CN115290873B - 一种清洗装置及其化学发光免疫分析仪 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种清洗装置及其化学发光免疫分析仪,所述清洗装置包括清洗座和废液管,所述清洗座内设有一般清洗室,所述废液管内设有废液排放通道,所述一般清洗室的顶端设有清洗口凹槽、底端与所述废液排放通道连通,其特征在于,所述清洗座内还包括与所述一般清洗室彼此隔离的特殊清洗室,所述特殊清洗室的顶端与所述清洗口凹槽连通;所述清洗座内设有一般清洗液供液件与所述一般清洗室连通并提供一般清洗液,所述清洗座内还设有特殊清洗液供液件与所述特殊清洗室连通并提供特殊清洗液。利用本申请提出的清洗装置,可彻底清洗加液针。

Description

一种清洗装置及其化学发光免疫分析仪
技术领域
本申请涉及体外诊断设备,特别涉及一种清洗装置及其化学发光免疫分析仪。
背景技术
化学发光免疫分析采用化学发光技术和磁性微粒子分离技术相结合,是一个全自动、随机存取、软件控制的智能分析系统。在清洗装有高传染性或放射性的加液针时,普通的系统液无法彻底清洗干净,使其在加液针内部残留,污染样品。
发明内容
针对现有技术中存在的技术问题,本申请提出了一种清洗装置及其化学发光免疫分析仪。所述清洗装置包括清洗座和废液管,所述清洗座内设有一般清洗室,所述废液管内设有废液排放通道,所述一般清洗室的顶端设有清洗口凹槽、底端与所述废液排放通道连通,所述清洗座内还包括与所述一般清洗室彼此隔离的特殊清洗室,所述特殊清洗室的顶端与所述清洗口凹槽连通;所述清洗座内设有一般清洗液供液件与所述一般清洗室连通并提供一般清洗液,所述清洗座内还设有特殊清洗液供液件与所述特殊清洗室连通并提供特殊清洗液;所述清洗口凹槽内设有与所述一般清洗室连通的一般清洗位和与所述特殊清洗室连通的特殊清洗位。本申请实施例提出的清洗装置与现有技术相比,设置了两个清洗池,能够避免有毒有害物质的二次污染传播,并且特殊清洗液与一般清洗液共用一个废液管,节省内部空间,使其清洗装置小型化。
可选的,所述一般清洗液供液件包括一般清洗液接头和堵头,所述清洗座内设有第一注流通道和返流通道,所述一般清洗液接头与所述第一注流通道相连通,所述堵头与所述返流通道相连通,所述第一注流通道与所述返流通道相连通,所述返流通道与所述一般清洗室相连通。
可选的,所述一般清洗液接头和所述堵头的设置数量为两个,在所述清洗座上左右对称设置,所述第一注流通道和所述返流通道在所述清洗座上对称设置,左右两侧的返流通道在所述一般清洗室的中部形成汇流部。
可选的,所述一般清洗液接头与一般清洗液输液泵外接,两个所述一般清洗液接头中的液体流量相同。
可选的,所述堵头设置在所述清洗座的左右两侧部上方。
可选的,所述特殊清洗液供液件包括特殊清洗液接头,所述清洗座内设有第二注流通道,所述第二注流通道的一端与所述特殊清洗液接头相连通,另一端与所述特殊清洗室相连通。
可选的,所述特殊清洗液接接头设置在所述清洗座的一侧,所述第二注流通道和所述特殊清洗室的设置方向相互垂直。
可选的,所述特殊清洗液接头与特殊清洗液输液泵外接。
可选的,所述一般清洗液和特殊清洗液的排液件包括废液接头和抽液泵。
可选的,所述废液接头设置在所述废液管的末端,所述废液接头一端与所述废液排放通道相连通,另一端与所述抽液泵连通,为所述废液排放通道提供负压环境。
本申请还提出一种化学发光免疫分析仪,包括管库单元、温育单元、清洗单元和检测单元,其特征在于,还包括如上所述的清洗装置,用于将所述清洗单元中的加液针清洗干净。
本申请提出的清洗装置,在其清洗座内设有特殊清洗室和一般清洗室,通过在特殊清洗室和一般清洗室内布置管道,使特殊清洗液在特殊清洗室形成涌泉,一般清洗液在一般清洗室形成汇流部,针对装有不同性质反应液的加液针提供不同的清洗方式,使加液针彻底清洗干净,避免反应液在加液针中残留,并且特殊清洗液与一般清洗液共用一个废液管,节省内部空间,使其清洗装置小型化。
附图说明
下面,将结合附图对本申请的优选实施方式进行进一步详细的说明,其中:
图1是根据本申请的一个实施例提供的清洗装置示意图;
图2是根据本申请的一个实施例提供的清洗装置沿A-A方向的剖视图;以及
图3是根据本申请的一个实施例提供的清洗装置沿B-B方向的剖视图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在以下的详细描述中,可以参看作为本申请一部分用来说明本申请的特定实施例的各个说明书附图。在附图中,相似的附图标记在不同图式中描述大体上类似的组件。本申请的各个特定实施例在以下进行了足够详细的描述,使得具备本领域相关知识和技术的普通技术人员能够实施本申请的技术方案。应当理解,还可以利用其它实施例或者对本申请的实施例进行结构、逻辑或者电性的改变。
图1是根据本申请的一个实施例提供的清洗装置示意图,图2是清洗装置沿A-A方向的剖视图,图3是清洗装置沿B-B方向的剖视图。结合图1至图3所示,本申请提出的清洗装置包括清洗座100和废液管400,清洗座100内设有一般清洗室200,废液管400内设有废液排放通道401,一般清洗室200的顶端设有清洗口凹槽201、底端与废液排放通道401连通。清洗座100内还包括与一般清洗室200彼此隔离的特殊清洗室300,特殊清洗室300的顶端与清洗口凹槽201连通;清洗座100内设有一般清洗液供液件与一般清洗室200连通并提供一般清洗液,清洗座100内还设有特殊清洗液供液件与特殊清洗室300连通并提供特殊清洗液,废液管400内设有一般清洗液和特殊清洗液的排液附件与所述废液排放通道401连通并为所述废液排放通道401提供负压环境,以便形成泉涌。
本申请提出的清洗装置设置一般清洗室与特殊清洗室,一般清洗室可以清洗普通的加液针,特殊清洗室可以清洗一些装有高传染性的样品的加液针、具有毒性、放射性的试剂的加液针、或其他需要进行特殊清洗的加液针,避免有毒有害物质的二次污染传播。同时,特殊清洗液与一般清洗液共用一个废液管,节省内部空间,使其清洗装置小型化。
在图1至图3所示的实施例中,清洗口凹槽201为开设在清洗座100顶部的凹槽,凹槽内设有与一般清洗室200连通的一般清洗位202和与特殊清洗室300连通的特殊清洗位302。这样特殊清洗室300内的特殊清洗液可以通过特殊清洗位302流到清洗口凹槽201,在经清洗口凹槽201流入一般清洗位202,最后经过一般清洗室200流入废液管400并排出。
在图2所示的实施例中,清洗座100内设有第一注流通道203和返流通道204,一般清洗液接头205与第一注流通道203相连通,堵头206与返流通道204相连通,第一注流通道203与返流通道204相连通,返流通道204与一般清洗室200相连通。这样一般清洗液经第一注流通道203流入清洗装置,再经返流通道204流入一般清洗室。
在图2所示的实施例中,一般清洗液接头205和堵头206的设置数量为两个,在清洗座100上左右对称设置,第一注流通道203和返流通道204在清洗座100上对称设置,左右两侧的返流通道204在一般清洗室200的中部形成汇流部。如本领域技术人员所了解的,一般清洗液接头的数量和位置可根据情况确定,所起的作用是相同的,都是使一般清洗液流入一般清洗室内。
在其他的实施例中,一般清洗液接头205与一般清洗液输液泵外接,两个一般清洗液接头205中的液体流量相同,以确保两侧清洗均匀。
在图2所示的实施例中,堵头206设置在清洗座100的左右两侧部上方,堵头206为工艺孔的位置,没有额外的作用。
在图3所示的实施例中,特殊清洗液供液件包括特殊清洗液接头301,清洗座100内设有第二注流通道303,第二注流通道303的一端与特殊清洗液接头301相连通,另一端与特殊清洗室300相连通。这样特殊清洗液经第二注流通303道流入特殊清洗室300中。
在图3所示的实施例中,特殊清洗液接头301设置在清洗座100的一侧,第二注流通道303和特殊清洗室300的设置方向相互垂直。在一些实施例中,第二注流通道的位置根据清洗装置的结构确定。
在其他的实施例中,特殊清洗液接头301与特殊清洗液输液泵外接。
在其他的实施例中,一般清洗液和特殊清洗液的排液件包括废液接头402和抽液泵。
在其他的实施例中,废液接头402设置在废液管400的末端,废液接头402一端与废液排放通道401相连通,另一端与抽液泵连通。当开启抽液泵时,可在废液管400内形成负压环境。
本申请提出的清洗装置设置一般清洗室与特殊清洗室,提供了一般清洗和特殊清洗两个功能。既可以清洗普通的加液针,也可以清洗一些装有高传染性或放射性的样品的加液针。在特殊清洗室清洗时,通过在特殊清洗液接头处连接输液泵以及在废液接头处连接抽液泵,使特殊清洗液在特殊清洗位形成涌泉,加液针浸入涌泉中,经反复吸吐,使其彻底清洗干净;在普通清洗室清洗时,通过在清洗装置内设置注流通道与返流通道,使一般清洗液在一般清洗室内汇流,加液针可在一般清洗室内浸泡,完成清洗。
本申请提出的化学发光免疫分析仪,包括管库单元、温育单元、清洗单元和检测单元,还包括如上所述的清洗装置,用于将所述清洗单元中的加液针清洗干净。
以上通过多个实施例描述了本申请实施例的清洗装置的结构,以下通过具体的例子,描述本申请实施例的清洗装置的工作流程。
下面结合图1至图3描述本申请清洗装置的工作流程。
一、特殊清洗:
清洗装有高传染性或放射性的样品的加液针时,先将废液管400末端废液接头402处的抽液泵打开,使废液管400中形成负压环境,再将特殊清洗液输液泵打开,控制特殊清洗液输液泵使特殊清洗液的流量稳定,并使其在特殊清洗室300内形成涌泉,涌出的特殊清洗液会通过一般清洗位202流入一般清洗室200,进入到与一般清洗室200连接的废液管400中。
将加液针从特殊清洗位302进入到特殊清洗室300中,并调节加液针的高度,使加液针的针头浸入到涌泉中,涌泉的流动会带走加液针外部的污染,加液针主动吸取部分特殊清洗液后吐出,吸吐动作会将内部的污染清洗干净,多次循环吸吐动作后完成一次特殊清洗。清洗结束后,加液针先缓慢升一段距离后,再以正常速度升起,这样防止加液针升起过快,针尖残留部分液体,影响清洗效果。
二、普通清洗:
清洗普通加液针时,先将废液管400末端废液接头402处的抽液泵打开,使废液管400中形成负压环境,再将一般清洗液输液泵打开,控制一般清洗液输液泵使一般清洗液接头205中的液体流量相同,一般清洗液经第一注流通道203与返流通道204在一般清洗室200的中部形成汇流部,而后流入废液管400中。
将加液针从一般清洗位202进入到一般清洗室200中,并调节加液针的高度,使加液针的针头下降至汇流部以下进行清洗,一般清洗液会反复冲洗加液针外壁,同时,加液针的内部也会通过一般清洗液进行冲洗。清洗结束后,加液针先缓慢升一段距离后,再以正常速度升起,这样防止加液针升起过快,针尖残留部分液体,影响清洗效果。
综上所述,本申请提出的清洗装置,通过设置一般清洗室与特殊清洗室,可以将普通的加液针与装有高传染性的样品的加液针、具有毒性、放射性的试剂的加液针、或其他需要进行特殊清洗的加液针分开清洗,避免有毒有害物质的二次污染传播。并且,特殊清洗液与一般清洗液共用一个废液管,节省内部空间,使其清洗装置小型化。
上述实施例仅供说明本申请之用,而并非是对本申请的限制,有关技术领域的普通技术人员,在不脱离本申请范围的情况下,还可以做出各种变化和变型,因此,所有等同的技术方案也应属于本申请公开的范畴。

Claims (6)

1.一种清洗装置,包括清洗座和废液管,所述清洗座内设有一般清洗室,所述废液管内设有废液排放通道,所述一般清洗室的顶端设有清洗口凹槽、底端与所述废液排放通道连通,其特征在于,所述清洗座内还包括与所述一般清洗室彼此隔离的特殊清洗室,所述特殊清洗室的顶端与所述清洗口凹槽连通;所述清洗座内设有一般清洗液供液件与所述一般清洗室连通并提供一般清洗液,所述清洗座内还设有特殊清洗液供液件与所述特殊清洗室连通并提供特殊清洗液,所述废液管内设有一般清洗液和特殊清洗液的排液件与所述废液排放通道连通并为所述废液排放通道提供负压环境;
所述清洗口凹槽内设有与所述一般清洗室连通的一般清洗位和与所述特殊清洗室连通的特殊清洗位;所述清洗口凹槽为漏斗形,所述一般清洗位位于所述清洗口凹槽的最低位,所述特殊清洗位开设在所述清洗口凹槽的斜面上,特殊清洗室内的特殊清洗液通过特殊清洗位流到清洗口凹槽,通过在特殊清洗液接头处连接特殊清洗液输液泵以及在废液接头处连接抽液泵,使特殊清洗液在特殊清洗位形成涌泉,将待清洗物浸入涌泉中,经反复吸吐,用以清洗干净;再经清洗口凹槽流入一般清洗位,最后经过一般清洗室流入废液管并排出;
所述一般清洗液供液件包括一般清洗液接头和堵头,所述清洗座内设有第一注流通道和返流通道,所述第一注流通道的第一端与所述一般清洗液接头连通,所述第一注流通道的第二端与所述返流通道连通,所述返流通道的第一端与所述堵头连通,所述返流通道的第二端与所述一般清洗室连通;
所述一般清洗液接头和所述堵头的设置数量为两个,在所述清洗座上左右对称设置,两个所述堵头设置在所述清洗座的左右两侧部上方;所述第一注流通道和所述返流通道在所述清洗座上对称设置,左右两侧的返流通道在所述一般清洗室的中部形成汇流部;
所述特殊清洗液供液件包括特殊清洗液接头,所述清洗座内设有第二注流通道,所述第二注流通道的一端与所述特殊清洗液接头相连通,另一端与所述特殊清洗室相连通;
所述特殊清洗液接头设置在所述清洗座的一侧,所述第二注流通道和所述特殊清洗室的设置方向相互垂直。
2.根据权利要求1所述的清洗装置,所述一般清洗液接头与一般清洗液输液泵外接,两个所述一般清洗液接头中的液体流量相同。
3.根据权利要求1所述的清洗装置,所述特殊清洗液接头与特殊清洗液输液泵外接。
4.根据权利要求1所述的清洗装置,所述一般清洗液和特殊清洗液的排液件包括废液接头和抽液泵。
5.根据权利要求4所述的清洗装置,所述废液接头设置在所述废液管的末端,所述废液接头一端与所述废液排放通道相连通,另一端与所述抽液泵连通,为所述废液排放通道提供负压环境。
6.一种化学发光免疫分析仪,包括管库单元、温育单元、清洗单元和检测单元,其特征在于,还包括如权利要求1-5任一项所述的清洗装置,用于将所述清洗单元中的加液针清洗干净。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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CB03 Change of inventor or designer information
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Inventor after: Fang Tao

Inventor after: Du Jing

Inventor after: Tang Qian

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GR01 Patent grant
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