CN115720454A - 一种空穴捕捉层及其在减少低灰阶串扰中的应用 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及羟基取代的聚酰亚胺在减少有机电致发光器件低灰阶串扰中的应用。本发明的空穴捕捉层通过对阳极基板中相邻像素间的平坦层上修饰特定的官能团(例如:羟基),以将“空穴”牢牢“锁住”(“空穴”具有氧化性,其与羟基反应而生成羟自由基,即被抑制扩散),进而蓝色子像素中少部分漏电流无法扩散至相邻的子像素,进而抑制低灰阶串扰的发生,提高有机电致发光器件的显示品质。
Description
技术领域
本发明涉及有机电致发光技术领域,尤其涉及一种空穴捕捉层及其在减少低灰阶串扰中的应用。
背景技术
OLED(有机电致发光器件)是一种电流驱动的发光元件,具有响应快、自主发光、视角宽及工作温度范围大等优点,从而广泛的应用于高性能显示领域。其中,发光层包括:红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层,通常采用共通层连接起来。一般而言,蓝色像素的电压最大,绿色像素的电压以及红色像素的电压较低。当在蓝色器件的两端施加电压时,大部分电流会纵向流至蓝色有机发光材料,蓝色像素被点亮;但是还有少部分电流会从能够导电的空穴注入层以及空穴传输层(HIL/HTL)分别横向流至红色像素以及绿色像素,导致相邻两个像素也将被点亮,造成低灰阶串扰(crosstalk),影响屏幕低亮下的显示效果。
目前为了解决这种串扰的现象,通常将空穴注入层的材料更换为电阻较大的材料,但是该方案对于材料的选择非常严格,同时会导致驱动电压增大及器件效率下降的副作用。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中的不足,提供一种空穴捕捉层及其在减少低灰阶串扰中的应用。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案是:
本发明的第一方面是提供羟基取代的聚酰亚胺在减少有机电致发光器件低灰阶串扰中的应用。
本发明的第二方面是提供一种空穴捕捉层,用于减少低灰阶串扰现象,包括:如下式所示结构的化合物:
其中,Ar选自:C6-C20的芳基、或C6-C20的杂芳基;R选自:羟基取代的芳基;n选自:10-100,000的整数。
优选地,所述化合物选自:
本发明的第三方面是提供一种有机电致发光器件,包括:如前所述的空穴捕捉层。
本发明的第四方面是提供一种减少有机电致发光器件低灰阶串扰的方法,步骤包括:
S1、提供一阳极基板;
S2、于所述阳极基板中相邻像素间的平坦层上修饰如前所述的空穴捕捉层;
S3、于所述阳极基板或所述空穴捕捉层上蒸镀空穴注入层或/和空穴传输层;
S4、于所述空穴注入层或所述空穴传输层上分别蒸镀红色发光层、绿色发光层以及蓝色发光层,所述红色发光层、所述绿色发光层以及所述蓝色发光层依次相邻;
S5、于所述红色发光层、所述绿色发光层以及所述蓝色发光层上蒸镀电子传输层或/和电子注入层;
S6、于所述电子传输层或所述电子注入层上蒸镀阴极,即得所述有机电致发光器件。
优选地,所述修饰包括:于所述平坦层上刻蚀出凹槽,将所述空穴捕捉层的预聚液喷墨打印至所述凹槽内,加热至200℃-800℃进行固化,即可。
本发明采用以上技术方案,与现有技术相比,具有如下技术效果:
本发明的空穴捕捉层通过对阳极基板中相邻像素间的平坦层上修饰特定的官能团(例如:羟基),以将“空穴”牢牢“锁住”(“空穴”具有氧化性,其与羟基反应而生成羟自由基,即被抑制扩散),进而蓝色子像素中少部分漏电流无法扩散至相邻的子像素,进而抑制低灰阶串扰的发生,提高有机电致发光器件的显示品质。
附图说明
图1为对比例1的结构示意图;
图2为检测实施例1或检测实施例2的结构示意图;
图3-图8为实施例4中步骤的流程示意图;
图9为实施例4中有机电致发光器件的结构示意图;
其中,附图标记包括:阳极基板1;空穴注入层2;空穴传输层2;绿色发光层3;蓝色发光层4;红色发光层5;电子传输层6;阴极7;空穴捕捉层8。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,但不作为本发明的限定。
实施例1
本实施例提供式(II)在减少有机电致发光器件低灰阶串扰中的应用。
实施例2
本实施例提供式(III)在减少有机电致发光器件低灰阶串扰中的应用。
实施例3
本领域技术人员知晓脂环二酐与二胺单体在一定条件下能够聚合制得聚酰亚胺,故本领域技术人员能够通过市售的脂环二酐与市售的二胺单体制得实施例1或实施例2中所涉及的式(II)或式(III),例如:
4,4’-(六氟异丙烯)二酞酸酐 2,4-二氨基苯酚式(II)
(CAS:1107-00-2) (CAS:95-86-3)
4,4’-(六氟异丙烯)二酞酸酐 4,6-二氨基间苯二酚式(III)
(CAS:1107-00-2) (CAS:15791-87-4)
检测实施例1-3
为简易地评估串扰,提供一基板,该基板的ITO能够与电源的正负极相连。
在对比例1的HATCN与基板之间修饰如实施例4所述的空穴捕捉层,作为检测实施例1或检测实施例2,如图2所示。
对电流进行检测,若电流降低,则串扰被抑制。
4V电压下的电流(μA) | |
对比例1 | 25.5 |
检测实施例1 | 12.5 |
检测实施例2 | 11.5 |
实施例4
本实施例提供一种减少有机电致发光器件低灰阶串扰的方法,步骤包括:
S1、如图3所示,提供一阳极基板1;
S2、于所述阳极基板1中相邻像素间的平坦层上刻蚀出凹槽,将如实施例1或实施例2所述聚酰亚胺的预聚液喷墨打印至所述凹槽内,加热至400℃进行固化,即于所述阳极基板1中相邻像素间的平坦层上修饰形成空穴捕捉层8,如图4所示;
S3-0、将修饰有所述空穴捕捉层8的所述阳极基板1于异丙醇中超声清洗10min,并暴露于紫外光下30min,用等离子体处理10min后,将其转移至蒸镀设备中;
S3-1、如图5所示,于所述阳极基板1或所述空穴捕捉层8上使用common mask混合蒸镀10nm的式(IV)以及式(V)(质量比为3:97),即为空穴注入层;
S3-2、于所述空穴注入层上使用fine mask蒸镀式(VI),对应于红色发光层5、绿色发光层3以及蓝色发光层4的厚度分别为130nm、170nm以及230nm,即为空穴传输层;
S4-1、如图6所示,于所述空穴传输层上蒸镀20nm的式(VII)以及式(VIII)(质量比为98:2),即为蓝色发光层4;
S4-2、于所述空穴传输层上蒸镀40nm的式(IX)以及式(X)(质量比为94:6),即为绿色发光层3;
S4-3、于所述空穴传输层上蒸镀40nm的式(XI)以及式(XII)(质量比为94:6),即为红色发光层5;
S4-4、所述红色发光层5、所述绿色发光层3以及所述蓝色发光层4依次相邻;
S5-1、如图7所示,于所述红色发光层5、所述绿色发光层3以及所述蓝色发光层4上蒸镀40nm的式(XIII)以及式(XIV)(质量比为1:1),即为电子传输层;
S5-2、于所述电子传输层上蒸镀1nm的LiF,即为电子注入层;
S6-1、如图8所示,于所述电子注入层上蒸镀16nm的Mg以及Ag(质量比为1:9),即为阴极7;
S6-2、通过frit胶封装面板,即为所述有机电致发光器件,如图9所示。
检测实施例4-6
对实施例4制得的有机电致发光器件进行低灰阶串扰检测,如实施例1所述聚酰亚胺形成空穴捕捉层的有机电致发光器件作为检测实施例3,如实施例2所述聚酰亚胺形成空穴捕捉层的有机电致发光器件作为检测实施例4,省略步骤S2的有机电致发光器件作为对比例2。
将有机电致发光器件完成gamma 2.2烧录后,通过ΔB CIEy=B80 CIEy-B8CIEy检测低灰阶串扰,其中,B80、B8分别为在暗室中切至80灰阶以及8灰阶时获得的蓝光色标CIEy;该值越小表明低灰阶串扰程度越轻。
从上表可知,如实施例2所述聚酰亚胺形成空穴捕捉层的有机电致发光器件对应的ΔB CIEy值最小,即低灰阶串扰程度最低,低灰阶显示效果最好。
综上所述,本发明的空穴捕捉层通过对阳极基板中相邻像素间的平坦层上修饰特定的官能团(例如:羟基),以将“空穴”牢牢“锁住”(“空穴”具有氧化性,其与羟基反应而生成羟自由基,即被抑制扩散),进而蓝色子像素中少部分漏电流无法扩散至相邻的子像素,进而抑制低灰阶串扰的发生,提高有机电致发光器件的显示品质。
以上所述仅为本发明较佳的实施例,并非因此限制本发明的实施方式及保护范围,对于本领域技术人员而言,应当能够意识到凡运用本发明说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案,均应当包含在本发明的保护范围内。
Claims (6)
1.羟基取代的聚酰亚胺在减少有机电致发光器件低灰阶串扰中的应用。
4.一种有机电致发光器件,其特征在于,包括:如权利要求1-2任一项所述的空穴捕捉层。
5.一种减少有机电致发光器件低灰阶串扰的方法,其特征在于,步骤包括:
S1、提供一阳极基板;
S2、于所述阳极基板中相邻像素间的平坦层上修饰如权利要求1-2任一项所述的空穴捕捉层;
S3、于所述阳极基板或所述空穴捕捉层上蒸镀空穴注入层或/和空穴传输层;
S4、于所述空穴注入层或所述空穴传输层上分别蒸镀红色发光层、绿色发光层以及蓝色发光层,所述红色发光层、所述绿色发光层以及所述蓝色发光层依次相邻;
S5、于所述红色发光层、所述绿色发光层以及所述蓝色发光层上蒸镀电子传输层或/和电子注入层;
S6、于所述电子传输层或所述电子注入层上蒸镀阴极,即得所述有机电致发光器件。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述修饰包括:于所述平坦层上刻蚀出凹槽,将所述空穴捕捉层的预聚液喷墨打印至所述凹槽内,加热至200℃-800℃进行固化,即可。
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- 2022-11-25 CN CN202211497614.6A patent/CN115720454A/zh active Pending
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