CN115505906A - 一种TOPCon电池双面镀膜设备 - Google Patents
一种TOPCon电池双面镀膜设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115505906A CN115505906A CN202211077213.5A CN202211077213A CN115505906A CN 115505906 A CN115505906 A CN 115505906A CN 202211077213 A CN202211077213 A CN 202211077213A CN 115505906 A CN115505906 A CN 115505906A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- rotating disk
- vertical plate
- sleeve
- sided coating
- motor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
- C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45544—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Primary Cells (AREA)
Abstract
本发明公开了一种TOPCon电池双面镀膜设备,包括垂直固定在底座上的第一立板和第二立板,所述第一立板和第二立板互相平行;在第一立板和第二立板之间转动设置有用于夹持电池片的夹持组件,夹持组件能够带动电池片旋转。本发明对TOPCon电池片夹持稳固,通用性强,能够提高电池片双面镀膜的均匀性以及降低其差异性,使生产效率大大提高。
Description
技术领域
本发明涉及电池镀膜技术领域,具体为一种TOPCon电池双面镀膜设备。
背景技术
TOPCon(Tunnel Oxide Passivated Contact,隧穿氧化钝化接触)作为一种新型钝化技术已经成为研究热点,该技术是在电池表面生成一层超薄的可隧穿的氧化层和一层高掺杂的多晶硅层,氧化层的钝化作用和高掺杂多晶硅层的场钝化作用可以极大地降低少子复合速率,同时高掺杂的多晶硅层对于多子来说具有良好的传导性,因而TOPCon电池具有高的开路电压和填充因子。
现有技术中的一种双面TOPCon电池表面钝化方法,通常按照以下步骤来执行:首先,对硅片进行清洗制绒、硼扩散、刻蚀、湿氧化(或下一步进行热氧化)等工艺处理;然后,利用LPCVD设备对硅片进行热氧化(或上一步进行湿氧化)、利用LPCVD设备进行本征硅生长,再通过热扩散掺杂工艺或者离子注入掺杂工艺或直接利用LPCVD设备进行原位掺杂工艺;然后利用湿法工艺去除绕扩绕镀层;然后,有两种方式,方式1利用ALD设备对非掺杂面进行氧化铝薄膜生长后再利用PECVD设备分别对硅片两面进行氮化硅薄膜生长,方式2直接利用管式二合一PECVD设备对硅片的非掺杂面进行氧化铝薄膜生长后,切换氮化硅薄膜生长,再利用PECVD设备对硅片另一面进行氮化硅薄膜生长。最后再对硅片两面进行金属化工艺。
在上述方法中,存在一些不足之处:
1、利用ALD设备和PECVD设备进行薄膜生长,硅片需要取放转移较多次,多次取放硅片,吸盘会对纳米级薄膜产生损伤;
2、双面镀膜为不同阶段进行,容易使得两次镀膜不均匀。
因此亟需一种一次工艺实现正反两面的镀膜,而且过程无绕镀的TOPCon电池双面镀膜设备。
发明内容
针对上述存在的技术不足,本发明的目的是提供一种TOPCon电池双面镀膜设备,对TOPCon电池片夹持稳固,通用性强,能够提高电池片双面镀膜的均匀性以及降低其差异性,大大提高了生产效率。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案。
本发明提供一种TOPCon电池双面镀膜设备,包括垂直固定在底座上的第一立板和第二立板,所述第一立板和第二立板互相平行;在第一立板和第二立板之间转动设置有用于夹持电池片的夹持组件,夹持组件能够带动电池片旋转。
优选地,所述夹持组件包括第一旋转盘和第二旋转盘,所述第一旋转盘转动设置于第一立板上,所述第二旋转盘转动设置于第二立板上,且第一旋转盘和第二旋转盘同轴设置;所述第一立板和第二立板上分别设置有第一电动机和第二电动机,所述第一旋转盘固定在第一电动机的输出轴上,所述第二旋转盘固定在第二电动机的输出轴上,第一旋转盘和第二旋转盘在转动过程中二者始终相对静止。
优选地,所述第一旋转盘和第二旋转盘上分别设置有两个用于固定电池片的连接柄,所述连接柄端部开设有用于夹持电池片的卡接槽。
优选地,所述连接柄包括套管和顶杆,所述套管一端设置在第一旋转盘或第二旋转盘上,所述套管另一端开口,所述顶杆贯穿所述套管的开口滑动设置于所述套管内,所述卡接槽开设于顶杆远离套管的一端,所述套管内设置有第二弹簧,所述第二弹簧的两端分别固定在套管内和顶杆位于套管内部的端部。
优选地,所述第一旋转盘上的两个连接柄关于第一旋转盘的圆心呈中心对称布置;所述第二旋转盘上的两个连接柄关于第二旋转盘的圆心呈中心对称布置。
优选地,所述第一旋转盘上和第二旋转盘上分别沿直径方向开设有两个对称布置的调节槽,每个调节槽内设置有第一弹簧,第一弹簧的一端固定在对应的调节槽靠近第一旋转盘上或第二旋转盘圆心的一端,所述连接柄通过滑块滑动设置于对应的调节槽内,第一弹簧的另一端固定在对应的调节槽内的所述滑块上。
优选地,所述底座内设置有控制器,所述第一电动机和第二电动机分别与所述控制器电连接;所述底座侧壁设置有触控屏,所述触控屏与所述控制器电连接;所述底座上设置有电源线,所述电源线与所述控制器电连接。
本发明一种TOPCon电池双面镀膜设备的有益效果具体如下:
1、本发明通过同步转动的第一旋转盘和第二旋转盘,能够提高电池片双面镀膜的均匀性以及降低其差异性,大大提高了生产效率。
2、本发明的通过适配多种尺寸电池片的夹持组件来固定电池片,夹持稳固,通用性强。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例的整体结构示意图;
图2为本发明实施例中第一立板的正投影示意图;
图3为本发明实施例中连接柄的结构示意图;
图4为本发明实施例中连接柄的剖视图。
附图标记说明:
1、底座,2、第一立板,3、第二立板,4、夹持组件,5、电池片,6、触控屏,7、第一旋转盘,8、第二旋转盘,9、第一电动机,10、第二电动机,11、连接柄,12、卡接槽,13、套管,14、顶杆,15、第二弹簧,16、调节槽,17、滑块,18、第一弹簧。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例:
如图1至图4所示,本发明提供了一种TOPCon电池双面镀膜设备,包括底座1、第一立板2和第二立板3,第一立板2和第二立板3垂直固定在底座1上壁,且第一立板2和第二立板3互相平行;其中,第一立板2和第二立板3之间设置有能够转动的夹持组件4,夹持组件4的作用是用于夹持固定电池片5并能够带动电池片5旋转,以提高电池片5双面镀膜的均匀性以及降低其差异性;其中,底座1内设置有控制器,底座1侧壁设置有触控屏6,触控屏6与控制器电连接,用户能够通过点按触控屏6来控制设备的工作;底座1上设置有电源线,电源线与控制器电连接,电源线通过与外部电源连接为设备提供电能;
具体的:
夹持组件4包括第一旋转盘7和第二旋转盘8,第一旋转盘7转动设置于第一立板2上,第二旋转盘8转动设置于第二立板3上,且第一旋转盘7和第二旋转盘8同轴设置;第一立板2和第二立板3上分别设置有第一电动机9和第二电动机10,第一电动机9和第二电动机10分别与控制器电连接;本发明中,控制器始终控制第一电动机9和第二电动机10同步同速转动,第一旋转盘7固定在第一电动机9的输出轴上,第二旋转盘8固定在第二电动机10的输出轴上,第一旋转盘7和第二旋转盘8在转动过程中二者始终相对静止,保证电池片5以第一电动机9和第二电动机10的输出轴为中心轴稳定旋转。
为了使得夹持组件4与电池片5能够稳固连接,第一旋转盘7和第二旋转盘8上分别设置有两个用于固定电池片5的连接柄11,连接柄11端部开设有用于夹持电池片5的卡接槽12,如图3所示;
具体的:
连接柄11包括套管13和顶杆14,套管13一端设置在第一旋转盘7和第二旋转盘8上,套管13另一端开口,顶杆14贯穿套管13的开口滑动设置于套管13内,卡接槽12开设于顶杆14远离套管13的一端,套管13内设置有第二弹簧15,第二弹簧15的两端分别固定在套管13内和顶杆14位于套管13内部的端部,在第二弹簧15的弹性作用下,顶杆14始终向套管13外部的方向顶出,在第一旋转盘7和第二旋转盘8上的四个顶杆14的配合下,四个卡接槽12始终卡住电池片5的四个顶角,使其稳固夹持。
为了使电池片5能够以第一电动机9和第二电动机10的输出轴为中心轴稳定地旋转,第一旋转盘7上的两个连接柄11关于第一旋转盘7的圆心呈中心对称布置;第二旋转盘8上的两个连接柄11关于第二旋转盘8的圆心呈中心对称布置。
由于电池片5的尺寸不固定,尺寸存在些许偏差,为了提高本发明的通用性,连接柄11之间的距离能够调节;
具体的:
第一旋转盘7上和第二旋转盘8上分别沿直径方向开设有两个对称布置的调节槽16,每个调节槽16内设置有第一弹簧18,第一弹簧18的一端固定在对应的调节槽16靠近第一旋转盘7上或第二旋转盘8圆心的一端,连接柄11通过滑块17滑动设置于对应的调节槽16内,第一弹簧18的另一端固定在对应的调节槽16内的滑块17上。
具体使用时,如图1所示,用户手持电池片5先将电池片5的左边两角分别插入在第一旋转盘7上的两个连接柄11上的卡接槽12内,在第一旋转盘7上的第一弹簧18的作用下,左边两个卡接槽12在第一弹簧18的轴向方向上将电池片5左边两角紧密夹持;用户将电池片5的右边两角分别插入在第二旋转盘8上的两个连接柄11上的卡接槽12内,在第二旋转盘8上的第一弹簧18的作用下,右边两个卡接槽12在第一弹簧18的轴向方向上将电池片5右边两角紧密夹持;同时,在第二弹簧15的作用下,四个顶杆14在水平方向将电池片5紧密夹持,所以电池片5夹持稳固;用户将电源线与外部电源连接,控制器通电,用户点按触控屏6,触控屏6将电信号发送至控制器,控制器控制第一电动机9和第二电动机10通电工作;此时,第一电动机9和第二电动机10的转动方向相同,其二者转动速度相同,电池片5稳定的转动,然后,方可进行镀膜工序。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (7)
1.一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,包括垂直固定在底座(1)上的第一立板(2)和第二立板(3),所述第一立板(2)和第二立板(3)互相平行;在第一立板(2)和第二立板(3)之间转动设置有用于夹持电池片(5)的夹持组件(4),夹持组件(4)能够带动电池片(5)旋转。
2.根据权利要求1所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,所述夹持组件(4)包括第一旋转盘(7)和第二旋转盘(8),所述第一旋转盘(7)转动设置于第一立板(2)上,所述第二旋转盘(8)转动设置于第二立板(3)上,且第一旋转盘(7)和第二旋转盘(8)同轴设置;所述第一立板(2)和第二立板(3)上分别设置有第一电动机(9)和第二电动机(10),所述第一旋转盘(7)固定在第一电动机(9)的输出轴上,所述第二旋转盘(8)固定在第二电动机(10)的输出轴上,第一旋转盘(7)和第二旋转盘(8)在转动过程中二者始终相对静止。
3.根据权利要求2所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,所述第一旋转盘(7)和第二旋转盘(8)上分别设置有两个用于固定电池片(5)的连接柄(11),所述连接柄(11)端部开设有用于夹持电池片(5)的卡接槽(12)。
4.根据权利要求3所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,所述连接柄(11)包括套管(13)和顶杆(14),所述套管(13)一端设置在第一旋转盘(7)或第二旋转盘(8)上,所述套管(13)另一端开口,所述顶杆(14)贯穿所述套管(13)的开口滑动设置于所述套管(13)内,所述卡接槽(12)开设于顶杆(14)远离套管(13)的一端,所述套管(13)内设置有第二弹簧(15),所述第二弹簧(15)的两端分别固定在套管(13)内和顶杆(14)位于套管(13)内部的端部。
5.根据权利要求3所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,所述第一旋转盘(7)上的两个连接柄(11)关于第一旋转盘(7)的圆心呈中心对称布置;所述第二旋转盘(8)上的两个连接柄(11)关于第二旋转盘(8)的圆心呈中心对称布置。
6.根据权利要求4所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,所述第一旋转盘(7)上和第二旋转盘(8)上分别沿直径方向开设有两个对称布置的调节槽(16),每个调节槽(16)内设置有第一弹簧(18),第一弹簧(18)的一端固定在对应的调节槽(16)靠近第一旋转盘(7)上或第二旋转盘(8)圆心的一端,所述连接柄(11)通过滑块(17)滑动设置于对应的调节槽(16)内,第一弹簧(18)的另一端固定在对应的调节槽(16)内的所述滑块(17)上。
7.根据权利要求2所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备,其特征在于,所述底座(1)内设置有控制器,所述第一电动机(9)和第二电动机(10)分别与所述控制器电连接;所述底座(1)侧壁设置有触控屏(6),所述触控屏(6)与所述控制器电连接;所述底座(1)上设置有电源线,所述电源线与所述控制器电连接。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211077213.5A CN115505906A (zh) | 2022-09-05 | 2022-09-05 | 一种TOPCon电池双面镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211077213.5A CN115505906A (zh) | 2022-09-05 | 2022-09-05 | 一种TOPCon电池双面镀膜设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115505906A true CN115505906A (zh) | 2022-12-23 |
Family
ID=84502248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202211077213.5A Pending CN115505906A (zh) | 2022-09-05 | 2022-09-05 | 一种TOPCon电池双面镀膜设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115505906A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010010256A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-08-02 | Naoyuki Nozawa | Substrate support mechanism and substrate rotation device |
CN208701200U (zh) * | 2018-09-13 | 2019-04-05 | 济南华度光学技术有限公司 | 一种柱状光学器件侧面镀膜夹具 |
CN212077144U (zh) * | 2020-04-29 | 2020-12-04 | 深圳市锐欧光学电子有限公司 | 一种真空镀膜机的镜片翻转装置 |
CN213388879U (zh) * | 2020-10-28 | 2021-06-08 | 济南华度光学技术有限公司 | 一种光薄片器件光学镀膜工装夹具 |
CN214193442U (zh) * | 2020-12-11 | 2021-09-14 | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙) | 一种载板装置 |
CN215440671U (zh) * | 2021-09-01 | 2022-01-07 | 浙江依缘纳米科技有限公司 | 一种真空镀膜设备用工件翻转工装 |
-
2022
- 2022-09-05 CN CN202211077213.5A patent/CN115505906A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010010256A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-08-02 | Naoyuki Nozawa | Substrate support mechanism and substrate rotation device |
CN208701200U (zh) * | 2018-09-13 | 2019-04-05 | 济南华度光学技术有限公司 | 一种柱状光学器件侧面镀膜夹具 |
CN212077144U (zh) * | 2020-04-29 | 2020-12-04 | 深圳市锐欧光学电子有限公司 | 一种真空镀膜机的镜片翻转装置 |
CN213388879U (zh) * | 2020-10-28 | 2021-06-08 | 济南华度光学技术有限公司 | 一种光薄片器件光学镀膜工装夹具 |
CN214193442U (zh) * | 2020-12-11 | 2021-09-14 | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙) | 一种载板装置 |
CN215440671U (zh) * | 2021-09-01 | 2022-01-07 | 浙江依缘纳米科技有限公司 | 一种真空镀膜设备用工件翻转工装 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2017020689A1 (zh) | 基于p型硅衬底的背接触式太阳能电池及其制备方法 | |
EP2413368A2 (en) | Charge control of solar cell passivation layers | |
CN110299420B (zh) | 晶硅太阳能电池的减反射膜沉积方法 | |
WO2023184955A1 (zh) | 太阳能电池及其制备方法 | |
CN213519984U (zh) | 太阳能电池 | |
CN110468391A (zh) | 管式沉积设备 | |
JP2016512396A (ja) | 太陽電池の寿命及び効率を改善する方法 | |
CN110438474A (zh) | 载片单元 | |
CN116885044A (zh) | 一种有效提升TOPCon电池组件功率的制备方法 | |
Wu et al. | In-situ doping and local overcompensation of high performance LPCVD polysilicon passivated contacts as approach to industrial IBC cells | |
CN115505906A (zh) | 一种TOPCon电池双面镀膜设备 | |
CN117020926A (zh) | 一种碳化硅晶圆电化学机械抛光装置 | |
CN115566093A (zh) | 一种高效选择性掺杂电池及其制备方法 | |
Chen et al. | Influence of rear surface pyramid base microstructure on industrial n-TOPCon solar cell performances | |
CN210160930U (zh) | 一种棒状零件表面快速抛光装置 | |
CN211921691U (zh) | 太阳能电池镀膜设备 | |
Jeong et al. | Preparation of born-doped a-SiC: H thin films by ICP-CVD method and to the application of large-area heterojunction solar cells | |
CN110004484A (zh) | 一种SiC单晶等离子体电化学抛光装置及其抛光方法 | |
CN211563788U (zh) | 一种太阳能板清洗装置 | |
CN110311015B (zh) | 晶硅太阳能电池的薄膜沉积方法 | |
Wang et al. | Comparison of the electrical properties of PERC approach applied to monocrystalline and multicrystalline silicon solar cells | |
CN215498824U (zh) | 一种分布式光伏电站自动清扫装置 | |
CN115101621B (zh) | 一种P-topcon电池及其制备方法 | |
CN214518193U (zh) | 一种新型超薄硅片钝化装置 | |
WO2013173998A1 (en) | Method and apparatus for pulse electrochemical polishing |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |