CN115354329A - 一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法 - Google Patents
一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115354329A CN115354329A CN202211157347.8A CN202211157347A CN115354329A CN 115354329 A CN115354329 A CN 115354329A CN 202211157347 A CN202211157347 A CN 202211157347A CN 115354329 A CN115354329 A CN 115354329A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- stainless steel
- electrode plate
- container
- gallium
- steel electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 50
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 46
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 33
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 18
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 239000002352 surface water Substances 0.000 claims description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 15
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 abstract description 2
- 229910003556 H2 SO4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910005224 Ga2O Inorganic materials 0.000 description 2
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 gallium ions Chemical class 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021513 gallium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DNUARHPNFXVKEI-UHFFFAOYSA-K gallium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ga+3] DNUARHPNFXVKEI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/32—Alkaline compositions
- C23F1/40—Alkaline compositions for etching other metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/44—Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/08—Iron or steel
- C23G1/081—Iron or steel solutions containing H2SO4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
- C25C1/22—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of metals not provided for in groups C25C1/02 - C25C1/20
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/06—Operating or servicing
- C25C7/08—Separating of deposited metals from the cathode
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
本发明提供一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法，将表面沾有金属镓的电极片，放到温度为80℃~90℃的氢氧化钠溶液中，待电极片表面的金属镓全部发黑，将电极片放到稀硫酸（15%~20%）与过氧化氢混合液（H2SO4:H2O2=1:0.2）中，进行处理。处理后的电极片表面干净，无任何损伤。采用上述方法处理的不锈钢电极片，表面光洁如新。由于没有进行机械摩擦，或对不锈钢片表面对进行化学损伤，只是将其表面的金属镓层去除，所以不锈钢表面没有物理和化学损伤，可长期使用，节约生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及电极片处理领域，具体涉及一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法。
背景技术
随着镓的化合物半导体材料应用越来越广，镓的用量也再不断的增加，从原来的年使用量十几吨，到现在的几百吨。而镓的提取或回收，都是采用湿法，即从碱性溶液中，通过电积的方法，将金属镓制备出来。在电积过程中，通常采用不锈钢材料作为电积片，阴极不锈钢片中产出金属镓后，会在阴极片表面粘附一层金属镓，很难处理。常用的方法，是进行机械处理，不易处理干净还容易造成不锈钢电极表面的损伤；或用氢氧化钠溶液处理，但氢氧化钠溶液与金属镓的反应较慢，处理时间较长，效果不好，且影响生产。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法。
为实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法，所述处理方法步骤如下：
S1：制备处理溶液：
取片状氢氧化钠固体，配制成 2-3 mol /L 的溶液并放置在第一容器中；再用分析纯98%的浓硫酸，配制成 15%-20%的稀硫酸放在第二容器内。
S2：将表面沾有金属镓的不锈钢电极片与碱液进行反应：
将步骤S1中的第一容器进行加热，加热后的第一容器放入表面上沾有金属镓的不锈钢电极片，4小时后，待不锈钢电极片上表面的金属镓全部变为黑色后，从第一容器中取出，将表面的碱液清洗干净。
碱液对不锈钢片的处理，即粘附在电极片表面的金属镓与氢氧化钠溶液的反应。在较高温度( 80- 90 °C) 的氢氧化钠溶液中，金属镓与氢氧化钠反应，生成低价镓氧化物。
4Ga+2NaOH+H2O= 2NaGaO2+Ga2O+H2↑
粘附在不锈钢片上的金属镓与氢氧化钠溶液反应过程中，部分生成了镓酸钠(NaGaO2 ) ，溶解在碱液中；而部分镓与氢氧化镓反应时，生产了镓的低价氧化物，留在了电极片表面，即留在电极表面发黑的物质。
进一步的，对这些黑色物质取样进行 XＲD 衍谢，分析结果表明这些物质是镓的一价氧化物，即一氧化二镓。
S3：将步骤S2反应过后的不锈钢电极片放入稀硫酸进行反应：
将步骤S2中清洗干净后的不锈钢电极片放入步骤S中配置好的装有15%-20%的稀硫酸的第二容器内，并向第二容器加入硫酸体积比 20%的过氧化氢溶液，并搅动溶液，不锈钢电极片表面的黑色物质全部溶解，电极片表面恢复为原有的颜色。
一氧化二镓与酸的反应，不仅需要氧化剂将一价镓离子氧化为三价镓离子，另外还是通过酸性物质将镓的氧化物溶解，所以本方法中采用了稀硫酸和过氧化氢的混合液进行处理，
Ga2O+3H2 SO4+H2O2 = 2Ga2( SO4 ) 3+ H2↑+3H2O。
S4：冲冼、沥干、放置待用；
将步骤S3中的不锈钢电极片从第二容器取出，并用清水冲冼干净，然后沥干表面的水分，放置待用。
较佳的，所述步骤S1中的第一容器为外带加热系统的容器。
较佳的，所述步骤S2中第一容器加热的温度在80-90 °C。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：采用上述方法处理的不锈钢电极片，表面光洁如新。由于没有进行机械摩擦，或对不锈钢片表面对进行化学损伤，只是将其表面的金属镓层去除，所以不锈钢表面没有物理和化学损伤，可长期使用，节约生产成本。
具体实施方式
为使对本发明的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细说明如下。
本发明提供了一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法，将表面粘附金属镓的不锈钢电极片，放入配制好的氢氧化钠溶液中，该氢氧化钠溶液在带加热系统的容器中加热至80℃~90℃；约4个小时后，待不锈钢电极片表面的金属镓全部变为黑色的低价镓的氧化物后，取出，将不锈钢电极片表面的碱液清洗干净；然后再放入配制好的稀硫溶液中，待不锈钢电极片放入后，加入与硫酸体积比为20%的过氧化氢溶液，搅动溶液，此时电极片表面的黑色物质全部溶解，电极片表面变为原有的颜色。将电极片取出，冲冼干净，沥干表面的水份。
采用本发明所述的方法，由于不锈钢电极片表面处理得很干净，表面没有其他的物质及相关的氧化膜，在生产过程中，阴极表面产出镓的情况很好，整个阴极表面产出镓均匀，无部分不出镓的情况产生。
在前期的生产中，电极片的处理通常使用机械的方法进行处理，不易将表面的金属镓处理干净，且当温度低时，粘附在电极片表面的镓凝固，更不易处理。另外，很多企业也采用了碱液浸泡的 方 法，但 时 间 较 长，需 要 碱 液 持 续 保 持 在50 °C的温度，且表面不易处理干净。所以在前期生产中，大多还是采取机械处理的方法，这样使用一个阶段后（不到一年的时间），在生产过程中，不锈钢电极片表面会只有部分产出镓，或不产出镓; 电极片最终无法使用，只有更换新的电极片，造成了材料的浪费。采用本发明所述的方法，每次电积镓使用后的不锈钢电极片表面光洁如新。在进行电积镓过程中，每一片阴极表面都挂满了金属镓; 电积出镓效率很高。不锈钢电极片经过两年的使用，表面情况很好，还可继续使用。
本发明已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已揭露的实施例并未限制本发明的范围。相反地，在不脱离本发明的精神和范围内所作的更动与润饰，均属本发明的专利保护范围。
Claims (3)
1.一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法，其特征在于：所述处理方法步骤如下：
S1：制备处理溶液：
取片状氢氧化钠固体，配制成 2-3 mol /L 的溶液并放置在第一容器中；再用分析纯98%的浓硫酸，配制成 15%-20%的稀硫酸放在第二容器内；
S2：将表面沾有金属镓的不锈钢电极片与碱液进行反应：
将步骤S1中的第一容器进行加热，加热后的第一容器放入表面上沾有金属镓的不锈钢电极片，4小时后，待不锈钢电极片上表面的金属镓全部变为黑色后，从第一容器中取出，将表面的碱液清洗干净；
S3：将步骤S2反应过后的不锈钢电极片放入稀硫酸进行反应；
将步骤S2中清洗干净后的不锈钢电极片放入步骤S中配置好的装有15%-20%的稀硫酸的第二容器内，并向第二容器加入硫酸体积比 20%的过氧化氢溶液，并搅动溶液，不锈钢电极片表面的黑色物质全部溶解，电极片表面恢复为原有的颜色；
S4：冲冼、沥干、放置待用；
将步骤S3中的不锈钢电极片从第二容器取出，并用清水冲冼干净，然后沥干表面的水分，放置待用。
2.如权利要求1所述的一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法，其特征在于：所述步骤S1中的第一容器为外带加热系统的容器。
3.如权利要求1所述的一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法，其特征在于：所述步骤S2中第一容器加热的温度在80-90 °C。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211157347.8A CN115354329A (zh) | 2022-09-22 | 2022-09-22 | 一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211157347.8A CN115354329A (zh) | 2022-09-22 | 2022-09-22 | 一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115354329A true CN115354329A (zh) | 2022-11-18 |
Family
ID=84006061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211157347.8A Pending CN115354329A (zh) | 2022-09-22 | 2022-09-22 | 一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115354329A (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1387829A (fr) * | 1962-07-23 | 1965-02-05 | Diversey France | Elimination des pellicules d'oxydes sur les aciers inoxydables en industrie alimentaire |
| JP2006324452A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 半導体基板表面処理剤及び処理方法 |
| US20100116784A1 (en) * | 2008-10-10 | 2010-05-13 | Alta Devices, Inc. | Mesa etch method and composition for epitaxial lift off |
| CN102268714A (zh) * | 2011-06-28 | 2011-12-07 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种电解提取金属镓用阴极的电化学预处理方法 |
| CN102873047A (zh) * | 2012-10-15 | 2013-01-16 | 南京隆润半导体材料有限公司 | 一种高纯镓容器的清洗方法 |
| JP2014105345A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ガリウムの回収方法 |
| CN114908355A (zh) * | 2021-02-09 | 2022-08-16 | 中国科学院金属研究所 | 一种金属表面清洁处理的方法 |
-
2022
- 2022-09-22 CN CN202211157347.8A patent/CN115354329A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1387829A (fr) * | 1962-07-23 | 1965-02-05 | Diversey France | Elimination des pellicules d'oxydes sur les aciers inoxydables en industrie alimentaire |
| JP2006324452A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 半導体基板表面処理剤及び処理方法 |
| US20100116784A1 (en) * | 2008-10-10 | 2010-05-13 | Alta Devices, Inc. | Mesa etch method and composition for epitaxial lift off |
| CN102268714A (zh) * | 2011-06-28 | 2011-12-07 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种电解提取金属镓用阴极的电化学预处理方法 |
| CN102873047A (zh) * | 2012-10-15 | 2013-01-16 | 南京隆润半导体材料有限公司 | 一种高纯镓容器的清洗方法 |
| JP2014105345A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-06-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ガリウムの回収方法 |
| CN114908355A (zh) * | 2021-02-09 | 2022-08-16 | 中国科学院金属研究所 | 一种金属表面清洁处理的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109161895B (zh) | 酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法 | |
| CA1333267C (en) | Hydrometallurgical process for recovering in pure metal form all the lead contained in the active mass of exhausted batteries | |
| CN108823420A (zh) | 一种冶金渣中脱除氯的方法 | |
| CN108455680A (zh) | 一种钢铁酸洗废液绿色资源化利用方法 | |
| CN115231537B (zh) | 一种利用铁磷渣制备磷酸铁的方法、磷酸铁及其应用 | |
| CN113862479A (zh) | 一种废铅蓄电池中铅膏的资源化回收处理方法 | |
| CN103060842B (zh) | 一种大流量下制备电积钴的方法 | |
| CN111072077A (zh) | 一种分步沉淀分离镍钴锰的方法 | |
| CN103014354B (zh) | 从铅酸蓄电池膏体中回收铅的工艺 | |
| CN115354329A (zh) | 一种电积镓用不锈钢电极片的化学处理方法 | |
| CN114506937B (zh) | 脱氯渣的再生方法、再生脱氯循环渣及再生循环脱氯方法 | |
| CN111302384A (zh) | 一种碱性蚀铜废液处理零排放工艺 | |
| CN108588723A (zh) | 一种碱性蚀刻废液的再生循环系统及方法 | |
| CN214681698U (zh) | 氧化铜粉末的制备装置 | |
| CN115385316A (zh) | 一种磷酸铁锂的回收工艺 | |
| CN208667853U (zh) | 一种碱性蚀刻废液的再生循环系统 | |
| CN103060569A (zh) | 从废旧铅酸蓄电池膏体中回收铅的工艺 | |
| CN113600129A (zh) | 一种废旧锂离子电池为原料制备碳基锂离子筛的方法 | |
| CN103045853B (zh) | 铅酸蓄电池膏体中回收铅的工艺 | |
| CN112126791A (zh) | 一种从金属废料中回收再生高纯铜的方法 | |
| RU2553318C1 (ru) | Способ получения галлия из щелочно-алюминатных растворов глиноземного производства | |
| CN116864851B (zh) | 一种退役电池回收料液深度除磷的工艺 | |
| CN111647902B (zh) | 一种碲平板电解后液的处理方法 | |
| JP4780864B2 (ja) | エッチング廃酸からの銅回収方法 | |
| CN108728654A (zh) | 一种光伏芯片回收方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20221118 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |