CN115579168A - 一种具有取放靶功能的同位素生产设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种具有取放靶功能的同位素生产设备，包括束流照射腔、束流照射腔屏蔽塞转运机构、取放靶机构和安装机构，束流照射腔屏蔽塞转运机构和取放靶机构均活动设置在安装机构上；束流照射腔内设置有靶盘安放机构，靶盘安放机构上设置有可以取放的靶盘，束流照射腔侧面设置有照射窗，照射窗设置在靶盘安放机构外侧，照射窗与粒子加速器终端相连；取放靶机构可以将靶盘放入到靶盘安放机构上或从靶盘安放机构上取出；束流照射腔上还设置有取放靶开口，取放靶开口处设置有可开关的真空插板阀；束流照射腔屏蔽塞转运机构设置在取放靶开口外，用于屏蔽塞塞入取放靶开口或从取放靶开口取出。本发明用于同位素自动化生产。

Description

一种具有取放靶功能的同位素生产设备

技术领域

本发明涉及同位素生产技术领域，具体涉及一种具有取放靶功能的同位素生产设备。

背景技术

放射性同位素已经在工业、农业、医学等诸多领域进行了广泛应用，并获得了显著的经济效益、社会效益和环境效益，尤其是在医学领域，疾病诊断、治疗方面具有不可替代的作用。

以粒子加速器、同位素生产靶等装置为基础，通过将束流作用于不同元素或同位素的靶材上，在靶材内发生一系列核反应过程，可以获得多种同位素产物并加以利用。靶材一般放置在靶盘上，靶盘放置在束流照射腔内的靶盘安放机构上，通过束流照射作用于束流照射腔内的靶材上，进而产生需要的同位素产物。但是现有的粒子加速器终端的同位素生产靶装置几乎都采用人工操作的方式，自动化水平不高，存在安全隐患；且在无补偿屏蔽时，采用高能束流照射的方式生产同位素，无法保证放射性射线屏蔽效果而存在周围设备被活化等问题。

发明内容

本发明解决的技术问题是针对粒子加速器终端的同位素生产靶装置采用人工操作的方式，自动化水平不高，存在安全隐患，及周围设备可能被活化后的技术问题，提供一种可以解决的具有取放靶功能的同位素生产设备。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种具有取放靶功能的同位素生产设备，包括束流照射腔、束流照射腔屏蔽塞转运机构、取放靶机构和安装机构，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构和取放靶机构均活动设置在安装机构上；所述束流照射腔内设置有靶盘安放机构，所述靶盘安放机构上设置有可以取放的靶盘，所述束流照射腔侧面设置有照射窗，所述照射窗设置在靶盘安放机构外侧，所述照射窗与粒子加速器终端相连；所述取放靶机构可以将靶盘放入到靶盘安放机构上或从靶盘安放机构上取出；所述束流照射腔上还设置有取放靶开口，所述取放靶开口处设置有可开关的真空插板阀；所述束流照射腔屏蔽塞转运机构设置在取放靶开口外，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构可将屏蔽塞通过取放靶开口塞入束流照射腔内或通过取放靶开口将屏蔽塞取出。

进一步的，所述靶盘安放机构上设置有定位件，所述定位件设置在靶盘安放机构上除靠近取放靶开口一侧的其他侧面上，所述靶盘可取放安装在定位件内侧。

进一步的，所述靶盘上设置有多个靶材安装孔，各所述靶材安装孔两侧均设置有便于取放靶材的辅助取放料孔。

进一步的，所述安装机构包括底座、滑架、第一滑板和第二滑板，所述滑架前后滑动设置在底座上，所述第一滑板和第二滑板均上下滑动设置在滑架上，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构左右滑动设置在第一滑板上，所述取放靶机构左右滑动设置在第二滑板上。

进一步的，所述取放靶机构包括横向移动梁、旋转件和取放靶盘夹爪，所述横向移动梁左右横向滑动设置在第二滑板上，所述取放靶盘夹爪通过旋转件安装在横向移动梁上，所述取放靶盘夹爪通过旋转件在横向移动梁上转动调节角度。

进一步的，所述横向移动梁上设置有第一齿条，所述第二滑板上设置有第一电机和第一齿轮，所述第一齿条与第一齿轮啮合，所述第一电机驱动第一齿轮转动。

进一步的，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构包括横向滑块、屏蔽塞夹爪和屏蔽塞托架，所述屏蔽塞托架固定在第一滑板上，所述横向滑块横向滑动设置在第一滑板上，所述屏蔽塞夹爪设置在横向滑块上，所述屏蔽塞夹爪可以夹取束流照射腔内的屏蔽塞，并随横向滑块在第一滑板上横向滑动。

进一步的，所述第一滑板上设置有第二齿条，所述横向滑块上设置有第二齿轮和第二电机，所述第二齿轮与第二齿条啮合，所述第二电机驱动第二齿轮转动。

进一步的，还包括靶材上下料机构，所述靶材上下料机构包括放置架和转运轨道，所述转运轨道设置在束流照射腔外，所述放置架滑动设置在转运轨道上；所述放置架包括屏蔽罐放置架和靶盘放置架，所述取放靶机构可以将束流照射腔内靶盘安放机构上取出的靶盘放置在靶盘放置架上，所述取放靶机构也可以将靶盘从靶盘放置架转移至束流照射腔内的靶盘安放机构上；所述屏蔽罐放置架放置存储靶材的屏蔽罐，所述屏蔽罐可以屏蔽和密封靶材。

进一步的，所述靶材上下料机构还包括靶材封装组件，所述靶材封装组件设置在转运轨道远离束流照射腔的一端外；所述靶材封装组件包括前后移动件、上下移动件、靶材夹爪和支柱，所述前后移动件前后滑动设置在支柱上，所述上下移动件上下滑动设置在前后移动件上，所述靶材夹爪设置在上下移动件上。

本发明实现的有益效果主要有以下几点：通过束流照射腔屏蔽塞转运机构、取放靶机构和安装机构可以实现靶材从靶盘安放机构到束流照射腔内的全自动化上料过程及照射后的靶材从束流照射腔内封装至屏蔽罐的全自动化下料、封装过程。全程避免人工直接操作靶件，极大程度上减少工作人员受照剂量，从而保护操作人员的安全。具有取放靶功能的同位素生产设备的束流照射腔上设置有照射窗和取放靶开口，束流通过专门设置的照射窗进入到束流照射腔内激发靶材产生射线，可以保证束流充分照射至束流照射腔内，从而使得束流照射腔内靶材核反应更加充分。通过真空插板阀和屏蔽塞的补偿屏蔽，即封闭了取放靶开口，又增强了该部分空腔的屏蔽效果，更好地避免了束流照射过程中照射腔内的射线从取放靶开口处泄露，由此保证了同位素生产设备操作人员的安全，也避免同位素生产设备周围设备被活化。

附图说明

图1为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备整体一个角度的结构示意图；

图2为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备整体又一个角度的结构示意图；

图3为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备的束流照射腔的结构示意图；

图4为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备的靶盘安放机构的结构示意图；

图5为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备的束流照射腔屏蔽塞转运机构和取放靶机构在安装机构上安装时一侧的结构示意图；

图6为图5中A部放大的结构示意图；

图7为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备的束流照射腔屏蔽塞转运机构和取放靶机构在安装机构上安装时另一侧的结构示意图；

图8为本发明实施例中具有取放靶功能的同位素生产设备的靶材上下料机构的结构示意图；

图9为图8中B部的局部放大结构示意图；

图10为图8中C部的局部放大结构示意图。

附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的；相同或相似的标号对应相同或相似的部件；附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员理解，下面将结合附图以及实施例对本发明进行进一步详细描述。

实施例一

参阅图1～7，一种具有取放靶功能的同位素生产设备，用于同位素生产。具有取放靶功能的同位素生产设备包括束流照射腔1、束流照射腔屏蔽塞转运机构2、取放靶机构3和安装机构4。束流照射腔1是放置并照射靶材的装置，束流照射腔1内设置靶盘安放机构11，束流照射腔1上设置有照射窗12和取放靶开口13，照射窗12是粒子加速器的束流进入束流照射腔1内的窗口，照射窗12 与粒子加速器终端相连，取放靶开口13是束流照射腔1内取放靶盘112(靶盘 112上可以放置靶材6)的开口。安装机构4是安装束流照射腔屏蔽塞转运机构 2和取放靶机构3的结构，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构2和取放靶机构3均活动设置在安装机构4上，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构2可将屏蔽塞132 通过取放靶开口13塞入束流照射腔1内或通过取放靶开口13将其取出至束流照射腔屏蔽塞转运机构2的屏蔽塞托架23上。因粒子加速器照射过程中会有较强的辐射，故将屏蔽塞132作为靶盘转入路径空腔处的补偿屏蔽，增强束流照射腔1取放靶开口13处的屏蔽效果。

参阅图1～7，取放靶机构3在束流照射腔1内放入靶盘112和从束流照射腔 1内取出靶盘112，将靶盘112上的靶材6放入束流照射腔1内或从束流照射腔 1内取出；取放靶机构3可以将靶盘112放入到束流照射腔1内的靶盘安放机构 11上，或从束流照射腔1内的靶盘安放机构11上取出靶盘112，实现靶材在真空腔内的上下料。通过束流照射腔屏蔽塞转运机构2、取放靶机构3和安装机构 4可以实现靶材机械化自动在束流照射腔1内上下料，避免人工在束流照射腔1 内上下料具有辐射性的靶材，从而保护操作人员的安全。

参阅图1～7，束流照射腔1上设置有照射窗12和取放靶开口13，束流照射腔1内设置有靶盘安放机构11，所述束流照射腔1侧面设置有照射窗12，照射窗12与粒子加速器终端相连，所述照射窗12设置在靶盘安放机构11外侧，由此束流可以通过照射窗12进入到束流照射腔1内部的靶盘安放机构11上照射靶盘上的靶材，使靶材发生一系列核反应后，产生同位素。靶盘安放机构11一般设置成朝向照射窗12的结构，方便靶盘安放机构11上的靶材接收照射窗12 外进入的束流。束流通过专门设置的照射窗12进入到束流照射腔1内激发靶材产生同位素，可以保证束流充分照射至束流照射腔内，从而使得束流照射腔内靶材核反应更加充分。

参阅图1～3，束流照射腔1的取放靶开口13处设置有可开关的真空插板阀 131和屏蔽塞132。真空插板阀131可以通过伸缩气缸或电缸控制闸板的开合，从而控制取放靶开口13开关，闸板关闭后可通过真空泵实现束流照射腔抽真空。所述束流照射腔屏蔽塞转运机构2可将屏蔽塞132通过取放靶开口13塞入束流照射腔1或从取放靶开口13取出。屏蔽塞132作为取放靶开口13补偿屏蔽，塞入束流照射腔1的取放靶开口13处，可以更好的避免束流照射腔1内供束时射线从取放靶开口13处泄露，由此保证了具有取放靶功能的同位素生产设备操作人员的安全。

参阅图3和4，所述靶盘安放机构11上设置有定位件111和靶盘112，靶盘安放机构11采用顶部为朝向照射窗12的斜面结构，定位件111用来将靶盘112 定位安装在靶盘安放机构11顶部，避免靶盘112在靶盘安放机构11上发生移动。靶盘112设置为四边形结构，定位件111设置在靶盘安放机构11上除靠近取放靶开口13一侧的其他侧面，从而取放靶机构3可以从靠近取放靶开口13一侧将靶盘112及其上的靶材6放入到安放机构11顶部。靶盘112上定位件111内侧的空间与靶盘112相适配，从而靶盘112恰好可取放安装在定位件111内侧，通过定位件111将靶盘112定位固定在靶盘安放机构11顶部。

参阅图4，靶盘112上设置有多个靶材安装孔1121，各所述靶材安装孔1121 两侧均设置有靶材辅助取放料孔1122，从而各个靶材安装孔1121内均可以放置一个靶材6，并可以通过机械手等机构(如实施例三中的靶材取料组件53)从靶材辅助取放料孔1122内夹取靶材6。靶材安装孔1121外两侧可以各设置一个靶材辅助取放料孔1122，方便从两侧夹取靶材6。另外，靶盘112四角最好设置靶盘夹取块1123，方便取放靶机构3从靶盘安放机构11侧方取放靶盘112，以便整盘取出或放入靶材6。

参阅图1～7，本实施例的具有取放靶功能的同位素生产设备上料靶材时，首先真空插板阀131开启，束流照射腔屏蔽塞转运机构2将屏蔽塞从取放靶开口 13取出；再通过取放靶机构3将整个靶盘112连同上面的靶材6一起送入到束流照射腔1内，放置到靶盘安放机构11上；接着束流照射腔屏蔽塞转运机构2 将屏蔽塞132塞入取放靶开口13；再关闭真空插板阀131，开启束流照射腔真空泵系统进行抽真空；待真空度达到要求后，束流通过照射窗12进入到束流照射腔1内，激发靶材6制备同位素产物；完成后真空插板阀131开启，屏蔽塞132从取放靶开口13取出后，取放靶机构3将整个靶盘取出，对靶盘上的靶材进行封装处理。

实施例二

参阅图1～7，本实施例的具有取放靶功能的同位素生产设备整体与实施例一中的具有取放靶功能的同位素生产设备相同，并在实施例一的基础上进一步优化束流照射腔屏蔽塞转运机构2和取放靶机构3在安装机构4的安装结构，本实施例与实施例一的相同之处参阅实施例一，下面就进一步改进之处进一步说明。

参阅图1、2、5～7，所述安装机构4包括底座41、滑架42、第一滑板43和第二滑板44，底座41为一个水平的支座结构，滑架42为一个竖向的架状结构，滑架42最好设置斜向的支撑杆45，使得滑架42结构更加稳定。滑架42通过滑轨前后滑动设置在底座41上，并且通过丝杆机构或齿轮齿条驱动滑架42在底座41上前后滑动。第一滑板43和第二滑板44均为板状结构，并且均通过滑轨结构上下滑动安装在滑架42上，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构2左右滑动设置在第一滑板43上，所述取放靶机构3左右滑动设置在第二滑板44上；第一滑板43和第二滑板44在滑架42上的升降动作可以通过丝杆机构驱动，从而驱动束流照射腔屏蔽塞转运机构2和取放靶机构3升降移动。

参阅图5和图6，所述取放靶机构3包括横向移动梁31、旋转件32和取放靶盘夹爪33，所述横向移动梁31通过滑轨结构左右横向滑动设置在第二滑板 44上，并且通过齿轮齿条机构驱动横向滑动。所述取放靶盘夹爪33通过旋转件32安装在横向移动梁31上，所述取放靶盘夹爪33通过旋转件32在横向移动梁 31上转动调节角度，由此取放靶材时可以通过取放靶机构3实现横向移动和旋转角度，而且还可以通过滑架42在底座41上前后滑动调节前后位置，通过第二滑板44在滑架42上的升降调节上下位置，方便取放靶机构3取放靶材。

参阅图5和图6，所述横向移动梁31上设置有第一齿条，所述第二滑板44 上设置有第一电机和第一齿轮，所述第一齿条与第一齿轮啮合，所述第一电机驱动第一齿轮转动，由此可以实现横向移动梁31在第二滑板44上横向滑动。旋转件32可以采用旋转气缸。取放靶盘夹爪33为可以张开合拢的结构，并且在取放靶盘夹爪33外侧设置插块331，在靶盘夹取块1123上设置对应的插孔，从而插块331可以插入到靶盘夹取块1123的插孔内固定靶盘112。

参阅图5，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构2包括横向滑块21、屏蔽塞夹爪22和屏蔽塞托架23，所述横向滑块21横向滑动设置在第一滑板43上，所述屏蔽塞夹爪22设置在横向滑块21上，所述屏蔽塞夹爪22可以夹取或松开束流照射腔1的屏蔽塞132，从而可以夹固屏蔽塞132使其一起横向移动来封堵或打开松开束流照射腔1的取放靶开口13。所述屏蔽塞托架23固定在第一滑板43 上，通过屏蔽塞托架23可以在下方承托屏蔽塞132。

参阅图5，横向滑块21与第一滑板43可以通过齿轮齿条结构连接，所述第一滑板43上设置有第二齿条，所述横向滑块21上设置有第二齿轮和第二电机，所述第二齿轮与第二齿条啮合，所述第二电机驱动第二齿轮转动，由此可以实现横向滑块21左右横向移动，来移动屏蔽塞132开关束流照射腔1的取放靶开口13。

参阅图1～7，本实施例的具有取放靶功能的同位素生产设备上料靶材时，首先真空插板阀131开启，束流照射腔屏蔽塞转运机构2将屏蔽塞132从取放靶开口13取出；再通过取放靶机构3将整个靶盘连同上面的靶材6一起送入到束流照射腔1内，放置到靶盘安放机构11上；接着束流照射腔屏蔽塞转运机构2 将屏蔽塞132通过取放靶开口13放回至束流照射腔1内封闭取放靶开口13；再关闭真空插板阀131，开启束流照射腔真空泵系统进行抽真空；待真空度达到要求后，束流通过照射窗12进入到束流照射腔1内，激发靶材6制备同位素产物；完成后真空插板阀131开启，屏蔽塞132通过束流照射腔屏蔽塞转运机构2从取放靶开口13取出，取放靶机构3将整个靶盘取出后，对靶盘上的靶材进行封装处理。

实施例三

参阅图1～10，本实施例的具有取放靶功能的同位素生产设备整体与实施例二中的具有取放靶功能的同位素生产设备相同，并在实施例二的基础上进一步设置靶材上下料机构5，来进行靶材上下料。本实施例与实施例二的相同之处参阅实施例二，下面就改进之处进一步说明。

参阅图8～10，所述靶材上下料机构5包括放置架51和转运轨道52，所述转运轨道52设置在束流照射腔1外，所述放置架51滑动设置在转运轨道52上；所述放置架51包括屏蔽罐放置架511和靶盘放置架512，从而屏蔽罐放置架511 和靶盘放置架512可以通过转运轨道52移动至远离束流照射腔1的开阔空间进行靶材上下料。所述取放靶机构3可以将束流照射腔1内靶盘安放机构11上取出的靶盘放置在靶盘放置架51上，所述取放靶机构3也可以将靶盘从靶盘放置架51转移至束流照射腔1内的靶盘安放机构11上；所述屏蔽罐放置架511放置存储靶材的屏蔽罐7，所述屏蔽罐7可以屏蔽和密封靶材。转运轨道52可以采用单轴机械手。

参阅图8～10，所述靶材上下料机构5还包括靶材封装组件53，所述靶材封装组件53设置在转运轨道52远离束流照射腔1的一端外，靶材封装组件53将旧的靶材6从靶盘放置架512上的靶盘112内取出，放至蔽罐放置架511放置的屏蔽罐7内密封屏蔽存放来下料；也可以通过靶材封装组件53将新的靶材6 从屏蔽罐7内取出放置到靶盘放置架512上的靶盘112内上料。所述靶材封装组件53包括前后移动件531、上下移动件532、靶材夹爪533和支柱534，所述前后移动件531前后滑动设置在支柱534上，所述上下移动件532上下滑动设置在前后移动件531上，所述靶材夹爪533设置在上下移动件532上，由此可以实现靶材封装组件53多个维度移动来上下料靶材。前后移动件531和上下移动件532均可以采用单轴机械手，靶材夹爪533可以采用气动夹爪。

参阅图1～10，本实施例的具有取放靶功能的同位素生产设备上料靶材时，首先通过靶材封装组件53为靶盘放置架512上的靶盘112上料新的靶材6；然后真空插板阀131开启，束流照射腔屏蔽塞转运机构2将屏蔽塞从取放靶开口 13取出；再通过取放靶机构3将靶盘放置架512上放有新靶材6的靶盘112上料到束流照射腔1内，放置到靶盘安放机构11上；接着束流照射腔屏蔽塞转运机构2将屏蔽塞132通过取放靶开口13放回至束流照射腔内；再关闭真空插板阀131，开启束流照射腔真空泵系统进行抽真空；待真空度达到要求后，束流通过照射窗12进入到束流照射腔1内，激发靶材6制备同位素产物；束流照射完成后，真空插板阀131开启，屏蔽塞132通过束流照射腔屏蔽塞转运机构2从取放靶开口13取出，取放靶机构3将整个靶盘112连同靶材6取出放置在靶盘放置架512上，并由靶材封装组件53将靶材6一一取出封装在屏蔽罐7内。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：包括束流照射腔(1)、束流照射腔屏蔽塞转运机构(2)、取放靶机构(3)和安装机构(4)，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构(2)和取放靶机构(3)均活动设置在安装机构(4)上；所述束流照射腔(1)内设置有靶盘安放机构(11)，所述靶盘安放机构(11)上设置有可以取放的靶盘(112)，所述束流照射腔(1)侧面设置有照射窗(12)，所述照射窗(12)设置在靶盘安放机构(11)外侧，所述照射窗(12)与粒子加速器终端相连；所述取放靶机构(3)可以将靶盘(112)放入到靶盘安放机构(11)上或从靶盘安放机构(11)上取出；所述束流照射腔(1)上还设置有取放靶开口(13)，所述取放靶开口(13)处设置有可开关的真空插板阀(131)；所述束流照射腔屏蔽塞转运机构(2)设置在取放靶开口(13)外，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构(2)可将屏蔽塞(132)通过取放靶开口(13)塞入束流照射腔(1)内或通过取放靶开口(13)将屏蔽塞(132)取出。

2.根据权利要求1所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述靶盘安放机构(11)上设置有定位件(111)，所述定位件(111)设置在靶盘安放机构(11)上除靠近取放靶开口(13)一侧的其他侧面上，所述靶盘(112)可取放安装在定位件(111)内侧。

3.根据权利要求2所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述靶盘(112)上设置有多个靶材安装孔(1121)，各所述靶材安装孔(1121)两侧均设置有便于取放靶材的辅助取放料孔(1122)。

4.根据权利要求1～3任一项所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述安装机构(4)包括底座(41)、滑架(42)、第一滑板(43)和第二滑板(44)，所述滑架(42)前后滑动设置在底座(41)上，所述第一滑板(43)和第二滑板(44)均上下滑动设置在滑架(42)上，所述束流照射腔屏蔽塞转运机构(2)左右滑动设置在第一滑板(43)上，所述取放靶机构(3)左右滑动设置在第二滑板(44)上。

5.根据权利要求4所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述取放靶机构(3)包括横向移动梁(31)、旋转件(32)和取放靶盘夹爪(33)，所述横向移动梁(31)左右横向滑动设置在第二滑板(44)上，所述取放靶盘夹爪(33)通过旋转件(32)安装在横向移动梁(31)上，所述取放靶盘夹爪(33)通过旋转件(32)在横向移动梁(31)上转动调节角度。

6.根据权利要求5所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述横向移动梁(31)上设置有第一齿条，所述第二滑板(44)上设置有第一电机和第一齿轮，所述第一齿条与第一齿轮啮合，所述第一电机驱动第一齿轮转动。

7.根据权利要求6所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述束流照射腔屏蔽塞转运机构(2)包括横向滑块(21)、屏蔽塞夹爪(22)和屏蔽塞托架(23)，所述屏蔽塞托架(23)固定在第一滑板(43)上，所述横向滑块(21)横向滑动设置在第一滑板(43)上，所述屏蔽塞夹爪(22)设置在横向滑块(21)上，所述屏蔽塞夹爪(22)可以夹取束流照射腔(1)内的屏蔽塞(132)，并随横向滑块(21)在第一滑板(43)上横向滑动。

8.根据权利要求7所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述第一滑板(43)上设置有第二齿条，所述横向滑块(21)上设置有第二齿轮和第二电机，所述第二齿轮与第二齿条啮合，所述第二电机驱动第二齿轮转动。

9.根据权利要求8所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：还包括靶材上下料机构(5)，所述靶材上下料机构(5)包括放置架(51)和转运轨道(52)，所述转运轨道(52)设置在束流照射腔(1)外，所述放置架(51)滑动设置在转运轨道(52)上；所述放置架(51)包括屏蔽罐放置架(511)和靶盘放置架(512)，所述取放靶机构(3)可以将束流照射腔(1)内靶盘安放机构(11)上取出的靶盘放置在靶盘放置架(51)上，所述取放靶机构(3)也可以将靶盘从靶盘放置架(51)转移至束流照射腔(1)内的靶盘安放机构(11)上；所述屏蔽罐放置架(511)放置存储靶材的屏蔽罐(7)，所述屏蔽罐(7)可以屏蔽和密封靶材。

10.根据权利要求9所述的具有取放靶功能的同位素生产设备，其特征在于：所述靶材上下料机构(5)还包括靶材封装组件(53)，所述靶材封装组件(53)设置在转运轨道(52)远离束流照射腔(1)的一端外；所述靶材封装组件(53)包括前后移动件(531)、上下移动件(532)、靶材夹爪(533)和支柱(534)，所述前后移动件(531)前后滑动设置在支柱(534)上，所述上下移动件(532)上下滑动设置在前后移动件(531)上，所述靶材夹爪(533)设置在上下移动件(532)上。

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