CN115432934A - 蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 99
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 27
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 18
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 16
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims abstract description 15
- -1 fluoride compound Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 11
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 10
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 8
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims abstract description 8
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims abstract description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 235000011147 magnesium chloride Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 235000007715 potassium iodide Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000009500 colour coating Methods 0.000 claims description 9
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 16
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 3
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
- C09K13/04—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
- C09K13/08—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid containing a fluorine compound
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K5/00—Casings, cabinets or drawers for electric apparatus
- H05K5/02—Details
- H05K5/0217—Mechanical details of casings
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K5/00—Casings, cabinets or drawers for electric apparatus
- H05K5/02—Details
- H05K5/0217—Mechanical details of casings
- H05K5/0243—Mechanical details of casings for decorative purposes
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Abstract
本申请公开了蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备。按质量百分比计，所述蒙砂液包括：20wt％‑35wt％的氟化物，所述氟化物包括氟化氢铵和氟化镁中的至少之一；5wt％‑8wt％的硫酸；15wt％‑25wt％的弱酸，所述弱酸包括丁二酸和草酸中的至少之一；13wt％‑28wt％的粘度调节剂，所述粘度调节剂包括硫酸钠、甘油和聚乙烯醇中的至少之一；9wt％‑21wt％的添加剂，所述添加剂包括三聚磷酸钠、氯化铵、氯化镁和碘化钾中的至少之一；以及余量的水。利用上述蒙砂液对玻璃基材进行处理，可以得到粗糙度在0.7μm‑1.0μm的蒙砂表面，并且，可以使得玻璃基材的透光率显著降低、雾度显著增大、反射率显著降低，从而使得玻璃壳体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能；结合镀膜层可使得玻璃具有较为强烈的金属质感。
Description
技术领域
本申请涉及电子领域，具体地，涉及蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备。
背景技术
随着5G智能时代的来临，由于金属材质对信号的屏蔽与干扰，越来越多的主流品牌手机选用玻璃材质作为手机后壳的主体材料，但仍有很多用户依然对金属材质的后壳情有独钟。针对用户对金属材质后壳恋旧的需求，需要对手机玻璃后壳进行加工处理，使手机玻璃后壳具有金属般的光泽与质感，满足人们对智能手机多元化的需求。
因此，目前的蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备仍有待提高。
发明内容
本申请是基于发明人对以下事实和问题的发现和认识的基础上做出的：
很多用户对金属材质的后壳仍然比较喜爱，发明人发现，为了避免金属材质对信号的屏蔽和干扰，可以采用镀膜的方式使玻璃壳体呈现金属板的光泽和质感，但直接在玻璃基材的表面镀膜得到的壳体的外观并不能够很好的满足用户的需求；因此，发明人通过大量实验发现，可以采用特定组分的蒙砂液对玻璃基材的表面进行蚀刻，得到蚀刻表面，之后，在蚀刻表面镀膜，可以使得玻璃壳体呈现出独特的蒙砂纹理效果，同时还具有较好的金属质感，并且，能够使得玻璃壳体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘。抗指纹等优良性能。
本申请旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中的至少一个。有鉴于此，在本申请的一个方面，本申请提出了一种蒙砂液，按质量百分比计，所述蒙砂液包括：20wt％-35wt％的氟化物，所述氟化物包括氟化氢铵和氟化镁中的至少之一；5wt％-8wt％的硫酸；15wt％-25wt％的弱酸，所述弱酸包括丁二酸和草酸中的至少之一；13wt％-28wt％的粘度调节剂，所述粘度调节剂包括硫酸钠、甘油和聚乙烯醇中的至少之一；9wt％-21wt％的添加剂，所述添加剂包括三聚磷酸钠、氯化铵、氯化镁和碘化钾中的至少之一；以及余量的水。由此，利用上述蒙砂液对玻璃基材的表面进行处理，可以得到粗糙度在0.7μm-1.0μm的蒙砂表面，并且，可以使得玻璃基材的透光率显著降低、雾度显著增大、反射率显著降低，从而使得玻璃壳体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能；而且，当在由该蒙砂液处理得到的蒙砂玻璃的蒙砂表面设置镀膜层后，还可以使得该玻璃具有较为强烈的金属质感，进一步丰富蒙砂玻璃的外观效果。
在本申请的另一方面，本申请提出了一种制作壳体组件的方法，制作壳体组件的方法包括：提供玻璃基体；利用前面所述的蒙砂液对所述玻璃基体的一个表面进行蒙砂处理，得到蒙砂表面。由此，利用上述方法处理得到的玻璃基体具有合适的粗糙度，较低的透光率、较高的雾度以及较低的反射率，结合镀膜处理，可以得到具有金属光泽与质感的玻璃壳体。
在本申请的又一方面，本申请提出了一种电子设备，所述电子设备包括：前面所述的壳体组件；显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件之间限定出安装空间，其中，所述壳体组件中的蒙砂表面远离所述安装空间设置；以及主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。由此，该电子设备具有有前面所述的壳体组件所具有的全部特征以及优点，在此不再赘述，总的来说，该电子设备具有较好的外观，用户体验效果较佳。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对示例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1显示了根据本申请一个示例的制备壳体组件的方法流程图；
图2显示了根据本申请另一个示例的制备壳体组件的方法流程图；
图3显示了根据本申请一个示例的电子设备的结构示意图；
图4显示了示例1中蒙砂处理后的玻璃壳体的显微镜照片。
附图标记说明：
100：壳体组件；1000：电子设备。
具体实施方式
下面详细描述本申请的示例，所述示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的示例，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的一个方面，本申请提出了一种蒙砂液。根据本申请的示例，按质量百分比计，蒙砂液包括：20wt％-35wt％的氟化物，氟化物包括氟化氢铵和氟化镁中的至少之一；5wt％-8wt％的硫酸；15wt％-25wt％的弱酸，弱酸包括丁二酸和草酸中的至少之一；13wt％-28wt％的粘度调节剂，粘度调节剂包括硫酸钠、甘油和聚乙烯醇中的至少之一；9wt％-21wt％的添加剂，添加剂包括三聚磷酸钠、氯化铵、氯化镁和碘化钾中的至少之一；以及余量的水。由此，利用上述蒙砂液对玻璃基体进行蒙砂处理，可以使得玻璃基体的表面具有合适的粗糙度，并使得玻璃基体具有较低的透光率、较高的雾度以及较低的反射率，进而使得玻璃壳体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能；结合后续的镀膜处理，能够使得玻璃壳体具有金属般的光泽和质感，满足用户对金属外观质感的需求，并且不会对信号造成屏蔽和干扰，使用户体验效果更佳。
根据本申请的示例，蒙砂液中，氟化物的质量含量可以为20wt％-35wt％，例如可以为20wt％、22wt％、25wt％、28wt％、30wt％、32wt％、35wt％等，由此，蒙砂液中的氟化物作为蚀刻剂，可以对玻璃进行蚀刻，使得玻璃表面形成蒙砂颗粒。
根据本申请的示例，蒙砂液中，硫酸的质量含量可以为5wt％-8wt％，例如可以为5wt％、6wt％、7wt％、8wt％等，由此，硫酸作为载体，可以提供一定含量的氢离子，并且，硫酸具有合适的质量含量，更有利于对蚀刻速率的调整以及对沉淀物结晶路径进行调控，使得蒙砂处理之后，玻璃具有所需的性能。
根据本申请的示例，蒙砂液中，弱酸的质量含量可以为15wt％-25wt％，例如可以为15wt％、18wt％、20wt％、23wt％、25wt％等，弱酸也可以提供氢离子，参与蚀刻，能够更好的控制蚀刻的速率和蚀刻的深度。发明人发现，如果蒙砂液中硫酸的质量含量过高，则可能会影响整体蚀刻速率和沉淀物结晶路径，通过在蒙砂液中添加上述含量的弱酸，可以有效提高氢离子的含量，并且，能够更好的控制蒙砂蚀刻的速率，从而更好的控制蚀刻的深度；而且，在蚀刻的过程中，弱酸中的氢离子逐渐电离出，进而保持蒙砂液中氢离子浓度的稳定性，使得蚀刻速率保持一定的均匀性，如此可以进一步的提高得到的蒙砂玻璃的蒙砂效果。
蒙砂液中，起到蚀刻作用的主要组分是氟化氢铵、氟化镁，他们提供氟离子，在氢离子的配合下侵蚀玻璃中的二氧化硅骨架，在玻璃表面形成氟硅酸盐复盐、氟化物复盐等不溶性晶粒，以这些晶粒为晶核不断向周边长大，从而在玻璃表面形成蒙砂纹理。
根据本申请的示例，蒙砂液中，粘度调节剂的质量含量可以为13wt％-28wt％，例如可以为13wt％、15wt％、17wt％、20wt％、22wt％、25wt％、28wt％等，由此，上述含量的粘度调节剂可以使得蒙砂液具有合适的粘度，同时，粘度调节剂中的部分组分还可以起到乳化作用，并增加蒙砂液与玻璃表面的亲润性，从而降低漏蒙、白点、聚团等缺陷出现的几率。
根据本申请的示例，蒙砂液中，添加剂的质量含量可以为9wt％-21wt％，例如可以为9wt％、11wt％、13wt％、15wt％、18wt％、20wt％、21wt％等，由此，添加剂可以进一步优化蒙砂液的组分，使得利用该蒙砂液对玻璃基体进行蒙砂处理之后，能够得到粗糙度为0.7μm-1.0μm的蒙砂表面。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液可以包括：15wt％-25wt％的氟化氢铵；5wt％-10wt％的氟化镁；5wt％-8wt％的硫酸；15wt％-25wt％的丁二酸；5wt％-10wt％的硫酸钠；3wt％-8wt％的甘油；5wt％-10wt％的聚乙烯醇；3wt％-6wt％的氯化铵；2wt％-5wt％的三聚磷酸钠；2wt％-5wt％的氯化镁；2wt％-5wt％的碘化钾；以及15wt％-25wt％的水。发明人通过大量的实验劳动，对蒙砂液的配方进行设计和调整，最终采用上述各组分的组合构成蒙砂液，并且对各种原料之间的配比进行了多次优化，得到的蒙砂液能够在玻璃表面形成微米级的蒙砂颗粒，蒙砂表面的粗糙度在0.7μm-1.0μm之间，后续通过在玻璃基体的表面进行镀膜，可以使得玻璃整体呈现出金属般的光泽与质感，并且，该蒙砂表面的粗糙度使得玻璃壳体的触握手感接近金属质感，用做手机等电子设备的外壳，可以满足用户对金属外观和金属质感的需求，也不会对信号造成屏蔽和干扰。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，氟化氢铵的质量含量可以为15wt％-25wt％，例如可以为15wt％、17wt％、20wt％、23wt％、25wt％等，上述含量的氟化氢铵作为蚀刻剂，可以在玻璃表面形成蒙砂颗粒。根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，氟化镁的质量含量可以为5wt％-10wt％，例如可以为5wt％、6wt％、7wt％、8wt％、9wt％、10wt％等，氟化镁作为蚀刻剂，也可以在玻璃表面形成蒙砂颗粒，并且，添加上述含量的氟化镁可以进一步提升蒙砂液的蚀刻效果。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，丁二酸的质量含量可以为15wt％-25wt％，例如可以为15wt％、18wt％、20wt％、23wt％、25wt％等，在实验过程中，发明人发现，如果蒙砂液中的硫酸的含量过高，则有可能会影响蚀刻速率以及沉淀物的结晶路径，从而影响蚀刻效果，而通过向蒙砂液中加入一定含量的有机弱酸如丁二酸等，可以增加氢离子的浓度，促进蚀刻反应；同时，丁二酸可以与铵离子结合生成一种温和的氧化剂，该氧化剂参与蚀刻反应，进而可以更有效的控制蚀刻的反应速度与蚀刻深度，确保玻璃蚀刻后的粗糙度介于0.7μm-1.0μm之间，触握手感更接近于金属质感。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，硫酸钠的质量含量可以为5wt％-10wt％，例如可以为5wt％、6wt％、7wt％、8wt％、9wt％、10wt％等，上述含量的硫酸钠可以对蒙砂液体系的粘度进行调节，使得蒙砂液具有合适的粘度，从而有利于对玻璃的蚀刻。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，聚乙烯醇的质量含量可以为5wt％-10wt％，例如可以为5wt％、6wt％、7wt％、8wt％、9wt％、10wt％等，聚乙烯醇作为粘度调节剂使用，上述含量的聚乙烯醇可以有效调节蒙砂液的粘度，同时聚乙烯醇对蚀刻液具有较强的乳化作用，聚乙烯醇的含量设置在上述范围内可以促进蒙砂液的均匀一致性；另外，聚乙烯醇具有较好的亲水性，可以增加蒙砂液与玻璃表面的亲润性，从而有效降低漏蒙、白点、聚团等缺陷出现的几率。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，甘油的质量含量可以为3wt％-8wt％，例如可以为3wt％、4wt％、5wt％、6wt％、7wt％、8wt％等，甘油同样也可以起到调节蒙砂液粘度的作用，同时起到乳化作用，并增加蒙砂液与玻璃表面的亲润性，从而降低漏蒙、白点、聚团等缺陷出现的几率。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，氯化铵的质量含量可以为3wt％-6wt％，例如可以为3wt％、4wt％、5wt％、6wt％等，氯化铵可以提供与氟化氢铵中相同的铵离子，从而可以在确保蒙砂液中氟离子浓度不变的前提下增加铵离子的浓度，从而使得氟离子更充分的发挥其蚀刻作用，进而使得蒙砂液的蚀刻效果更佳。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，三聚磷酸钠的质量含量可以为2wt％-5wt％，例如可以为2wt％、3wt％、4wt％、5wt％等，上述含量的三聚磷酸钠可以有效调节蒙砂液的pH，同时，三聚磷酸钠也具有促进蒙砂液乳化、悬浮的作用，从而使得蒙砂液的成分更均匀，使得蚀刻晶粒大小更均匀一致。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，氯化镁的质量含量可以为2wt％-5wt％，例如可以为2wt％、3wt％、4wt％、5wt％等，添加氯化镁可以在不改变氟离子浓度的前提下，增加镁离子的浓度，促进氟化镁中氟离子对玻璃的蚀刻作用。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，碘化钾的质量含量可以为2wt％-5wt％，例如可以为2wt％、3wt％、4wt％、5wt％等，添加上述含量的碘化钾可以进一步促进蒙砂液对玻璃的蚀刻。
根据本申请的一些示例，按质量百分比计，蒙砂液中，水的质量含量可以为15wt％-25wt％，例如可以为15wt％、18wt％、20wt％、23wt％、25wt％等，水作为主溶剂，可以对蒙砂液的pH、粘稠度以及表面能等进行调节，水的含量设置在上述范围内，可以使得蒙砂液具有合适的pH、粘度以及表面能，从而促进蒙砂液对玻璃的蚀刻。
在本申请的另一方面，本申请提出了一种制作壳体组件的方法。根据本申请的示例，参考图1，制作壳体组件的方法可以包括以下步骤：
S100：提供玻璃基体。
首先，提供玻璃基体，其中，玻璃基体可以为2D、2.5D或3D玻璃。根据本申请的示例，玻璃基体的材质可以为铝硅玻璃(例如高铝硅玻璃)。
S200：利用前面所述的蒙砂液对玻璃基体的一个表面进行蒙砂处理，得到蒙砂表面。
在该步骤中，利用前面所述的蒙砂液对玻璃基体的一个表面进行蒙砂处理，得到蒙砂表面，其中，蒙砂表面的粗糙度为0.7μm-1.0μm，例如可以为0.7μm、0.73μm、0.75μm、0.78μm、0.8μm、0.85μm、0.9μm、0.95μm、1.0μm等。蒙砂表面的粗糙度在上述范围内，可以使得蒙砂表面具有更接近金属壳体的质感，使用户体验更佳；并且，可以使得玻璃具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能。
根据本申请的示例，在进行蒙砂处理之前，制作壳体组件的方法还可以包括：将玻璃基体不需要进行蒙砂处理的表面用抗蚀刻油墨覆盖；将玻璃基体需要进行蒙砂处理的表面用预处理液进行预处理。由此，能够保护不需要蚀刻的表面，并且对需要蚀刻的表面进行预处理可以更有利于后续蒙砂处理的进行。根据本申请的示例，预处理液可以是氢氟酸、硫酸、添加成分等混合物溶液，以便清除玻璃基体表面的污垢与油渍。
根据本申请的一些示例，进行蒙砂处理时，蒙砂液的温度为18℃-22℃，例如可以为18℃、19℃、20℃、21℃、22℃等，蒙砂处理的时间为2min-3min，例如可以为2min、2.5min、3min等，由此，可以使得蚀刻更为均匀一致，还可以更好的调节蒙砂液对玻璃的蚀刻速率和蚀刻深度，从而保证蒙砂表面的粗糙度在0.7μm-1.0μm之间。
根据本申请的一些示例，参考图2，制作壳体组件的方法还可以包括S300：对蒙砂表面进行真空电镀，形成镀膜层。由此，将蒙砂处理和镀膜相结合，可以使得玻璃壳体呈现金属般的光泽和质感，满足用户对金属质感的需求。根据本申请的示例，镀膜层可以为纳米级厚度的镀膜层，节省原料，并且可以使得壳体组件具有更优异的外观质感。
根据本申请的一些示例，镀膜层为枪色镀膜层，枪色镀膜层与蒙砂表面组合，能够使得玻璃壳体呈现更优异的金属质感，玻璃壳体可以将闪现寒光的枪色色调与冰丝细腻的触觉手感结合起来，能够彰显手机等电子设备的庄重典雅，并展现出金属材质手机产品的厚重感，从而能够更好的满足用户对金属质感的需求。
根据本申请的一些示例，镀膜层的材质包括氧化钛、氧化铌和氧化硅等中的至少之一，上述材质形成的镀膜层可以呈现枪色，与蒙砂表面组合，能够使得玻璃壳体呈现更优的金属质感。
根据本申请的另一些示例，镀膜层也可以为其他颜色的镀膜层，可以通过镀膜层叠等方式进行调整和设计，只要能够得到金属质感即可。发明人通过对比发现，枪色镀膜层与蒙砂表面结合，能够得到更优异的金属质感。
总的来说，本申请制作壳体组件的方法具有工艺简单、实用、容易操作、成本低廉等诸多优点，并且制作得到的壳体组件具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，能够满足用户的使用需求。
在本申请的一种壳体组件，其特征在于，壳体组件是利用前面所述的方法制作得到的。由此，该壳体组件具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，适合用做手机等电子设备的外壳。
在本申请的又一方面，本申请提出了一种电子设备1000。根据本申请的示例，参考图3，电子设备1000包括壳体组件100，所述壳体组件100为前面所述的壳体组件，该电子设备还包括主板和显示屏组件(图中未示出)，显示屏组件与壳体组件相连，且显示屏组件和壳体组件之间限定出安装空间，其中，壳体组件中的蒙砂表面远离安装空间设置，所述主板设置在安装空间内且与显示屏组件电连接，以实现电子设备的功能。由此，该电子设备具有前面所述的壳体组件所具有的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该电子设备具有良好的外观。
本申请所述的电子设备的具体类型不受特别限制，例如，可以为手机、智能手表、掌上电脑或者笔记本电脑。上述电子设备可以为移动或便携式并执行无线通信的各种类型的计算机系统设备中的任何一种。具体的，电子设备可以为移动电话或智能电话(例如，基于iPhone TM，基于Android TM的电话)，便携式游戏设备(例如Nintendo DS TM，PlayStation Portable TM，Gameboy Advance TM，iPhone TM)、膝上型电脑、PDA、便携式互联网设备、音乐播放器以及数据存储设备，其他手持设备以及诸如手表、入耳式耳机、吊坠、头戴式耳机等，电子设备还可以为其他的可穿戴设备(例如，诸如电子眼镜、电子衣服、电子手镯、电子项链、电子纹身或智能手表的头戴式设备(HMD))。
电子设备还可以是多个电子设备中的任何一个，多个电子设备包括但不限于蜂窝电话、智能电话、其他无线通信设备、个人数字助理、音频播放器、其他媒体播放器、音乐记录器、录像机、照相机、其他媒体记录器、收音机、医疗设备、车辆运输仪器、计算器、可编程遥控器、寻呼机、膝上型计算机、台式计算机、打印机、上网本电脑、个人数字助理(PDA)、便携式多媒体播放器(PMP)、运动图像专家组(MPEG-1或MPEG-2)音频层3(MP3)播放器，便携式医疗设备以及数码相机及其组合。
在一些情况下，电子设备可以执行多种功能(例如，播放音乐，显示视频，存储图片以及接收和发送电话呼叫)。如果需要，电子设备可以是诸如蜂窝电话、媒体播放器、其他手持设备、腕表设备、吊坠设备、听筒设备或其他紧凑型便携式设备的便携式设备。
下面通过具体的示例对本申请进行说明，本领域技术人员能够理解的是，下面的具体的示例仅仅是为了说明的目的，而不以任何方式限制本申请的范围。另外，在下面的示例中，除非特别说明，所采用的材料和设备均是市售可得的。如果在后面的示例中，未对具体的处理条件和处理方法进行明确描述，则可以采用本领域中公知的条件和方法进行处理。
示例1
①、按照如下配比进行蒙砂液的配制：按质量百分比计，蒙砂液包括：16.5wt％的NH4HF2、8.5wt％的MgF2、6.0wt％的H2SO4、18.5wt％的丁二酸、4.5wt％的NH4Cl、5.0wt％的Na2SO4、3.5wt％的三聚磷酸钠、2.5wt％的MgCl2、2.0wt％的KI、7.5wt％的聚乙烯醇、3.5wt％的甘油、22.0wt％的H2O，充分搅拌均匀直至蒙砂液呈现均匀一致的过饱和溶液状态，即制得所需的蒙砂液。
②、提供高铝硅玻璃基体，并将高铝硅玻璃基体不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护。
③、将高铝硅玻璃基体需要蚀刻的一面用预处理液进行预处理，并用纯水清洗干净，然后在湿式状态下放入蒙砂液中进行浸泡蚀刻处理(蒙砂处理)。
④、控制蒙砂液的温度为18℃-22℃，控制蒙砂处理时间为2.5分钟。
⑤、达到蒙砂处理时间要求后及时将玻璃壳体从蒙砂液中取出，然后用纯水清洗干净，得到蒙砂处理的玻璃壳体1号产品。
⑥、蒙砂处理后的玻璃壳体放入镀膜机中进行真空电镀处理(枪色膜料选用非磁性膜料)，形成枪色镀膜层。
⑦、枪色膜料电镀完成后进行质量检验，合格后即制得手机玻璃后壳仿金属光泽枪色质感效果产品。
示例2
①、按照如下配比进行蒙砂液的配制：按质量百分比计，蒙砂液包括：20.0wt％的NH4HF2、5.5wt％的MgF2、5.0wt％的H2SO4、20.5wt％的丁二酸、6.0wt％的NH4Cl、5.5wt％的Na2SO4、2.0wt％的三聚磷酸钠、3.5wt％的MgCl2、2.5wt％的KI、8.5wt％的聚乙烯醇、3.0wt％的甘油、18.0wt％的H2O，充分搅拌均匀直至蒙砂液呈现均匀一致的过饱和溶液状态，即制得所需的蒙砂液。
②、提供高铝硅玻璃基体，并将高铝硅玻璃基体不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护。
③、将高铝硅玻璃基体需要蚀刻的一面用预处理液进行预处理，并用纯水清洗干净，然后在湿式状态下放入蒙砂液中进行浸泡蚀刻处理。
④、控制蒙砂液的温度为18℃-22℃，控制蒙砂处理时间为3分钟。
⑤、达到蒙砂处理时间要求后及时从蒙砂液中取出，然后用纯水清洗干净，得到蒙砂处理的玻璃壳体2号产品。
⑥、蒙砂处理后的手机玻璃后壳放入镀膜机中进行真空电镀处理(枪色膜料选用非磁性膜料)，形成枪色镀膜层。
⑦、枪色膜料电镀完成后进行质量检验，合格后即制得手机玻璃后壳仿金属光泽枪色质感效果产品。
示例3
①、按照如下配比进行蒙砂液的配制：按质量百分比计，蒙砂液包括：16.5wt％的NH4HF2、7.0wt％的MgF2、6.5wt％的H2SO4、19.5wt％的丁二酸、3.5wt％的NH4Cl、4.5wt％的Na2SO4、3.0wt％的三聚磷酸钠、2.0wt％的MgCl2、3.0wt％的KI、9.5wt％的聚乙烯醇、3.5wt％的甘油、21.5wt％的H2O，充分搅拌均匀直至蒙砂液呈现均匀一致的过饱和溶液状态，即制得所需的蒙砂液。
②、提供高铝硅玻璃基体，并将高铝硅玻璃基体不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护。
③、将高铝硅玻璃基体需要蚀刻的一面用预处理液进行预处理，并用纯水清洗干净，然后在湿式状态下放入蒙砂液中进行浸泡蚀刻处理。
④、控制蒙砂液的温度为18-22℃。控制蒙砂处理时间为2-3分钟。
⑤、达到蒙砂处理时间要求后及时从蒙砂液中取出，然后用纯水清洗干净，得到蒙砂处理的玻璃壳体3号产品。
⑥、蒙砂处理后的玻璃壳体放入镀膜机中进行真空电镀处理(枪色膜料选用非磁性膜料)，形成枪色镀膜层。
⑦、枪色膜料电镀完成后进行质量检验，合格后即制得手机玻璃后壳仿金属光泽枪色质感效果产品。
对比例1
提供高铝硅玻璃基体，不进行蒙砂处理，在高铝硅玻璃基体的一个表面进行真空电镀处理(枪色膜料选用非磁性膜料)，形成枪色镀膜层，得到玻璃壳体。
对进行蒙砂处理前的玻璃基体(蚀刻前玻璃基体)以及示例1至示例3中蒙砂处理后的玻璃壳体进行性能测试，包括光泽度、透光率、雾度、粗糙度、反射率等，按照本领域常规测试方法进行测试即可，测试结果记录于下表1中。
表1蒙砂处理前后玻璃壳体性能测试结果
| 性能 | 蚀刻前玻璃基体 | 玻璃壳体1号 | 玻璃壳体2号 | 玻璃壳体3号 |
| 光泽度(％) | 110.6 | 30.8 | 31.2 | 31.6 |
| 透光率(％) | 91 | 29.5 | 28.8 | 29.3 |
| 雾度(％) | 0 | 70.6 | 71.2 | 71.5 |
| 粗糙度(μm) | 0 | 0.75 | 0.82 | 0.78 |
| 反射率(％) | 8.6 | 3.1 | 3.0 | 3.3 |
通过表1可以看出，在利用本申请的蒙砂液对玻璃基体进行处理后，玻璃壳体的光泽度显著降低，光泽度仅有大约30％；透光率显著降低，透光率不超过30％；雾度显著增大，雾度均超过70％；粗糙度均在0.7μm-1.0μm；反射率显著降低，反射率均低于3.5％。由此，可知，通过蒙砂处理，使得玻璃壳体具有一定的粗糙度、较低的透光率、较高的雾度以及较低的反射率。
另外，通过显微镜观察玻璃壳体1号产品，得到160倍显微镜下蒙砂处理后的玻璃表面照片，如图4所示，由图4可以看出，利用本申请的蒙砂液对玻璃基体进行蒙砂处理后，形成了均匀的刻蚀表面。
观察并触摸示例1至示例3以及对比例1中镀膜后的玻璃壳体，对比例1仅仅呈现出普通的镜面反射效果，没有金属的厚重感，触感较为光滑；而示例1至示例3的玻璃壳体均具有优异的金属光泽和质感，呈现出金属材质的厚重感，并且具有蒙砂蚀刻纹理，触感更接近金属材质。
在本说明书的描述中，参考术语“一个示例”、“另一个示例”、“一些示例”等的描述意指结合该示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同示例以及不同示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本申请的示例，可以理解的是，上述示例不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述示例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种蒙砂液，其特征在于，按质量百分比计，所述蒙砂液包括：
20wt％-35wt％的氟化物，所述氟化物包括氟化氢铵和氟化镁中的至少之一；
5wt％-8wt％的硫酸；
15wt％-25wt％的弱酸，所述弱酸包括丁二酸和草酸中的至少之一；
13wt％-28wt％的粘度调节剂，所述粘度调节剂包括硫酸钠、甘油和聚乙烯醇中的至少之一；
9wt％-21wt％的添加剂，所述添加剂包括三聚磷酸钠、氯化铵、氯化镁和碘化钾中的至少之一；以及
余量的水。
2.根据权利要求1所述的蒙砂液，其特征在于，按质量百分比计，所述蒙砂液包括：
15wt％-25wt％的氟化氢铵；
5wt％-10wt％的氟化镁；
5wt％-8wt％的硫酸；
15wt％-25wt％的丁二酸；
5wt％-10wt％的硫酸钠；
3wt％-8wt％的甘油；
5wt％-10wt％的聚乙烯醇；
3wt％-6wt％的氯化铵；
2wt％-5wt％的三聚磷酸钠；
2wt％-5wt％的氯化镁；
2wt％-5wt％的碘化钾；以及
15wt％-25wt％的水。
3.一种制作壳体组件的方法，其特征在于，包括：
提供玻璃基体；
利用权利要求1或2所述的蒙砂液对所述玻璃基体的一个表面进行蒙砂处理，得到蒙砂表面。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述蒙砂表面的粗糙度为0.7μm-1.0μm。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在进行所述蒙砂处理之前，还包括：
将所述玻璃基体不需要进行所述蒙砂处理的表面用抗蚀刻油墨覆盖；
将所述玻璃基体需要进行所述蒙砂处理的表面用预处理液进行预处理。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，进行所述蒙砂处理时，所述蒙砂液的温度为18℃-22℃，所述蒙砂处理的时间为2min-3min。
7.根据权利要求3-6中任一项所述的方法，其特征在于，还包括：
对所述蒙砂表面进行真空电镀，形成镀膜层。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述镀膜层满足以下条件中的至少之一：
所述镀膜层的材质包括氧化钛、氧化铌和氧化硅中的至少之一；
所述镀膜层为枪色镀膜层。
9.一种壳体组件，其特征在于，所述壳体组件是利用权利要求3-8中任一项所述的方法制作得到的。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
权利要求9所述的壳体组件；
显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件之间限定出安装空间，其中，所述壳体组件中的蒙砂表面远离所述安装空间设置；以及
主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211091308.2A CN115432934B (zh) | 2022-09-07 | 2022-09-07 | 蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN202211091308.2A CN115432934B (zh) | 2022-09-07 | 2022-09-07 | 蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115432934A true CN115432934A (zh) | 2022-12-06 |
| CN115432934B CN115432934B (zh) | 2023-11-03 |
Family
ID=84248168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211091308.2A Active CN115432934B (zh) | 2022-09-07 | 2022-09-07 | 蒙砂液、壳体组件及其制作方法和电子设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115432934B (zh) |
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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