CN115490431A - 一种ag蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品，其中AG蚀刻避空位无台阶加工方法包括加工步骤：涂布第一保护油，裁切处理，清洗处理，印刷第二保护油，烘烤处理，玻璃酸洗，玻璃蚀刻，清洗第二保护油，化学抛光，清洗第一保护油；AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品采用所述的AG蚀刻避空位无台阶加工方法进行加工。该种AG蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品具有操作方便、加工难度低的优点，在实际应用时可有效减少蚀刻避空区域与避空区域之间的高度差，提升使用体验，产品的加工质量更好，良品率高。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃加工领域，特别是一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品。
背景技术
随着人们对智能生活的需求不断增加，手机、平板、电视、车载、穿戴玻璃等，采用AG蚀刻玻璃；
AG蚀刻玻璃，具有可调节的雾度，粗糙度，光泽度具有防眩光减反射作用，可以减少反光，降低显示设备光照对使用者眼睛的伤害。现大量使用在户外触控显示、车载中控显示、医疗触控显示、工艺触控显示、商业触控显示及教学触控显示中，也慢慢普及到PC触控显示领域中。
而电子设备中，通常设有LOGO和摄像孔位等，摄像孔位如果做了AG处理，照不进光线，影响拍照功能；而产品的LOGO避空不做AG蚀刻，因此要对电子产品上的该类型区域进行避空，不做蚀刻处理，避空的区域与做过AG蚀刻面形成鲜明的对比，从而形成LOGO，也可以做其它图案处理，和LOGO加工是一个原理。
现有蚀刻AG工艺，大多采用单面蚀刻，单面抛光机台生产，因为抛光对玻璃的厚度，影响很大，没有控制好，即会造成玻璃厚度问题，而且单面蚀刻抛光，减少了另一个面的蚀刻抛光造成的划伤和不良；
现有蚀刻AG工艺，同一个面有蚀刻AG和没有蚀刻AG会出现高度差，介于0.01-0.06mm之间，这们会形成明显的台阶，形成明显的高度变化手感，降低使用体验。
现有技术，是在化抛前，褪油处理，另一个不做蚀刻AG的面，印保护油保护背面，或贴耐酸高粘保护膜保护背面，然后同一个面的AG面和不蚀刻AG面，进行化抛，但操作烦锁，良率低。
综上，现有技术存在工艺复杂、操作不方便、良品率低等缺点，加工的产品形成明显的台阶，加工质量不佳。
为此，本发明的目的在于提供一种新的技术方案以解决现存的技术问题。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明提供一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品，解决了现有现有技术及产品存在的工艺复杂、操作不方便、产品台阶高度大、良品率低等缺点。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，包括以下的加工步骤：
S1，涂布第一保护油，在玻璃原材的非蚀刻面涂布第一保护油，形成位于非蚀刻面上的第一保护油保护层；
S2，裁切处理，对整个玻璃原材进行切割处理，玻璃原材切割后形成若干符合尺寸要求的玻璃单体；
S3，清洗处理，对完成S2中切割处理的玻璃单体进行清洗处理；
S4，印刷第二保护油，在玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域印刷第二保护油，在玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域形成第二保护油保护层；
S5，烘烤处理，对印刷好第二保护油的玻璃单体进行烘烤处理；
S6，玻璃酸洗，采用酸性溶剂对玻璃单体进行清洗；
S7，玻璃蚀刻，对玻璃单体的蚀刻面的蚀刻区域进行蚀刻处理，在玻璃单体的蚀刻面的蚀刻区域形成蚀刻上砂效果；
S8，清洗第二保护油，清洗玻璃单体上的第二保护油，清洗后，去除第二保护油保护层，保留第一保护油保护层；
S9，化学抛光，采用酸性溶剂对玻璃单体进行化学抛光处理；
S10，清洗第一保护油，清洗玻璃单体上的第一保护油层，得到AG成品。
作为上述技术方案的改进，所述第一保护油为耐强酸性溶剂、耐弱碱性且不耐强碱溶剂的保护油；所述第二保护油为耐强酸性溶剂且不耐弱碱性溶剂的保护油。
作为上述技术方案的进一步改进，所述第一保护油包括抗酸油墨原料、抗碱油墨原料、固化剂、稀释剂及助剂，按照质量比，抗酸油墨原料：抗碱油墨原料：固化剂：稀释剂：助剂＝50:5:5:1.5:2.5；所述第二保护油包括抗酸油墨原料、固化剂、稀释剂及助剂，按照质量比，抗酸油墨原料:固化剂:稀释剂:助剂＝50:5:1.5:2.5。
作为上述技术方案的进一步改进，在S1中，采用滚筒涂布机将第一保护油涂布到玻璃原材的非蚀刻面上，涂布两层，保证没有针孔不良，最终所述非蚀刻面上形成的的第一保护油保护层的厚度为0.015-0.03mm，第一保护油涂布完成后采用UV光照射固化。
作为上述技术方案的进一步改进，在S2中，根据图纸要求，采用CNC设备对玻璃原材进行裁切，裁切后得到批量的符合图纸尺寸的玻璃单体。
作为上述技术方案的进一步改进，在S3中，采用弱碱性溶剂对玻璃单体进行清洗，以清洗掉切屑液油污。
作为上述技术方案的进一步改进，所述弱碱性溶剂的配比为：100份水：5±2份氢氧化钠，采用弱碱性溶剂进行清洗时，弱碱性溶剂的温度控制在60±10℃，清洗时间为70±10S。
作为上述技术方案的进一步改进，在S4中，采用丝印机台以丝印网版下油的方式将第二保护油印刷到玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域上。
作为上述技术方案的进一步改进，在印刷第二保护油过程中，需印刷两层，其中印刷第一层时相对于非蚀刻区域尺寸单边外扩0.1mm，选用420±30目网砂进行印刷；印刷第二层时相对于第一层尺寸单边内缩0.05mm，选用350±30目网砂进行印刷。
作为上述技术方案的进一步改进，在S5中，采用箱式炉烤箱对印刷完第一保护油的玻璃单体进行烘烤处理，烘烤的温度为170℃±5℃，烘烤的时间为35±5min。
作为上述技术方案的进一步改进，对玻璃单体烘烤完成后，采用清水对玻璃单体进行清洗，除去玻璃单体表面灰尘及吸笔印。
作为上述技术方案的进一步改进，在S6中，玻璃酸洗过程中采用的酸性溶剂材料体积为：100份水，2.5±0.5％氢氟酸，在常温下酸洗，酸洗的时间为10±3S。
作为上述技术方案的进一步改进，在S7中，采用蚀刻粉溶剂对玻璃单体进行蚀刻处理，蚀刻粉溶剂中，蚀刻粉质量占比为20-30％，剩余的是纯水，蚀刻粉溶剂中，蚀刻粉需要完全熟化，蚀刻粉溶剂对玻璃单体进行蚀刻时，蚀刻溶剂的温度为25±5℃，蚀刻的时间为150±100S。
作为上述技术方案的进一步改进，在S8中，采用弱碱性溶剂对完成蚀刻上砂过程的玻璃单体进行清洗，经过弱碱性溶剂的清洗后，玻璃单体上的第二保护油层会被清洗掉，保留第一保护油层。
作为上述技术方案的进一步改进，所述弱碱性溶剂的配比为：100份水：5±2份氢氧化钠，采用弱碱性溶剂进行清洗时，弱碱性溶剂的温度控制在60±10℃，清洗时间为70±10S。
作为上述技术方案的进一步改进，在S9中，化学抛光采用的酸性溶剂按体积比起配置比例为：100份水和6±3％氢氟酸，在常温下进行化学抛光，化学抛光的时间为300±150S。
作为上述技术方案的进一步改进，在玻璃单体进行化学抛光后，可采用清水对玻璃单体进行清洗，清洗后可对玻璃单体进行进一步的CNC加工。
作为上述技术方案的进一步改进，在S10中，使用强碱性溶剂清洗玻璃单体上第一保护油，清洗完后，玻璃单体上的第一保护油保护层被褪去。
作为上述技术方案的进一步改进，按照体积比，强碱性溶剂的配置参数为：100份水和15±5％氢氧化钠，褪去第一保护油时，强碱性溶剂的温度为温度为75±5℃，持续时间为150±30S。
本发明还提供了：
一种AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品，所述AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品采用所述的AG蚀刻避空位无台阶加工方法加工而成。
本发明的有益效果是：本发明提供了一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品，该种一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法采用第一保护油及第二保护油分布对非蚀刻面及蚀刻面的非蚀刻区域进行保护，第一保护油及第二保护油的耐碱性能不同，利用两种保护油的不能耐碱性特性，可有效简化加工工艺，降低了工艺难度，更加便于操作；采用该种加工方法加工的玻璃产品可精确控制蚀刻等各个阶段的时间，利用保护油层进行保护，避免蚀刻面的蚀刻区域与非蚀刻区域出现较大的台阶，不会出现明显的台阶手感，极大提升了玻璃产品的良品率及产品质量，生产效益更好。
综上，该种AG蚀刻避空位无台阶加工方法及玻璃产品解决了现有现有技术及产品存在的工艺复杂、操作不方便、产品台阶高度大、良品率低等缺点。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明中AG蚀刻避空位无台阶加工方法的工艺流程图；
图2是本发明中玻璃单体在涂布第一保护油及印刷第二保护油后的截面结构示意图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本发明的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本发明保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合，参照图1、图2。
一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，包括以下的加工步骤：
S1，涂布第一保护油，在玻璃原材的非蚀刻面涂布第一保护油，形成位于非蚀刻面上的第一保护油保护层，其中，所述第一保护油为耐强酸性溶剂、耐弱碱性且不耐强碱溶剂的保护油，具体地，所述第一保护油包括抗酸油墨原料、抗碱油墨原料、固化剂、稀释剂及助剂，按照质量比，抗酸油墨原料：抗碱油墨原料：固化剂：稀释剂：助剂＝50:5:5:1.5:2.5；
在上述S1中，采用滚筒涂布机将第一保护油涂布到玻璃原材的非蚀刻面上，涂布两层，保证没有针孔不良，最终所述非蚀刻面上形成的的第一保护油保护层的厚度为0.015-0.03mm，第一保护油涂布完成后采用UV光照射固化。
S2，裁切处理，对整个玻璃原材进行切割处理，玻璃原材切割后形成若干符合尺寸要求的玻璃单体，具体地，在S2中，根据图纸要求，采用CNC设备对玻璃原材进行裁切，裁切后得到批量的符合图纸尺寸的玻璃单体。
S3，清洗处理，对完成S2中切割处理的玻璃单体进行清洗处理，在S3中，采用弱碱性溶剂对玻璃单体进行清洗，以清洗掉切屑液油污，具体地，所述弱碱性溶剂的配比为：100份水：5±2份氢氧化钠，采用弱碱性溶剂进行清洗时，弱碱性溶剂的温度控制在60±10℃，清洗时间为70±10S；
在S3中，为了保护第一保护油，可以弱碱性溶剂浸泡，由于第一保护油耐弱碱性溶剂，因此，此工序对第一保护油没有影响。
S4，印刷第二保护油，在玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域印刷第二保护油，在玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域形成第二保护油保护层，其中，所述第二保护油为耐强酸性溶剂且不耐弱碱性溶剂的保护油，具体地，所述第二保护油包括抗酸油墨原料、固化剂、稀释剂及助剂，按照质量比，抗酸油墨原料:固化剂:稀释剂:助剂＝50:5:1.5:2.5；
上述蚀刻面的非蚀刻区域为需要设置摄像头、LOGO、图案等的避空区域，针对避空区域，不做蚀刻处理；
在印刷第二保护油前，在非蚀刻区域加工摄像孔、图案、LOGO等，一般产品只有一种图案，有多种图案时，印刷顺序可以变换。
在S4中，采用丝印机台以丝印网版下油的方式将第二保护油印刷到玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域上，具体地，在印刷第二保护油过程中，需印刷两层，其中印刷第一层时相对于非蚀刻区域尺寸单边外扩0.1mm，选用420±30目网砂进行印刷，可以保证外观效果；印刷第二层时相对于第一层尺寸单边内缩0.05mm，选用350±30目网砂进行印刷，可以加厚保护油，使之不会因不透光而渗透酸性溶剂，腐蚀避空位(非蚀刻区域)。
需要注意的是，玻璃产品上，需要AG加工的面，不印保护油，而不需要AG加工的面，印有保护油保护。
参照图2，经过步骤S4后，玻璃单体1的非蚀刻面11形成了第一保护油保护层2，玻璃单体1的蚀刻面12包括了蚀刻区域121及非蚀刻区域122，其中蚀刻区域121会进行蚀刻处理，非蚀刻区域122用于设置摄像孔、图案、LOGO，非蚀刻区域122上形成了第二保护油保护层3。
S5，烘烤处理，对印刷好第二保护油的玻璃单体进行烘烤处理；具体地，在S5中，采用箱式炉烤箱对印刷完第一保护油的玻璃单体进行烘烤处理，烘烤的温度为170℃±5℃，烘烤的时间为35±5min，将玻璃单体烘烤干。
对玻璃单体烘烤完成后，采用清水对玻璃单体进行清洗，除去玻璃单体表面灰尘及吸笔印，由于采用碱性溶剂会造成保护油，特别是第一保护油保护层的脱落，因此不采用碱性溶剂进行清洗，采用清水清洗即可。
S6，玻璃酸洗，采用酸性溶剂对玻璃单体进行清洗；
在S6中，玻璃酸洗过程中采用的酸性溶剂材料体积为：100份水，2.5±0.5％氢氟酸，在常温下酸洗，酸洗的时间为10±3S。
玻璃酸洗的目的，是为使待蚀刻的玻璃的表面脏污、氧化物蚀刻掉；此工序，酸性清洗的时间越长，台阶高度越大；时间越短台阶高度越小，但容易造成清洗不够，后面AG上砂，外观会影响，因此，要严格按照要求控制酸洗时间。
S7，玻璃蚀刻，对玻璃单体的蚀刻面的蚀刻区域进行蚀刻处理，在玻璃单体的蚀刻面的蚀刻区域形成蚀刻上砂效果；
在S7中，采用蚀刻粉溶剂对玻璃单体进行蚀刻处理，蚀刻粉溶剂中，蚀刻粉质量占比为20-30％，剩余的是纯水，蚀刻粉溶剂中，蚀刻粉需要完全熟化，蚀刻粉溶剂对玻璃单体进行蚀刻时，蚀刻溶剂的温度为25±5℃，蚀刻的时间为150±100S。
具体地，蚀刻粉的主要成份为“氟化氢胺+荧石粉+硫酸钡“，或者“氟化铵+硫酸钡”组合，或上述的组合，根据不同蚀刻效果，选用不同蚀刻粉，均与本发明无冲突，实施者可根据具体的实施需要选择适合的蚀刻粉。
S8，清洗第二保护油，清洗玻璃单体上的第二保护油，清洗后，去除第二保护油保护层，保留第一保护油保护层；
在S8中，采用弱碱性溶剂对完成蚀刻上砂过程的玻璃单体进行清洗，经过弱碱性溶剂的清洗后，玻璃单体上的第二保护油层会被清洗掉，保留第一保护油层，具体地，所述弱碱性溶剂的配比为：100份水：5±2份氢氧化钠，采用弱碱性溶剂进行清洗时，弱碱性溶剂的温度控制在60±10℃，清洗时间为70±10S。
此工序，可以完全将摄像孔、图案、LOGO等图案的保护油墨，即第一保护油，褪油处理干净。而玻璃单体上的非蚀刻面上的保护油，即第一保护油，仍然保留着。
S9，化学抛光，采用酸性溶剂对玻璃单体进行化学抛光处理；
在S9中，化学抛光采用的酸性溶剂按体积比起配置比例为：100份水和6±3％氢氟酸，在常温下进行化学抛光，化学抛光的时间为300±150S。采用酸性溶剂对玻璃进行的化学抛光，对正面的蚀刻面的蚀刻区域有抛光效果，可调节光泽度、粗糙度、雾度，而对摄像孔、图案、LOGO等图案所处的非蚀刻区域，不会再产生蚀刻效果。
在玻璃单体进行化学抛光后，可采用清水对玻璃单体进行清洗，在需要的情况下，清洗后可对玻璃单体进行进一步的CNC加工。
S10，清洗第一保护油，清洗玻璃单体上的第一保护油层，得到AG成品。
在S10中，使用强碱性溶剂清洗玻璃单体上第一保护油，清洗完后，玻璃单体上的第一保护油保护层被褪去，具体地，按照体积比，强碱性溶剂的配置参数为：100份水和15±5％氢氧化钠，褪去第一保护油时，强碱性溶剂的温度为温度为75±5℃，持续时间为150±30S。
基于上述的AG蚀刻避空位无台阶加工方法，本发明还提供了：
一种AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品，所述AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品采用AG蚀刻避空位无台阶加工方法加工而成。
以上是对本发明的较佳实施进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (20)
1.一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于，包括以下的加工步骤：
S1，涂布第一保护油，在玻璃原材的非蚀刻面涂布第一保护油，形成位于非蚀刻面上的第一保护油保护层；
S2，裁切处理，对整个玻璃原材进行切割处理，玻璃原材切割后形成若干符合尺寸要求的玻璃单体；
S3，清洗处理，对完成S2中切割处理的玻璃单体进行清洗处理；
S4，印刷第二保护油，在玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域印刷第二保护油，在玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域形成第二保护油保护层；
S5，烘烤处理，对印刷好第二保护油的玻璃单体进行烘烤处理；
S6，玻璃酸洗，采用酸性溶剂对玻璃单体进行清洗；
S7，玻璃蚀刻，对玻璃单体的蚀刻面的蚀刻区域进行蚀刻处理，在玻璃单体的蚀刻面的蚀刻区域形成蚀刻上砂效果；
S8，清洗第二保护油，清洗玻璃单体上的第二保护油，清洗后，去除第二保护油保护层，保留第一保护油保护层；
S9，化学抛光，采用酸性溶剂对玻璃单体进行化学抛光处理；
S10，清洗第一保护油，清洗玻璃单体上的第一保护油层，得到AG成品。
2.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：所述第一保护油为耐强酸性溶剂、耐弱碱性且不耐强碱溶剂的保护油；所述第二保护油为耐强酸性溶剂且不耐弱碱性溶剂的保护油。
3.根据权利要求1或2所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：所述第一保护油包括抗酸油墨原料、抗碱油墨原料、固化剂、稀释剂及助剂，按照质量比，抗酸油墨原料：抗碱油墨原料：固化剂：稀释剂：助剂＝50:5:5:1.5:2.5；所述第二保护油包括抗酸油墨原料、固化剂、稀释剂及助剂，按照质量比，抗酸油墨原料:固化剂:稀释剂:助剂＝50:5:1.5:2.5。
4.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S1中，采用滚筒涂布机将第一保护油涂布到玻璃原材的非蚀刻面上，涂布两层，保证没有针孔不良，最终所述非蚀刻面上形成的的第一保护油保护层的厚度为0.015-0.03mm，第一保护油涂布完成后采用UV光照射固化。
5.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S2中，根据图纸要求，采用CNC设备对玻璃原材进行裁切，裁切后得到批量的符合图纸尺寸的玻璃单体。
6.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S3中，采用弱碱性溶剂对玻璃单体进行清洗，以清洗掉切屑液油污。
7.根据权利要求6所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：所述弱碱性溶剂的配比为：100份水：5±2份氢氧化钠，采用弱碱性溶剂进行清洗时，弱碱性溶剂的温度控制在60±10℃，清洗时间为70±10S。
8.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S4中，采用丝印机台以丝印网版下油的方式将第二保护油印刷到玻璃单体的蚀刻面的非蚀刻区域上。
9.根据权利要求8所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在印刷第二保护油过程中，需印刷两层，其中印刷第一层时相对于非蚀刻区域尺寸单边外扩0.1mm，选用420±30目网砂进行印刷；印刷第二层时相对于第一层尺寸单边内缩0.05mm，选用350±30目网砂进行印刷。
10.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S5中，采用箱式炉烤箱对印刷完第一保护油的玻璃单体进行烘烤处理，烘烤的温度为170℃±5℃，烘烤的时间为35±5min。
11.根据权利要求1或10所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：对玻璃单体烘烤完成后，采用清水对玻璃单体进行清洗，除去玻璃单体表面灰尘及吸笔印。
12.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S6中，玻璃酸洗过程中采用的酸性溶剂材料体积为：100份水，2.5±0.5％氢氟酸，在常温下酸洗，酸洗的时间为10±3S。
13.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S7中，采用蚀刻粉溶剂对玻璃单体进行蚀刻处理，蚀刻粉溶剂中，蚀刻粉质量占比为20-30％，剩余的是纯水，蚀刻粉溶剂中，蚀刻粉需要完全熟化，蚀刻粉溶剂对玻璃单体进行蚀刻时，蚀刻溶剂的温度为25±5℃，蚀刻的时间为150±100S。
14.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S8中，采用弱碱性溶剂对完成蚀刻上砂过程的玻璃单体进行清洗，经过弱碱性溶剂的清洗后，玻璃单体上的第二保护油层会被清洗掉，保留第一保护油层。
15.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：所述弱碱性溶剂的配比为：100份水：5±2份氢氧化钠，采用弱碱性溶剂进行清洗时，弱碱性溶剂的温度控制在60±10℃，清洗时间为70±10S。
16.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S9中，化学抛光采用的酸性溶剂按体积比起配置比例为：100份水和6±3％氢氟酸，在常温下进行化学抛光，化学抛光的时间为300±150S。
17.根据权利要求1或16所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在玻璃单体进行化学抛光后，可采用清水对玻璃单体进行清洗，清洗后可对玻璃单体进行进一步的CNC加工。
18.根据权利要求1所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：在S10中，使用强碱性溶剂清洗玻璃单体上第一保护油，清洗完后，玻璃单体上的第一保护油保护层被褪去。
19.根据权利要求18所述的一种AG蚀刻避空位无台阶加工方法，其特征在于：按照体积比，强碱性溶剂的配置参数为：100份水和15±5％氢氧化钠，褪去第一保护油时，强碱性溶剂的温度为温度为75±5℃，持续时间为150±30S。
20.一种AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品，其特征在于：所述AG蚀刻避空位无台阶玻璃产品采用权利要求1-19任一项所述的AG蚀刻避空位无台阶加工方法加工而成。
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