CN115755769B - 提高pcba制造aoi良率的方法 - Google Patents

提高pcba制造aoi良率的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115755769B
CN115755769B CN202211661693.XA CN202211661693A CN115755769B CN 115755769 B CN115755769 B CN 115755769B CN 202211661693 A CN202211661693 A CN 202211661693A CN 115755769 B CN115755769 B CN 115755769B
Authority
CN
China
Prior art keywords
aoi
deviation vector
patch
pcba
chip mounter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202211661693.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN115755769A (zh
Inventor
黄达林
刘胜
邓银
李跃升
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Xiaoming Industrial Internet Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Xiaoming Industrial Internet Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Xiaoming Industrial Internet Co ltd filed Critical Shenzhen Xiaoming Industrial Internet Co ltd
Priority to CN202211661693.XA priority Critical patent/CN115755769B/zh
Publication of CN115755769A publication Critical patent/CN115755769A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115755769B publication Critical patent/CN115755769B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

Landscapes

  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)

Abstract

本发明具体涉及一种提高PCBA制造AOI良率的方法,其包括步骤有:在PCBA生产线上统计一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果,由一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数;由AOI设备的对应检测平均偏差矢量参数计算PCBA生产中贴片的偏差量,根据PCBA生产中贴片的偏差量对贴片机设置参数修改。

Description

提高PCBA制造AOI良率的方法
技术领域
本发明具体涉及一种提高PCBA制造AOI良率的方法。
背景技术
pcba的制造过程中,现有技术一般通过AOI技术来提高pcba的制造良率,该类技术一般获取PCB板在贴装时的贴片机的设置参数,然后获取AOI设备在检测后得到的检测参数,通过对比贴片机的设置参数和AOI设备检测参数,进而得到调整的方案,一般的调整方案为对于切片机设置参数进行调整的具体方案,比如说当检测参数表征出设置参数在某个平面方向上产生偏移,则调整方案具体为调整相应的反方向移动,使得偏移距离为零,通过这样来提高pcba制造的良率,但相关现有技术存在的问题在于,相关现有技术一般根据AOI设备的检测参数,实时的对切片机的设置参数进行调整。虽然能够做到实时的反馈,但实际上存在很多的问题,比如,一般贴片机的参数设置与实际的应用中会产生一定的误差,有些的误差为贴片机天然具有的误差,并且不能够被消除的。通常情况下,机器的误差在多批量的pcba生产中会越来越大,所以这才会导致贴片机设置参数即便非常正确,在某个平面方向上也可能产生偏离。现有技术通过这种实时的调整,一般也没有办法做到完全消除这种误差。反而增加了控制工序和控制时间。
所以根本上来讲,AOI设备所测量的误差(由生产时间和原始调整参数的随机性、加上绝对误差所决定的),多数情况下为随机误差,由于随机误差没有规律性,所以通过一次的调整一般很难修正贴片机的误差,更加不可能消除绝对误差,在此情况下,贴片机即便修改了参数之后,也会产生新的偏离,所以,这就会导致再通过AOI的检测参数对贴片机的设置参数进行修改时,往往需要循环往复的修改,并且效果不佳,本质在于消除随机误差没有意义,反而增加了控制工序和控制时间,不能从根本解决技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种提高PCBA制造AOI良率的方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:
提高PCBA制造AOI良率的方法包括步骤:在PCBA生产线上统计一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果,由一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数;由AOI设备的对应检测平均偏差矢量参数计算PCBA生产中贴片的偏差量,根据PCBA生产中贴片的偏差量对贴片机设置参数修改。
进一步,当,一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量,则计算的AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数指PCBA生产中贴片的水平面位置平均偏差矢量参数,设PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量为(mi,di),其中mi指第i个偏差矢量的长度,di为第i个偏差矢量的方向,di具体为角度值,则计算的平均偏差矢量参数为(
Figure 897808DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n,/>
Figure 282127DEST_PATH_IMAGE002
),其中n为i的最大值。
进一步,当,一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量,则计算PCBA生产中贴片的偏差量,具体为,当计算的平均偏差矢量参数为(
Figure 593023DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n,/>
Figure 394757DEST_PATH_IMAGE002
),计算/>
Figure 740287DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n值为x,计算/>
Figure 218542DEST_PATH_IMAGE002
值为a,则贴片的在水平面的水平方向偏差量为x,在水平面与水平方向垂直的方向贴片的偏差量为x·tana。
进一步,提高PCBA制造AOI良率的方法还包括步骤有:统计多个周期中所有的平均偏差矢量参数(xj,aj),计算平均偏差矢量参数关于时间的变量值,由该平均偏差矢量参数关于时间的变量值表征贴片机的绝对误差值;由贴片机的绝对误差值估测一定周期后贴片机的偏差量,根据估测的一定周期后贴片机的偏差量对贴片机的设置参数预测性修改。
进一步,当所有平均偏差矢量参数为(xj,aj),其中j为周期序号,xj为第j个周期的
Figure 16734DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n,aj为第j个周期的/>
Figure 950055DEST_PATH_IMAGE002
,平均偏差矢量参数关于时间的变量值为(
Figure 25458DEST_PATH_IMAGE003
,/>
Figure 815560DEST_PATH_IMAGE004
),其中m为j的最大取值。
进一步,还由该关于时间的变量值表征贴片机的绝对误差值指:在每一个周期贴片机的贴片工作会存在绝对误差值,绝对误差值指在水平面的水平方向每一个周期贴片的方向误差为
Figure 225681DEST_PATH_IMAGE003
,在水平面与水平方向垂直方向每一个周期贴片的方向误差为(
Figure 697114DEST_PATH_IMAGE003
)·tan(/>
Figure 751657DEST_PATH_IMAGE004
)。
进一步,对贴片机的设置参数预测性修改,指在贴片机还未出现偏差量时即对贴片机设置参数修改。
与现有技术相比,有益效果:
本申请通过多次或一定周期内的AOI检测参数来对贴片机偏离情况进行综合计算,并在此基础上计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数(可以等效为一定周期内偏差的平均数值),进而对贴片机的设置参数进行调整,通过这种调整方式,能够达到一次调整长期不需要调整的的效果,并不需要现有技术中类似的循环往复的调整,既节省了成本,也减少了工序。本申请通过计算出贴片机的绝对误差将在后续的调整中考虑到贴片机的绝对误差。即,在计算新的控制参数时,将贴片机的绝对误差考虑进去,通过这样可以制定出更加长期、更加优化的一种控制参数来对贴片机进行设置,比如本申请中的由贴片机的绝对误差值估测一定周期后贴片机的偏差量,根据估测的一定周期后贴片机的偏差量对贴片机的设置参数预测性修改能够做到在贴片机还未出现偏差量时即对贴片机设置参数修改,避免贴片机出现的偏差超过阈值,这样可以做到贴片机工作中即便会出现随机偏差,但随机偏差经过计算也总能够在阈值以下,不会对PCBA制造有影响,彻底提高产品良率。
附图说明
图1为本申请提高PCBA制造AOI良率的方法流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在一种主要的实施例中,本申请公开了提高PCBA制造AOI良率的方法,如图1,该提高PCBA制造AOI良率的方法包括步骤有:
S0、在PCBA生产线上统计一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果(检测结果数量大于2个),由一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数;S1、由AOI设备的对应检测平均偏差矢量参数计算PCBA生产中贴片的偏差量,根据PCBA生产中贴片的偏差量对贴片机设置参数修改。
本申请通过多次或一定周期内的AOI检测参数来对贴片机偏离情况进行综合计算,并在此基础上计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数(可以等效为一定周期内偏差的平均数值),进而对贴片机的设置参数进行调整,通过这种调整方式,能够达到一次调整长期不需要调整的的效果,并不需要现有技术中类似的循环往复的调整,既节省了成本,也减少了工序。在调整的基础上贴片机的贴片良率提高,进而提高PCBA制造AOI良率。
具体的,本申请公开了提高PCBA制造AOI良率的方法,该提高PCBA制造AOI良率的方法包括步骤有:
S0、在PCBA生产线上统计一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果,由一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数;
S0其中,当,一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量,则计算的AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数指PCBA生产中贴片的水平面位置平均偏差矢量参数,设PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量为(mi,di),其中mi指第i个偏差矢量的长度,di为第i个偏差矢量的方向,di具体为角度值,则计算的平均偏差矢量参数为(
Figure 853606DEST_PATH_IMAGE005
cos(di)/n,/>
Figure 626390DEST_PATH_IMAGE006
),其中n为i的最大值;
S1、由AOI设备的对应检测平均偏差矢量参数计算PCBA生产中贴片的偏差量,根据PCBA生产中贴片的偏差量对贴片机设置参数修改;
S1其中,当,一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量,则计算PCBA生产中贴片的偏差量,具体为,当计算的平均偏差矢量参数为(
Figure 635934DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n,/>
Figure 935197DEST_PATH_IMAGE002
),计算/>
Figure 67101DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n值为x,计算/>
Figure 202547DEST_PATH_IMAGE002
值为a,则贴片的在水平面的水平方向偏差量为x,在水平面与水平方向垂直的方向贴片的偏差量为x·tana。
比如,x=
Figure 15783DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n;x·tana=(/>
Figure 310498DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n)·tan(/>
Figure 740867DEST_PATH_IMAGE002
)。
可选地,在一种优选实施例中,如图1,本申请公开了提高PCBA制造AOI良率的方法,还包括步骤有:S20、统计多个周期中所有的平均偏差矢量参数(xj,aj),计算平均偏差矢量参数关于时间的变量值,由该平均偏差矢量参数关于时间的变量值表征贴片机的绝对误差值;S21、由贴片机的绝对误差值估测一定周期后贴片机的偏差量,根据估测的一定周期后贴片机的偏差量对贴片机的设置参数预测性修改。
具体的,S20、统计多个周期中所有的平均偏差矢量参数(xj,aj),计算平均偏差矢量参数关于时间的变量值,由该平均偏差矢量参数关于时间的变量值表征贴片机的绝对误差值;
S20其中,当所有平均偏差矢量参数为(xj,aj),其中j为周期序号,xj为第j个周期的
Figure 222663DEST_PATH_IMAGE001
cos(di)/n(即当,一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量时,所计算的平均偏差矢量参数的一个分量),aj为第j个周期的/>
Figure 839590DEST_PATH_IMAGE002
(即当,一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量时,所计算的平均偏差矢量参数的另外一个分量),平均偏差矢量参数关于时间的变量值为(/>
Figure 598598DEST_PATH_IMAGE007
,/>
Figure 337884DEST_PATH_IMAGE008
),其中m为j的最大取值,由该关于时间的变量值表征贴片机的绝对误差值指:在每一个周期贴片机的贴片工作会存在绝对误差值,绝对误差值指在水平面的水平方向每一个周期贴片的方向误差为/>
Figure 510239DEST_PATH_IMAGE003
,在水平面与水平方向垂直方向每一个周期贴片的方向误差为(/>
Figure 586649DEST_PATH_IMAGE003
)·tan(/>
Figure 590377DEST_PATH_IMAGE004
)。
具体的,S21、由贴片机的绝对误差值估测一定周期后贴片机的偏差量,根据估测的一定周期后贴片机的偏差量对贴片机的设置参数预测性修改;S21其中对贴片机的设置参数预测性修改,指在贴片机还未出现偏差量时即对贴片机设置参数修改。
本申请通过计算出贴片机的绝对误差将在后续的调整中考虑到贴片机的绝对误差。即,在计算新的控制参数时,将贴片机的绝对误差考虑进去,通过这样可制定出更加长期、更加优化的一种控制参数来对贴片机进行设置,比如本申请中的由贴片机的绝对误差值估测一定周期后贴片机的偏差量,根据估测的一定周期后贴片机的偏差量对贴片机的设置参数预测性修改能够做到在贴片机还未出现偏差量时即对贴片机设置参数修改,避免贴片机出现的偏差超过阈值,这样,贴片机工作中即便会出现随机偏差,但随机偏差经过计算也总能够在阈值以下,不会对PCBA制造有影响,彻底提高产品良率。

Claims (3)

1.提高PCBA制造AOI良率的方法,其特征在于,包括步骤:在PCBA生产线上统计一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果,由一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果计算AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数;由AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数计算PCBA生产中贴片的偏差量,根据PCBA生产中贴片的偏差量对贴片机设置参数修改;
当一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量,则计算的AOI设备对应的检测平均偏差矢量参数指PCBA生产中贴片的水平面位置平均偏差矢量参数,设PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量为(mi,di),其中mi指第i个偏差矢量的长度,di为第i个偏差矢量的方向,di具体为角度值,则计算的平均偏差矢量参数为
Figure QLYQS_1
),其中n为i的最大值;
还包括步骤有:统计多个周期中所有的平均偏差矢量参数(Xj,aj),计算平均偏差矢量参数关于时间的变量值,由该平均偏差矢量参数关于时间的变量值表征贴片机的绝对误差值;由贴片机的绝对误差值估测一定周期后贴片机的偏差量,根据估测的一定周期后贴片机的偏差量对贴片机的设置参数预测性修改;
当所有平均偏差矢量参数为(Xj,aj),其中j为周期序号,Xj为第j个周期的
Figure QLYQS_2
,aj为第j个周期的/>
Figure QLYQS_3
,平均偏差矢量参数关于时间的变量值为(/>
Figure QLYQS_4
),其中m为j的最大取值。
2.根据权利要求1所述的提高PCBA制造AOI良率的方法,其特征在于,当一个周期内或若干次的所有AOI设备的检测结果为关于PCBA生产中贴片的水平面位置偏差矢量,则计算PCBA生产中贴片的偏差量,具体为,当计算的平均偏差矢量参数为
Figure QLYQS_5
),计算/>
Figure QLYQS_6
值为X,计算
Figure QLYQS_7
值为a,则贴片的在水平面的水平方向偏差量为X,在水平面与水平方向垂直的方向贴片的偏差量为X·tana。
3.根据权利要求1所述的提高PCBA制造AOI良率的方法,其特征在于,对贴片机的设置参数预测性修改,指在贴片机还未出现偏差量时即对贴片机设置参数修改。
CN202211661693.XA 2022-12-23 2022-12-23 提高pcba制造aoi良率的方法 Active CN115755769B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211661693.XA CN115755769B (zh) 2022-12-23 2022-12-23 提高pcba制造aoi良率的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211661693.XA CN115755769B (zh) 2022-12-23 2022-12-23 提高pcba制造aoi良率的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115755769A CN115755769A (zh) 2023-03-07
CN115755769B true CN115755769B (zh) 2023-06-30

Family

ID=85348660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202211661693.XA Active CN115755769B (zh) 2022-12-23 2022-12-23 提高pcba制造aoi良率的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115755769B (zh)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1956650A (zh) * 2005-10-28 2007-05-02 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 贴片机供料器校正系统及方法
JP2007287779A (ja) * 2006-04-13 2007-11-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品実装システムおよび搭載状態検査装置ならびに電子部品実装方法
WO2017168531A1 (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 株式会社ニコン 基板貼り合わせ装置および基板貼り合わせ方法
CN108882550A (zh) * 2018-08-27 2018-11-23 郑州云海信息技术有限公司 一种提高pcba制造aoi良率的方法
CN111761745B (zh) * 2020-06-01 2022-08-30 徐州鑫晶半导体科技有限公司 线切割机的晶向偏差检测方法、粘棒方法和存储介质
JP2022150461A (ja) * 2021-03-26 2022-10-07 株式会社リガク 公差誤差推定装置、方法、プログラム、再構成装置および制御装置
CN113300638B (zh) * 2021-04-24 2022-05-10 深圳市星火数控技术有限公司 一种多轴缝制设备多电机同步控制方法及系统
CN115308562A (zh) * 2021-05-08 2022-11-08 腾讯科技(深圳)有限公司 芯片测试方法及相关设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN115755769A (zh) 2023-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4490468B2 (ja) 半田印刷検査装置
CN110597787B (zh) 元件库的创建方法、创建装置、电子设备及存储介质
EP3038444B1 (en) Substrate inspecting method and substrate inspecting system using same
DE10296328T5 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Ätzselektivität
JP2021064803A (ja) 表面形状由来のオーバーレイの分解分析および分解分析を用いたオーバーレイ制御の向上
EP3348125B1 (de) Anlage und verfahren zur lötstellenüberprüfung
CN115755769B (zh) 提高pcba制造aoi良率的方法
CN110267437B (zh) 一种印刷电路板涨缩管控方法及装置
TW201831732A (zh) 電解液、電解銅箔及其製造方法
DE10393371T5 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Steuern eines Fertigungsprozesses auf der Grundlage einer gemessenen elektrischen Eigenschaft
CN107910276A (zh) 一种晶圆缺陷检测方法
CN104701211A (zh) 根据集成电路制程能力指数自动调整抽检频率的量测方法
EP3182816A1 (en) Apparatus and method for inspection, and system and method for mounting components comprising same
CN114900966B (zh) 电路板近孔背钻方法、电路板、通讯电子设备及加工装置
US7923265B2 (en) Method and system for improving critical dimension proximity control of patterns on a mask or wafer
Han et al. A template matching based method for surface-mount rectangular-pin-chip positioning and defect detection
CN111243013B (zh) 基于集成多目标回归链的视觉印刷机纠偏位姿预测方法
JP2004175839A (ja) 金属材料のエッチング液及びエッチング方法
US10983446B1 (en) Control equipment and control method of stepper
JP2007335609A (ja) 品質改善方法
CN105258651B (zh) 一种pcb板翘曲变形检测方法
CN106102349B (zh) 一种改善电镀填孔凹陷值的工艺
CN1685494A (zh) 互连阶段的工艺控制
US20130261784A1 (en) Wafer processing method and wafer processing system
JP2799032B2 (ja) 視覚認識位置補正方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant