CN115605987A - 基底保持器以及用于固定和键合基底的方法 - Google Patents

基底保持器以及用于固定和键合基底的方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种用于接纳基底(13)的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1'''')以及相应的方法，所述基底保持器具有用于固定基底(13)的固定元件(6,6',6'')，其中，固定元件(6,6',6'')可分组到区域(7,7')中。

Description

基底保持器以及用于固定和键合基底的方法
技术领域
本发明描述了一种基底保持器以及一种用于固定和键合基底的方法。
背景技术
在现有技术中，存在如下文献，其中公开了如何能够将基底最佳地相互连接。尤其地，文献WO2017162272A1公开了一种具有各个区域的基底保持器。此外，应提及文献WO2013023708A1、WO2012083978A1、WO 2018028801 A1。
现有技术中的一个大问题是不对称变形的基底。许多基底具有机械各向异性，即它们的E模量强烈依赖于方向。由于E模量的方向依赖性，其他机械性能、尤其应变也依赖于方向。如果现在力、尤其重力作用到这些基底上，则产生不对称的变形。这种不对称的变形在两个基底之间的接触期间和/或在键合期间仍然存在，并且必然导致键合波前(Bodenwellenfront)的不对称传播，并且因此导致不期望的跳动效应(run-out Effekt)。
多年来，在半导体工业中，基底通过所谓的键合过程相互连接。在连接之前，这些基底必须尽可能精确地相互对准，其中，纳米范围内的偏差现在发挥了作用。基底的对准在此通常经由对准标记进行。除了对准标记之外，基底上还存在其他元件、尤其是功能元件，所述元件在键合过程中同样必须相互对准。对于整个基底表面而言，需要各个功能元件之间的这种对准精度。因此，例如，如果对准精度在基底中心非常好但朝向边缘降低，则这是不够的。
如前已述，现有技术中存在多种方法和设备，借助其可尝试影响键合过程，例如文献WO2017162272A1、EP2656378B1或WO2014191033A1。
键合的最大挑战之一是两个基底自行相互连接所需的时间。这是从键合开始直到基底接触面完全接触的时间段。在此，两个基底彼此的对准与之前的对准相比仍然显著改变。如果两个基底表面一旦相互连接，则虽然在理论上可再次分离，但这与高成本、低产量和易出错性有关。
发明内容
本发明的目的是，提供用于键合两个基底的装置和方法，利用其消除现有技术的问题，并且尤其提高键合精度、尤其是在基底的边缘处的键合精度。
该目的利用并列权利要求的特征来实现。本发明的有利改进方案在从属权利要求中说明。由在说明书、权利要求书和/或附图中说明的至少两个特征构成的所有组合也落入本发明的范围内。在说明值范围的情况下，位于所提到的限度内的值也应作为公开的限度值适用，并且可在任意组合中要求予以保护。
本发明涉及一种用于接纳基底的基底保持器，其具有用于固定基底的固定元件，其中，固定元件可以分组到区域中，其中，区域优选环形、还更优选圆环形地布置。
区域是任意数量的固定元件，与固定元件是局部相邻还是在相对的边缘区域上无关。因为区域代表一定数量的固定元件，所以区域的定义或规定也可以随时间变化。
在本文献的后续过程中将讨论区域的形状或位置。这指的是这样的区域内的所有固定元件的包络线的形状和位置。当谈到一个区域的切换能力时，这意味着区域内所有固定元件的切换能力。尤其地，关闭一个区域指的是关闭该区域内的所有固定元件。不受此影响，优选地，一个区域内的所有固定元件也可以单独切换。在极端情况下，一个区域仅包含一个固定元件。
同一区域的所有固定元件可以优选地由单个控制元件操控，尤其在使用真空固定元件的情况下由控制阀操控。由此可以有利地同时切换一个区域中的所有固定元件。
不同的固定元件或区域可以尤其以时间错开的方式切换，以便有利地使前进的键合波有针对性地变形。
本发明还涉及一种用于固定和键合一个或多个基底的方法，尤其利用根据本发明的基底保持器，其中，将固定元件分组到区域中，其中，所述区域优选环形、还更优选圆环形地构造。
由于环形布置结构，基底可以有利地在键合过程中最佳地固定和分离，从而可以尤其使“跳动”误差最小化，并且由此可以显著提高键合精度。在优选圆环形的布置结构的情况下，可以还更好地固定和分离，因为键合波通常也圆环形地传播。
优选地设置有基底保持器，其中，区域相对于基底保持器的中心对称地布置。由于键合波通常相对于基底保持器的中心对称地传播，由此有利地实现键合精度的进一步改善。
优选地还设置有基底保持器，其中，区域围绕基底保持器的中心布置成多个环、优选圆环。因此也可以有利地在基底保持器的径向方向上进行最佳的分离。
优选地还设置有基底保持器，其中，区域在径向方向和/或在方位角方向上均匀地彼此间隔开。由此可以有利地进行分离的特别精确的控制。
优选地还设置有基底保持器，其中，区域从基底保持器的中心朝向基底保持器的边缘构造有变化的宽度、尤其变大的宽度。为了获得更好的键合结果，这种变化的宽度可能是必要的，因为键合波传播的速度也可以根据距中心的距离进行变化。
优选地还设置有基底保持器，其中，区域可单独切换。因此有利地可以根据期望的分离灵活地控制所述区域。
优选地还设置有基底保持器，其中，多个区域可分组并且一起切换。因此，可以有利地根据需要切换更大的面积，使得分离还可以更灵活和精确。
优选地还设置有基底保持器，其中，区域中的固定元件的数量可灵活地变化。因此例如可以增大或减小各个区域中的吸引力，从而可以有利地精确控制分离。
优选地还设置有基底保持器，其中，固定元件可以灵活地配属于不同的区域。此外，备选地或附加地可行的是，固定元件能够以跨区域的方式来操控。因此，可以有利地根据需要灵活地调整区域中的保持力。
尤其地，本发明描述了用于在两个基底之间以最小跳动产生键合的装置和方法。本发明在此尤其基于如下构思：使用至少一个基底保持器，其具有特殊成形的区域，所述区域由多个固定元件组成，用于固定基底、尤其不对称变形的基底。通过特殊成形的区域及其固定元件，尤其还通过这些区域或其固定元件的根据本发明的切换，尤其也还在键合过程期间如此补偿基底的不对称变形，使得产生最佳的键合波前，并且因此产生最佳的键合。
通常，不知道接下来将哪些基底固定在基底保持器上，它们具有何种机械各向异性或者它们在固定时多强烈地扭曲。此外，具有不同厚度的基底在它们固定在上部基底保持器上时通常也由于重力而不同程度地变形。因此，不可能为出现的每个类型的不对称产生新的基底保持器。
通过根据本发明的基底保持器，有利地尤其借助于区域的有针对性的切换技术如此补偿不对称变形的基底，使得尤其还可以在键合过程期间补偿不对称性。因此，有利地仅须构造一种类型的基底保持器，并且该基底保持器可以用于具有不同程度的不对称变形的不同基底。
本发明基于如下构思：使基底保持器设有特殊成形的区域，所述区域的形状、布置结构和操控改善键合效果。如已在文献WO2017162272A1中详细描述的那样，基底曲率的调整对于成功、无差错的键合过程而言至关重要。因此，本发明尤其描述了非常特殊的基底保持器，其开发已在最近数月和数年内完成。尤其地，还参考了WO2017162272A1中已经公开的方法步骤。
根据本发明的基底保持器主要用作上部基底保持器，但完全也可以在键合设备的底侧处用于固定下部基底。尤其地，可以分别将根据本发明的基底保持器用作上部基底保持器，并且将根据本发明的基底保持器用作下部基底保持器。在WO2017162272A1中详细处理和公开的曲率的有针对性调整通过新型基底保持器的根据本发明的构造方案来进一步改善。
曲率的变化尤其是指偏离基底的初始状态(尤其在接触之前调整的曲率)的状态。根据本发明，在接触接触面之后，尤其通过受控地控制基底的固定来控制键合。尤其地，根据装置来设置相应的固定器件。
本发明的另一个尤其独立的方面在于，使用尤其可单独切换的固定元件，所述固定元件分组到特殊成形的区域中，并且借助它们可以受控地控制或调节接触面之间的前进的键合波。所公开的区域的形状如此特殊，以至于给出文献WO2017162272A1的重要区别特征。
区域通常具有至少一个固定元件，但尤其具有多个可单独操控的固定元件。
该想法尤其基于如下构思：通过有针对性地管控、控制或调整两个基底中的至少一个的曲率和/或固定和/或分离，如此管控、控制或调节前进的键合波，使得实现两个基底沿着接触面的最佳的、顺序的、尤其从内向外的接触。通过根据本发明的该方法，应如此补偿基底的在键合之前和/或在其期间存在的尤其机械的不对称性，使得键合波具有期望的、尤其径向对称的形状。根据本发明，该效应通过特殊成形的区域和区域的固定元件的根据本发明的操控来实现。最佳接触尤其理解成，“跳动”误差在两个基底之间的接触界面的每个部位处最小，或者在最佳的情况下甚至消失。
通常，根据本发明的基底保持器允许依赖于方向来影响键合波的前进。尤其地，可以利用根据本发明的基底保持器产生键合波前，该键合波前径向对称地传播，即圆形地传播。由根据本发明的基底保持器保持的基底可以通过操控各个特殊成形的区域而因此有针对性地各向异性地变形。
依赖于根据本发明的基底保持器在上侧还是下侧处使用，对由其固定的基底产生不同的影响。两个基底之间的最大区别是键合过程期间重力作用的方向。在激活和/或停用至少一些区域之后，重力在固定的上部基底中引起通常各向异性的下垂。在下部基底中不是这种情况。
传感器
优选地，在根据本发明的基底保持器中安装用于监测基底和基底保持器之间的距离的传感器。借助传感器，也可以在键合过程期间监测键合波的传播速度和尤其对称的形状，并且在必要时进行自适应适配。如果根据本发明的该扩展件安装在两个基底保持器中，则两个基底由此可以同时进行测量，并且尤其还在键合过程期间如此进行适配，使得使它们的跳动误差最小化。在此尤其通过不同的、特殊成形的区域的有针对性切换来进行适配。
固定元件
根据本发明提到的所有固定元件都可以单独切换，即切换到固定或非固定状态。尤其地，还可以有针对性地调整基底对固定元件的压紧力，从而可以确定法向力或法向应力。
固定元件可以通过密封元件彼此分开。然而，在根据本发明的特别优选的实施方式中，固定元件相对于基底保持器表面回缩、尤其铣削。该实施方式尤其在使用真空固定元件时适用。在根据本发明的扩展方案中，在凹部中存在较小的凸起、引脚、管脚或接条，其表面与基底保持器表面一致。
可以灵活地控制一个区域内的各个固定元件(例如同一半径上的圆截段)，从而例如可以在装载过程期间几乎沿整个圆周固定基底。由此，基底在该时间点尽可能平坦。为了键合过程本身，那么可以停用沿同一半径的多个固定元件。
还可以同时地或以限定的延迟切断区域的固定元件的固定特性，这实现更精细地管控键合速度。尤其地，如果测量到键合波前的非径向对称的前进，则可以如此切换各个固定元件，使得键合波前再次变得径向对称。
如果固定元件设计为真空固定元件，则真空固定元件中存在介于0.01毫巴和1000毫巴之间、优选介于0.01毫巴和800毫巴之间、还更优选介于0.01毫巴和500毫巴之间、最优选介于0.01毫巴和100毫巴之间、所有中最优选介于0.01毫巴和10毫巴之间的压力。真空固定元件中较大的外部压力和较小的内部压力之间的压差那么是对基底的压紧压力，其导致基底的固定。
区域
各个固定元件可以分组到区域。
在本发明的第一实施方式中，多个区域仅存在于基底保持器的周边。区域在径向和/或方位角上彼此分开。尤其地，存在径向划分和方位角划分。
区域优选地围绕具有n重对称的旋转轴对称布置。n的值在此大于1，优选大于4，还更优选大于6，最优选大于12，所有中最优选大于24。旋转轴的计数越大，沿圆周存在的区域越多，但是沿其方位角的区域越小。每个圆周的最佳区域数量以及沿着径向方向的最佳区域数量尤其通过经验测量和/或通过模拟来确定。
在根据本发明的第一实施方式中，由多个固定元件组成的多个区域存在于基底保持器的周边，并且尤其仅由唯一的固定元件组成的较大的区域存在于中心。该中心区域占据基底表面的最大部分，并且用于牢固地固定基底。基底保持器周边处的区域用于精细控制、尤其有针对性地影响键合波形。
在根据本发明的第二实施方式中，基底保持器仅由尤其安设在周边中的区域组成，所述区域由多个固定元件组成。基底保持器的就面积而言最大部分不具有区域。
在根据本发明的第三实施方式中，基底保持器仅由尤其安设在周边中地区域(其由多个固定元件组成)以及尤其完整的、闭合的单独区域(其由至少一个、优选恰好一个固定元件组成)组成。
在根据本发明的第四实施方式中，基底通过完整的、尤其闭合的、最优选环形的区域固定在外边缘处，所述区域由至少一个固定元件组成。位于外部区域内的区域可以如此进行切换，使得它们使基底变形。如果各个固定元件的固定功能基于真空抽吸或流体的冲洗可能性，那么这尤其是可能的。
在本发明的第五实施方式中，区域中的至少一些如此进行成形，使得它们包围或至少环绕其他区域。
区域和/或固定元件可以尤其以以下配置来布置：
1. 环形
2. 螺旋形
3. 网格形
4. 径向射束
5. 以上的组合(尤其地，由径向射束连接的环)
装载引脚
如果基底保持器有装载引脚，基底保持器表面上必然有孔。如果通过真空固定件切换区域，则可能必须采取预防措施以确保密封性。由于这些装载引脚在其中移动的孔，得出用于在区域中施加超压的多种变体：
在第一变体中，孔简单地保持打开(其中实施方案针对小泄漏进行优化)，并且必须通过流体在基底和基底保持器之间的区域中相应的连续流动来维持超压(流入和流出之间的平衡)。
在第二变体中，装载引脚设有密封件，该密封件实现在晶片和保持装置之间的封闭区域中建立静态超压。
如果根据本发明的基底保持器实施为上部基底保持器，则装载引脚可以是在其内部具有钻孔、软管或其他流体系统的引脚，利用它们在装载引脚表面处产生真空，使得可逆重力方向固定及抬升待装载的基底。在装载过程中，这些装载引脚将固定的基底向上拉，直到该基底与基底保持器表面接触并最终由基底保持器固定。
凹处
根据本发明的基底保持器尤其具有通道或凹处，其可以尤其玻璃化，以便能够观察固定的基底的背侧。通道可以优选地利用盖尤其自动地封闭。
变形元件
另一种尤其独立的或可与上述发明相结合的构思在于，使用变形元件作为弯曲器件和/或曲率改变器件，其特别构造为气体出口。因此，与基底没有机械接触。通过组合上述特征，甚至可以更精确地控制曲率。
根据本发明的所描述的所有实施方式都可以具有使固定的基底变形的变形元件。尤其地，每个单独的区域，只要它具有真空固定元件，就可以使用流体以使基底变形。
如果变形元件与流体一起工作，则流体的压力介于0.1巴和10巴之间，优选介于0.2巴和8巴之间，还更优选介于0.3巴和7巴之间，最优选介于0.4巴和6巴之间，所有中最优选介于0.5巴和5巴之间。
变形元件施加在基底上的力介于0.1N和1000N之间，优选介于0.2N和500N之间，更优选介于0.3N和250N之间，最优选介于0.4N和200N之间，所有中最优选介于0.5N和100N之间。
键合波监测
为了根据方向来确定键合波前的传播速度，可以将如下传感器集成到基底保持器中，所述传感器实现在每个任意时间点测量基底保持器表面与装载的基底之间的距离：
1. 沿半径的多个传感器，以便根据与中心的距离来确定速度，尤其沿穿过各个区域的中心伸延的半径。
2. 沿着位于第1点中提到的半径之间的半径的多个传感器。由此可以确定不同方向上的速度。
通过现有的传感器(其可以确定基底与基底保持器表面之间的距离)可以监测键合波的传播。在键合过程开始之前，每个传感器都具有1212一定的初始值。例如，当基底在传感器区域中与基底保持器表面接触时，初始值为零。如果基底不是处处固定并且例如局部下垂或局部弯曲，则初始值具有大于零的值。尤其地，每个传感器在键合过程结束之后都获得最终值。如果现在传感器的值相应地变化，则可以由此断定基底是否键合在相应传感器的区域中。由此产生键合波位置根据时间的变化过程。根据传感器的精确布置方案，还可以在不同方向上检测键合波位置根据时间的可能的数据。
方法
键合测量方法
根据本发明的优选的第一方法如下，借助该方法可以测量和适配待键合的两个基底的键合波前。
在第一方法步骤中，将第一基底固定在尤其根据本发明的第一基底保持器处。
在第二方法步骤中，将第二基底固定在尤其根据本发明的第二基底保持器处。
在第三方法步骤中，确定和/或归零测量第一基底和/或第二基底的基底背侧的传感器的值。尤其地，传感器是距离传感器。
在根据本发明的第四方法步骤中，使两个基底更靠近彼此，直到存在在应相互键合的基底表面之间的期望的距离。
在根据本发明的第五方法步骤中，使上部基底和/或下部基底借助已经提到的变形元件变形，使得两个基底在至少一个、尤其恰好一个点处接触。尤其地，在上部基底和/或下部基底的变形期间，基底表面的背侧的测量已经借助于传感器实现，使得上部基底和/或下部基底的曲率在接触之前和/或在其期间已经精确地已知。由此，已经可以识别出弯曲中可能的、出现的任何不对称性。
在根据本发明的第六方法步骤中，将第一基底和/或第二基底分离，尤其有针对性地受控地、通过单独切换各个区域的固定元件引起地分离，如此使得键合波前在时间上如期望的那样发展。尤其地，两个基底之间的键合波前应在所有时间点呈现径向对称的形状。在键合波前的传播期间，传感器连续测量第一基底和/或第二基底的基底表面背侧，使得在键合波前不希望地偏离时，可以通过有针对性地操控区域的各个固定元件将键合波前再次带到其期望的形状。
根据本发明的备选的、优选的第二方法以相反顺序实施根据本发明的第一方法的第四方法步骤和第五方法步骤。首先使第一基底和/或第二基底在彼此不接触的情况下变形。此后，将两个基底相对于彼此相对靠近，直到接触。尤其地，一旦进行接触，就结束两个基底通过两个基底保持器的相对平移运动的相对接近。
在根据本发明的方法的一个特殊实施方式中，下部基底总是整面地固定，因此不弯曲。
除了根据本发明的键合波测量的方法之外，还存在根据本发明的键合波操纵的方法。尤其地，这些方法可以与上述键合波测量的方法结合，尤其在方法步骤6中。根据本发明的这些方法非常特殊，并且尤其取决于根据本发明的具有特殊区域的基底保持器。它们在此进行详细描述。
根据本发明的键合波操纵的第一方法尤其还具有以下方法步骤：
第一键合方法
在根据本发明的第一方法步骤中，下部基底整面地固定，即不弯曲。
在根据本发明的第二方法步骤中，将上部基底固定在具有尤其仅存在于基底保持器的周边中的多个区域的基底保持器处。优选地存在如此多的区域，使得可以产生2*n重对称性。分别具有八个周边区域的基底保持器是特别优选的。四个区域那么例如在0°、90°、180°和270°，以下称为正常位置。其余四个尤其较长的区域位于其间，即在45°、135°、225°和315°，以下称为对角线位置。最初，所有2n个区域都处于切换状态并固定上部基底，从而将该基底牢固固定，并且使由于重力产生的弯曲影响至少最小化。
在根据本发明的第三方法步骤中，现在停用2*n个区域中的n个。尤其地，停用对角线位置处的较长区域。通过停用n个区域，使基底优选如此变形，使得由于机械各向异性和重力导致的不对称性得到补偿，键合波前在键合过程期间获得期望的形状，尤其径向对称。
在根据本发明的第四方法步骤中，接触基底，尤其借助变形器件和/或通过使基底保持器相对于彼此相对靠近。
在根据本发明的第五方法步骤中，测量第一基底和/或第二基底的基底保持器背侧，并且如果需要，通过相应地切换各个区域的固定元件来相应地适配传播的键合波前。
第二键合方法
根据本发明的第二键波操纵方法尤其还具有以下方法步骤：
在根据本发明的第一方法步骤中，将下部基底固定在具有尤其仅存在于基底保持器的周边中的多个区域的基底保持器处。优选地存在如此多的区域，使得可以产生2*n重对称性。分别具有八个周边区域的基底保持器是特别优选的。四个区域那么例如在0°、90°、180°和270°，以下称为正常位置。其余四个尤其较长的区域位于其间，即在45°、135°、225°和315°，以下称为对角线位置。最初，所有2n个区域都处于切换状态并固定下部基底。
在根据本发明的第二方法步骤中，将上部基底固定在具有尤其仅存在于基底保持器的周边中的多个区域的基底保持器处。优选地存在如此多的区域，使得可以产生2*n重对称性。分别具有八个周边区域的基底保持器是特别优选的。四个区域那么例如在0°、90°、180°和270°，以下称为正常位置。其余四个尤其较长的区域位于其间，即在45°、135°、225°和315°，以下称为对角线位置。最初，所有2n个区域都处于切换状态并固定上部基底，从而将该基底牢固固定，并且使由于重力产生的弯曲影响至少最小化。
在根据本发明的第三方法步骤中，停用对角线位置处的区域。
在根据本发明的第四方法步骤中，接触基底，尤其借助变形器件和/或通过使基底保持器相对于彼此相对靠近。
在根据本发明的第五方法步骤中，测量第一基底和/或第二基底的基底保持器背侧，并且如果需要，通过相应地切换各个区域的固定元件来相应地适配传播的键合波前。
接近的基底之间的距离介于0μm和2000μm之间，优选介于0μm和1500μm之间，还更优选介于0μm和1000μm之间，所有中最优选介于0μm和500μm之间。
附图说明
本发明的其他优点、特征和细节从优选实施方式的以下描述中以及借助附图得出。其中：
图1示出了根据本发明的第一实施方式中的根据本发明的基底保持器，
图2示出了根据本发明的第二实施方式中的根据本发明的基底保持器，
图3示出了根据本发明的第三实施方式中的根据本发明的基底保持器，
图4示出了根据本发明的第四实施方式中的简化地示出的根据本发明的基底保持器，
图5示出了根据本发明的第五实施方式中的简化地示出的根据本发明的基底保持器，
图6示出了根据本发明的第六实施方式中的简化地示出的根据本发明的基底保持器，以及
图7示出了根据图4的简化地示出的根据本发明的基底保持器，其带有固定的基底。
在图中，相同的构件或具有相同功能的构件以相同的附图标记表示。
具体实施方式
所示的全部图都是基底表面及其区域和固定元件的不一定按比例绘制的示意图。有意省略了具有所有部件的基底保持器的完整图示，因为它们对于根据本发明的构思没有额外价值。尤其地，根据本发明的前三个基底保持器比后三个基底保持器更详细地被示出。
图1示出根据本发明的第一实施方式中的根据本发明的基底保持器1的固定表面。基底保持器1具有基体2、尤其板。基体2可以利用固定件3安装在装置处。在基体2中，在固定区域中存在两个凹处4、尤其长孔，通过它们可以观察到基底的背侧(未示出)。
在基底保持器1的中心存在变形元件5、尤其引脚或喷嘴。基底保持器具有尤其不同地实施的根据本发明的两个固定元件6,6'。外部固定元件6尤其完整且圆形地构造。固定元件6,6''尤其是非常薄地实施的凹部11，所述凹部可以优选地经由流体开口12被抽空并且因此用作真空固定元件。
内部固定元件6'实施为在基体2的剩余表面上的凹部11的网络。固定元件6'尤其也实施为真空固定元件。因此，外部固定元件6是属于区域7的唯一固定元件。内部固定元件6'是属于区域7'的唯一固定元件。基底保持器1还可以具有不同的传感器8、尤其压力测量传感器。
在所示的所有实施方式中，区域7,7'环形、尤其圆环形地布置。
下图中所示的引脚9的数量在图中比在实际基底保持器中的数量少得多。根据本发明的基底保持器，对于每个固定元件6''可以具有数以百计、要不是甚至数以千计的这样的引脚9。
图2示出了根据本发明的第二实施方式中的根据本发明的基底保持器1'的固定表面。基体2可以利用固定件3安装在装置处。基底保持器1'具有尤其在径向和方位角上限制的多个固定元件6''。
固定元件6''尤其是回缩的、优选地铣出的凹部11，其中在若干部位处存在引脚9(英文：pin)。引脚9的引脚表面尤其与接条10的接条表面一致。固定元件6''尤其实施为真空固定元件。凹部11可以经由流体出口12抽空，尤其各自地并且由于被接条10分开而彼此独立地抽空。如果固定元件6''也应用作变形元件，则流体也可以经由流体开口12流入，这导致固定基底的变形、尤其局部变形。
多个固定元件6''组合形成区域7，而另一个不同成形的中心固定元件6''形成中心的第二区域7'。在基底保持器1'的中心优选地存在变形元件5，其可以使固定的基底变形，尤其在中心变形。引脚9尤其用于减少固定基底的接触面积，优选地以便避免污染。多个传感器8、尤其压力传感器可以分布在基底保持器1'的固定表面上。
图3示出了根据本发明的基底保持器1''的根据本发明的还更有利的另一实施方式。固定元件6,6''存在于基底保持器1''的周边，并且在方位角上彼此分开。固定元件6尤其是简单的凹部11、槽，其再次非常薄地实施，而固定元件6''再次构造为凹部11，其具有引脚9和流体出口12。在固定元件6,6''之间可以存在具有带引脚9的凹部11的区域。这些区域也可以但不是必须构造为固定元件。同样地，中心区域可以仅构造为具有引脚9的凹部11和/或又可以用作固定元件。如图所示，中心区域具有平坦表面也是可以想象的。在这种情况下，选择此视图是为了将重点放在周边的固定元件6,6''上并更好地凸显它们。基底保持器1''又可以具有传感器8和/或变形元件5。尤其地，各个固定元件6,6''可以再次用作固定元件和/或变形元件。
所示的根据本发明的所有实施方式应公开可分组到区域7,7'中的多个固定元件6,6',6''的方案。但区域形成的方案远远超出了将彼此相邻的各个固定元件分组的范围。即根据本发明，可以将彼此不相邻的固定元件分组到区域中。为了阐明根据本发明的这个方面，在其他附图中没有示出具有所有细节的基底保持器。而是，仅借助附图标记6,6',6''表示固定元件，并且借助附图标记7,7',7'',7''''表示区域。
所示的在方位角上彼此分开的区域具有在5°和90°之间、优选在10°和70°之间、还更优选在20°和50°之间、最优选在22°和30°之间、所有中最优选约22.5°的圆截段角。
所述区域具有介于50mm和1mm之间、优选介于50mm和10mm之间、还更优选介于50mm和20mm之间、最优选介于50mm和30mm之间、所有中最优选介于50mm和40mm之间的径向长度。
图4示出了根据本发明的基底保持器的另一特殊实施方式，其中存在三个不同的区域。第一区域7由总共12个固定元件6组成，所述固定元件分别以三个固定元件6为一组位于对角线上。第二区域7'由总共12个固定元件6组成，所述固定元件分别以三个固定元件6为一组位于根据本发明的基底保持器的左侧、右侧、上侧和下侧处。中心还存在较大的区域7''，其尤其仅由唯一的固定元件6组成。
图5示出了根据本发明的基底保持器的另一特殊实施方式，其中有四个不同的区域7,7',7'',7'''。最外部的第一区域由四个沿圆定位的固定元件6组成。类似地，这同样适用于区域7'和7''，它们各自位于较小的半径处。第四区域7'''是具有更小半径的更大的、尤其完整封闭的区域，尤其仅由一个固定元件6组成。
图6示出了根据本发明的基底保持器的另一特殊实施方式，其中存在三个不同的区域7,7',7''。第一区域7由六个固定元件6组成。这些固定元件6分别以三个固定元件为一组，分两组位于上部位置和下部位置。第二区域7'由六个固定元件6组成。这些固定元件6分别以三个固定元件为一组，分两组位于左边位置和右边位置。另一大面积的、尤其仅由一个固定元件6组成的区域7''填充大部分剩余面积，并且甚至部分地包围两个区域7,7'。
从所示的图中应得知，可以将任何数量的固定元件6组合成任意区域。在另外的图中现在解释为何这种区域形成是必要的。
图7示例性地示出了图4中的根据本发明的基底保持器1'''。然而，基底保持器1'''现在固定遮盖固定元件6的基底13。区域 7,7' 的位置仍然显示。箭头14表示机械各向异性，其适合于借助根据本发明的区域7,7',7''来补偿，亦即在键合过程之前和/或在其期间来补偿。例如，所示基底13可以具有取决于方向的E模量，如同在结晶学的(100)平面内的立方体材料的情况。由此，导致基底13下垂的本身均匀作用的力(例如重力)将导致基底内的各向异性的应变。还可以设想，由于仅通过区域7'固定基底而出现扭曲，该扭曲然后也称为机械各向异性。这也许可以通过附加切换区域7''(由基底13遮盖)来补偿。用于最佳地和期望地补偿机械各向异性14的各个区域的正确切换理想地通过试验来确定。还提到的是，一个区域的各个固定元件6尤其可以如此构造，使得它们径向地布置。尤其地，这种布置结构允许在键合波从中心移动到边缘时进行径向调整。
附图标记列表
1,1',1'',1''',1'''',1''''' 基底保持器
2 基体
3 固定件
4 凹处
5 变形元件
6,6',6'' 固定元件
7,7' 区域
8 传感器
9 引脚
10 接条
11 凹部
12 流体出口、尤其钻孔
13 基底
14 机械各向异性。

Claims (15)

1.一种用于接纳基底(13)的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其具有用于固定所述基底(13)的固定元件(6,6',6'')，其中，所述固定元件(6,6',6'')可分组到区域(7,7')中，其中，所述区域(7,7')优选环形、更优选圆环形地布置。
2.根据权利要求1所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，所述区域(7,7')相对于所述基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')的中心对称地布置。
3.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，所述区域(7,7')围绕所述基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')的中心布置成多个环、优选圆环。
4.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，所述区域(7,7')在径向方向上和/或在方位角方向上均匀地彼此间隔开。
5.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，所述区域(7,7')从所述基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')的中心朝向所述基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')的边缘构造有变化的宽度、尤其变大的宽度。
6.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1"''')，其中，所述区域(7,7')能够单独切换。
7.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，多个区域(7,7')可分组并且能够共同切换。
8.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，在所述区域(7,7')中的所述固定元件(6,6',6'')的数量能够灵活变化。
9.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，能够将所述固定元件(6,6')灵活地配属于不同的区域(7,7')。
10.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，所述固定元件(6,6')能够以跨区域的方式来操控。
11.一种用于固定和键合一个基底(13)或多个基底的方法，尤其利用根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1''''')，其中，将固定元件(6,6',6'')分组到区域(7,7')中，其中，使所述区域(7,7')优选环形、更优选圆环形地构造。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，单独切换所述区域(7,7')。
13.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中，将多个区域(7,7')分组并且共同切换。
14.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中，灵活改变所述区域(7,7')中的所述固定元件(6,6',6'')的数量。
15.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中，将所述固定元件(6,6')灵活地配属于不同的区域(7,7')。
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