CN115574796B - 对中校准装置及对中校准方法 - Google Patents

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CN115574796B CN202211442711.5A CN202211442711A CN115574796B CN 115574796 B CN115574796 B CN 115574796B CN 202211442711 A CN202211442711 A CN 202211442711A CN 115574796 B CN115574796 B CN 115574796B
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Abstract

本发明涉及一种对中校准装置及对中校准方法,对中校准装置包括重锤组件、激光发射器、反光组件和调节组件,重锤组件设置于提拉轴,且重锤组件的重锤线与提拉轴的轴线平行;激光发射器设置于重锤组件的底部用于发射激光,且激光的光轴与重锤线共线;反光组件,设置于坩埚内,反光组件包括旋转座和设于旋转座的镜片,镜片用于将激光反射至坩埚的内壁上;调节组件用于调节提拉轴水平移动。本发明提供的对中校准装置,通过设于旋转座的镜片将激光发射器发出的激光反射到坩埚内壁上形成激光点,通过转动旋转座得到至少两个激光点,根据任意两个激光点是否位于同一高度来判断提拉轴的轴线是否与坩埚的轴线共线,从而提高提拉轴对中校准的可靠性。

Description

对中校准装置及对中校准方法
技术领域
本发明涉及晶体生长技术领域,特别是涉及对中校准装置及对中校准方法。
背景技术
目前,使用晶体生长炉生长晶体的通常做法是:将籽晶与坩埚中的用于生长晶体的熔融液接触,在籽晶与熔融液的固液界面生长晶体。如果籽晶和坩埚的转动轴不共线,那么在坩埚旋转过程中,坩埚中的熔融液会使晶棒晃动,使晶体生长的固液界面发生偏移,破坏晶体生长的环境,导致晶体生长质量降低。为了保证籽晶的转动轴与坩埚的转动轴共线,目前的通常做法是使籽晶的轴线与用于携带和提拉籽晶的提拉轴的轴线共线,且使提拉轴的轴线与坩埚的轴线共线。
目前,现有技术调整提拉轴轴线与坩埚轴线共线的做法是:在坩埚支架的中心位置放置一个水平刻度盘,悬挂一个重锤并使重锤的轴线与提拉轴的轴线共线,用人眼从CCD摄像机的窗口中观测重锤是否在刻度盘的中心处,来加以判定提拉轴的轴线和坩埚的轴线是否共线。但这种调整方法可靠性不高、调整精度低。
发明内容
基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种对中校准装置及对中校准方法,以提高提拉轴对中校准的可靠性。
本发明提供的对中校准装置,用于晶体生长炉,晶体生长炉包括坩埚和竖直设置的提拉轴,对中校准装置用于将提拉轴的轴线与坩埚的轴线共线,对中校准装置包括重锤组件、激光发射器、反光组件和调节组件,重锤组件设置于提拉轴,且重锤组件的重锤线与提拉轴的轴线平行;激光发射器设置于重锤组件的底部用于发射激光,且激光的光轴与重锤线共线;反光组件,设置于坩埚内,反光组件包括旋转座和设于旋转座的镜片,镜片用于将激光反射至坩埚的内壁上;调节组件用于调节提拉轴水平移动。
在其中一个实施例中,重锤组件的重锤线与提拉轴的轴线共线。
在其中一个实施例中,镜片与水平面之间的夹角为α,满足:0°<α<90°。
在其中一个实施例中,重锤组件包括牵引线及重锤,牵引线的一端固设于提拉轴,另一端固设于重锤,激光发射器设于重锤,且发射方向朝向反光组件。
在其中一个实施例中,调节组件包括安装座和调节件,安装座固设于晶体生长炉,调节件活动连接于安装座,调节件的数量至少为3个,调节件以提拉轴的轴线为中心环绕分布,调节件水平设置,调节件的轴线朝向提拉轴。
在其中一个实施例中,旋转座的转动轴与坩埚的轴线共线,镜片固设于旋转座上端且镜片与旋转座的转动轴相交。
在其中一个实施例中,坩埚的内壁设有标记线,标记线的圆心位于坩埚的轴线,当提拉轴的轴线与坩埚的轴线共线,镜片将激光反射至标记线;
或者,坩埚的开口为圆形,当提拉轴的轴线与坩埚的轴线共线,镜片将激光反射至坩埚的开口。
本发明还提供一种对中校准方法,该对中校准方法包括步骤:
激光发射器发射激光至反光组件,并获得激光打在坩埚内壁上的激光点;
转动旋转座,获得至少两个激光点;
若任意两个激光点处于不同高度,则调整提拉轴的水平位置,并执行转动旋转座,获得至少两个激光点的步骤;
若任意两个激光点处于同一高度,则完成校准。
在其中一个实施例中,若任意两个激光点处于不同高度,则调整提拉轴的水平位置,并执行转动旋转座,获得至少两个激光点的步骤的步骤中,还包括步骤:
判断不同高度的激光点中位于最高点的激光点;
基于最高点的激光点,将提拉轴朝向靠近该激光点的位置水平移动。
在其中一个实施例中,在基于最高点的激光点,将提拉轴朝向靠近该激光点的位置水平移动的步骤中,还包括步骤:
调节远离最高点的激光点的调节件,以推动提拉轴水平移动。
本发明至少具有以下有益效果:
本发明提供的对中校准装置,通过设于旋转座的镜片将激光发射器发出的激光反射到坩埚内壁上形成激光点,通过转动旋转座得到至少两个激光点,根据任意两个激光点是否位于同一高度来判断提拉轴的轴线是否与坩埚的轴线共线,从而提高提拉轴对中校准的可靠性。
附图说明
图1为本发明一个实施例的对中调整装置安装于晶体生长炉后的局部剖视图;
图2为图1所示实施例中的部分结构的结构示意图;
图3为图1所示实施例中的光的传播路径示意图;
图4为本发明一个实施例的对中校准方法的流程示意图。
附图标记:
10、坩埚;20、籽晶组件;21、调节端;30、对中校准装置;31、重锤组件;311、牵引线;312、重锤;32、反光组件;321、镜片;322、旋转座;33、调节组件;331、调节件;332、安装座;40、主炉室;50、副炉室;61、激光;62、反射光线。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
参阅图1,本发明提供一种对中校准装置30,用于晶体生长炉,晶体生长炉包括坩埚10和提拉轴(图中未示出),本发明提供的对中校准装置30用于调节提拉轴的水平位置,使提拉轴的轴线与坩埚10的轴线共线,从而使得在生长晶体的过程中,提拉轴的旋转轴线与坩埚10的旋转轴线共线,保证晶体生长过程中,晶棒位于坩埚10的轴线位置居中生长,从而保证晶体的生长质量。
本发明提供的对中校准装置30可以用于多种晶体生长炉,请参阅图1,其中一种晶体生长炉包括主炉室40、副炉室50和籽晶组件20,副炉室50固定连接于主炉室40的上部,籽晶组件20穿设于副炉室50。籽晶组件20包括调节端21和提拉轴,调节端21露出副炉室50上端,且可以移动;提拉轴的上端固定安装于调节端21,提拉轴穿设于副炉室50且提拉轴携带籽晶的一端伸入主炉室40。调节端21移动时,提拉轴随之一起移动。对中校准装置30可以通过调整调节端21的水平位置来调整提拉轴的水平位置。坩埚10位于主炉室40内。
在一些实施例中,本发明提供的对中校准装置30包括固定组件,当对中校准装置30调节提拉轴的水平位置至提拉轴轴线与坩埚10轴线共线,固定组件便将调节端21固定。
可以理解,晶体生长炉的提拉轴可以是软轴,比如提拉绳,也可以是硬轴,比如提拉杆。
参阅图1,本发明提供的对中校准装置30包括激光发射器(图中未示出)、反光组件32及调节组件33。调节组件33连接于副炉室50上端,用于调节提拉轴水平移动。反光组件32安装于坩埚10内,激光发射器可以通过居中组件连接于提拉轴下端中心。激光发射器发出一束竖直向下的激光61,这束激光61到达反光组件32后会反射到坩埚10内壁形成激光点。
参阅图3,在一些实施例中,反光组件32包括镜片321,激光发射器发出的激光61经过镜片321反射后得到反射光线62,反射光线62到达坩埚10内壁形成激光点。
参阅图3,在一些实施例中,反光组件32还包括旋转座322,旋转座322安装于坩埚10内,镜片321固设于旋转座322,转动旋转座322,镜片321会跟随旋转座322一起旋转,激光点的位置随之改变。当旋转座322转动一周,激光点便在坩埚10内壁移动一圈。当旋转座322不断旋转,激光点便会在坩埚10内壁循环移动。换言之,随着旋转座322的转动,可以得到不同位置的激光点,但这些不同位置的激光点不会同时存在,因为在同一时刻,坩埚10内壁只会形成一个激光点。当旋转座322转动一周,便会得到一圈连续的激光点。为方便叙述,以下定义旋转座322转动一周的过程中在坩埚10内壁上形成的一圈连续的激光点为一圈激光点。若在镜片321旋转过程中,任意两个不同位置的激光点的高度相同,则可认为提拉轴的轴线与坩埚10的轴线共线,对中校准完成。即:在镜片321旋转过程中,得到n个激光点,若这n个激光点全部位于同一高度,则可认为提拉轴的轴线与坩埚10的轴线共线,对中校准完成。其中,n为大于或等于2的正整数。
参阅图2,为了便于实现激光发射器竖直向下发出激光61,对中校准装置30还包括重锤组件31,重锤组件31连接于提拉轴下端中心,利用重锤组件31可以得到一条重锤线,重锤组件31的重锤线与提拉轴的轴线共线。激光发射器设置于重锤组件31的底部,且激光发射器发出的激光61的光轴与重锤组件31的重锤线共线。由此可以保证激光发射器沿着竖直向下的方向发出激光61。
参阅图2,在一些实施例中,重锤组件31包括牵引线311及重锤312,牵引线311的一端固定连接于提拉轴下端中心,另一端固设于重锤312,重锤312通过牵引线311悬挂于提拉轴,当重锤312静止后,牵引线311沿着竖直方向拉直绷紧,牵引线311轴线便与重锤组件31的重锤线共线。
可以理解,在一些实施例中,提拉轴暂时拆除,牵引线311的一端固定连接于调节端21,牵引线311固定连接于调节端21的连接位置与提拉轴安装于调节端21的安装位置相同。由此,牵引线311拉直绷紧时,牵引线311轴线的水平位置与提拉轴轴线的水平位置相同。对中校准装置30可以通过调整调节端21的水平位置来调整牵引线311的水平位置,当对中校准装置30调节牵引线311的水平位置至牵引线311轴线与坩埚10轴线共线,可以将牵引线311从调节端21拆下,将提拉轴重新安装于调节端21。由此,重新安装的提拉轴的轴线与坩埚10轴线共线。
在一些实施例中,重锤312呈圆锥形,牵引线311固定连接于重锤312上端面的中心位置,激光发射器固定安装于重锤312底部中央且激光发射器竖直设置。由此,当处于悬挂状态的重锤312静止后,牵引线311轴线与重锤组件31的重锤线共线,激光发射器发出的激光61竖直向下。当然,在另一些实施例中,重锤312也可以是类似于陀螺的结构。
在一些实施例中,坩埚10内壁设有标记线(图中未示出),标记线为环形,标记线的圆心位于坩埚10的轴线。标记线的位置满足:无论旋转座322旋转到哪个位置,当激光发射器沿着坩埚10的轴线竖直向下发出激光61,激光61到达镜片321后反射到坩埚10内壁形成的激光点都会落在标记线。即:在旋转座322转动一周的过程中,一圈激光点全部落在标记线。在对中校准的过程中,当一圈激光点全部落在标记线,即可认为提拉轴的轴线与坩埚10的轴线共线,对中校准完成。若一圈激光点没有全部落在标记线,则通过调节组件33来调节提拉轴的水平位置,使提拉轴的轴线靠近坩埚10的轴线,直至一圈激光点全都落在标记线。当然,在对中校准的过程中,并不是只有在获得一圈激光点之后才能判断对中校准是否完成,只需要获得2个及以上的激光点,判断任意两个激光点是否位于同一高度,若任意两个激光点位于同一高度,则可认为对中校准完成,若有两个激光点处于不同高度,则可认为对中校准没有完成,需要通过调节组件33来调节提拉轴的水平位置,使提拉轴的轴线靠近坩埚10的轴线,直至任意两个激光点位于同一高度。
值得说明的是,在坩埚10内壁设置标记线的一种方式是:沿着坩埚10的轴线竖直向下发出激光61,激光61到达镜片321后反射到坩埚10内壁形成激光点,转动旋转座322,得到一圈激光点,用颜料将一圈激光点的中心相连即可得到标记线。
虽然每一个瞬时,坩埚10内壁只存在一个激光点,但由于人眼具有视觉暂留现象,当旋转座322旋转一周的用时小于人眼视觉暂留的时间,人眼所获得的一圈激光点的视觉形象便是一圈激光点所组成的光带。因此,当旋转座322旋转一周的用时小于人眼视觉暂留的时间,只需要观察光带是否与标记线完全重合来判断对中校准是否完成。
在一些实施例中,为保证提拉轴轴线与坩埚10轴线共线时一圈激光点全部落在标记线,旋转座322的转动轴与坩埚10的轴线共线,镜片321固设于旋转座322上端且镜片321与旋转座322的转动轴相交。
参阅图3,在一些实施例中,也可以用坩埚10的开口代替标记线。在这些实施例中,坩埚10的开口是圆形,坩埚10的开口与镜片321之间的相对位置满足:无论旋转座322旋转到哪个位置,当激光发射器沿着坩埚10的轴线竖直向下发出激光61,激光61到达镜片321后反射到坩埚10内壁形成的激光点都会落在坩埚10的开口。即:在旋转座322转动一周的过程中,一圈激光点都落在坩埚10的开口。需要说明的是,在这些实施例中,进行对中校准时,激光发射器发出一束竖直向下的激光61,这束激光61到达反光组件32后可能会反射到主炉室40内壁形成激光点。
参阅图3,在一些实施例中,镜片321可以为平面镜。
参阅图3,在一些实施例中,为了可以使镜片321将入射光线反射到坩埚10内壁,镜片321倾斜设置。
优选的,在一些实施例中,镜片321与水平面之间的夹角为α,α满足:0°<α<90°;
参阅图2,在一些实施例中,调节组件33包括安装座332和调节件331,安装座332固设于副炉室50的上端面,调节件331活动连接于安装座332,移动调节件331使调节件331推动调节端21移动,调节端21带动提拉轴移动,从而调节提拉轴的水平位置。
参阅图2,在一些实施例中,为了保证提拉轴处于任意水平位置时都能够完成对中校准,调节件331的数量至少为3个,调节件331以提拉轴的轴线为中心环绕分布,调节件331水平设置,调节件331的轴线朝向提拉轴。在移动调节件331时,调节件331沿着自身的轴线移动,从而推动提拉轴或与提拉轴分离。需要说明的是,调节件331与提拉轴分离是为了允许其他调节件331推动提拉轴,使提拉轴朝向该调节件331移动。
优选的,参阅图2,在一些实施例中,调节件331以提拉轴的轴线为中心呈圆周阵列分布。
在一些实施例中,调节件331的外周面设置有外螺纹,安装座332上开设有螺纹通孔,调节件331与安装座332螺纹连接,通过拧调节件331,可以使调节件331推动提拉轴或与提拉轴分离。
进一步的,在一些实施例中,为节约成本,调节件331可以采用螺纹连接件,比如螺钉或螺栓。
可以理解,上述各种实施例中,重锤组件31的重锤线与提拉轴的轴线共线,激光发射器沿着提拉轴轴线所在的重锤线竖直向下发射激光61。而在其他的实施例中,重锤组件31的重锤线与提拉轴轴线之间的位置关系也可以是除了共线之外的平行关系。具体的,在其中一些实施例中,牵引线311的一端固定连接于调节端21,另一端固设于重锤312,牵引线311固定连接于调节端21的连接位置与提拉轴安装于调节端21的安装位置不相同,重锤312通过牵引线311悬挂于提拉轴,当重锤312静止后,牵引线311沿着竖直方向拉直绷紧,牵引线311轴线便与提拉轴轴线平行。在这些重锤组件31的重锤线与提拉轴轴线不共线的实施例中,旋转座322的转动轴的位置满足:提拉轴轴线与坩埚10轴线共线时,旋转座322的转动轴与重锤组件31的重锤线重合。标记线的形状不是环形,而是一个绕坩埚10内壁一圈的封闭图形。
值得一说的是,在一些实施例中,提拉轴是软轴。在这些实施例中,提拉轴暂时卷起,以避免提拉轴干涉对中校准的过程。具体的,在这些实施例中,提拉轴暂时卷起,牵引线311的一端固定连接于调节端21,当牵引线311拉直绷紧时,牵引线311轴线与提拉轴拉直绷紧时的轴线平行。
参阅图4,本发明还提供一种对中校准方法,该对中校准方法包括步骤:
S100.激光发射器发射激光61至反光组件32,并获得激光61打在坩埚10内壁上的激光点;
S200.转动旋转座322,获得至少两个激光点;
S300.若任意两个激光点处于不同高度,则调整提拉轴的水平位置,并执行转动旋转座322,获得至少两个激光点的步骤;
S400.若任意两个激光点处于同一高度,则完成校准。
值得说明的是,本发明提供的对中校准方法是调整提拉轴的水平位置,使提拉轴轴线与坩埚10轴线共线的方法。
在一些实施例中,在步骤S300中,还包括步骤:
S500.判断不同高度的激光点中位于最高点的激光点;
S600.基于最高点的激光点,将提拉轴朝向靠近该激光点的位置水平移动。
进一步的,在一些实施例中,在步骤S600中,还包括步骤:
S700.调节远离最高点的激光点的调节件331,以推动提拉轴水平移动。
在一些实施例中,调节件331为螺纹连接件,S700的具体做法为拧调节件331,以推动提拉轴水平移动。
在一些实施例中,在步骤S200中,转动旋转座322,获得的激光点的个数为n个,n为大于或等于3的正整数。在这n个激光点中任意选取3个激光点,若这3个激光点位于同一高度,则可认为提拉轴的轴线与坩埚10的轴线共线,对中校准完成;若这3个激光点处于不同高度,则可认为对中校准没有完成,之后还要通过调节组件33来调节提拉轴的水平位置。
优选的,在一些实施例中,在步骤S200中,将旋转座322转动一周,获得一圈激光点。在步骤S500中,判断这一圈激光点中位于最高点的激光点。在步骤S600中,基于该最高点的激光点,将提拉轴朝向靠近该激光点的位置水平移动。在步骤S700中,调节远离该最高点的激光点的一个或多个调节件331,以推动提拉轴水平移动。由此,可以沿着最短的移动路径完成对中校准,从而缩短对中校准过程的时间,提高对中校准的效率。
进一步的,在一些实施例中,在步骤S300中,判断两个激光点是否处于同一高度的做法为:观察这两个激光点是否都位于前述的标记线。
进一步的,在一些实施例中,在步骤S200中,将旋转座322不断旋转,并保证旋转座322旋转一周的用时小于人眼视觉暂留的时间。由此,人眼所获得的一圈激光点的视觉形象便是一圈激光点所组成的光带。只需要观察光带是否与标记线完全重合来判断对中校准是否完成,而且光带的最高点处的激光点便是这一圈激光点中位于最高点的激光点,从而方便判断哪一个激光点是这一圈激光点中位于最高点的激光点。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种对中校准装置,用于晶体生长炉,所述晶体生长炉包括坩埚(10)和竖直设置的提拉轴,所述对中校准装置用于将所述提拉轴的轴线与所述坩埚(10)的轴线共线,其特征在于,所述对中校准装置包括:
重锤组件(31),设置于所述提拉轴,且所述重锤组件(31)的重锤线与所述提拉轴的轴线平行;
激光发射器,设置于所述重锤组件(31)的底部用于发射激光(61),且所述激光(61)的光轴与所述重锤线共线;
反光组件(32),设置于所述坩埚(10)内,所述反光组件(32)包括旋转座(322)和设于所述旋转座(322)的镜片(321),所述镜片(321)用于将激光(61)反射至所述坩埚(10)的内壁上;以及
调节组件(33),用于调节所述提拉轴水平移动。
2.根据权利要求1所述的对中校准装置,其特征在于,所述重锤组件(31)的重锤线与所述提拉轴的轴线共线。
3.根据权利要求2所述的对中校准装置,其特征在于,所述镜片(321)与水平面之间的夹角为α,满足:0°<α<90°。
4.根据权利要求1所述的对中校准装置,其特征在于,所述重锤组件(31)包括牵引线(311)及重锤(312),所述牵引线(311)的一端固设于所述提拉轴,另一端固设于所述重锤(312),所述激光发射器设于所述重锤(312),且发射方向朝向所述反光组件(32)。
5.根据权利要求1所述的对中校准装置,其特征在于,所述调节组件(33)包括安装座(332)和调节件(331),所述安装座(332)固设于所述晶体生长炉,所述调节件(331)活动连接于所述安装座(332),所述调节件(331)的数量至少为3个,所述调节件(331)以提拉轴的轴线为中心环绕分布,所述调节件(331)水平设置,所述调节件(331)的轴线朝向所述提拉轴。
6.根据权利要求2所述的对中校准装置,其特征在于,所述旋转座(322)的转动轴与所述坩埚(10)的轴线共线,所述镜片(321)固设于所述旋转座(322)上端且所述镜片(321)与所述旋转座(322)的转动轴相交。
7.根据权利要求6所述的对中校准装置,其特征在于,所述坩埚(10)的内壁设有标记线,所述标记线为环形,所述标记线的圆心位于所述坩埚(10)的轴线,当所述提拉轴的轴线与所述坩埚(10)的轴线共线,所述镜片(321)将所述激光(61)反射至所述标记线;
或者,所述坩埚(10)的开口为圆形,当所述提拉轴的轴线与所述坩埚(10)的轴线共线,所述镜片(321)将所述激光(61)反射至所述坩埚(10)的开口。
8.一种对中校准方法,用于权利要求1-权利要求7中任意一项所述的对中校准装置,其特征在于,包括步骤:
激光发射器发射激光(61)至反光组件(32),并获得所述激光(61)打在坩埚(10)内壁上的激光点;
转动旋转座(322),获得至少两个所述激光点;
若任意两个所述激光点处于不同高度,则调整提拉轴的水平位置,并执行转动旋转座(322),获得至少两个所述激光点的步骤;
若任意两个所述激光点处于同一高度,则完成校准。
9.根据权利要求8所述的对中校准方法,其特征在于,若任意两个所述激光点处于不同高度,则调整提拉轴的水平位置的步骤中,还包括步骤:
判断不同高度的激光点中位于最高点的激光点;
基于最高点的所述激光点,将提拉轴朝向靠近该激光点的位置水平移动。
10.根据权利要求9所述的对中校准方法,其特征在于,在基于最高点的所述激光点,将提拉轴朝向靠近该激光点的位置水平移动的步骤中,还包括步骤:
调节远离最高点的所述激光点的调节件(331),以推动所述提拉轴水平移动。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1522416A (fr) * 1967-03-14 1968-04-26 Comp Generale Electricite Perfectionnements au procédé d'obtention de cristaux par tirage
JPH05279173A (ja) * 1992-04-02 1993-10-26 Nippon Steel Corp 単結晶引上げ炉の回転中心と熱的中心のズレの検知用治具と検知方法および単結晶の製造方法
US5872657A (en) * 1996-05-31 1999-02-16 Levelite Technology, Inc. Construction laser accessory for generating aligned spots
JP2003521432A (ja) * 2000-02-01 2003-07-15 エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド 成長速度および径の偏差を最小にするためにシリコン結晶の成長を制御するための方法
JP3528758B2 (ja) * 2000-05-31 2004-05-24 三菱住友シリコン株式会社 単結晶引き上げ装置
JP4209082B2 (ja) * 2000-06-20 2009-01-14 コバレントマテリアル株式会社 単結晶引上げ装置および引上げ方法
CN1308501C (zh) * 2002-02-25 2007-04-04 中国科学院福建物质结构研究所 用顶部籽晶法生长晶体时籽晶的激光对中法
US7196784B2 (en) * 2005-05-10 2007-03-27 Trimble Navigation Limited Method and apparatus for optical correction of a laser beam
JP4561513B2 (ja) * 2005-07-22 2010-10-13 株式会社Sumco 単結晶引き上げ装置の液面位置調整機構及び液面位置調整方法並びに単結晶引き上げ装置の液面位置合わせ機構及び液面位置合わせ方法
FR3005967B1 (fr) * 2013-05-27 2017-06-02 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication d'un lingot de silicium dote de joints de grains symetriques
CN206656740U (zh) * 2017-04-10 2017-11-21 苏州福田激光精密仪器有限公司 一种激光线光源的锥镜位置校准装置
CN208847190U (zh) * 2018-11-21 2019-05-10 蔡汝达 一种快速定位对中杆
CN109778308B (zh) * 2019-03-05 2020-10-30 山东大学 一种调节激光加热基座晶体生长温度梯度的装置及方法
CN110243355B (zh) * 2019-06-11 2021-10-01 中国一冶集团有限公司 一种短距离校准激光铅垂仪的方法
CN110592662A (zh) * 2019-09-25 2019-12-20 上海新昇半导体科技有限公司 热场测量机构及校正方法
CN112276343A (zh) * 2020-10-23 2021-01-29 苏州科韵激光科技有限公司 激光光路调整装置以及激光光路调整方法
CN215404651U (zh) * 2021-01-29 2022-01-04 徐州鑫晶半导体科技有限公司 用于长晶炉的校准组件和长晶炉组件
CN217403453U (zh) * 2022-02-09 2022-09-09 珠海镭沃科技有限公司 一种激光光线调节装置以及激光检测系统

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