CN115466965A - 一种金属清洗剂及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种金属清洗剂及其制备方法,该金属清洗剂按重量份计,包括氟化物,1‑30%;有机胺络合剂,1‑10%;表面活性剂,1‑15%;渗透剂,1‑5%;碱金属氢氧化物,5‑30%;无机盐,30‑70%;缓蚀剂,0.01‑0.1%。本发明的金属清洗剂有助于铜件产品除油、除铜锈、除铜件上的氧化斑的作用,使铜件在加工完成后无污渍残留、无铜锈和无氧化斑。本发明的金属清洗剂清洗效果好,清洗效率高。本发明通过氟化物与有机胺络合剂存在协同作用原理应用到铜件清洗剂,使铜件清洗剂除油除锈一步到位,工艺流程短,节水节能。
Description
技术领域
本发明涉及金属电镀前处理技术领域,具体的说是涉及一种金属清洗剂及其制备方法。
背景技术
金属铜因其在导电、导热、抑菌等方面的卓越性能,已被广泛应用于PCB、半导体、电子通讯、电力电气、家用电器、水暖卫浴、工艺饰品、日用五金等各行各业。
由于铜制品表面容易被氧化,在应用之前,一般都需要进行表面处理。在铜制品表面处理之前,须将铜件表面残留的机加工油污、铜锈和氧化斑彻底清洗干净。但铜制品是一种较难清洗的金属材料,一步做到同时除油除锈更是表面处理行业面临的一道难题。
发明内容
针对现有技术中的不足,本发明要解决的技术问题在于提供了一种金属清洗剂及其制备方法,该金属的制备方法是对铜制品上的油污、铜锈、氧化斑同步处理。
为解决上述技术问题,本发明通过以下方案来实现:本发明的一种金属清洗剂,按重量份计,包括:
氟化物,1-30%;
有机胺络合剂,1-10%;
表面活性剂,1-15%;
渗透剂,1-5%;
碱金属氢氧化物,5-30%;
无机盐,30-70%;
缓蚀剂,0.01-0.1%。
进一步的,所述氟化物包括氟化钠、氟化钾,氟化铵,氟化氢铵,氟硅酸钠,氟硅酸钾,氟硼酸钠,氟硼酸钾的一种或多种混合;
进一步的,所述有机胺络合剂包括有机伯胺、有机仲胺、有机叔胺、有机季胺和有机多乙烯多氨的一种或多种混合;
更进一步的,所述有机胺络合剂为乙二胺,二乙烯三胺,三乙烯四胺和四乙烯五胺的一种或多种。
进一步的,所述清洗剂包括以下表面活性剂中的一种或两种混合:
a)非离子表面活性剂;
b)阴离子表面活性剂。
其中,所述非离子表面活性剂包括以下组份中的一种或多种混合:
第一组:脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9和AEO-9磷酸酯混合成的组份;
第二组:异构C13脂肪醇聚氧乙烯(9)醚;
第三组:烷基酚聚氧乙烯醚NP-8.6和NP-8.6磷酸酯混合成的组份;
第四组:烷基酚聚氧乙烯醚NP-10和NP-10磷酸酯混合成的组份;
第五组:烷基酚聚氧乙烯醚TX-10和TX-10磷酸酯混合成的组份;
第六组:烷醇酰胺聚氧乙烯醚和烷醇酰胺聚氧乙烯醚磷酸酯混合成的组份。
所述阴离子表面活性剂为十二烷基硫酸钠。
进一步的,所述渗透剂包含以下渗透剂中的一种或两种混合:
a)非离子渗透剂;
b)阴离子渗透剂;
其中,所述非离子渗透剂包括渗透剂JFC-E、渗透剂JFC-M中的一种或两种混合;
所述阴离子渗透剂为渗透剂MA-80。
进一步的,所述碱金属氢氧化物包括氢氧化钠和氢氧化钾的一种或两种混合。
进一步的,所述无机盐包括碳酸钠和偏硅酸钠的一种或两种混合。
进一步的,所述缓蚀剂为苯并三氮唑。
本发明的一种金属清洗剂的制备方法,所述制备方法是将以下原料按质量份配比所形成的溶液;
氟化物,1-30%;有机胺络合剂,1-10%;表面活性剂,1-15%;渗透剂,1-5%;碱金属氢氧化物,5-30%;无机盐,30-70%;缓蚀剂,0.01-0.1%。
相对于现有技术,本发明的有益效果是:本发明的金属清洗剂有助于铜件产品除油、除铜锈、除铜件上的氧化斑的作用,使铜件在加工完成后无污渍残留、无铜锈和无氧化斑。
本发明的金属清洗剂清洗效果好,清洗效率高。
本发明通过氟化物与有机胺络合剂存在协同作用原理应用到铜件清洗剂,使铜件清洗剂除油除锈一步到位,工艺流程短,节水节能。
具体实施方式
下面通过对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。显然,本发明所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
此外,下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1:本发明的具体结构如下:
本发明的一种金属清洗剂,按重量份计,包括:
氟化物,1-30%;
有机胺络合剂,1-10%;
表面活性剂,1-15%;
渗透剂,1-5%;
碱金属氢氧化物,5-30%;
无机盐,30-70%;
缓蚀剂,0.01-0.1%。
本实施例的一种优选技术方案:所述氟化物包括氟化钠、氟化钾,氟化铵,氟化氢铵,氟硅酸钠,氟硅酸钾,氟硼酸钠,氟硼酸钾的一种或多种混合;
本实施例的一种优选技术方案:所述有机胺络合剂包括有机伯胺、有机仲胺、有机叔胺、有机季胺和有机多乙烯多氨的一种或多种混合;
本实施例的一种优选技术方案:所述有机胺络合剂为乙二胺,二乙烯三胺,三乙烯四胺和四乙烯五胺的一种或多种。
本实施例的一种优选技术方案:所述清洗剂包括以下表面活性剂中的一种或两种混合:
a)非离子表面活性剂;
b)阴离子表面活性剂。
其中,所述非离子表面活性剂包括以下组份中的一种或多种混合:
第一组:脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9和AEO-9磷酸酯混合成的组份;
第二组:异构C13脂肪醇聚氧乙烯(9)醚;
第三组:烷基酚聚氧乙烯醚NP-8.6和NP-8.6磷酸酯混合成的组份;
第四组:烷基酚聚氧乙烯醚NP-10和NP-10磷酸酯混合成的组份;
第五组:烷基酚聚氧乙烯醚TX-10和TX-10磷酸酯混合成的组份;
第六组:烷醇酰胺聚氧乙烯醚和烷醇酰胺聚氧乙烯醚磷酸酯混合成的组份。
所述阴离子表面活性剂为十二烷基硫酸钠。
本实施例的一种优选技术方案:所述渗透剂包含以下渗透剂中的一种或两种混合:
a)非离子渗透剂;
b)阴离子渗透剂;
其中,所述非离子渗透剂包括渗透剂JFC-E、渗透剂JFC-M中的一种或两种混合;
所述阴离子渗透剂为渗透剂MA-80。
本实施例的一种优选技术方案:所述碱金属氢氧化物包括氢氧化钠和氢氧化钾的一种或两种混合。
本实施例的一种优选技术方案:所述无机盐包括碳酸钠和偏硅酸钠的一种或两种混合。
本实施例的一种优选技术方案:所述缓蚀剂为苯并三氮唑。
实施例2:
一种金属清洗剂的制备方法,所述制备方法是将以下原料按质量份配比所形成的溶液;
氟化物,1-30%;有机胺络合剂,1-10%;表面活性剂,1-15%;渗透剂,1-5%;碱金属氢氧化物,5-30%;无机盐,30-70%;缓蚀剂,0.01-0.1%。
实施例3:
以下选择较优的组合来配制清洗剂:
氟化钠:25%;
有机多乙烯多氨:5%;
脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9和AEO-9磷酸酯混合成的组份:3.6%;
渗透剂MA-80:1.3%;
氢氧化钠:25%;
碳酸钠:40%;
苯并三氮唑:0.1%。
将实施例3中的各原料混合即可,再将加工后的铜件浸入本实施例3中的溶液中2~10分钟,铜件取出后用水清洗,铜件表面的油污、铜锈、氧化斑完全被去除,铜件表面清洁干净。
综上所述,本发明的金属清洗剂主要是氟化物与有机胺络合剂之间存在一种协同作用,这种协同作用有助于铜件产品除油除锈一步完成,如果不使用或只单独使用氟化物与有机胺络合剂其中的一种,既不能同时做到去除铜锈和氧化斑,又不能将机加工残留油污彻底清洗干净。
本发明的金属清洗剂,还可以应用于半导体、PCB、通讯电子、电力电气、家用电器、水暖卫浴、工艺饰品、日用五金等行业中的铜件精密清洗,清洗除锈一步到位,工序短,速度快,效率高。
以上所述仅为本发明的优选实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种金属清洗剂,其特征在于,按重量份计,包括:
氟化物,1-30%;
有机胺络合剂,1-10%;
表面活性剂,1-15%;
渗透剂,1-5%;
碱金属氢氧化物,5-30%;
无机盐,30-70%;
缓蚀剂,0.01-0.1%。
2.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述氟化物包括氟化钠、氟化钾,氟化铵,氟化氢铵,氟硅酸钠,氟硅酸钾,氟硼酸钠,氟硼酸钾的一种或多种混合。
3.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述有机胺络合剂包括有机伯胺、有机仲胺、有机叔胺、有机季胺和有机多乙烯多氨的一种或多种混合。
4.根据权利要求3所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述有机胺络合剂为乙二胺,二乙烯三胺,三乙烯四胺和四乙烯五胺的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述清洗剂包括以下表面活性剂中的一种或两种混合:
a)非离子表面活性剂;
b)阴离子表面活性剂。
其中,所述非离子表面活性剂包括以下组份中的一种或多种混合:
第一组:脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9和AEO-9磷酸酯混合成的组份;
第二组:异构C13脂肪醇聚氧乙烯(9)醚;
第三组:烷基酚聚氧乙烯醚NP-8.6和NP-8.6磷酸酯混合成的组份;
第四组:烷基酚聚氧乙烯醚NP-10和NP-10磷酸酯混合成的组份;
第五组:烷基酚聚氧乙烯醚TX-10和TX-10磷酸酯混合成的组份;
第六组:烷醇酰胺聚氧乙烯醚和烷醇酰胺聚氧乙烯醚磷酸酯混合成的组份。
所述阴离子表面活性剂为十二烷基硫酸钠。
6.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述渗透剂包含以下渗透剂中的一种或两种混合:
a)非离子渗透剂;
b)阴离子渗透剂;
其中,所述非离子渗透剂包括渗透剂JFC-E、渗透剂JFC-M中的一种或两种混合;
所述阴离子渗透剂为渗透剂MA-80。
7.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述碱金属氢氧化物包括氢氧化钠和氢氧化钾的一种或两种混合。
8.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述无机盐包括碳酸钠和偏硅酸钠的一种或两种混合。
9.根据权利要求1所述的一种金属清洗剂,其特征在于,所述缓蚀剂为苯并三氮唑。
10.一种金属清洗剂的制备方法,其特征在于,包括权利要求1-9任意一项所述的金属清洗剂,所述制备方法是将以下原料按质量份配比所形成的溶液;
氟化物,1-30%;有机胺络合剂,1-10%;表面活性剂,1-15%;渗透剂,1-5%;碱金属氢氧化物,5-30%;无机盐,30-70%;缓蚀剂,0.01-0.1%。
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202211129842.8A Pending CN115466965A (zh) | 2022-09-15 | 2022-09-15 | 一种金属清洗剂及其制备方法 |
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CN (1) | CN115466965A (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101434894A (zh) * | 2001-10-23 | 2009-05-20 | 高级技术材料公司 | 用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物 |
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2022
- 2022-09-15 CN CN202211129842.8A patent/CN115466965A/zh active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN101434894A (zh) * | 2001-10-23 | 2009-05-20 | 高级技术材料公司 | 用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物 |
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