二显示基板相对设置，所述液晶层和所述隔垫物位于所述第一显示基板与所述第二显示基板之间；所述隔垫物的材料包括无机材料。
在一些实施例中，所述无机材料包括：无机绝缘材料或金属材料。
在一些实施例中，所述无机材料包括：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少之一；
所述金属材料包括：钼、铝、钛、铜中至少之一。
在一些实施例中，所述隔垫物形成于所述第一显示基板上，所述第一显示基板与所述隔垫物之间形成有第一缓冲层；
或者，所述隔垫物形成于所述第二显示基板上，所述第二显示基板与所述隔垫物之间形成有第一缓冲层。
在一些实施例中，所述隔垫物形成于所述第一显示基板上，所述隔垫物背向所述第一显示基板的一侧形成有覆盖所述隔垫物的侧面以及所述隔垫物背向所述第一显示基板一侧表面的第二缓冲层；
或者，所述隔垫物形成于所述第二显示基板上，所述隔垫物背向所述第二显示基板的一侧形成有覆盖所述隔垫物的侧面以及所述隔垫物背向所述第二显示基板一侧表面的第二缓冲层。
在一些实施例中，还包括：与所述隔垫物相对应的基台，所述基台与对应的所述隔垫物在所述第一显示基板上的正投影存在交叠，所述基台的材料包括有机材料；
所述隔垫物和所述基台中之一形成于所述第一显示基板上，另一形成与所述第二显示基板上；
或者，所述隔垫物和所述基台均形成于所述第一显示基板上，所述隔垫物位于对应所述基台背向所述第一显示基板的一侧；
或者，所述隔垫物和所述基台均形成于所述第二显示基板上，所述隔垫物位于对应所述基台背向所述第二显示基板的一侧。
在一些实施例中，所述隔垫物在所述第一显示基板上的正投影位于对应的所述基台在所述第一显示基板上的正投影所覆盖区域之内。
在一些实施例中，所述隔垫物和所述基台同时形成于所述第一显示基板上或同时形成于所述第二显示基板上；
所述隔垫物与对应的所述基台相接触；或者，所述隔垫物与对应的所述基台之间设置有第一缓冲层。
在一些实施例中，还包括：与所述隔垫物相对应的遮光图形，所述隔垫物在所述第一显示基板上的正投影位于对应的所述遮光图形在所述第一显示基板上的正投影所覆盖区域之内；
所述遮光图形与所述隔垫物均形成于所述第一显示基板上，所述遮光图形位于所述隔垫物背向所述第二显示基板的一侧。
在一些实施例中，所述遮光图形和所述隔垫物均位于所述第一显示基板朝向所述第二显示基板的一侧，所述遮光图形对对应的所述隔垫物相接触。
在一些实施例中，所述遮光图形的材料包括金属材料，所述隔垫物的材料包括无机绝缘材料。
在一些实施例中，所述第一显示基板为阵列基板，所述阵列基板包括：第一衬底基板和位于第一衬底基板靠近所述第二显示基板一侧的驱动功能层，所述驱动功能层包括：至少一层金属材料层，所述金属材料层包括金属图形；
所述隔垫物位于所述驱动功能层远离所述衬底基板的一侧；
所述遮光图形位于所述驱动功能层内的至少一层所述金属材料层。
在一些实施例中，所述驱动功能层包括：沿远离所述第一衬底基板方向依次设置第一金属材料层、第一绝缘层、第二金属材料层、第二绝缘层、第三金属材料层；
所述第一金属材料层包括：沿第一方向延伸的多条栅线和沿第一方向延伸的多条第一公共电压线；
所述第二金属材料层包括：沿第二方向延伸的多条数据线；
所述第三金属材料层包括：沿第二方向延伸的多条第二公共电压线，所述第二公共电压线与所述第一公共电压线电连接，
所述第二公共电压线和/或所述数据线复用作所述遮光图形。
在一些实施例中，所述第二公共电压线复用作所述遮光图形，所述隔垫物包括与所述第二公共电压线相对应的第一隔垫物，所述第一隔垫物呈条形且沿所述第二方向延伸；
和/或，所述数据线复用作所述遮光图形，所述隔垫物包括与所述数据线相对应的第二隔垫物，所述第二隔垫物呈条形且沿所述第二方向延伸。
在一些实施例中，多条所述栅线和多条所述数据线限定出沿所述第一方向和所述第二方向呈阵列排布的多个亚像素区，任意在所述第一方向或第二方向相邻的两个所述亚像素区间隔设置；
任意在所述第一方向或第二方向相邻的两个所述亚像素区之间的区域为走线区，所述栅线、所述数据线、所述第一公共电压线、所述第二公共电压线均位于所述走线区；
所述显示基板还包括：多个基台，所述基台呈条形且沿所述第一方向延伸，所述基台的材料包括有机材料，所述基台在所述第一显示基板上的正投影位于所述走线区内；
所述基台在所述第一显示基板上的正投影，与至少一个所述第一隔垫物在所述第一显示基板上的正投影或至少一个所述第二隔垫物在所述第一显示基板上的正投影存在交叠。
第二方面，本公开实施例还提供了一种显示装置，包括：如上述第一方面中提供的所述显示面板。
第二方面，本公开实施例还提供了一种如第一方面中所述显示面板的制备方法，包括：
分别形成第一显示基板和第二显示基板；
在所述第一显示基板或所述第二显示基板的一侧形成无机材料薄膜，并通过刻蚀工艺对所述无机材料薄膜进行图案化以得到隔垫物的图形；
对所述第一显示基板和所述第二显示基板进行对盒，所述隔垫物位于所述第一显示基板与所述第二显示基板之间，所述第一显示基板与所述第二显示基板之间填充有液晶层。
在一些实施例中，在所述第一显示基板或所述第二显示基板的一侧形成无机材料薄膜，并通过刻蚀工艺对所述无机材料薄膜进行图案化以得到隔垫物的图形的步骤具体包括：
在所述第一显示基板的一侧依次形成遮光材料薄膜和无机材料薄膜；
在所述无机材料薄膜远离所述第一显示基板的一侧形成光刻胶；
对光刻胶进行曝光、显影，以得到光刻胶的第一图案；
根据具有第一图案的光刻胶对所述无机材料薄膜进行刻蚀以得到隔垫物的初步图形，以及对所述遮光材料薄膜进行刻蚀以得到所述遮光图形；
对具有第一图案的光刻胶进行灰化处理，以得到光刻胶的第二图案；
根据具有第二图案的光刻胶对所述无机材料薄膜进行刻蚀以得到隔垫物的最终图形。
附图说明
图1A为本公开实施例提供的显示面板的一种结构示意图；
图1B为本公开实施例提供的显示面板的另一种结构示意图；
图2A为本公开实施例提供的显示面板的又一种结构示意图；
图2B为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图3A为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图3B为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图3C为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图3D为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图4A为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图4B为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图4C为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图4D为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图5为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图；
图6为本公开实施例中显示面板的再一种电路结构示意图；
图7A为本公开实施例中显示面板的一种电路结构示意图；
图7B为本公开实施例中显示面板上部分区域的一种俯视示意图；
图8A为图7B中A-A'向的一种截面示意图；
图8B为图7B中B-B’向的一种截面示意图；
图8C为图7B中C-C'向的一种截面示意图；
图8D为图7B中D-D’向的一种截面示意图；
图9为本公开实施例中显示面板上两个不同区域的一种结构示意图；
图10为本公开实施例中显示面板上两个不同区域的另一种结构示意图；
图11为本公开实施例提供的显示面板的制备方法的一种流程图；
图12为本公开实施例中步骤S2的一种可选实现方法流程图。
具体实施方式
以下将参照附图更详细地描述本公开。在各个附图中，相同的元件采用类似的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分并没有都按比例绘制。此外，在图中可能未示出某些公知的部分。
在下文中描述了本公开的许多特定的细节，例如部件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术，以便更清楚地理解本公开。但正如本领域的技术人员能够理解的那样，可以不按照这些特定的细节来实现本公开。
本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。两个结构“连接”或者“相连”等类似的词语不仅包括两个结构直接接触实现连接，也可以包括两个结构通过其他结构实现间接连接。
本公开中的晶体管可以为薄膜晶体管或场效应晶体管或其他特性相同的开关器件。晶体管一般包括三个极：栅极、源极和漏极，晶体管中的源极和漏极在结构上是对称的，根据需要两者是可以互换的。在本公开中，控制极是指晶体管的栅极，第一极和第二极中的一者为源极，另一者为漏极。
另外，本公开中范围A～B的表述方式中，限定的范围包括A和B两个端点值。
此外，本公开实中所描述的两个结构同层设置是指该两个结构是基于同一材料薄膜层进行图案化所形成；也就是说，可以通过对同一材料薄膜层进行图案化工艺以同时制得该两个结构。
图1A为本公开实施例提供的显示面板的一种结构示意图。图1B为本公开实施例提供的显示面板的另一种结构示意图。如图1A和1B所示，该显示面板包括：第一显示基板1、第二显示基板2、液晶层4和隔垫物3，第一显示基板1与第二显示基板2相对设置，液晶层4和隔垫物3位于第一显示基板1与第二显示基板2之间；隔垫物3的材料包括无机材料。
与相关技术中隔垫物3采用有机材料所不同，本公开实施例中的隔垫物3采用无机材料，基于无机材料的刻蚀工艺(可以为干法刻蚀工艺，也可以为湿法刻蚀工艺)制程能力，可制备出高精细隔垫物3(Fine Photo Spacer，简称FPS)，隔垫物3的最小宽度能够小于或等于4um。例如，隔垫物3的最小宽度为3.5um、3um、2.5um、2um或2um以下，可根据实际需要进行设定，此时用于对隔垫物3及其周边区域进行遮挡的黑矩阵部分的最小宽度也能够相应减小，从而有利于提升产品开口率。在实际应用中，在显示面板为高分辨率(分辨率大于或等于2000ppi)显示面板时，采用有机材料制备隔垫物3时对应的产品开口率约为40％，而采用无机材料制备隔垫物3且使得隔垫物3的最小尺寸在2um左右时产品开口率可提升至70％。
在一些实施例中，隔垫物3的厚度在0.02um～1.5um；具体可根据实际需要进行设定。
此外，采用无机材料来制备隔垫物3，能够对隔垫物3的坡度角(Profile)进行精准控制。在一些实施例中，隔垫物3的坡度角在20°～90°。
在一些实施例中，无机材料包括：无机绝缘材料或金属材料。进一步可选地，无机材料包括：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少之一；金属材料包括：钼、铝、钛.铜中至少之一。
需要说明的是，本公开实施例中的隔垫物3可以为单层结构也可以为多层层叠结构，本公开对此不作限定，仅需保证隔垫物3的材料为无机材料即可。其中，对无机材料的刻蚀工艺可以为干法刻蚀工艺或湿法刻蚀工艺，视隔垫物所选用的具体无机材料而定。
本公开实施例中，隔垫物3的材料优选采用能够进行干法刻蚀的无机材料，干法刻蚀的各向异性刻蚀能力较强，所形成的图案具有较小的CD bias(底面CD与顶面CD之差),坡度角较大，有利于隔垫物3的小尺寸化。
本公开实施例中的第一显示基板1和第二显示基板2中之一为阵列基板，另一为对盒基板，其中对盒基板具体可以为设置有彩膜层的彩膜基板。在本公开实施例描述中，将以第一显示基板1为阵列基板，第二显示基板2为彩膜基板为例进行示例性描述。其中，阵列基板包括有第一衬底基板11和驱动功能层12(一般包括多层金属材料层和多层绝缘层)，彩膜基板包括有第二衬底基板21和显示功能层22(一般包括彩膜层和透明保护层)。
图1A中示例性画出了隔垫物3形成于第一显示基板1上的情况，图1B中示例画出了隔垫物3形成于第二显示基板2上的情况。
图2A为本公开实施例提供的显示面板的又一种结构示意图。图2B为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。如图2A和2B所示，与前面实施例中不同的是，在一些实施例中，隔垫物3形成于第一显示基板1上(图2A中所示)，第一显示基板1与隔垫物3之间形成有第一缓冲层5；或者，隔垫物3形成于第二显示基板2上(图2B中所示)，第二显示基板2与隔垫物3之间形成有第一缓冲层5。
其中，第一缓冲层5的材料可以为无机绝缘材料，例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少之一；第一缓冲层5的材料也可以为有机绝缘材料，例如透明树脂材料。在本公开中，由于隔垫物3是采用刻蚀工艺(尤其是采用干法刻蚀工艺时)进行制备，故在制备隔垫物3的过程中可能会对位于隔垫物3下方的第一显示基板1或第二显示基板2产生误刻蚀，从而导致第一显示基板1或第二显示基板2出现异常。为有效解决该技术手段，在本公开实施例中，可在隔垫物3与第一显示基板1或第二显示基板2之间设置第一缓冲层5，以在隔垫物3制备过程中对位于隔垫物3下方的第一显示基板1或第二显示基板2进行保护。此外，在第一显示基板1或第二显示基板2表面设置第一缓冲层5，该第一缓冲层5也可以起到一定的平坦化作用。
在一些实施例中，隔垫物3形成于第一显示基板1上(图2A中所示)，隔垫物3背向第一显示基板1的一侧形成有覆盖隔垫物3的侧面以及隔垫物3背向第一显示基板1一侧表面的第二缓冲层6；或者，隔垫物3形成于第二显示基板2上，隔垫物3背向第二显示基板2的一侧形成有覆盖隔垫物3的侧面以及隔垫物3背向第二显示基板2一侧表面的第二缓冲层6。
其中，第二缓冲层6的材料可以为无机绝缘材料，例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少之一。在本公开中，由于隔垫物3是会伸入至液晶层4中，当隔垫物3采用金属材料制备时，隔垫物3会对液晶盒内电场产生一定影响；为有效降低金属材料的隔垫物3对液晶盒内电场的影响，在本公开实施例中在隔垫物3的侧面以及隔垫物3远离所处显示基板的一侧表面用第二缓冲层6的覆盖，可以有效降低、甚至完全消除金属材料的隔垫物3对液晶盒内电场的影响。
需要说明的是，图2A和图2B中仅示例性画出了显示面板中同时设置第一缓冲层5和第二缓冲的情况；本领域技术人员应该知晓的是，显示面板中仅包括第一缓冲层5而不包括第二缓冲层6，或者显示面板中仅包括第二缓冲层6而不包括第一缓冲层5的情况，该两种情况也应属于本公开的保护范围。
图3A为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。图3B为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。图3C为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。图3D为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。如图3A至图3D所示，与前面实施例中不同的是，在本公开实施例中显示面板内还设置有与隔垫物3相对应的基台7，基台7与对应的隔垫物3在第一显示基板1上的正投影存在交叠，基台7的材料包括有机材料。
在一些实施例中，基台7的厚度大于或等于0.8um。
在本公开实施例中，由于隔垫物3采用无机材料制备，因此隔垫物3的弹性较差，隔垫物3受到较大按压力时容易划伤显示基板。为有效改善该问题，在本公开实施例中针对各隔垫物3设置有对应的有机材料基台7，从而能够有效提升隔垫物3所在区域处的弹性性能，防止隔垫物3对显示基板造成损伤。
图3A至图3D中均示例性画出了隔垫物3和基台7分别形成于不同显示基板上的情况；其中，图3A和图3C示例性画出了隔垫物3形成于第一显示基板1上且基台7形成于第二显示基板2上，图3B和图3D示例性画出了隔垫物3形成于第二显示基板2上且隔垫物3形成于第二显示基板2上。
图4A为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。图4B为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。图4C为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。图4D为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。如图4A和图4D所示，与前面实施例中隔垫物3和基台7分别形成于不同的显示基板上所不同，在图4A至图4D所示情况中隔垫物3和基台7形成于同一显示基板上。其中，图4A和图4C均示例性画出隔垫物3和基台7同时形成于第一显示基板1上，隔垫物3位于对应基台7背向第一显示基板1的一侧；图4B和图4D均示例性画出隔垫物3和基台7同时形成于第二显示基板2上，隔垫物3位于对应基台7背向第二显示基板2的一侧。
如图3A至图4D，在一些实施例中，隔垫物3在第一显示基板1上的正投影位于对应的基台7在第一显示基板1上的正投影所覆盖区域之内。
如图4A和图4B所示，在一些实施例中，隔垫物3和基台7同时形成于第一显示基板1上或同时形成于第二显示基板2上，隔垫物3与对应的基台7相接触。
如图4C和图4D所示，在一些实施例中，隔垫物3和基台7同时形成于第一显示基板1上或同时形成于第二显示基板2上，隔垫物3与对应的基台7之间设置有第一缓冲层5。此时，第一缓冲层5可用在隔垫物3制备过程中对位于隔垫物3下方的基台7和显示基板进行保护。
图5为本公开实施例提供的显示面板的再一种结构示意图。如图5所示，与前面实施例中不同的是，图5所示显示面板还包括：与隔垫物3相对应的遮光图形8，隔垫物3在第一显示基板1上的正投影位于对应的遮光图形8在第一显示基板1上的正投影所覆盖区域之内；遮光图形8与隔垫物3均形成于第一显示基板1上，遮光图形8位于隔垫物3背向第二显示基板2的一侧。
遮光图形8可用于对隔垫物3及其周边区域进行遮挡，有效改善隔垫物3周边漏光的问题。
在一些实施例中，遮光图形8和隔垫物3均位于第一显示基板1朝向第二显示基板2的一侧，遮光图形8对对应的隔垫物3相接触。
在一些实施例中，遮光图形8的材料包括金属材料，隔垫物3的材料包括无机绝缘材料。
在本公开实施例中，当隔垫物3采用金属材料制备时虽能实现小CD，但是也会存在一些问题：1)用于精细化干刻的金属材料薄膜无法做的较厚，即金属材料隔垫物3的高度具有较小的可选范围，金属材料隔垫物3的高度偏矮，对于一些大盒厚的场景难以满足支撑需求；2)金属材料薄膜的干刻工艺过程中，对于坡度角的控制难度较大，工艺难度偏高；3)金属材料隔垫物3的边缘锋利程度较高，容易划伤显示基板；4)金属材料隔垫物3会对液晶盒内电场产生一定影响，故需要覆盖第二缓冲层6来减弱隔垫物3对液晶分子的影响。
而当隔垫物3采用无机绝缘材料时可以有效改善、甚至完全避免上述问题。具体地，用于精细化干刻的无机绝缘材料薄膜可以做的相对较厚，无机绝缘材料隔垫物3的高度具有较大的可选范围，无机绝缘材料隔垫物3的高度可以较高，能够满肚大盒厚场景下的支撑需求；另外，无机绝缘材料薄膜的干刻工艺过程中，对于坡度角的控制难度较小，工艺难度较低，适用于实际生产；此外，无机绝缘材料的边缘锋利程度较低，划伤基板的风险较小；更重要的是，无机绝缘材料薄膜隔垫物3不会对液晶盒内电场产生影响，因此无需用第二缓冲层6去对隔垫物3进行覆盖，有利于简化结构、减少制备工序。
在本公开实施例中，当隔垫物3采用无机绝缘材料制备时，位于隔垫物3下方的遮光图形8可以采用金属材料进行制备。其中，遮光图形8的尺寸相对较大，故可以基于金属材料薄膜的湿法刻蚀工艺来制备出遮光图形8，湿法刻蚀工艺的刻蚀速率快、刻蚀效率高。本公开实施例中的遮光图形8其一方面可以对隔垫物3及其周边区域进行遮光，还可以避免隔垫物3划伤第一显示基板1以起到保护第一显示基板1的作用。
在一些实施例中，遮光图形8与第一显示基板1之间设置有第一缓冲层5，第一缓冲层5的材料可以为无机绝缘材料，也可以为有机绝缘材料；第一缓冲层5起到保护第一显示基板1的作用。当然，在实际应用中，也可以根据实际需要不设置该第一缓冲层5，该情况也属于本公开的保护范围。
参见图5所示，在一些实施例中第二显示基板2上形成有基台7，对于基台7的相关描述可参见前面实施例中的内容，此处不再赘述。
需要说明的是，图5中隔垫物3和遮光图形8也可以设置在第二显示基板2上；此种情况，未给出相应附图。
图6为本公开实施例中显示面板的再一种电路结构示意图。如图6所示，与图5中所示情况不同的是，图6所示情况中的第一显示基板1为阵列基板，阵列基板包括：第一衬底基板11和位于第一衬底基板11靠近第二显示基板2一侧的驱动功能层12，驱动功能层12包括：至少一层金属材料层，金属材料层包括金属图形；隔垫物3位于驱动功能层12远离衬底基板的一侧；遮光图形8位于驱动功能层12内的至少一层金属材料层。
也就是说，在图6所示方案中，可以基于现有的阵列基板制备工艺中某一层金属材料层的制备工序以同步制备出遮光图形8，故无需为遮光图形8增设额外的制备工序，有利于减少生产工序。
在一些实施例中，驱动功能层12内的金属材料层包括栅线50所在的金属材料层和数据线51所在的金属材料层；本公开实施例中可以是各遮光图形8位于栅线50所在金属材料层，或者是各遮光图形8位于数据线51所在金属材料层，还或者是部分遮光图形8位于栅线50所在金属材料层且另一部分遮光图形8位于数据线51所在金属材料层，这些情况均应属于本公开的保护范围。
图7A为本公开实施例中显示面板的一种电路结构示意图。图7B为本公开实施例中显示面板上部分区域的一种俯视示意图。图8A为图7B中A-A'向的一种截面示意图。图8B为图7B中B-B’向的一种截面示意图。图8C为图7B中C-C'向的一种截面示意图。图8D为图7B中D-D’向的一种截面示意图。如图7A至图8D所示，在一些实施例中，驱动功能层12包括：沿远离第一衬底基板11方向依次设置第一金属材料层121、第一绝缘层122、第二金属材料层123、第二绝缘层124、第三金属材料层125；第一金属材料层121包括：沿第一方向X延伸的多条栅线50和沿第一方向X延伸的多条第一公共电压线54；第二金属材料层123包括：沿第二方向Y延伸的多条数据线51；第三金属材料层125包括：沿第二方向Y延伸的多条第二公共电压线55，第二公共电压线55与第一公共电压线54电连接。多条栅线50和多条数据线51限定出沿第一方向X和第二方向Y呈阵列排布的多个亚像素区Pix，任意在第一方向X或第二方向Y相邻的两个亚像素区Pix间隔设置，任意在第一方向X或第二方向Y相邻的两个亚像素区Pix之间的区域为走线区，栅线50、数据线51、第一公共电压线54、第二公共电压线55均位于走线区。其中，亚像素区Pix内一般设置有薄膜晶体管52和像素电极53。
在一些实施例中，第二公共电压走线在第一显示基板1上的正投影与数据线51在第一显示基板1上的正投影沿着第一方向X交替设置。
在一些实施例中，第二公共电压线55和/或数据线51复用作遮光图形8。通过将第二公共电压线55和/或数据线51复用作遮光图形8复用做遮光图形8，即无需额外增设遮光图形8，有利于提升产品开口率。此时，隔垫物3可以设置在第二公共电压线55搜覆盖区域和/或数据线51所覆盖区域。
需要说明的是，图7A～图8D中示例性画出了第二公共电压线55和数据线51均复用作遮光图形8的情况，该情况仅起到示例性作用，其不会对本公开的技术方案产生限制。在一些实施例中，也可以是仅第二公共电压线55复用作遮光图形8，或者是仅数据线51复用作遮光图形8。
在一些实施例中，第二公共电压线55复用作遮光图形8，隔垫物3包括与第二公共电压线55相对应的第一隔垫物3，第一隔垫物3呈条形且沿第二方向Y延伸。
在一些实施例中，数据线51复用作遮光图形8，隔垫物3包括与数据线51相对应的第二隔垫物3，第二隔垫物3呈条形且沿第二方向Y延伸。
进一步可选地，在一些实施例中，显示基板还包括：多个基台7，基台7呈条形且沿第一方向X延伸，基台7的材料包括有机材料，基台7在第一显示基板1上的正投影位于走线区内；基台7在第一显示基板1上的正投影，与至少一个第一隔垫物3在第一显示基板1上的正投影或至少一个第二隔垫物3在第一显示基板1上的正投影存在交叠。其中，基台7可以形成在第二显示基板2(图8C和图8D中所示)上，也可以形成在第一显示基板1上，两种情况均应属于本公开的保护范围。
另外，图8A～图8D中的第一缓冲层5也可以根据实际需要而被选择性的去除。
需要说明的是，图7A和图7B中所示显示面板中第一显示基板1为双栅线(DualGate)型显示基板的情况(每一行亚像素区Pix对应不同的两条栅线50且该两条栅线50分别位于该行亚像素区Pix的两侧)该情况也仅起到示例作用，其不会对本公开的技术方案产生限制。在本公开实施例中，对于栅线50、数据线51和亚像素区Pix的设置方式，本公开也不作限定。
图9为本公开实施例中显示面板上两个不同区域的一种结构示意图。如图9所示，为实现主隔垫物(显示面板未受力状态下，主隔垫物的两端分别与两侧的显示基板均相接触)和辅隔垫物(显示面板未受力状态下，辅隔垫物的一端与显示基板相接触，另一端与显示基板不接触)的设计。在一些实施例中，显示面板上至少两个隔垫物3的高度不同，其中主隔垫物为高度相对较高的隔垫物3，辅隔垫物为高度相对较低的隔垫物3。
需要说明的是，在图9所示情况中，各隔垫物3所对应的基台7的高度均相同。
图10为本公开实施例中显示面板上两个不同区域的另一种结构示意图。如图10所示，与图9中对隔垫物3的高度进行差异化设计以划分主隔垫物和辅隔垫物所不同，在图10所示方案中所有隔垫物3的高度均相同，但是存在至少两个隔垫物3所对应的基台7的高度不同。显示面板未受力状态下，与高度较高的基台7相接触的隔垫物3作为主隔垫物，与高度较低的基台7未相接触的隔垫物3作为辅隔垫物。
当然，在本公开实施例中，可以同时对显示面板中的基台7和隔垫物3的高度进行差异化设计，来实现主隔垫物和辅隔垫物的划分，此种情况也应属于本公开的保护范围。
另外，当隔垫物3与基台7位于同一显示基板上时，也可以对隔垫物3和/或基台7的高度进行差异化设计，来实现主隔垫物和辅隔垫物的划分，此种情况也应属于本公开的保护范围。此处不再一一举例描述。
需要说明的是，上述不同实施例中的不同结构之间可以相互组合，这种通过组合所得到的新技术方案，也应属于本公开的保护范围。
本实施例中的显示面板可以为扭曲向列(Twisted Nematic，简称TN)型液晶显示面板、面内转换(In-Plane Switching，简称IPS)型液晶显示面板、边缘场开关(FringeField Switching，简称FFS)型液晶显示面板、高级超维场转换(Advanced SuperDimension Switch，简称ADS)型液晶显示面板、超高级超维场转换(High Advanced SuperDimension Switch，简称HADS)型液晶显示面板中的任意一种。其中，当第一显示基板为TN型液晶显示面板中阵列基板时，该第一显示基板上未设置有公共电极；当第一显示基板为IPS型液晶显示面板、FFS型液晶显示面板、ADS型液晶显示面板或HADS型液晶显示面板中的阵列基板显示基板时，该第一显示基板上设置有公共电极。本公开的技术方案对于显示面板的具体类型不作限定。
基于同一发明构思，本公开实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括显示面板，其中该显示面板采用前面实施例所提供的显示面板，对于该显示面板的具体描述，可参见前面实施例中的内容，此处不再赘述。
本公开实施例中的显示装置可以是液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。本公开实施例提供的显示装置，具有本公开实施例提供的显示用电极的有益效果，具体可以参考上面各实施例对于显示用电极的具体说明，此处不再赘述。
基于同一发明构思，本公开实施例还提供了一种显示面板的制备方法，可用于制备前面实施例所提供的显示面板。
图11为本公开实施例提供的显示面板的制备方法的一种流程图。图12为本公开实施例中步骤S2的一种可选实现方法流程图。如图11和图12所示，该制备方法包括：
步骤S1、分别形成第一显示基板和第二显示基板。
步骤S2、在第一显示基板或第二显示基板的一侧形成无机材料薄膜，并通过刻蚀工艺对无机材料薄膜进行图案化以得到隔垫物的图形。
步骤S3、对第一显示基板和第二显示基板进行对盒，隔垫物位于第一显示基板与第二显示基板之间，第一显示基板与第二显示基板之间填充有液晶层。
对于步骤S1～步骤S3的具体描述可参见前面实施例中的内容，此处不再赘述。
在一些实施例中，显示面板还包括：与隔垫物相对应的遮光图形，隔垫物在第一显示基板上的正投影位于对应的遮光图形在第一显示基板上的正投影所覆盖区域之内；遮光图形与隔垫物均形成于第一显示基板上，遮光图形位于隔垫物背向第二显示基板的一侧；遮光图形和隔垫物均位于第一显示基板朝向第二显示基板的一侧，遮光图形对对应的隔垫物相接触(例如图5中所示)。
参见图12所示，在一些实施例中，步骤S2包括：
步骤S201、在第一显示基板的一侧依次形成遮光材料薄膜和无机材料薄膜。
可选地，遮光材料薄膜的材料为金属材料，无机材料薄膜的材料包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少之一。
步骤S202、在无机材料薄膜远离第一显示基板的一侧形成光刻胶。
步骤S203、对光刻胶进行掩膜、曝光、显影，以得到光刻胶的第一图案。
步骤S204、根据具有第一图案的光刻胶对无机材料薄膜进行刻蚀以得到隔垫物的初步图形，以及对遮光材料薄膜进行刻蚀以得到遮光图形。
其中，当无机材料薄膜的材料为无机绝缘材料时，对无机材料薄膜进行刻蚀的工艺可以为干法刻蚀工艺；当遮光材料薄膜的材料为金属材料时，对遮光材料薄膜进行刻蚀的工艺可以为湿法刻蚀工艺。
步骤S205、对具有第一图案的光刻胶进行灰化处理，以得到光刻胶的第二图案。
步骤S206、根据具有第二图案的光刻胶对无机材料薄膜进行刻蚀以得到隔垫物的最终图形。
在步骤S206中，可以再次通过干法刻蚀工艺来对无机材料薄膜进行刻蚀，以得到隔垫物的最终图形。需要说明的是，为避免步骤S206的刻蚀工艺将遮光图形破坏，用于遮光图形的材料选用铜、银等耐干法刻蚀金属。
通过步骤S206所制备出的隔垫物必然位于遮光图形所处区域内且隔垫物的尺寸小于对应的遮光图形的尺寸。
步骤S207、将剩余的光刻胶剥离。
通过上述步骤可见，可以基于一张掩膜板来制备遮光图形和隔垫物，可以有效减少掩膜板的使用数量、降低成本，同时也能够实现遮光图形与隔垫物的自对准。针对遮光图形和隔垫物的刻蚀方式视遮光图形和隔垫物所使用的具体材料决定，不做限制。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (18)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：第一显示基板、第二显示基板、液晶层和隔垫物，所述第一显示基板和所述第二显示基板相对设置，所述液晶层和所述隔垫物位于所述第一显示基板与所述第二显示基板之间；所述隔垫物的材料包括无机材料。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机材料包括：无机绝缘材料或金属材料。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述无机材料包括：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少之一；
所述金属材料包括：钼、铝、钛、铜中至少之一。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔垫物形成于所述第一显示基板上，所述第一显示基板与所述隔垫物之间形成有第一缓冲层；
或者，所述隔垫物形成于所述第二显示基板上，所述第二显示基板与所述隔垫物之间形成有第一缓冲层。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔垫物形成于所述第一显示基板上，所述隔垫物背向所述第一显示基板的一侧形成有覆盖所述隔垫物的侧面以及所述隔垫物背向所述第一显示基板一侧表面的第二缓冲层；
或者，所述隔垫物形成于所述第二显示基板上，所述隔垫物背向所述第二显示基板的一侧形成有覆盖所述隔垫物的侧面以及所述隔垫物背向所述第二显示基板一侧表面的第二缓冲层。
6.根据权利要求1至5中任一所述的显示面板，其特征在于，还包括：与所述隔垫物相对应的基台，所述基台与对应的所述隔垫物在所述第一显示基板上的正投影存在交叠，所述基台的材料包括有机材料；
所述隔垫物和所述基台中之一形成于所述第一显示基板上，另一形成与所述第二显示基板上；
或者，所述隔垫物和所述基台均形成于所述第一显示基板上，所述隔垫物位于对应所述基台背向所述第一显示基板的一侧；
或者，所述隔垫物和所述基台均形成于所述第二显示基板上，所述隔垫物位于对应所述基台背向所述第二显示基板的一侧。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述隔垫物在所述第一显示基板上的正投影位于对应的所述基台在所述第一显示基板上的正投影所覆盖区域之内。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述隔垫物和所述基台同时形成于所述第一显示基板上或同时形成于所述第二显示基板上；
所述隔垫物与对应的所述基台相接触；或者，所述隔垫物与对应的所述基台之间设置有第一缓冲层。
9.根据权利要求1至5中任一所述的显示面板，其特征在于，还包括：与所述隔垫物相对应的遮光图形，所述隔垫物在所述第一显示基板上的正投影位于对应的所述遮光图形在所述第一显示基板上的正投影所覆盖区域之内；
所述遮光图形与所述隔垫物均形成于所述第一显示基板上，所述遮光图形位于所述隔垫物背向所述第二显示基板的一侧。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述遮光图形和所述隔垫物均位于所述第一显示基板朝向所述第二显示基板的一侧，所述遮光图形对对应的所述隔垫物相接触。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述遮光图形的材料包括金属材料，所述隔垫物的材料包括无机绝缘材料。
12.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示基板为阵列基板，所述阵列基板包括：第一衬底基板和位于第一衬底基板靠近所述第二显示基板一侧的驱动功能层，所述驱动功能层包括：至少一层金属材料层，所述金属材料层包括金属图形；
所述隔垫物位于所述驱动功能层远离所述衬底基板的一侧；
所述遮光图形位于所述驱动功能层内的至少一层所述金属材料层。
13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述驱动功能层包括：沿远离所述第一衬底基板方向依次设置第一金属材料层、第一绝缘层、第二金属材料层、第二绝缘层、第三金属材料层；
所述第一金属材料层包括：沿第一方向延伸的多条栅线和沿第一方向延伸的多条第一公共电压线；
所述第二金属材料层包括：沿第二方向延伸的多条数据线；
所述第三金属材料层包括：沿第二方向延伸的多条第二公共电压线，所述第二公共电压线与所述第一公共电压线电连接，
所述第二公共电压线和/或所述数据线复用作所述遮光图形。
14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述第二公共电压线复用作所述遮光图形，所述隔垫物包括与所述第二公共电压线相对应的第一隔垫物，所述第一隔垫物呈条形且沿所述第二方向延伸；
和/或，所述数据线复用作所述遮光图形，所述隔垫物包括与所述数据线相对应的第二隔垫物，所述第二隔垫物呈条形且沿所述第二方向延伸。
15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，多条所述栅线和多条所述数据线限定出沿所述第一方向和所述第二方向呈阵列排布的多个亚像素区，任意在所述第一方向或第二方向相邻的两个所述亚像素区间隔设置；
任意在所述第一方向或第二方向相邻的两个所述亚像素区之间的区域为走线区，所述栅线、所述数据线、所述第一公共电压线、所述第二公共电压线均位于所述走线区；
所述显示基板还包括：多个基台，所述基台呈条形且沿所述第一方向延伸，所述基台的材料包括有机材料，所述基台在所述第一显示基板上的正投影位于所述走线区内；
所述基台在所述第一显示基板上的正投影，与至少一个所述第一隔垫物在所述第一显示基板上的正投影或至少一个所述第二隔垫物在所述第一显示基板上的正投影存在交叠。
16.一种显示装置，其特征在于，包括：如上述权利要求1至15中任一所述的显示面板。
17.一种如权利要求1至15中任一所述显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
分别形成第一显示基板和第二显示基板；
在所述第一显示基板或所述第二显示基板的一侧形成无机材料薄膜，并通过刻蚀工艺对所述无机材料薄膜进行图案化以得到隔垫物的图形；
对所述第一显示基板和所述第二显示基板进行对盒，所述隔垫物位于所述第一显示基板与所述第二显示基板之间，所述第一显示基板与所述第二显示基板之间填充有液晶层。
18.根据权利要求17所述的制备方法，其特征在于，所述显示面板为权利要求10所述显示面板，在所述第一显示基板或所述第二显示基板的一侧形成无机材料薄膜，并通过刻蚀工艺对所述无机材料薄膜进行图案化以得到隔垫物的图形的步骤具体包括：
在所述第一显示基板的一侧依次形成遮光材料薄膜和无机材料薄膜；
在所述无机材料薄膜远离所述第一显示基板的一侧形成光刻胶；
对光刻胶进行曝光、显影，以得到光刻胶的第一图案；
根据具有第一图案的光刻胶对所述无机材料薄膜进行刻蚀以得到隔垫物的初步图形，以及对所述遮光材料薄膜进行刻蚀以得到所述遮光图形；
对具有第一图案的光刻胶进行灰化处理，以得到光刻胶的第二图案；
根据具有第二图案的光刻胶对所述无机材料薄膜进行刻蚀以得到隔垫物的最终图形。
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