CN115736357A - 多孔陶瓷雾化装置、雾化芯及其制备方法 - Google Patents

多孔陶瓷雾化装置、雾化芯及其制备方法 Download PDF

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Abstract

一种多孔陶瓷雾化装置、雾化芯及其制备方法。雾化芯包括多孔基体、发热件及多孔覆盖膜,发热件结合于多孔基体的部分表面,所述多孔覆盖膜覆盖于所述发热件的表面并与所述多孔基体结合,以使得所述发热件被所述多孔覆盖膜包裹在所述多孔覆盖膜的内侧。雾化装置包括储液腔及该雾化芯。制备方法包括制备多孔基体;在多孔基体的表面形成发热件;在发热件的远离多孔基体的表面及多孔基体的表面的至少部分空余区域形成多孔覆盖膜。通过在发热件的远离多孔基体的表面及多孔基体的所述表面的至少部分空余区域结合一多孔覆盖膜,使得发热件不易出现起翘及松动现象,并降低了积碳及断裂现象。

Description

多孔陶瓷雾化装置、雾化芯及其制备方法
技术领域
本发明涉及电子雾化器领域,具体是一种多孔陶瓷雾化装置、雾化芯及其制备方法。
背景技术
多孔陶瓷雾化装置是一种常见的电子雾化器,电子雾化芯是多孔陶瓷雾化装置的重要部件,雾化时,雾化液借助多孔基体的毛细作用传导,经过多孔基体上的发热件后,热量将其雾化。目前的电子雾化芯由多孔基体及发热件构成,发热件结合在多孔基体的表面。
但是发热件结合在多孔基体的表面的电子雾化芯在使用时,雾化芯的电源回路受抽吸产生的负压控制,每抽吸一口,雾化芯的电源回路会通断一次,多次抽吸时使得发热件工作在“通电-断电”的循环状态,会发生冷热交替,这导致雾化芯的发热件容易出现起翘或者松动现象,使得雾化芯的使用寿命一般只有200-500口之间。并且,雾化芯的发热件表面容易出现积碳和断裂现象,容易导致雾化芯糊芯,使得雾化芯的使用寿命也短。
发明内容
本发明的目的是提供一种多孔陶瓷雾化装置、雾化芯及其制备方法,以解决现有技术中电子雾化芯使用寿命短的技术问题。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种电子雾化芯,所述电子雾化芯包括多孔基体、发热件及多孔覆盖膜,所述发热件结合于所述多孔基体的部分表面,所述多孔覆盖膜覆盖于所述发热件的表面并与所述多孔基体结合,以使得所述发热件被所述多孔覆盖膜包裹在所述多孔覆盖膜的内侧。
可选地,所述多孔覆盖膜的厚度比发热件的厚度厚1μm-500μm。
可选地,所述多孔覆盖膜的孔隙率为30%-70%,所述多孔覆盖膜的孔径为25μm-60μm。
本发明采用的另一个技术方案是:一种电子雾化芯的制备方法,所述制备方法包括:制备多孔基体;在所述多孔基体的表面形成发热件;以及在所述发热件的远离所述多孔基体的表面及多孔基体的所述表面的至少部分空余区域形成多孔覆盖膜。
可选地,所述制备多孔基体的步骤包括:将用于形成所述多孔基体的原材料通过注塑工艺或者干压工艺制成所述多孔基体的坯体。
可选地,所述制备多孔基体的步骤包括或不包括:将所述多孔基体的坯体进行脱脂及烧结。
可选地,所述在所述多孔基体的表面形成发热件的步骤包括:通过真空溅射镀膜工艺、印刷工艺或者喷涂工艺形成所述发热件。
可选地,所述在所述多孔基体的表面形成发热件包括或不包括:将形成有发热件的所述多孔基体进行脱脂及烧结。
可选地,所述在所述发热件的远离所述多孔基体的表面及多孔基体的所述表面的至少部分空余区域形成多孔覆盖膜的步骤包括:将用于形成所述多孔覆盖膜的原材料制成浆料;通过流延工艺或干压工艺在所述发热件的远离所述多孔基体的表面及多孔基体的所述表面的至少部分空余区域制成陶瓷膜;以及通过脱脂及烧结工艺使所述陶瓷膜变为多孔覆盖膜且与所述多孔基体及发热件结合为一体。
本发明采用的再一个技术方案是:一种多孔陶瓷雾化装置,所述多孔陶瓷雾化装置包括用于存储雾化液的储液腔以及上述的电子雾化芯,所述电子雾化芯的部分或全部设置于所述储液腔内。
与现有技术相比,本发明至少具有以下有益效果:
本发明通过在发热件的远离所述多孔基体的表面及多孔基体的所述表面的至少部分空余区域结合一多孔覆盖膜,使得发热件内化,一方面,由于多孔覆盖膜与多孔基体对发热件的包裹及夹持作用,使得发热件与多孔陶瓷的结合度提高,所以发热件不易出现起翘、松动现象;另一方面,由于发热件内化使得发热件与多孔陶瓷的接触面积显著增大,加快了热量从发热件到多孔陶瓷的传递,使得雾化芯的发热均匀性更好,所以大大降低了雾化芯发热件的积碳现象及断裂现象。
附图说明
图1为一些实施例电子雾化芯的剖视结构示意图;
图2为一些实施例电子雾化芯的制备方法的流程图;
图3为一个实施例电子雾化芯的制备流程对应的工艺流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1示意性表示了一些实施例电子雾化芯100的剖视结构。参照图1,本实施例电子雾化芯100包括多孔基体10、发热件20及多孔覆盖膜30,所述发热件20结合于所述多孔基体10的部分表面11,所述多孔覆盖膜30结合于所述发热件20的远离所述多孔基体10的表面21,所述多孔覆盖膜30还与多孔基体10的所述表面11的至少部分空余区域12结合,使得所述发热件20被所述多孔基体10及多孔覆盖膜30包裹。
其中,表面11的空余区域12是指该表面11的没有发热件的区域。
本实施例通过在发热件20的远离所述多孔基体10的表面11及多孔基体10的所述表面11的至少部分空余区域12结合一多孔覆盖膜30,使得发热件20内化,一方面,由于多孔覆盖膜30与多孔基体10对发热件20的包裹及夹持作用,使得发热件20与多孔陶瓷(这里的多孔陶瓷指构成该雾化芯的多孔陶瓷,包括多孔基体10和多孔覆盖膜30)的结合度提高,所以发热件20不易出现起翘、松动现象;另一方面,由于发热件20内化使得发热件20与多孔陶瓷(这里的多孔陶瓷指构成该雾化芯的多孔陶瓷,包括多孔基体10和多孔覆盖膜30)的接触面积显著增大,加快了热量从发热件20到多孔陶瓷的传递,使得雾化芯的发热均匀性更好,所以大大降低了雾化芯发热件的积碳现象及断裂现象。
可选地,多孔基体10为多孔陶瓷,用于形成多孔陶瓷的材料可以是硅藻土、石英砂和氧化铝等。可选地,多孔基体10为多孔玻璃。
本领域技术人员应当理解,在形成多孔基体时,除了硅藻土、石英砂和氧化铝等材料外,还包括粘结剂、塑化剂、助烧剂、分散剂、造孔剂等烧结助剂。塑化剂和粘结剂用于保持坯体不变形,减小热应力产生的陶瓷缺陷,可选地,粘结剂可以是石蜡等,塑化剂可以是PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PVA(聚乙烯醇)等。助烧剂用于降低烧结温度,促进陶瓷坯体致密化,可选地,助烧剂可以是玻璃粉、粘土等。分散剂起到使粉体充分混合分散,维持均匀性的作用,可选地,分散剂可以是硬脂酸等。造孔剂用于控制多孔基体的孔径及孔隙率,得到多孔基体中互相贯穿的孔道结构,可选地,造孔剂可以是石墨粉、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)等。
可选地,用于形成发热件20的材料可以是Ti、Ag、Cr、Ni、Fe、Al金属或者其合金材料。发热件的形状可以为发热膜、发热丝等形状,本实施例对此不做具体限定。
可选地,多孔覆盖膜30为陶瓷材质膜或其它耐热材质膜,覆盖膜设置为多孔结构。
可选地,用于形成多孔覆盖膜30的材料可以是硅藻土、石英砂和氧化铝等。与多孔基体10相同,在形成多孔覆盖膜30时,除了硅藻土、石英砂和氧化铝等材料外,还包括粘结剂、塑化剂、助烧剂、分散剂、造孔剂等烧结助剂。塑化剂和粘结剂用于保持陶瓷膜不变形,减小热应力产生的陶瓷缺陷,可选地,粘结剂可以是石蜡等,塑化剂可以是PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PVA(聚乙烯醇)等。助烧剂用于降低烧结温度,促进陶瓷致密化,可选地,助烧剂可以是玻璃粉、粘土等,分散剂起到使粉体充分混合分散,维持均匀性的作用,可选地,分散剂可以是硬脂酸等。造孔剂用于控制多孔覆盖膜30的孔径及孔隙率,得到多孔覆盖膜30中互相贯穿的孔道结构,可选地,造孔剂可以是石墨粉、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)等。
可选地,所述多孔覆盖膜30的厚度比发热件20的厚度大1μm-500μm。多孔覆盖膜30的厚度是指多孔覆盖膜30在垂直于多孔基体10的表面11的方向上的长度,该长度的起点为多孔基体10的表面11,该长度在图1中表示为h2。发热件20的厚度是指发热件20在垂直于多孔基体10的表面11的方向上的长度,该长度在图1中表示为h1,h2-h1=1μm-500μm。一方面,由于本实施例电子雾化芯100的雾化路径为雾化液从图1中的多孔基体10的下表面进入,被加热雾化后,产生的气雾从图1中多孔覆盖膜30的上表面流出,所以多孔覆盖膜30的厚度会对气雾输出的顺畅度产生影响;另一方面,由于多孔覆盖膜30起到包裹夹持发热件20,以及增大电子雾化芯100的发热均匀性的作用,所以多孔覆盖膜30的厚度还会对发热件20与多孔陶瓷(这里的多孔陶瓷指构成该雾化芯的多孔陶瓷,包括多孔基体10和多孔覆盖膜30)的结合度及导热等性能产生影响,通过将多孔覆盖膜30的厚度设计得比发热件20的厚度大1μm-500μm有效兼顾了该两方面的性能。具体地,多孔覆盖膜30与发热件20厚度差可以是1μm-500μm的任一数值,例如,5μm,10μm,20μm,40μm,60μm,100μm,200μm,400μm,450μm,本实施例对此不做具体限定。
可选地,所述多孔覆盖膜30的孔隙率为30%-70%,所述多孔覆盖膜30的孔径为25-60μm。如前一段落中所述,雾化产生的气雾经多孔覆盖膜30流出,因此多孔覆盖膜30的孔隙率及孔径直接影响气雾输出的顺畅度。通过将多孔覆盖膜30的孔隙率设置为30%-70%,多孔覆盖膜30的孔径设置为25-60μm,使得雾化产生的气雾可以经多孔覆盖膜30顺畅的输出。具体地,多孔覆盖膜30的孔隙率可以为30%-70%之间的任一百分比值,例如35%,40%,45%,50%,55%,60%,65%,多孔覆盖膜30的孔径可以为25μm-60μm之间的任一数据,例如30μm,35μm,40μm,45μm,50μm,55μm,本实施例对此不做具体限定。
本发明进一步还提供了一种电子雾化芯的制备方法,通过该制备方法可以获得上述实施例的电子雾化芯100。图2中示出了本电子雾化芯100的制备方法的流程。图3示出了一个实施例电子雾化芯的制备流程对应的工艺流程。
参照图2及图3,该电子雾化芯100的制备方法包括以下步骤:
步骤S101、制备多孔基体10。
首先,将用于形成多孔基体10的原材料制成多孔基体10的坯体。其中,用于形成多孔基体10的原材料可以是硅藻土、石英砂和氧化铝等,除此之外还包括粘结剂、塑化剂、助烧剂、分散剂、造孔剂等烧结助剂。塑化剂和粘结剂用于保持陶瓷坯体不变形,减小热应力产生的陶瓷缺陷,可选地,粘结剂可以是石蜡等,塑化剂可以是PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PVA(聚乙烯醇)等。助烧剂用于降低烧结温度,促进陶瓷坯体致密化,可选地,助烧剂可以是玻璃粉、粘土等,分散剂起到使粉体充分混合分散,维持均匀性的作用,可选地,分散剂可以是硬脂酸等。造孔剂用于控制多孔基体的孔径及孔隙率,得到多孔基体中互相贯穿的孔道结构,可选地,造孔剂可以是石墨粉、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)等。具体的方法为:将原材料与各烧结助剂混合后,送入用于成形多孔基体10的模具,制得多孔基体10的坯体。其中,可以采用注塑工艺或干压工艺制得坯体。
然后,通过脱脂工艺去除坯体中的塑化剂、分散剂及造孔剂等添加物,再通过烧结工艺后,即制得多孔基体10。
步骤S102、在多孔基体10的表面11形成发热件20。
首先,将用于形成发热件20的原材料制成浆料。其中,用于形成发热件20的原材料可以是Ti、Ag、Cr、Ni、Fe、Al金属或者其合金材料。
然后,通过印刷工艺或者喷涂工艺在多孔基体10的表面11形成发热件20,再次通过烧结工艺使发热件20与多孔基体10结合为一体。
作为另一种实施例,可以通过真空溅射镀膜工艺在多孔基体10的表面11形成发热件20。当采用真空溅射镀膜工艺在多孔基体10的表面11形成发热件20时,镀膜结束后发热件20即可与多孔基体10有效结合,不需要再进行烧结。
步骤S103、在发热件20的远离多孔基体10的表面21及多孔基体10的所述表面11的至少部分空余区域12形成多孔覆盖膜30。
首先,将用于形成多孔覆盖膜30的原材料制成浆料。其中,用于形成多孔覆盖膜30的原材料可以是硅藻土、石英砂和氧化铝等,除此之外还包括粘结剂、塑化剂、助烧剂、分散剂、造孔剂等烧结助剂。塑化剂和粘结剂用于保持陶瓷膜不变形,减小热应力产生的陶瓷缺陷,可选地,粘结剂可以是石蜡等,塑化剂可以是PE(聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PVA(聚乙烯醇)等。助烧剂用于降低烧结温度,促进陶瓷致密化,可选地,助烧剂可以是玻璃粉、粘土等,分散剂起到使粉体充分混合分散,维持均匀性的作用,可选地,分散剂可以是硬脂酸等。造孔剂用于控制多孔覆盖膜的孔径及孔隙率,得到多孔覆盖膜中互相贯穿的孔道结构,可选地,造孔剂可以是石墨粉、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)等。
然后,通过流延工艺或干压工艺制成陶瓷膜。其中,陶瓷膜具体成形在在发热件20的远离多孔基体10的表面21及多孔基体10的所述表面的至少部分空余区域12。
最后,通过脱脂及烧结工艺去除陶瓷膜内的塑化剂、分散剂及造孔剂等添加物,再烧结,即获得多孔覆盖膜30,并且多孔覆盖膜30与发热件20的远离多孔基体10的表面21及多孔基体10的所述表面11的至少部分空余区域12可靠结合。
在上述实施例中,在制备多孔基体10的步骤中,在多孔基体10的表面11形成发热件20的步骤中,以及在发热件20的远离多孔基体10的表面21及多孔基体10的所述表面11的至少部分空余区域12形成多孔覆盖膜30的步骤中,均包括了烧结工艺,即整个制备流程中经过了三次烧结。作为另一个实施例,可以只包含一次烧结,具体是在制得多孔基体10的坯体后,直接在该坯体上形成发热件,然后再形成陶瓷膜,最后进行一次脱脂及烧结获得电子雾化芯100。作为再一个实施例,可以包含两次烧结,具体是在制得多孔基体10的坯体后,直接在该坯体上形成发热件,然后进行一次脱脂及烧结,接下来形成陶瓷膜,然后进行二次脱脂及烧结获得电子雾化芯100。作为又一个实施例,可以包含两次烧结,具体是在制得多孔基体10的坯体后,先进行一次脱脂及烧结,然后采用真空溅射镀膜工艺在多孔基体10的表面形成发热件20,接下来形成陶瓷膜,然后进行二次脱脂及烧结获得电子雾化芯100。
本发明还提供了一种多孔陶瓷雾化装置,所述多孔陶瓷雾化装置包括用于存储雾化液的储液腔以及上述的电子雾化芯,所述电子雾化芯的部分或全部设置于所述储液腔内。其中,本实施例中的电子雾化芯的结构与上述实施例中的电子雾化芯的结构相同,此处不再赘述。
上述通过具体实施例对本发明进行了详细的说明,这些详细的说明仅仅限于帮助本领域技术人员理解本发明的内容,并不能理解为对本发明保护范围的限制。本领域技术人员在本发明构思下对上述方案进行的各种润饰、等效变换等均应包含在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种电子雾化芯,其特征在于,包括多孔基体、发热件及多孔覆盖膜,所述发热件结合于所述多孔基体的部分表面,所述多孔覆盖膜覆盖于所述发热件的表面并与所述多孔基体结合,以使得所述发热件被所述多孔覆盖膜包裹在所述多孔覆盖膜的内侧。
2.根据权利要求1所述的电子雾化芯,其特征在于:所述多孔覆盖膜的厚度比所述发热件的厚度厚1μm-500μm。
3.根据权利要求1所述的电子雾化芯,其特征在于:所述多孔覆盖膜的孔隙率为30%-70%;所述多孔覆盖膜的孔径为25μm-60μm。
4.一种电子雾化芯的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
制备多孔基体;
在所述多孔基体的表面形成发热件;
在所述发热件的远离所述多孔基体的表面及所述多孔基体的表面的至少部分空余区域形成多孔覆盖膜。
5.根据权利要求4所述的电子雾化芯的制备方法,其特征在于,所述制备多孔基体的步骤包括将用于形成所述多孔基体的原材料通过注塑工艺或者干压工艺制成所述多孔基体的坯体。
6.根据权利要求5所述的电子雾化芯的制备方法,其特征在于,所述制备多孔基体的步骤包括或不包括将所述多孔基体的坯体进行脱脂及烧结。
7.根据权利要求4所述的电子雾化芯的制备方法,其特征在于,所述在所述多孔基体的表面形成发热件的步骤包括通过真空溅射镀膜工艺、印刷工艺或者喷涂工艺形成所述发热件。
8.根据权利要求4所述的电子雾化芯的制备方法,其特征在于,所述在所述多孔基体的表面形成发热件的步骤包括或不包括将形成有发热件的所述多孔基体进行脱脂及烧结。
9.根据权利要求4所述的电子雾化芯的制备方法,其特征在于,所述在所述发热件的远离所述多孔基体的表面及所述多孔基体的表面的至少部分空余区域形成多孔覆盖膜的步骤包括:
将用于形成所述多孔覆盖膜的原材料制成浆料;
通过流延工艺或干压工艺在所述发热件的远离所述多孔基体的表面及多孔基体的所述表面的至少部分空余区域制成陶瓷膜;以及
通过脱脂及烧结工艺使所述陶瓷膜变为多孔覆盖膜且与所述多孔基体及发热件结合为一体。
10.一种多孔陶瓷雾化装置,其特征在于,包括用于存储雾化液的储液腔以及如权利要求1-3中任意一项所述的电子雾化芯,所述电子雾化芯的部分或全部设置于所述储液腔内。
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