CN115593062A - 一种降温制品及全太阳光谱高反射面料的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开一种降温制品，其特征在于，其包括由多根微纳米纤维缠绕交织形成的具有微纳米孔隙的全太阳光谱高反射膜以及基底材料；所述各微纳米纤维通过微纳米球连接；其中所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。还公开一种全太阳光谱高反射面料的制备方法，其特征在于，其包括下述步骤：制备制冷基布；制备全太阳光谱高反射膜；将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
Description
技术领域
本申请涉及降温制品技术领域，尤其涉及一种降温制品及全太阳光谱高反射面料的制备方法。
背景技术
传统建筑热调节系统为应对高温等极端天气往往产生巨大的能源消耗，并引发温室效应等气候问题，进一步使得高温等极端天气变得剧烈和频繁。而过热的刺激往往会危害人体健康，引发不适和疾病。个人热管理作为只向个体及其局部环境提供加热或冷却的技术，可以在实现无源降温的同时满足人体个性化热舒适需求，减少人类对空调等低能效温控方法的依赖。
对于室外环境太阳光谱辐照度主要分布在紫外、可见光和近红外波长范围(0.3-2.5μm)，总功率密度约1000W/m2，人体的裸露皮肤可吸收60％以上的太阳总辐照度，因此产生了大量的能量输入。随着超表面技术在热管理科技领域的延伸，基于智能降温材料降温技术应运而生。
在专利文献1中公开了一种辐射制冷涂料及其应用，将自修复剂和制冷颗粒分散于高分子乳液中制备辐射制冷涂料，并在表面覆盖金属颗粒作为薄层。在专利文献2中公开了一种添加二氧化钛空心球的高分子薄膜复合辐射制冷材料，将偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物与二氧化钛空心球均匀混合，通过涂布干燥得到复合辐射制冷薄膜。上述发明的涂层薄膜态材料的制备工艺复杂，且掺杂的引入会导致材料易发生老化，且缺乏必要的透气性和舒适性，无法用于人体皮肤的局部降温。
纳米技术的革新发展将降温材料由想法变为现实，而降温织物领域近年来也得到了长足发展。在专利文献3中提出了一种辐射制冷纤维及其织物的制备方法，利用熔融复合纺丝法在聚合物纤维内引入无机微纳颗粒，并进一步编织得到适用于人体皮肤表面降温的织物。由此得到的纤维织物具有降温效果，但织物的强度低、透光大、耐磨性差，不具备防水抗污特性，且二氧化钛颗粒的引入往往会导致紫外光的吸收，材料易老化，不适合进一步制备户外降温面料。
综上所述，目前的降温器件存在以下问题：(1)涂层和薄膜形态的制冷材料缺乏穿戴的舒适性，应用范围有限；(2)降温织物的强度低、透光大、耐磨性差，且不具备防水抗污特性，不适合用于户外服装使用；(3)户外降温织物或薄膜通常都是紫外吸收型的，存在无法实现全太阳光谱反射、易加速材料老化、耐久性差、降温性能差等问题。
现有技术文献
专利文献1：CN110256924A公开文本
专利文献2：CN109705819A公开文本
专利文献3：CN110685031A公开文本
发明内容
为了解决上述问题，本申请提供一种降温制品，其可以对整个太阳光谱波段实现高反射率，更具体提供一种全太阳光谱高反射面料，在实现可穿戴性的基础上，使面料具有良好的力学性能、防水抗污性能、耐磨性以及降温特性，且对整个太阳光谱波段实现高反射率，避免材料老化的同时提高降温效果，制备适用于户外降温的面料，并实现大规模批量制备。本申请还提供一种全太阳光谱高反射面料的制备方法。
本申请的具体技术方案如下：
1、一种降温制品，其特征在于，
其包括由多根微纳米纤维缠绕交织形成的具有微纳米孔隙的全太阳光谱高反射膜以及基底材料；所述微纳米纤维之间通过微纳米球连接；
其中所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为50nm～5μm的微纳米球和直径为50nm～5μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
2、根据项1所述的降温制品，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜的厚度为10μm～200μm，优选为20μm～100μm，更优选为40μm～60μm。
3、根据项1或2所述的降温制品，其特征在于，所述微纳米纤维的材料选自如下一种或两种以上：聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚乙二醚(PEO)、聚乙烯(PE)和聚酰胺(PA)；
优选地，所述微纳米纤维和微纳米球的材料为聚四氟乙烯(PTFE)或聚氨基甲酸酯(PU)。
4、根据项1～3中任一项所述的降温制品，其特征在于，其为全太阳光谱高反射面料，其中所述基底材料为制冷基布。
5、根据项4所述的降温制品，其特征在于，所述制冷基布为选自针织结构、机织结构或无纺布结构的织物。
6、根据项1～3中任一项所述的降温制品，其特征在于，其为户外纺织品，其中所述基底材料为无纺布结构的织物；
优选地，所述户外纺织品为口罩。
7、根据项5或6所述的降温制品，其特征在于，所述织物包括降温纤维，所述降温纤维包括无机微纳米颗粒和聚合物基底；
优选地，所述织物由降温纤维形成，所述降温纤维由无机微纳米颗粒和聚合物基底形成。
8、根据项7所述的降温制品，其特征在于，所述无机微纳米颗粒选自如下一种或两种以上：二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、硫化锌(ZnS)、氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)、氮化硼(BN)、硫酸钡(BaSO4)、碳酸钡(BaCO3)和硅酸铝(Al2SiO5)；
优选地，所述无机微纳米颗粒粒径为0.1μm～25μm，优选为0.3μm～5μm，更优选为0.4μm～1.2μm；
优选地，所述无机微纳米颗粒为二氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)。
9、根据项7或8所述的降温制品，其特征在于，所述聚合物基底的材料包括如下一种或两种以上：聚乳酸(PLA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、聚丙烯腈(PAN)、纤维素、壳聚糖、聚对苯二甲酰对苯二胺和聚对苯甲酰胺中的一种或两种以上；
优选地，所述聚合物基底的材料为聚乳酸(PLA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
10、一种全太阳光谱高反射面料的制备方法，其特征在于，其包括下述步骤：
制备制冷基布；
制备全太阳光谱高反射膜；
将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
11、根据项10所述的制备方法，其特征在于，所述制备制冷基布步骤中，将无机微纳米颗粒和聚合物基底混合后得到复合材料，将所述复合材料制成降温纤维，再将所述降温纤维制成织物，得到所述制冷基布；
优选地，所述制冷基布为选自针织结构、机织结构或无纺布结构的织物。
12、根据项11所述的制备方法，其特征在于，所述无机微纳米颗粒选自如下一种或两种以上：二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、硫化锌(ZnS)、氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)、氮化硼(BN)、硫酸钡(BaSO4)、碳酸钡(BaCO3)和硅酸铝(Al2SiO5)；
优选地，所述无机微纳米颗粒粒径为0.1μm～25μm，优选为0.3μm～5μm，更优选为0.4μm～1.2μm；
优选地，所述无机微纳米颗粒为二氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)。
13、根据项11或12中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述聚合物基底的材料包括如下一种或两种以上：聚乳酸(PLA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、聚丙烯腈(PAN)、纤维素、壳聚糖、聚对苯二甲酰对苯二胺和聚对苯甲酰胺中的一种或两种以上；
优选地，所述聚合物基底的材料为聚乳酸(PLA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
14、根据项11～13中任一项所述的制备方法，其特征在于，利用选自熔融纺丝法、湿法纺丝法、热拉制法、静电纺丝法、熔喷纺丝法中的一种或两种以上，优选利用熔融纺丝法或热拉制法，将所述复合材料制成降温纤维。
15、根据项10～14中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备全太阳光谱高反射膜步骤中，利用微纳米纤维和微纳米球的材料，通过双向拉伸法或静电纺丝法制备所述全太阳光谱高反射膜。
16、根据项10～15中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜由多根微纳米纤维缠绕交织形成且具有微纳米孔隙；所述微纳米纤维之间通过微纳米球连接。
17、根据项10～16中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为50nm～5μm的微纳米球和直径为50nm～5μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
18、根据项10～17中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜的厚度为10μm～200μm，优选为20μm～100μm，更优选为40μm～60μm。
19、根据项10～18中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述微纳米纤维和微纳米球的材料选自如下一种或两种以上：聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚乙二醚(PEO)、聚乙烯(PE)和聚酰胺(PA)；
优选地，所述微纳米纤维和微纳米球的材料为聚四氟乙烯(PTFE)或聚氨基甲酸酯(PU)。
20、根据项10～19中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备全太阳光谱高反射膜步骤后，利用点胶贴合法或热压复合法，将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
发明的效果
本申请的降温制品由于包括限定了直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积百分比的全太阳光谱高反射膜以及基底材料，可以实现紫外(300-400nm)、可见(400-760nm)、近红外波段(760-2500nm)即全太阳波段(0.3-2.5μm)光谱的反射，从而独立适用于各类降温场景，比如降温织物、降温窗户、降温金属材料、降温建筑物、降温包装等。
本申请的全太阳光谱高反射面料通过全太阳光谱高反射膜贴合在制冷基布上得到，全太阳光谱高反射膜限定了直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积百分比，本申请的制备方法制得的全太阳光谱高反射面料由于复合了全太阳光谱高反射膜，从而减少了经纬编织结构造成的漏光，同时具有良好的力学性能、防水抗污性能、耐磨性等。
本申请的全太阳光谱反射面料对紫外-可见-近红外波段即整个太阳辐射波段进行反射，在避免材料老化的同时极大增强降温效果，适用于户外使用，并能够实现大规模批量制备，适合工业放大应用。
本申请的全太阳光谱高反射膜在全太阳光谱高反射面料中主要起到反射紫外光的作用，还起到一定程度反射可见光和近红外光的作用，制冷基布主要起到反射可见光波段和近红外波段的作用。
附图说明
图1为本申请一个具体实施方式的全太阳光谱高反射面料的结构示意图。
图2为本申请一个具体实施方式的全太阳光谱高反射膜的微观示意图。
符号说明
1全太阳光谱高反射膜 2微纳米球
3微纳米孔隙 4微纳米纤维
5制冷基布
具体实施方式
下面对本申请做以详细说明。虽然显示了本申请的具体实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本申请而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本申请，并且能够将本申请的范围完整的传达给本领域的技术人员。
需要说明的是，在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”或“包括”为一开放式用语，故应解释成“包含但不限定于”。说明书后续描述为实施本申请的较佳实施方式，然所述描述乃以说明书的一般原则为目的，并非用以限定本申请的范围。本申请的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。
本申请提供一种降温制品，如图1所示，其特征在于，
其包括由多根微纳米纤维4缠绕交织形成的具有微纳米孔隙3的全太阳光谱高反射膜1以及基底材料；所述微纳米纤维4之间通过微纳米球2连接；
其中所述全太阳光谱高反射膜1中的直径为10nm～10μm的微纳米球2和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙3的总体积占所述全太阳光谱高反射膜1的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
本申请中两根或三根以上微纳米纤维可通过一个微纳米球连接。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，例如可为10％、15％、20％、25％、30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％等，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
在上述具体实施方式中，所述全太阳光谱高反射膜的体积为以下三项之和：(1)直径为10nm～10μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在10nm～10μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
对于作为散射体的微纳米球和微纳米孔隙，通过扫描电子显微镜(SEM)拍摄图像，从图像中统计满足要求的微纳米球的粒径以及微纳米孔隙的孔径，计算微纳米球和孔隙的体积和，再除以总体积，即为所谓散射体的微纳米球和微纳米孔隙的体积百分比。本申请中全太阳光谱高反射膜的体积为构成全太阳光谱高反射膜的全部纤维的体积与由全部纤维形成的全部孔隙的体积的总和。
本申请中，直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙能够作为散射体共同作用反射太阳辐射。本申请对直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的各自的体积没有限制。
本申请中的“微纳米球的直径”是指单个微纳米球的直径。对于微纳米球的直径可通过扫描电子显微镜(SEM)拍摄图像，按照比例尺从图像中测量计算得到。直径为10nm～10μm的微纳米球可以是例如直径为10nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm等的微纳米球。
本申请中的“微纳米孔隙的直径”是指单个微纳米孔隙的直径，对于微纳米孔隙的直径可通过扫描电子显微镜(SEM)拍摄图像，按照比例尺从图像中测量计算得到，所述孔隙可近似为圆形孔隙，电镜图像中直接测量所得的直径即可作为孔隙直径。本申请中的微纳米孔隙是微纳米纤维与微纳米球共同形成的孔隙。直径为10nm～10μm的微纳米孔隙可以是例如直径为10nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm等的微纳米孔隙。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为50nm～5μm的微纳米球和直径为50nm～5μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品中，全太阳光谱高反射膜的厚度为10μm～200μm，例如可为10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm等，优选为20μm～100μm，更优选为40μm～60μm。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的70％～90％，全太阳光谱高反射膜的厚度为40μm～60μm。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的50％～90％，全太阳光谱高反射膜的厚度为20μm～100μm。
本申请中，微纳米纤维和微纳米球的材料相同。
在一个具体实施方式中，所述微纳米纤维和微纳米球的材料选自如下一种或两种以上：聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚乙二醚(PEO)、聚乙烯(PE)和聚酰胺(PA)。
在一个优选的实施方式中，所述微纳米纤维和微纳米球的材料为聚四氟乙烯(PTFE)或聚氨基甲酸酯(PU)。
在一个具体实施方式中，如图1所示，本申请的降温制品为全太阳光谱高反射面料，其中所述基底材料为制冷基布5。
在一个具体实施方式中，所述制冷基布为选自针织结构、机织结构或无纺布结构的织物，所述织物包括降温纤维，所述降温纤维包括无机微纳米颗粒和聚合物基底。
在一个具体实施方式中，本申请的降温制品为户外纺织品，例如可为口罩，其中所述基底材料为无纺布结构的织物，所述织物包括降温纤维，所述降温纤维包括无机微纳米颗粒和聚合物基底。
在一个具体实施方式中，所述织物由降温纤维形成，所述降温纤维由无机微纳米颗粒和聚合物基底形成。
在一个具体实施方式中，所述无机微纳米颗粒选自如下一种或两种以上：二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、硫化锌(ZnS)、氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)、氮化硼(BN)、硫酸钡(BaSO4)、碳酸钡(BaCO3)和硅酸铝(Al2SiO5)，所述聚合物基底的材料包括如下一种或两种以上：聚乳酸(PLA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、聚丙烯腈(PAN)、纤维素、壳聚糖、聚对苯二甲酰对苯二胺和聚对苯甲酰胺中的一种或两种以上。
在一个优选的实施方式中，所述无机微纳米颗粒为二氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)，所述聚合物基底的材料为聚乳酸(PLA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
在一个具体实施方式中，所述无机微纳米颗粒的粒径为0.3～5μm，例如可以为300nm、500nm、700nm、900nm、1000nm、1500nm、2000nm、2500nm、3000nm、3500nm、4000nm、4500nm、5000nm等；优选地，所述无机微纳米颗粒的粒径为400～1200nm，例如可为400nm、500nm、550nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1000nm、1100nm、1200nm等。本申请中，所述无机微纳米颗粒的粒径是指通过电镜检测法得到的平均粒径，具体为D50中位径，例如观看500个颗粒求得D50中位径。
在一个具体实施方式中，所述制冷基布由无机微纳米颗粒和聚合物基底组成，其中所述制冷基布中所述无机微纳米颗粒的质量百分含量为1wt.％～80wt.％，优选为20wt.％～50wt.％，更优选为40wt.％～50wt.％，例如可为1wt.％、5wt.％、10wt.％、15wt.％、20wt.％、25wt.％、30wt.％、35wt.％、40wt.％、45wt.％、50wt.％、55wt.％、60wt.％、65wt.％、70wt.％、75wt.％、80wt.％等。本申请将制冷基布中的无机微纳米颗粒的质量百分含量控制在上述范围内，最终制得的制冷基布的太阳光平均反射率高、拉伸强度大，同时获得优异的光学性能和力学性能。
在一个具体实施方式中，本申请的全太阳光谱高反射面料在紫外光波段的平均反射率大于0.9，例如可为0.9、0.91、0.92、0.93、0.94、0.95、0.96、0.97等，其在可见光波段的平均反射率大于0.9，例如可为0.9、0.91、0.92、0.93、0.94、0.95、0.96、0.97等，其在红外光波段的平均反射率大于0.9，例如可为0.9、0.91、0.92、0.93、0.94、0.95、0.96、0.97等。
物体反射的辐射能量占总辐射能量的百分比，称为反射率，“平均反射率”是指对指定波段内(0.3-2.5μm)各个波长的反射率取加权平均值，权重为太阳辐射强度，通过UV-VIS-NIR分光光度计测量平均反射率。
在一个具体实施方式中，本申请的全太阳光谱高反面料的疏水角大于95°，例如可为95°、96°、97°、98°、99°、100°、101°、102°、103°、104°、105°、106°、107°、108°等。
本申请中，全太阳光谱高反射膜为全太阳光谱高反面料的朝外的一面，制冷基布为朝里的一面，全太阳光谱高反面料的疏水角是在全太阳光谱高反射膜一侧测试的。
“疏水角”，是指在固、液、气三相交界处，自固-液界面经过液体内部到气-液界面之间大于90°的夹角，此时固体表面是疏水性的，即液体不容易润湿固体，容易在表面上移动。本申请中疏水角的检测方法为液滴最大高度法。
本申请还提供一种全太阳光谱高反射面料的制备方法，其包括：
步骤一：制备制冷基布；
步骤二：制备全太阳光谱高反射膜；
步骤三：将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，所述步骤一中，将无机微纳米颗粒和聚合物基底混合后得到复合材料，将所述复合材料制成降温纤维，再将所述降温纤维制成降温织物，得到所述制冷基布，所述制冷基布为选自针织结构、机织结构或无纺布结构的降温织物。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，所述无机微纳米颗粒选自如下一种或两种以上：二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、硫化锌(ZnS)、氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)、氮化硼(BN)、硫酸钡(BaSO4)、碳酸钡(BaCO3)和硅酸铝(Al2SiO5)；所述聚合物基底的材料包括如下一种或两种以上：聚乳酸(PLA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、聚丙烯腈(PAN)、纤维素、壳聚糖、聚对苯二甲酰对苯二胺和聚对苯甲酰胺中的一种或两种以上；
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，所述无机微纳米颗粒为二氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)，所述聚合物基底的材料为聚乳酸(PLA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，利用选自熔融纺丝法、湿法纺丝法、热拉制法、静电纺丝法、熔喷纺丝法中的一种或两种以上，优选利用熔融纺丝法或热拉制法，将所述复合材料制成降温纤维。
“熔融纺丝法”是以聚合物熔体为原料，采用熔融纺丝机进行纺丝的一种成型方法。
“湿法纺丝法”是将聚合物溶于溶剂中，通过喷丝孔喷出细流，进入凝固浴形成纤维的化学纤维纺丝方法。
“热拉制法”是指通过热源对预制棒的部分区域进行加热，使预制棒软化，再从加热区域的一端或两端进行手动或机械拉伸的方法。
“静电纺丝法”是聚合物溶液或熔体在静电作用下进行喷射拉伸而获得纤维的纺丝的方法。
“熔喷纺丝法”是指借助高速热气流使刚挤出的高聚物熔体迅速高倍拉伸固化成形的纺丝方法，其优点是工艺流程短，可以纺丝直接制成无纺织物。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，所述步骤二中，利用微纳米纤维和微纳米球的材料，通过双向拉伸法或静电纺丝法制备所述全太阳光谱高反射膜。
“双向拉伸法”指的是将原料熔融挤出制成较厚的膜后，在适当温度范围内加热进行纵向和横向的拉伸，然后在拉紧状态下进行热定型和冷却再进行后处理的方法。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，所述太阳光谱高反射膜由多根微纳米纤维缠绕交织形成且具有微纳米孔隙；所述微纳米纤维之间通过微纳米球连接；所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，例如可为10％、15％、20％、25％、30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％等，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
本申请中，直径为10nm～10μm的微纳米球可以是例如直径为10nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm等的微纳米球。
本申请中，直径为10nm～10μm的微纳米孔隙可以是例如直径为10nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm等的微纳米孔隙。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为50nm～5μm的微纳米球和直径为50nm～5μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
在一个具体实施方式中，本申请的全太阳光谱高反射面料中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法中，全太阳光谱高反射膜的厚度为10μm～200μm，例如可为10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、200μm等，优选为20μm～100μm，更优选为40μm～60μm。
在一个具体实施方式中，本申请制备方法中，在一个具体实施方式中，本申请的全太阳光谱高反射面料中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的70％～90％，全太阳光谱高反射膜的厚度为40μm～60μm。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法中，在一个具体实施方式中，本申请的全太阳光谱高反射面料中，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的50％～90％，全太阳光谱高反射膜的厚度为20μm～100μm。
本申请中，直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙能够作为散射体共同作用反射太阳辐射。本申请对直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的各自的体积没有限制。
本申请中，微纳米纤维和微纳米球的材料相同。
在一个具体实施方式中，所述微纳米纤维和微纳米球的材料选自如下一种或两种以上：聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚乙二醚(PEO)、聚乙烯(PE)和聚酰胺(PA)。
在一个优选的实施方式中，所述微纳米纤维和微纳米球的材料为聚四氟乙烯(PTFE)或聚氨基甲酸酯(PU)。
在一个具体实施方式中，本申请的制备方法，所述制备全太阳光谱高反射膜步骤后，利用点胶贴合法或热压复合法，将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
“点胶贴合法”，是指在基布上均匀放置一定量的热熔胶，将反射膜盖上后低温加热至胶熔化，冷却后使双层结构贴合的方法。
“热压复合法”，是指将反射膜盖在基布上，高温加热加压，使双层结构贴合的方法。
本申请的全太阳光谱高反射面料，由外到内依次设置全太阳光谱高反射膜和制冷基布，分别控制全太阳光谱高反射膜的厚度，全太阳光谱高反射膜中的直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积百分比，以及制冷基布中的无机微纳米颗粒和聚合物基底的种类，使得制备出的全太阳光谱高反射面料在紫外光波段、可见光波段、红外光波段的平均反射率均可达到0.9以上，在紫外光波段的平均反射率甚至可达到0.95，在可见光波段的平均反射率甚至可达0.95，在红外光波段的平均反射率甚至可达到0.95；拉伸强度在450N以上，甚至可达500N以上，疏水角在100°以上，甚至可达103°，本申请制得的全太阳光谱高反射面料同时具备全太阳光谱高反射性能、良好的力学性能以及防水抗污性能。
实施例
为了更好的说明本申请的技术方案和优点，下面将结合具体实施例对本发明作进一步说明。本发明未详细说明的工艺参数、原料等均按照本领域常规技术手段进行。
下述实施例中，各原料名称和来源如下：
二氧化钛(泛能拓，W550)
聚乳酸(NatureWorks)
聚甲基丙烯酸甲酯(Prospector)
聚乙烯(LyondellBasell)
10μm聚四氟乙烯外层膜(隆发新材料，SNFZM-0710)
20μm聚四氟乙烯外层膜(隆发新材料，SNFZM-1520)
40μm、50μm和60μm聚四氟乙烯外层膜(隆发新材料，SNFZM-4060)
实验时，选取所需厚度的外层膜，根据需要对所述外层膜进行测定，筛选出我们各实施例所需的直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙总体积的占比的外层膜。
对于100μm聚四氟乙烯外层膜，根据所需要的外层膜中的直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙总体积的占比Z，我们首先筛选出两个厚度均为50μm、直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙总体积的占比均为Z的聚四氟乙烯外层膜，利用点胶贴合法将两个外层膜贴合在一起，制备出所需的100μm聚四氟乙烯外层膜。
对于200μm聚四氟乙烯外层膜，根据所需要的外层膜中的直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙总体积的占比V，我们首先筛选出四个厚度均为50μm、直径在特定范围内的微纳米球和微纳米孔隙总体积的占比均为V的聚四氟乙烯外层膜，利用点胶贴合法将两个外层膜贴合在一起，制备出所需的200μm聚四氟乙烯外层膜。
实施例1
按照下述方法制备本实施例的全太阳光谱高反射面料：
(1)制备制冷基布：
将400g二氧化钛颗粒与600g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选全太阳光谱高反射膜(外层膜)，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-1520的外层膜(厚度为20μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为50％的外层膜。随后，在制冷基布上均匀放置热熔胶，将外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例2
(1)制备制冷基布：
将400g氧化锌颗粒与600g聚甲基丙烯酸甲酯基底在290℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料热压制备复合材料预制棒，利用热拉制方法得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度为50μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比均为60％的两个外层膜，利用点胶贴合法将两个外层膜贴合在一起，得到厚度为100μm的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将100μm的外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将100μm的外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例3
(1)制备制冷基布：
将500g二氧化钛颗粒与500g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度为40μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在100nm～1000nm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为70％的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在100nm～1000nm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在100nm～1000nm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例4
(1)制备制冷基布：
将500g二氧化钛颗粒与500g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度为60μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在100nm～1000nm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为90％的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将外层膜覆盖在基布上，在40kPa压力下加热到140℃，将外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在100nm～1000nm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在100nm～1000nm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例5
(1)制备制冷基布：
将400g二氧化钛颗粒与600g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-0710的外层膜(厚度为10μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为50％的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例6
(1)制备制冷基布：
将400g二氧化钛颗粒与600g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度为50μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比均为50％的四个外层膜，利用点胶贴合法将四个外层膜贴合在一起，得到厚度为200μm的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将200μm的外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将200μm的外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例7
(1)制备制冷基布：
将400g二氧化钛颗粒与600g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度均为50μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为50％的两个外层膜，利用点胶贴合法将两个外层膜贴合在一起，得到厚度为100μm的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将100μm的外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将100μm的外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例8
(1)制备制冷基布：
将400g二氧化钛颗粒与600g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度为40μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为50％的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例9
(1)制备制冷基布：
将400g二氧化钛颗粒与600g聚乳酸基底在210℃下熔融制备均匀混合的复合材料，再将复合材料利用熔融纺丝法卷绕得到降温纤维，最后通过机织的方式将降温纤维形成经纬交织分布的制冷基布。
(2)筛选外层膜，将外层膜复合在制冷基布上得到全太阳光谱高反射面料：
选取型号为SNFZM-4060的外层膜(厚度为60μm)，通过扫描电子显微镜测定筛选出直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占比为50％的外层膜。在制冷基布上均匀放置热熔胶，将外层膜覆盖在基布上，在40kPa的压力下加热到140℃，将外层膜和制冷基布紧密贴合，制得全太阳光谱高反射面料。
本实施例中，外层膜的总体积为下述三者之和：(1)直径在50nm～5μm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(2)直径不在50nm～5μm范围内的微纳米球和微纳米孔隙的总体积；(3)微纳米纤维的总体积。
实施例10
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例4，与实施例4的区别在于，全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的80％。
实施例11
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例4，与实施例4的区别在于，全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的70％。
实施例12
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例4，与实施例4的区别在于，全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的50％。
实施例13
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例4，与实施例4的区别在于，全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的20％。
实施例14
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例1，与实施例1的区别在于，全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的50％。
实施例15
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例14，与实施例14的区别在于，无机微纳米颗粒掺杂质量分数为20％。
实施例16
本实施例的全太阳光谱高反射面料的制备方法参照实施例14，与实施例14的区别在于，无机微纳米颗粒掺杂质量分数为80％。
对比例1
对比例1和实施例1的区别仅在于，对比例1不含有外层膜。
实施例17
(1)选取市售的WELLDAY/维德医疗一次性医用外科口罩，作为制冷基布。
(2)制备外层膜，将外层膜复合在制冷基布外层上得到降温口罩。
选取外层膜材料聚四氟乙烯(PTFE)，利用静电纺丝法制备外层膜，外层膜厚度为60μm，其中直径在100nm～1000nm的微纳米球和微纳米孔隙的总体积占外层膜体积的90％。在降温口罩最外层上均匀放置热熔胶，将PTFE膜覆盖在基布上，在40kPa压力下加热到140℃，将PTFE膜和制冷基布紧密贴合，制得降温口罩。
对比例2
对比例2和实施例17的区别仅在于，对比例2不含有外层膜。
各实施例和对比例的全太阳光谱高反射面料、口罩的参数及性能如下表1所示。
表1
以上所述，仅是本申请的较佳实施方式而已，并非是对本申请作其它形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本申请技术方案内容，依据本申请的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本申请技术方案的保护范围。
Claims (15)
1.一种降温制品，其特征在于，
其包括由多根微纳米纤维缠绕交织形成的具有微纳米孔隙的全太阳光谱高反射膜以及基底材料；所述微纳米纤维之间通过微纳米球连接；
其中所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为50nm～5μm的微纳米球和直径为50nm～5μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％。
2.根据权利要求1所述的降温制品，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜的厚度为10μm～200μm，优选为20μm～100μm，更优选为40μm～60μm。
3.根据权利要求1或2所述的降温制品，其特征在于，所述微纳米纤维和微纳米球的材料选自如下一种或两种以上：聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚乙二醚(PEO)、聚乙烯(PE)和聚酰胺(PA)；
优选地，所述微纳米纤维和微纳米球的材料为聚四氟乙烯(PTFE)或聚氨基甲酸酯(PU)。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的降温制品，其特征在于，其为全太阳光谱高反射面料，其中所述基底材料为制冷基布；
优选地，所述制冷基布为选自针织结构、机织结构或无纺布结构的织物。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的降温制品，其特征在于，其为户外纺织品，其中所述基底材料为无纺布结构的织物；
优选地，所述户外纺织品为口罩。
6.根据权利要求4或5所述的降温制品，其特征在于，所述织物包括降温纤维，所述降温纤维包括无机微纳米颗粒和聚合物基底；
优选地，所述织物由降温纤维形成，所述降温纤维由无机微纳米颗粒和聚合物基底形成。
7.根据权利要求6所述的降温制品，其特征在于，所述无机微纳米颗粒选自如下一种或两种以上：二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、硫化锌(ZnS)、氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)、氮化硼(BN)、硫酸钡(BaSO4)、碳酸钡(BaCO3)和硅酸铝(Al2SiO5)；
优选地，所述无机微纳米颗粒粒径为0.1μm～25μm，优选为0.3μm～5μm，更优选为0.4μm～1.2μm；
优选地，所述无机微纳米颗粒为二氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)；
优选地，所述聚合物基底的材料包括如下一种或两种以上：聚乳酸(PLA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、聚丙烯腈(PAN)、纤维素、壳聚糖、聚对苯二甲酰对苯二胺和聚对苯甲酰胺中的一种或两种以上；
优选地，所述聚合物基底的材料为聚乳酸(PLA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
8.一种全太阳光谱高反射面料的制备方法，其特征在于，其包括下述步骤：
制备制冷基布；
制备全太阳光谱高反射膜；
将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述制备制冷基布步骤中，将无机微纳米颗粒和聚合物基底混合后得到复合材料，将所述复合材料制成降温纤维，再将所述降温纤维制成织物，得到所述制冷基布；
优选地，所述制冷基布为选自针织结构、机织结构或无纺布结构的织物。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述无机微纳米颗粒选自如下一种或两种以上：二氧化钛(TiO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、硫化锌(ZnS)、氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)、氮化硼(BN)、硫酸钡(BaSO4)、碳酸钡(BaCO3)和硅酸铝(Al2SiO5)；
优选地，所述无机微纳米颗粒粒径为0.1μm～25μm，优选为0.3μm～5μm，更优选为0.4μm～1.2μm；
优选地，所述无机微纳米颗粒为二氧化钛(TiO2)或氧化锌(ZnO)；
优选地，所述聚合物基底的材料包括如下一种或两种以上：聚乳酸(PLA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚乙烯醇(PVA)、聚氨酯(PU)、聚丙烯腈(PAN)、纤维素、壳聚糖、聚对苯二甲酰对苯二胺和聚对苯甲酰胺中的一种或两种以上；
优选地，所述聚合物基底的材料为聚乳酸(PLA)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
11.根据权利要求9～10中任一项所述的制备方法，其特征在于，利用选自熔融纺丝法、湿法纺丝法、热拉制法、静电纺丝法、熔喷纺丝法中的一种或两种以上，优选利用熔融纺丝法或热拉制法，将所述复合材料制成降温纤维。
12.根据权利要求8～11中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备全太阳光谱高反射膜步骤中，利用微纳米纤维和微纳米球的材料，通过双向拉伸法或静电纺丝法制备所述全太阳光谱高反射膜。
13.根据权利要求8～12中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜由多根微纳米纤维缠绕交织形成且具有微纳米孔隙；所述微纳米纤维之间通过微纳米球连接。
14.根据权利要求8～13中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为10nm～10μm的微纳米球和直径为10nm～10μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为50nm～5μm的微纳米球和直径为50nm～5μm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜中的直径为100nm～1000nm的微纳米球和直径为100nm～1000nm的微纳米孔隙的总体积占所述全太阳光谱高反射膜的体积的10％～90％，优选为50％～90％，更优选为70％～90％；
优选地，所述全太阳光谱高反射膜的厚度为10μm～200μm，优选为20μm～100μm，更优选为40μm～60μm；
优选地，所述微纳米纤维和微纳米球的材料选自如下一种或两种以上：聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚乙二醚(PEO)、聚乙烯(PE)和聚酰胺(PA)；
优选地，所述微纳米纤维和微纳米球的材料为聚四氟乙烯(PTFE)或聚氨基甲酸酯(PU)。
15.根据权利要求8～14中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备全太阳光谱高反射膜步骤后，利用点胶贴合法或热压复合法，将所述全太阳光谱高反射膜复合在所述制冷基布上，得到所述全太阳光谱高反射面料。
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