CN115595537A - 一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及镀膜工艺技术领域，具体涉及一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺；包括如下步骤：预处理；研磨；镀膜准备；单层镀膜；双层镀膜；多层镀膜，交替进行单层镀膜步骤及双层镀膜步骤，共计在片材表面完成六层镀膜后，即可将真空腔降至室温，以取出镀膜片材，改进镜头镀膜工艺，在进行镀膜时，通过在片材上进行交替镀膜步骤，并在每层镀膜完成后，利用离子源清洁及活化镀膜，从而在需要对片材进行多层镀膜工作时，能有效提升镀膜效率，合理改善生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜工艺技术领域，尤其涉及一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺。
背景技术
光学镜头在进行摄像过程中，光线从空气进入到镜头时，由于光线折射率的变化，会使得光线在镜筒内出现反射光线，导致在拍摄过程中出现杂光，因此，如何减少拍摄过程中不必要的反射成为较为迫切的问题；
现有技术中多采用对镜片进行镀膜的方式，将镜片放置在真空环境中进行真空镀膜从而减少反射杂光，但是进行多层镀膜时发现，无法很好的同时进行多层镀膜工作。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，以满足镜头多层镀膜的加工需求。
为实现上述目的，本发明提供了一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，包括如下步骤：
预处理，对镜片进行镀膜前预处理，并清除镜片表面明显碎屑；
研磨，将预处理后的镜片涂覆光学沥青，将镜片沾附到底座上后，于镜片表面涂抹研磨剂，进行多贴研磨，以产生适宜加工的片材，随后将光学沥青洗去；
镀膜准备，将表面光滑的片材均匀布置在圆盘上后，放置到镀膜机的真空腔中，先进行高真空抽气，将残留在片材上的材料进行清除，并打开离子源，活化片材表面；
单层镀膜，加热活化片材后，继续抽真空，并加热电子枪中的第一镀膜材料至蒸发温度，以第一镀膜材料作为片材单层镀膜基材，直至第一镀膜材料达到预设厚度，即可完成单层镀膜步骤；
双层镀膜，单层镀膜达到预设厚度后，再次将真空腔进行抽真空，并加热电子枪中第二镀膜材料至蒸发温度，以第二镀膜材料作为片材双层镀膜基材，直至双层镀膜达到预设厚度，即可完成双层镀膜步骤；
多层镀膜，交替进行单层镀膜步骤及双层镀膜步骤，共计在片材表面完成六层镀膜后，即可将真空腔降至室温，以取出镀膜片材。
在本申请中，改进镀膜工艺的步骤，在进行对片材的多层镀膜工作时，在真空状态下，真空度低于3×10-5torr后，于真空腔60～70℃的条件下，加热第一镀膜材料，直至单层镀膜达到预设厚度，随后启动离子源，持续60～120秒，实现对镀膜表面的清洁以及活化，再继续抽真空处理，当真空度低于3×10-5torr后，对第二镀膜材料进行加热，使得第二镀膜材料在单层镀膜表面进行双层镀膜工作，真空状态下，将真空腔温度保持在60～80℃，直至第二镀膜材料达到预设值，此时再启动离子源，实现对双层镀膜的清洁及活化后，进行抽真空，随后进行单层镀膜步骤，如此反复，直至片材一侧拥有六层镀膜为止，通过前述步骤，可以有效提升现有技术中，对镜片镀膜进行多层镀膜的效率，同时，利用高折射率的第一镀膜材料与低折射率的第二镀膜材料交替镀膜，能有效减少镜头内部的光折射，有效改善了拍摄过程中因光折射出现的杂光现象。
其中，在进行双层镀膜之前，需要利用离子源对完成单层镀膜的片材进行活化。
在完成单层镀膜后，利用离子源冲击片材，使得片材表面残留的部分杂质能被离子源带走，同时，离子源能激发镀膜的表面活化能，使得第二镀膜材料在镀膜表面进行扩散，有效提升第二镀膜材料进行镀膜过程中的均匀程度。
其中，所述离子源以氧气作为反应气体。
以氧气作为离子辅助，流量控制在10～20sccm。
其中，所述镀膜准备还包括如下步骤：
将片材外边缘涂覆胶带，一方面避免片材边缘处出现镀膜，另一方面提升片材在进行镀膜时，放置在圆盘中的安置稳定性。
在片材进行镀膜之前，先于片材外侧包覆胶带，一方面减少镀膜过程中，镀膜材料在片材边缘处的粘附，另一方面可以提升片材在圆盘上的安置稳定性。
其中，所述第一镀膜材料为五氧化三钛，所述第二镀膜材料为氧化硅。
所述第一镀膜材料为高折射率的五氧化三钛，所述第二镀膜材料为较低折射率的氧化硅，通过让将五氧化三钛和氧化硅交替设置，有效改善光线射入镜片时出现的折射情况，通过抑制光线反射，避免拍摄过程中镜头出现杂光的现象。
本发明的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，在现有技术的基础上，改进镜头镀膜工艺，在进行镀膜时，通过在片材上进行交替镀膜步骤，并在每层镀膜完成后，利用离子源清洁及活化镀膜，从而在需要对片材进行多层镀膜工作时，能有效提升镀膜效率，合理改善生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明提供的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺的工艺步骤示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，进一步的自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
请参阅图1，本发明提供了一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，包括如下步骤：
S1：预处理，对镜片进行镀膜前预处理，并清除镜片表面明显碎屑；
S2：研磨，将预处理后的镜片涂覆光学沥青，将镜片沾附到底座上后，于镜片表面涂抹研磨剂，进行多贴研磨，以产生适宜加工的片材，随后将光学沥青洗去；
S3：镀膜准备，将表面光滑的片材均匀布置在圆盘上后，放置到镀膜机的真空腔中，先进行高真空抽气，将残留在片材上的材料进行清除，并打开离子源，活化片材表面；
S4：单层镀膜，加热活化片材后，继续抽真空，并加热电子枪中的第一镀膜材料至蒸发温度，以第一镀膜材料作为片材单层镀膜基材，直至第一镀膜材料达到预设厚度，即可完成单层镀膜步骤；
S5：双层镀膜，单层镀膜达到预设厚度后，再次将真空腔进行抽真空，并加热电子枪中第二镀膜材料至蒸发温度，以第二镀膜材料作为片材双层镀膜基材，直至双层镀膜达到预设厚度，即可完成双层镀膜步骤；
S6：多层镀膜，交替进行单层镀膜步骤及双层镀膜步骤，共计在片材表面完成六层镀膜后，即可将真空腔降至室温，以取出镀膜片材。
在本申请中，改进镀膜工艺的步骤，在进行对片材的多层镀膜工作时，在真空状态下，真空度低于3×10-5torr后，于真空腔60～70℃的条件下，加热第一镀膜材料，直至单层镀膜达到预设厚度，随后启动离子源，持续60～120秒，实现对镀膜表面的清洁以及活化，再继续抽真空处理，当真空度低于3×10-5torr后，对第二镀膜材料进行加热，使得第二镀膜材料在单层镀膜表面进行双层镀膜工作，真空状态下，将真空腔温度保持在60～80℃，直至第二镀膜材料达到预设值，此时再启动离子源，实现对双层镀膜的清洁及活化后，进行抽真空，随后进行单层镀膜步骤，如此反复，直至片材一侧拥有六层镀膜为止，通过前述步骤，可以有效提升现有技术中，对镜片镀膜进行多层镀膜的效率，同时，利用高折射率的第一镀膜材料与低折射率的第二镀膜材料交替镀膜，能有效减少镜头内部的光折射，有效改善了拍摄过程中因光折射出现的杂光现象。
进一步的，在进行双层镀膜之前，需要利用离子源对完成单层镀膜的片材进行活化。
在完成单层镀膜后，利用离子源冲击片材，使得片材表面残留的部分杂质能被离子源带走，同时，离子源能激发镀膜的表面活化能，使得第二镀膜材料在镀膜表面进行扩散，有效提升第二镀膜材料进行镀膜过程中的均匀程度。
进一步的，所述离子源以氧气作为反应气体。
以氧气作为离子辅助，流量控制在10～20sccm。
进一步的，所述镀膜准备还包括如下步骤：
将片材外边缘涂覆胶带，一方面避免片材边缘处出现镀膜，另一方面提升片材在进行镀膜时，放置在圆盘中的安置稳定性。
在片材进行镀膜之前，先于片材外侧包覆胶带，一方面减少镀膜过程中，镀膜材料在片材边缘处的粘附，另一方面可以提升片材在圆盘上的安置稳定性。
进一步的，所述第一镀膜材料为五氧化三钛，所述第二镀膜材料为氧化硅。
所述第一镀膜材料为高折射率的五氧化三钛，所述第二镀膜材料为较低折射率的氧化硅，通过让将五氧化三钛和氧化硅交替设置，有效改善光线射入镜片时出现的折射情况，通过抑制光线反射，避免拍摄过程中镜头出现杂光的现象。
实施例1：
对镜片进行镀膜前预处理，并清除镜片表面明显碎屑，随后将预处理后的镜片涂覆光学沥青，将镜片沾附到底座上后，于镜片表面涂抹研磨剂，进行多贴研磨，以产生适宜加工的片材，随后将光学沥青洗去，将表面光滑的片材均匀布置在圆盘上后，放置到镀膜机的真空腔中，先进行高真空抽气，将残留在片材上的材料进行清除，并加热真空腔，使之温度控制在70℃，并打开离子源，活化片材表面；加热活化片材后，继续抽真空，真空度达到3×10-5torr后，于真空腔60℃的条件下，加热第一镀膜材料，直至单层镀膜达到预设厚度，随后启动离子源，持续60秒，实现对镀膜表面的清洁以及活化，再继续抽真空处理，当真空度低于3×10-5torr后，对第二镀膜材料进行加热，使得第二镀膜材料在单层镀膜表面进行双层镀膜工作，真空状态下，将真空腔温度保持在60℃，直至第二镀膜材料达到预设值，此时再启动离子源，实现对双层镀膜的清洁及活化后，进行抽真空，随后进行单层镀膜步骤，如此反复，直至片材一侧拥有六层镀膜为止，通过前述步骤，可以有效提升现有技术中，对镜片镀膜进行多层镀膜的效率，同时，利用高折射率的第一镀膜材料与低折射率的第二镀膜材料交替镀膜，能有效减少镜头内部的光折射，有效改善了拍摄过程中因光折射出现的杂光现象。
第二实施例：
对镜片进行镀膜前预处理，并清除镜片表面明显碎屑，随后将预处理后的镜片涂覆光学沥青，将镜片沾附到底座上后，于镜片表面涂抹研磨剂，进行多贴研磨，以产生适宜加工的片材，随后将光学沥青洗去，将表面光滑的片材均匀布置在圆盘上后，放置到镀膜机的真空腔中，先进行高真空抽气，将残留在片材上的材料进行清除，并加热真空腔，使之温度控制在70℃，并打开离子源，活化片材表面；加热活化片材后，继续抽真空，真空度低于3×10-5torr后，于真空腔70℃的条件下，加热第一镀膜材料，直至单层镀膜达到预设厚度，随后启动离子源，持续120秒，实现对镀膜表面的清洁以及活化，再继续抽真空处理，当真空度低于3×10-5torr后，对第二镀膜材料进行加热，使得第二镀膜材料在单层镀膜表面进行双层镀膜工作，真空状态下，将真空腔温度保持在80℃，直至第二镀膜材料达到预设值，此时再启动离子源，实现对双层镀膜的清洁及活化后，进行抽真空，随后进行单层镀膜步骤，如此反复，直至片材一侧拥有六层镀膜为止，通过前述步骤，可以有效提升现有技术中，对镜片镀膜进行多层镀膜的效率，同时，利用高折射率的第一镀膜材料与低折射率的第二镀膜材料交替镀膜，能有效减少镜头内部的光折射，有效改善了拍摄过程中因光折射出现的杂光现象。
第三实施例：
对镜片进行镀膜前预处理，并清除镜片表面明显碎屑，随后将预处理后的镜片涂覆光学沥青，将镜片沾附到底座上后，于镜片表面涂抹研磨剂，进行多贴研磨，以产生适宜加工的片材，随后将光学沥青洗去，将表面光滑的片材均匀布置在圆盘上后，放置到镀膜机的真空腔中，先进行高真空抽气，将残留在片材上的材料进行清除，并加热真空腔，使之温度控制在70℃，并打开离子源，活化片材表面；加热活化片材后，继续抽真空，真空度低于3×10-5torr后，于真空腔65℃的条件下，加热第一镀膜材料，直至单层镀膜达到预设厚度，随后启动离子源，持续90秒，实现对镀膜表面的清洁以及活化，再继续抽真空处理，当真空度低于3×10-5torr后，对第二镀膜材料进行加热，使得第二镀膜材料在单层镀膜表面进行双层镀膜工作，真空状态下，将真空腔温度保持在70℃，直至第二镀膜材料达到预设值，此时再启动离子源，实现对双层镀膜的清洁及活化后，进行抽真空，随后进行单层镀膜步骤，如此反复，直至片材一侧拥有六层镀膜为止，通过前述步骤，可以有效提升现有技术中，对镜片镀膜进行多层镀膜的效率，同时，利用高折射率的第一镀膜材料与低折射率的第二镀膜材料交替镀膜，能有效减少镜头内部的光折射，有效改善了拍摄过程中因光折射出现的杂光现象。
本发明的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，在现有技术的基础上，改进镜头镀膜工艺，在进行镀膜时，通过在片材上进行交替镀膜步骤，并在每层镀膜完成后，利用离子源清洁及活化镀膜，从而在需要对片材进行多层镀膜工作时，能有效提升镀膜效率，合理改善生产效率。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。
Claims (5)
1.一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，其特征在于，
包括如下步骤：
预处理，对镜片进行镀膜前预处理，并清除镜片表面明显碎屑；
研磨，将预处理后的镜片涂覆光学沥青，将镜片沾附到底座上后，于镜片表面涂抹研磨剂，进行多贴研磨，以产生适宜加工的片材，随后将光学沥青洗去；
镀膜准备，将表面光滑的片材均匀布置在圆盘上后，放置到镀膜机的真空腔中，先进行高真空抽气，将残留在片材上的材料进行清除，并打开离子源，活化片材表面；
单层镀膜，加热活化片材后，继续抽真空，并加热电子枪中的第一镀膜材料至蒸发温度，以第一镀膜材料作为片材单层镀膜基材，直至第一镀膜材料达到预设厚度，即可完成单层镀膜步骤；
双层镀膜，单层镀膜达到预设厚度后，再次将真空腔进行抽真空，并加热电子枪中第二镀膜材料至蒸发温度，以第二镀膜材料作为片材双层镀膜基材，直至双层镀膜达到预设厚度，即可完成双层镀膜步骤；
多层镀膜，交替进行单层镀膜步骤及双层镀膜步骤，共计在片材表面完成六层镀膜后，即可将真空腔降至室温，以取出镀膜片材。
2.如权利要求1所述的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，其特征在于，在进行双层镀膜之前，需要利用离子源对完成单层镀膜的片材进行活化。
3.如权利要求2所述的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，其特征在于，所述离子源以氧气作为反应气体。
4.如权利要求3所述的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，其特征在于，
所述镀膜准备还包括如下步骤：
将片材外边缘涂覆胶带，一方面避免片材边缘处出现镀膜，另一方面提升片材在进行镀膜时，放置在圆盘中的安置稳定性。
5.如权利要求4所述的一种可改善实拍杂光的镜头镀膜工艺，其特征在于，
所述第一镀膜材料为五氧化三钛，所述第二镀膜材料为氧化硅。
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