CN115397236A - 用于水族箱的挠性清洁装置和方法 - Google Patents

Abstract

一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置，该清洁装置包括挠性清洁本体和挠性手柄构件。清洁本体和手柄构件彼此磁性地吸引。清洁本体中的挠性和手柄构件中的挠性允许该清洁装置与水族箱罐中的弯曲表面的轮廓相吻合且一致。清洁本体的挠性和手柄构件的挠性通过具有交替的凹部和翅片的挠性区域来实现。

Description

用于水族箱的挠性清洁装置和方法

相关申请的交叉引用

本申请为PCT国际专利申请，并要求于2019年12月6日提交的、序列号为No.62/944,537的美国专利申请的权益，该美国专利申请的全部公开内容通过参引并入本文中。

技术领域

本公开涉及用于对诸如水族箱之类的水罐的壁的内表面进行清洁的罐清洁器。特别地，本公开涉及具有挠性以允许对弯曲的水族箱表面进行清洁的清洁器，并且涉及清洁方法。

背景技术

拥有水族箱的人放弃该爱好的一个原因是由于水族箱需要定期清洁。在很多情况下，水族箱的内壁表面聚集藻类。这个内壁表面需要是干净的，以便可以透过玻璃观察水族箱内的鱼，并且以获得水生生物的总体健康。

现有技术中已经用于对水族箱的内壁进行清洁的一种技术是清洁磁体。磁体的内部部分具有清洁表面，而外部部分用作手柄以利用内部部分与手柄之间的磁性吸引力来在被污染的水族箱壁上导引内部清洁表面。现有技术中典型的磁性清洁器可用于对具有直的玻璃表面的水族箱进行清洁。随着近年来水族箱的形状已经改变以包括弯曲表面，典型的现有技术的磁性清洁器已经不能很好地工作。

因此，需要对用于具有弯曲表面的水族箱的清洁装置进行改进。

发明内容

提供了一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置，该水族箱清洁装置对现有技术进行了改进。

在一个方面，一种水族箱清洁装置包括清洁本体和手柄构件。清洁本体具有清洁表面、相反的外表面以及在清洁表面与外表面之间延伸的侧壁；清洁表面在清洁本体不受力时包含在第一平面内。在清洁本体内保持有第一磁体布置结构，并且清洁本体在受到外力时能够围绕第一平面弹性地挠曲。手柄构件具有壁接合表面、相反的外表面以及在壁接合表面与外表面之间延伸的手柄侧壁。壁接合表面在手柄构件不受力时包含在第二平面内。在手柄构件内保持有第二磁体布置结构，并且第二磁体布置结构定位成在清洁本体的清洁表面和手柄构件的壁接合表面处于彼此相对时吸引第一磁体布置结构；并且手柄构件在受到外力时能够围绕第二平面弹性地挠曲。

在示例性布置结构中，清洁本体在该清洁本体中具有第一凹部布置结构，以允许围绕第一平面具有挠性；并且手柄构件在该手柄构件中具有第二凹部布置结构，以允许围绕第二平面具有挠性。

第一凹部布置结构可以在清洁本体中包括挠性区域，该挠性区域包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

清洁本体可以包括彼此间隔开的多个挠性区域，每个挠性区域具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

在许多示例性实施方式中，第一凹部布置结构从清洁表面延伸到清洁本体和侧壁中，并且不延伸到外表面中。

在许多布置结构中，清洁本体的外表面可以为实心且无凹部的。

在示例性实施方式中，在清洁本体中具有至少三个挠性区域，所述至少三个挠性区域由非挠性区域彼此间隔开。

第一磁体布置结构可以在清洁本体中、在非挠性区域中的至少一个非挠性区域中包括至少一个磁体。

清洁本体的非挠性区域中的每个非挠性区域中可以具有至少一个磁体。

在一个或更多个实施方式中，第二凹部布置结构在手柄构件中包括挠性部段，该挠性部段包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

手柄构件可以包括彼此间隔开的多个挠性部段，每个挠性部段具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

在一些布置结构中，至少三个挠性部段从壁接合表面部分地延伸到手柄构件和手柄侧壁中；并且至少三个挠性部段从外表面部分地延伸到手柄构件和手柄侧壁中。

对于许多示例，在手柄构件中，各个挠性部段之间是非挠性部段。

第二磁体布置结构在手柄构件中、在非挠性部段中的至少一个非挠性部段中包括至少一个磁体。

在示例性实施方式中，手柄构件的非挠性部段中的每个非挠性部段中具有至少一个磁体。

在示例性实施方式中，清洁本体和手柄构件中的每一者均包括模制塑料。

在示例性实施方式中，清洁本体和手柄构件中的每一者均具有相同的外周缘形状。

在许多实施方式中，清洁本体的外表面能够围绕平行于第一平面的平面弹性地挠曲；并且手柄构件的外表面能够围绕平行于第二平面的平面弹性地挠曲。

在另一方面，提供了一种水族箱系统，该水族箱系统包括：罐，该罐具有环绕壁，该环绕壁具有限定内部容积的弯曲部段，该环绕壁具有外表面和相反的内表面，该内表面与内部容积连通；以及清洁装置，该清洁装置适于对罐的环绕壁的内表面进行清洁。该清洁装置包括：(i)能够弹性地挠曲的清洁本体，该清洁本体具有清洁表面和第一磁体布置结构，该清洁表面以可移除的方式抵靠环绕壁的内表面定位，该第一磁体布置结构被保持在清洁本体内；和(ii)能够弹性地挠曲的手柄构件，该手柄构件具有壁接合表面和第二磁体布置结构，该壁接合表面以可移除的方式抵靠环绕壁的外表面定位并且与清洁本体相对，使得环绕壁位于手柄构件与清洁本体之间，该第二磁体布置结构被保持在手柄构件内并且被第一磁体布置结构磁性地吸引。具有弯曲部段的环绕壁的内表面通过清洁本体的清洁表面被清洁；该清洁本体能够通过手柄构件抵靠外表面的运动而沿着内表面移动；清洁本体和手柄构件各自挠曲以与弯曲部段的轮廓相吻合。

在示例性布置结构中，清洁本体包括由非挠性区域彼此间隔开的多个挠性区域；挠性区域中的每个挠性区域包括交替的凹部和翅片；并且手柄构件包括由非挠性部段彼此间隔开的多个挠性部段；挠性部段中的每个挠性部段包括交替的凹部和翅片。

在另一方面，一种对水族箱罐进行清洁的方法，该方法包括：(a)提供水族箱罐，该水族箱罐具有环绕壁，该环绕壁具有限定内部容积的弯曲部段，该环绕壁具有外表面和相反的内表面，该内表面与内部容积连通；(b)将清洁装置定位在罐壁上，使得具有清洁表面的能够弹性地挠曲的清洁本体抵靠内表面，并且具有壁接合表面的能够弹性地挠曲的手柄构件抵靠外表面且与清洁本体相对，使得罐壁位于手柄构件与清洁本体之间，清洁本体和手柄构件彼此磁性地吸引；以及(c)使手柄构件沿着壁的外表面移动，以使被磁性地吸引的清洁本体沿着壁的内表面、包括沿着壁的弯曲部段移动，清洁本体和手柄构件各自挠曲以与弯曲部段的轮廓相吻合。

将清洁装置定位的步骤包括将如本文中多方面地表征的清洁装置定位。

期望的产品特征或方法的各种示例部分地在随后的描述中被阐述，并且部分地从描述将是明显的，或者可以通过对本公开的各个方面的实践而了解。本公开的各方面可以涉及各个特征以及特征的组合。

应当理解的是，前述总体描述和下面的详细描述两者只是说明性的，而不是对所要求保护的发明的限制。

附图说明

图1为根据本公开的原理构造的具有弯曲壁的水族箱的一部分的立体图，该水族箱上安装有清洁装置的实施方式；

图2为图1中所示出的清洁装置的侧视图，并描绘了在受力作用下处于挠曲状态的清洁装置；

图3为图1和图2的清洁装置的立体图；

图4为图3的清洁装置的分解立体图。

具体实施方式

图1以附图标记10图示了水族箱系统。水族箱系统10包括水族箱12和清洁装置14。

水族箱12能够以多种不同的形状实施。水族箱12包括罐18。该罐具有环绕壁20。环绕壁20具有外表面22和相反的内表面24。环绕壁20限定了内部容积26，内部容积26用于为观赏鱼27或其他水生生物保存水。壁20的内表面24与内部容积26连通。

在图1中，在所示出的示例性实施方式中，罐18具有至少一个弯曲部段28。应当理解的是，在其他实施方式中，可以使用多个弯曲部段，包括圆形或球形形状的罐18。清洁装置14有助于对壁20的内表面24进行清洁，尤其是在弯曲部段28处对壁20的内表面24进行清洁。

清洁装置14包括清洁本体40和手柄构件42。清洁本体40和手柄构件42在以特定方式定向时彼此磁性地吸引，使得清洁装置40可以安装到水族箱12的壁20上，其中，壁20位于清洁本体40与手柄构件42之间。

清洁本体40具有清洁表面44、相反的外表面46、以及在清洁表面44与外表面46之间延伸的侧壁48。清洁表面44上可以包括涂覆层或材料，以有助于对壁20的内表面24进行擦洗或清洁。

在图4中，可以看出清洁表面44是平面的，这是因为当清洁本体40处于静止、即未受力时，清洁表面44包含在第一平面内。当清洁本体40受到外力时，比如当清洁本体40在水族箱12的弯曲部段28上移动时，清洁本体40围绕第一平面挠曲。该挠曲通常是弹性挠曲，这是因为清洁本体40在静止和不受力时恢复至清洁本体40的原始位置和形状。

清洁本体40还包括被保持在清洁本体40内的第一磁体布置结构50。虽然许多实施方式是可能的，但是在所示出的示例中，第一磁体布置结构50包括嵌置在清洁本体40内的1个、2个、3个、4个或更多个单独的磁体52。例如，如果清洁本体40由模制材料制成，则磁体52可以嵌置在模制的清洁本体40中。

手柄构件42具有壁接合表面62、相反的外表面64以及在壁接合表面62与外表面64之间延伸的手柄侧壁66。壁接合表面62构造和布置成通过人的手在沿着外表面64、手柄侧壁66或其组合抓握手柄构件42时在水族箱12的壁20的外表面22以可滑动的方式移动。

壁接合表面62是平面的，这是因为当手柄构件42未受力时，壁接合表面62包含在第二平面内。也就是说，如果手柄构件42处于静止状态或者仅仅抵靠壁20的平坦的、非弯曲部段，则壁接合表面62将是平面的并且处于第二平面内。

手柄构件42包括第二磁体布置结构70。第二磁体布置结构70被保持在手柄构件42内并且定位成当清洁本体40的清洁表面44和手柄构件42的壁接合表面62处于彼此相对时吸引第一磁体布置结构50。通常，清洁装置14将布置成使得清洁本体40的清洁表面44抵靠壁20的内表面24，而手柄构件50的壁接合表面62抵靠外表面22并且与清洁表面44对准且对置，使得清洁本体40和手柄构件42通过罐壁20彼此磁性连接。

手柄构件42在受到外力时能够围绕第二平面弹性地挠曲。例如，当手柄构件42沿着罐壁20移动并遇到弯曲部段28时，壁接合表面62可以围绕第二平面弯曲或挠曲。术语“能够弹性地挠曲”是指当手柄构件42处于静止时，手柄构件42将恢复至手柄构件42的原始形状，使得壁接合表面62包含在第二平面中。

如先前所提及的，清洁本体40和手柄构件42两者构造和布置成在受到外力时能够弹性地挠曲。这允许清洁装置14适应水族箱罐18上的弯曲表面并且对水族箱罐18上的弯曲表面进行清洁。

设想了提供挠性的多种方式。在图中所示出的示例中，清洁本体40具有第一凹部布置结构76，以允许围绕第一平面具有挠性。类似地，手柄构件42具有第二凹部布置结构78，以允许围绕第二平面具有挠性。

在图2至图4中，第一凹部布置结构76和第二凹部布置结构78中的每一者均是可见的。在所示出的示例性实施方式中，第一凹部布置结构76在清洁本体40中包括挠性区域82，挠性区域82包括与一个或更多个翅片86交替的多个凹部84。

虽然设想的是，清洁本体40可以仅具有单个挠性区域82，但在许多实施方式中，具有多个挠性区域82带来优势。挠性区域82彼此间隔开，并且每个挠性区域82可以被制造成具有与多个翅片86交替的多个凹部84。

在所示出的示例中，具有至少三个挠性区域82，所述至少三个挠性区域82由非挠性区域88彼此间隔开。

第一凹部布置结构76从清洁表面44延伸，从而穿透到清洁本体40中并穿透到侧壁48中，但未到达外表面46，并且未延伸到外表面46中。如图2至图4中可以看出，在该实施方式中，清洁本体40的外表面46是实心的并且没有凹部。在其他实施方式中，替代性方案也是可能的，包括在外表面46中具有凹部。

磁体52优选地通过清洁本体40保持在非挠性区域88中的至少一个非挠性区域中。在所示出的示例中，清洁本体40中的非挠性区域88中的每个非挠性区域在其中具有至少一个磁体52。

第二凹部布置结构78在手柄构件42中包括挠性部段92，该挠性部段包括与一个或更多个翅片96交替的多个凹部94。

在手柄构件42中可以具有仅单个挠性部段92，或者具有有多个挠性部段92。在所示出的示例性实施方式中，具有多个挠性部段92。手柄构件42中的挠性部段92彼此间隔开，并且每个挠性部分92具有与一个或更多个翅片96交替的多个凹部94。

在所示出的示例性实施方式中，至少三个挠性部段92从壁接合表面62延伸，并且部分地延伸到手柄构件42和手柄侧壁66中。可以具有1个、2个、3个或更多个挠性部段92从外表面64部分地延伸到手柄构件42和手柄侧壁66中。在图2至图4中所示出的示例中，从壁接合表面62延伸的挠性部段92与从外表面64延伸的挠性部段92轴向对准。替代性方案是可能的。

手柄构件42中的各个挠性部段92之间为非挠性部段98。在所示出的实施方式中，具有四个非挠性部段98，这些非挠性部段98在自由端部处开始并且然后与挠性部段92交替。

在优选的实施方式中，手柄构件42的非挠性部段98中的每个非挠性部段中具有至少一个磁体72。在其他实施方式中，代替各个磁体72，可以设置有嵌置在手柄构件42内的单个磁体。

应当理解的是，由于清洁本体40中的挠性区域82，清洁本体40的外表面46能够围绕平行于第一平面的平面弹性地挠曲。类似地，由于挠性部段92和手柄构件42的位置和功能，手柄构件42的外表面64能够围绕平行于第二平面的平面弹性地挠曲。

清洁本体40和手柄构件42可以由多种材料制成。在一个示例中，清洁本体40和手柄构件42由模制塑料制成，使得凹部布置结构76、78可以分别模制在清洁本体40和手柄构件42中，并且使第一磁体布置结构50和第二磁体布置结构70分别嵌置在清洁本体40和手柄构件42中。

优选地，清洁本体40和手柄构件42中的每一者均具有相同的外部占用空间、即相同的外周缘形状。

清洁装置14可以用作对水族箱罐进行清洁的方法的一部分。该方法包括提供水族箱罐18。罐18包括环绕壁20，并且可以包括弯曲部段28。该方法包括将清洁装置14定位在罐壁20上，使得具有清洁表面44的能够弹性地挠曲的清洁本体40抵靠内表面24，并且具有壁接合表面62的能够弹性地挠曲的手柄构件42抵靠外表面22并且与清洁本体40相对，使得罐壁20位于手柄构件42与清洁本体40之间。清洁本体40和手柄构件42将彼此磁性地吸引并且通过罐壁20彼此磁性地附接。

该方法包括使手柄构件42沿着壁20的外表面22移动，以使被磁性地吸引的清洁本体40沿着壁20的内表面24移动并且包括沿着弯曲部段28移动。清洁本体40和手柄构件42将各自挠曲以与弯曲部段28的轮廓相吻合。该方法可以包括使用如上面所描述的清洁装置14。

上述内容代表示例性原理。根据这些原理可以作出许多实施方式。

Claims (23)

1.一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置，所述清洁装置包括：

(a)清洁本体，所述清洁本体具有清洁表面、相反的外表面以及在所述清洁表面与所述外表面之间延伸的侧壁；所述清洁表面在所述清洁本体不受力时包含在第一平面内；

(i)在所述清洁本体内保持有第一磁体布置结构；

(ii)所述清洁本体在受到外力时能够围绕所述第一平面弹性地挠曲；

(b)手柄构件，所述手柄构件具有壁接合表面、相反的外表面以及在所述壁接合表面与所述外表面之间延伸的手柄侧壁；所述壁接合表面在所述手柄构件不受力时包含在第二平面内；

(i)在所述手柄构件内保持有第二磁体布置结构，并且所述第二磁体布置结构定位成在所述清洁本体的所述清洁表面和所述手柄构件的所述壁接合表面处于彼此相对时吸引所述第一磁体布置结构；并且

(ii)所述手柄构件在受到外力时能够围绕所述第二平面弹性地挠曲。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中：

(a)所述清洁本体在所述清洁本体中具有第一凹部布置结构，以允许围绕所述第一平面具有挠性；并且

(b)所述手柄构件在所述手柄构件中具有第二凹部布置结构，以允许围绕所述第二平面具有挠性。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其中，所述第一凹部布置结构在所述清洁本体中包括挠性区域，所述挠性区域包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其中，所述清洁本体包括彼此间隔开的多个挠性区域，每个挠性区域具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

5.根据权利要求2至4中的任一项所述的清洁装置，其中，所述第一凹部布置结构从所述清洁表面延伸到所述清洁本体和所述侧壁中，并且不延伸到所述外表面中。

6.根据权利要求2至5中的任一项所述的清洁装置，其中，所述清洁本体的所述外表面是实心的且无凹部的。

7.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，在所述清洁本体中具有至少三个挠性区域，所述至少三个挠性区域由非挠性区域彼此间隔开。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中，所述第一磁体布置结构在所述清洁本体中、在所述非挠性区域中的至少一个非挠性区域中包括至少一个磁体。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，所述清洁本体的所述非挠性区域中的每个非挠性区域中具有至少一个磁体。

10.根据权利要求2至9中的任一项所述的清洁装置，其中，所述第二凹部布置结构在所述手柄构件中包括挠性部段，所述挠性部段包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

11.根据权利要求10所述的清洁装置，其中，所述手柄构件包括彼此间隔开的多个挠性部段，每个挠性部段具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

12.根据权利要求11所述的清洁装置，其中：

(a)至少三个挠性部段从所述壁接合表面部分地延伸到所述手柄构件和所述手柄侧壁中；并且

(b)至少三个挠性部段从所述外表面部分地延伸到所述手柄构件和所述手柄侧壁中。

13.根据权利要求12所述的清洁装置，其中，在所述手柄构件中，各个挠性部段之间是非挠性部段。

14.根据权利要求13所述的清洁装置，其中，所述第二磁体布置结构在所述手柄构件中、在所述非挠性部段中的至少一个非挠性部段中包括至少一个磁体。

15.根据权利要求13和14中的任一项所述的清洁装置，其中，所述手柄构件的所述非挠性部段中的每个非挠性部段中具有至少一个磁体。

16.根据权利要求1至15中的任一项所述的清洁装置，其中，所述清洁本体和所述手柄构件中的每一者均包括模制塑料。

17.根据权利要求1至16中的任一项所述的清洁装置，其中，所述清洁本体和所述手柄构件中的每一者均具有相同的外周缘形状。

18.根据权利要求1至17中的任一项所述的清洁装置，其中：

(a)所述清洁本体的所述外表面能够围绕平行于所述第一平面的平面弹性地挠曲；并且

(b)所述手柄构件的所述外表面能够围绕平行于所述第二平面的平面弹性地挠曲。

19.一种水族箱系统，包括：

(a)罐，所述罐具有环绕壁，所述环绕壁具有限定内部容积的弯曲部段；所述环绕壁具有外表面和相反的内表面，所述内表面与所述内部容积连通；以及

(b)清洁装置，所述清洁装置适于对所述罐的环绕壁的所述内表面进行清洁，所述清洁装置包括：

(i)能够弹性地挠曲的清洁本体，所述清洁本体具有清洁表面和第一磁体布置结构，所述清洁表面以可移除的方式抵靠所述环绕壁的所述内表面定位，所述第一磁体布置结构被保持在所述清洁本体内；以及

(ii)能够弹性地挠曲的手柄构件，所述手柄构件具有壁接合表面和第二磁体布置结构，所述壁接合表面以可移除的方式抵靠所述环绕壁的所述外表面定位并且与所述清洁本体相对，使得所述环绕壁位于所述手柄构件与所述清洁本体之间，所述第二磁体布置结构被保持在所述手柄构件内并且被所述第一磁体布置结构磁性地吸引；

其中，具有所述弯曲部段的所述环绕壁的所述内表面通过所述清洁本体的所述清洁表面被清洁；所述清洁本体能够通过所述手柄构件抵靠所述外表面的运动而沿着所述内表面移动；所述清洁本体和所述手柄构件各自挠曲以与所述弯曲部段的轮廓相吻合。

20.根据权利要求19所述的水族箱系统，其中：

(a)所述清洁本体包括由非挠性区域彼此间隔开的多个挠性区域，所述挠性区域中的每个挠性区域包括交替的凹部和翅片；并且

(b)所述手柄构件包括由非挠性部段彼此间隔开的多个挠性部段，所述挠性部段中的每个挠性部段包括交替的凹部和翅片。

21.根据权利要求19和20中的任一项所述的水族箱系统，所述水族箱系统与根据权利要求1至18中的任一项所述的清洁装置相结合。

22.一种对水族箱罐进行清洁的方法，所述方法包括：

(a)提供水族箱罐，所述水族箱罐具有环绕壁，所述环绕壁具有限定内部容积的弯曲部段，所述环绕壁具有外表面和相反的内表面，所述内表面与所述内部容积连通；

(b)将清洁装置定位在罐壁上，使得具有清洁表面的能够弹性地挠曲的清洁本体抵靠所述内表面，并且使得具有壁接合表面的能够弹性地挠曲的手柄构件抵靠所述外表面并且与所述清洁本体相对，使得所述罐壁位于所述手柄构件与所述清洁本体之间，所述清洁本体和所述手柄构件彼此磁性地吸引；以及

(c)使所述手柄构件沿着所述壁的所述外表面移动，以使被磁性地吸引的所述清洁本体沿着所述壁的所述内表面、包括沿着所述壁的所述弯曲部段移动，所述清洁本体和所述手柄构件各自挠曲以与所述弯曲部段的轮廓相吻合。

23.根据权利要求22所述的方法，其中，将所述清洁装置定位的步骤包括将根据权利要求1至18中的任一项所述的清洁装置定位。

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